JPH09269303A - 真空チャンバを備えたｘ線小角散乱装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 Ｘ線光路を真空チャンバで包囲して真空に保
持するようにしたＸ線小角散乱装置において、スリット
などの光学要素の調節作業に関する操作性を向上する。 【解決手段】 Ｘ線源Ｆから放射されたＸ線をスリット
１及びスリット２によって平行Ｘ線ビームに成形し、ス
リット２で発生する寄生散乱Ｘ線の進行をスリット３で
阻止しながら平行Ｘ線ビームを試料Ｓへ導き、試料Ｓか
ら発生する散乱Ｘ線を平面状Ｘ線検出器４で検出する。
スリット１とスリット２の間に真空チャンバ１１ａを設
置し、真空チャンバ１１ｂによってスリット３及び試料
Ｓを包囲する。スリット１及びスリット２は真空チャン
バ１１ａ，１１ｂの外側に位置するので、それらのスリ
ットの交換などは、真空を解除すること無しに簡単に行
うことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、入射Ｘ線の光軸を
中心とする小角度領域における散乱Ｘ線の強度の変化を
測定するＸ線小角散乱装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】物質によっては、それにＸ線を照射した
ときに入射Ｘ線の光軸を中心とする小角度領域、例えば
０゜〜５゜程度の角度領域において散乱Ｘ線が発生する
ことがある。例えば、物質中に１０Å〜１０００Å程度
の微細な粒子やこれに相当する大きさの密度の不均一な
領域が存在すると、入射Ｘ線方向に散漫な散乱、いわゆ
る中心散乱が生じる。この中心散乱は粒子の内部構造に
は無関係で粒子が小さいほど広がる。この散乱は、結晶
質又は非晶質に関わらず存在し、散乱角すなわち入射Ｘ
線の光軸からの角度が０゜〜５゜程度の小角度領域で観
測される。また、小角度領域には上記の中心散乱の他
に、蛋白質の結晶のように格子面間隔が非常に大きい場
合のブラッグ反射や、繊維試料で結晶質と非晶質とが周
期的に並んだ、いわゆる長周期構造の場合のＸ線回折な
どが観測される。以上のような中心散乱、ブラッグ反射
及びＸ線回折を含めて、小角度領域において観測される
Ｘ線は一般に小角散乱と呼ばれている。

【０００３】本発明に係るＸ線小角散乱装置は、そのよ
うな小角散乱を測定するための装置であり、その具体的
な構造は従来より種々提案されている。例えばその一例
として、図４に示すような３スリット系Ｘ線小角散乱装
置が知られてる。このＸ線小角散乱装置は、第１スリッ
ト５１、第２スリット５２及び第３スリット５３の３個
のスリットを有する。

【０００４】このＸ線装置では、Ｘ線源Ｆから放射され
て発散するＸ線を第１スリット５１及び第２スリット５
２を用いて平行Ｘ線ビームに成形し、さらに第２スリッ
ト５２で発生する寄生散乱Ｘ線の進行を第３スリット５
３によって阻止して、その寄生散乱Ｘ線を除いたＸ線の
ダイレクトビームを試料Ｓへ照射する。こうして試料Ｓ
にダイレクトビームが照射されると、試料Ｓの性質に応
じて小角度領域内に散乱Ｘ線が発生し、その散乱Ｘ線に
よって平面状Ｘ線検出器５４が露光されてその内部に散
乱Ｘ線に対応したＸ線潜像が形成される。このＸ線潜像
を可視像化した後、その可視像を観察することによって
試料Ｓの内部構造などを判定する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記のＸ線小角散乱装
置で重要な点は、試料から発生する非常に微弱な散乱Ｘ
線を検出しなければならないということであり、そのた
めに、各スリットから発生する寄生散乱Ｘ線や、Ｘ線が
空気に当たった時に発生する空気散乱Ｘ線がＸ線検出器
５４に到達することを確実に防止しなければならないと
いうことである。そのような不要な散乱Ｘ線が本来検出
しなければならない散乱Ｘ線に混入すると、ノイズ成分
が大きくなって精度の高い測定ができなくなるからであ
る。

【０００６】そのような測定精度の劣化を防止するた
め、従来のＸ線小角散乱装置では、図４に示すように、
小角散乱装置の全体を真空チャンバ５５の中に格納し、
さらに真空チャンバ５５の内部を排気装置によって排気
して真空状態に保持する。この真空処理により、Ｘ線の
空気散乱を防止して測定精度を高めている。しかしなが
らこの従来装置では、第１スリット５１及び第２スリッ
ト５２が真空チャンバ５５の中に格納されるため、スリ
ット幅を変更するためにスリットを交換したり、スリッ
トの位置を調節したりするときには、真空チャンバ５５
内の真空状態を一旦解除し、さらに真空チャンバを開放
してから作業を行わなければならなかった。

【０００７】本発明は、上記の問題点に鑑みてなされた
ものであって、Ｘ線光路を真空チャンバで包囲して真空
状態に保持するようにしたＸ線小角散乱装置において、
スリットなどの光学要素の調節作業に関する操作性を向
上することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明に係るＸ線小角散乱装置は、Ｘ線源から放射
されたＸ線を平行Ｘ線ビームに成形する第１スリット及
び第２スリットと、第２スリットで発生する寄生散乱Ｘ
線の進行を阻止しながら平行Ｘ線ビームを試料へ導く第
３スリットと、試料から発生する被測定散乱Ｘ線を検出
するＸ線検出器とを有するＸ線小角散乱装置において、
第１スリットと第２スリットとの間に配設された第１真
空チャンバと、第２スリットとＸ線検出器との間に配設
されて第３スリット及び試料を包囲する第２真空チャン
バとを有することを特徴とする。

【０００９】本発明では、第１スリットからＸ線検出器
に至るＸ線光路のほぼ全体が第１真空チャンバ及び第２
真空チャンバの両方によって包囲されるので、Ｘ線の空
気散乱の発生を確実に防止でき、よって、信頼性の高い
小角散乱測定を行うことができる。しかも、第１スリッ
ト及び第２スリットが真空チャンバの外部に配置される
ので、それらのスリットに関するスリット幅の変更作業
及びスリット位置の調節作業を、真空チャンバの真空状
態を解除することなしに、簡単に行うことができる。

【００１０】なお、真空チャンバを２つに分けることに
より、分けられた部分の空気と真空チャンバのＸ線透過
用窓によるＸ線の減衰及び真空チャンバのＸ線通過用窓
のところで発生する寄生散乱Ｘ線が懸念されるが、これ
らについては次の通りに実用上の問題はない。

【００１１】まず、第２スリットの前側に位置する真空
チャンバのＸ線通過用窓で発生する寄生散乱Ｘ線は、第
２スリットによってその進行が阻止される。そして、第
２スリットの後ろ側に位置する真空チャンバのＸ線通過
用窓で発生する寄生散乱Ｘ線は、第３スリットによって
その進行が阻止される。よって、真空チャンバを分割し
たときに、その分割位置で発生する寄生散乱Ｘ線によっ
て測定精度が劣化することはない。

【００１２】また、空気及び真空チャンバのＸ線通過用
窓に起因するＸ線の減衰に関しては次の通りに考察でき
る。例えば、厚さ１２．７μｍのポリイミドフィルムを
２枚重ねてＸ線通過用窓を構成し、さらに真空チャンバ
の分割位置に長さ１ｃｍの空気パスが形成されるものと
考えると、 Ｘ線通過用窓のところでのＸ線通過率＝９７．８％ 空気のＸ線透過率＝Ｉ／Ｉ₀ ＝ｅｘｐ^(-u・t)＝９８．８
％ 但し、ｕ：線吸収係数＝０．０１１９５ｃｍ^-1 ｔ：空気パスの長さ＝１ｃｍ であり、従って、空気と窓によるＸ線透過率の合計は
９６．６３％となり、よって、空気と窓によるＸ線の減
衰は ３．３７％である。この値は、実用上はほとんど
問題にならないと考えられる。

【００１３】上記のＸ線小角散乱装置において、Ｘ線検
出器は直線状Ｘ線検出器又は平面状Ｘ線検出器とするこ
とが望ましい。直線状Ｘ線検出器というのは、直線状の
範囲内でＸ線を検出できる形式のＸ線検出器であり、例
えば、ＰＳＰＣ（ PositionSensitive Proportional Co
unter：位置感応型Ｘ線検出器）が考えられる。

【００１４】このＰＳＰＣは、それ自体、周知であるの
で詳しい説明は省略するが、その一例を簡単に説明すれ
ば、図３に示すように、内部にアノード線３１、カソー
ド線３２及び遅延線３３を有する。Ｘ線取込み窓３４を
通してＰＳＰＣ３５の内部にＸ線が入ると、カソード線
３２に電荷が誘導され、その電荷に応じた電気信号が遅
延線３３の両端に現れる。そして、その信号を測定する
ことによりＸ線が検出される。また、遅延線３３の両端
に現れる信号は、長さ方向ｘの距離に比例した時間差を
有する。従って、遅延線３３の両端に生じる信号の時間
差を測定することにより、長さ方向ｘにおけるＸ線入射
位置を知ることができる。つまり、ＰＳＰＣ３５は、ア
ノード線３１などが張設された範囲内において、長さ方
向ｘすなわち散乱角度方向２θの各位置においてＰＳＰ
Ｃ３５に入射した各Ｘ線の強度及び角度位置をほぼ同時
に検出する。

【００１５】平面状Ｘ線検出器というのは、平面的な範
囲内でＸ線を検出できる形式のＸ線検出器であり、例え
ば、Ｘ線フィルム、蓄積性蛍光体などが考えられる。Ｘ
線フィルムというのは、周知の通り、Ｘ線に感光してそ
の部分に潜像を形成し、現像処理によってその潜像を可
視像化することのできるフィルムのことである。

【００１６】一方、蓄積性蛍光体は、輝尽性蛍光体とも
呼ばれるＸ線などの感応体のことであり、Ｘ線などの放
射線をエネルギの形で蓄積することができ、さらにレー
ザ光などといった輝尽励起光の照射によりそのエネルギ
を外部に光として放出できる性質を有する物体である。
つまり、蓄積性蛍光体にＸ線などの放射線を照射する
と、その照射された部分に対応する蓄積性蛍光体内にエ
ネルギが潜像として蓄積され、さらにその蓄積性蛍光体
にレーザ光などの輝尽励起光を照射するとその潜像エネ
ルギが光となって外部へ放出される。この放出された光
を光電管などによって検出することにより、潜像の形成
に寄与したＸ線などの回折角度及び強度を測定できる。

【００１７】Ｘ線検出器としては、上記の直線状Ｘ線検
出器又は平面状Ｘ線検出器以外に、シンチレーションカ
ウンタなどのようにＸ線を狭い点状の範囲内で検出する
形式の点状Ｘ線検出器も知られている。この点状Ｘ線検
出器を用いる場合には、測定すべきＸ線回折角度範囲内
でその点状Ｘ線検出器を移動させる。

【００１８】本発明では、Ｘ線源に対して第２スリット
の後方位置に第２真空チャンバのＸ線通過用窓が位置す
る。そして、そのＸ線通過用窓で発生する寄生散乱Ｘ線
は第３スリットによってその進行が阻止される。この場
合、Ｘ線通過用窓と第３スリットとの間の間隔が小さく
なればなるほど、Ｘ線検出器に到達する寄生散乱Ｘ線の
範囲が広くなる。従って、Ｘ線通過用窓と第３スリット
との距離はできるだけ大きいこと、換言すれば、Ｘ線通
過用窓を第２スリットにできるだけ近い位置に配設する
こと、すなわち、それに接触又は近接させて配設するこ
とが望ましい。

【００１９】本発明では、第１スリット及び第２スリッ
トが第１真空チャンバ及び第２真空チャンバの外側に配
置されるので、それらの各スリットに関する調節は真空
を解除することなく簡単に行うことができる。多くの場
合、これらのスリットを調節すれば希望とする測定条件
が得られる。しかしながら場合によっては、第３スリッ
トに関してもスリット幅を変更した方が好ましいときも
ある。このような場合を考慮して、第３スリットのスリ
ット幅を第２真空チャンバの外部から調節することので
きるスリット幅調節手段を設けておくことが望ましい。

【００２０】通常のＸ線小角散乱装置では、第１スリッ
ト及び第２スリットの配置位置並びに第１スリットと第
２スリットとの間の間隔を変更する場合がある。このよ
うな場合に対処するため、第１スリット、第２スリット
及び第１真空チャンバの設置位置をＸ線光軸上で変化さ
せるためのスリット位置調節手段を設けておくことが望
ましい。

【００２１】

【発明の実施の形態】図１は、本発明に係るＸ線小角散
乱装置の一実施形態を示している。このＸ線小角散乱装
置は、Ｘ線を発生するＸ線源Ｆと、第１スリット１及び
第２スリット２によって構成されるスリットユニット９
と、スリットユニット９の下流側（図の右側）に配置さ
れた第３スリット３と、そして第３スリット３の下流側
に配置されたＸ線検出器４とを有している。

【００２２】測定対象である試料Ｓは、第３スリット３
とＸ線検出器４との間に配置される。また、本実施形態
では、Ｘ線検出器４として、Ｘ線を平面内で捕らえるこ
とのできる平面状Ｘ線検出器、例えば、蓄積性蛍光体を
用いるものとする。また、第１スリット１、第２スリッ
ト２及び第３スリット３のスリット形状は、測定条件に
応じて丸穴形状や長方形状とされる。

【００２３】図１において、第１スリット１は専用のス
リット支持部材５ａによって支持され、第２スリット２
は専用のスリット支持部材５ｂによって支持される。そ
して、各スリット１，２は、いずれも、各スリット支持
部材５ａ，５ｂに対して着脱可能となっている。測定条
件が変更されるのに従ってそれに適した寸法のスリット
を交換して使用する。

【００２４】第１スリット１と第２スリット２との間に
は第１真空チャンバ１１ａが配設され、第２スリット２
とＸ線検出器４との間には第２真空チャンバ１１ｂが配
設される。各チャンバはその内部を外部から気密に隔離
しており、さらに真空ポンプなどといった排気装置１２
によってその内部が真空状態に保持される。また、各チ
ャンバ１１ａ及び１１ｂのＸ線光軸Ｒ上にはＸ線通過用
窓１３が設けられる。これらの窓１３は、各チャンバに
開口を開けると共にそれらの開口をＸ線透過部材で気密
に遮蔽することによって形成される。

【００２５】Ｘ線透過部材は、ベリリウム（Ｂｅ）フィ
ルム、ポリイミドフィルムなどによって形成できる。ポ
リイミドフィルムとしては、例えば、東レ・デュポン株
式会社製の商品名「カプトン」として提供されるフィル
ムを用いることができる。第２真空チャンバ１１ｂのＸ
線検出器４に近接するＸ線通過用窓１３ｘは、試料Ｓか
らの散乱Ｘ線を広い範囲でＸ線検出器４へ導くためにそ
の面積が広くなっている。Ｘ線検出器４の前方位置に
は、Ｘ線源ＦからのダイレクトビームがＸ線検出器４へ
達するのを阻止するためのダイレクトビームストッパ１
４が配設される。

【００２６】第３スリット３は、図２に示すように、縦
スリット片１５ａ及び横スリット片１５ｂによって区画
形成される。第２真空チャンバ１１ｂの側壁部には、ネ
ジ軸１６を備えた調節ツマミ１７が設けられ、それらの
ネジ軸１６が縦スリット片１５ａ及び横スリット片１５
ｂにネジ嵌合する。２つの調節ツマミ１７の一方又は両
方を適宜に回すことにより、縦スリット片１５ａ及び／
又は横スリット片１５ｂを平行移動させることができ、
これにより、第３スリット３のスリット幅を希望の寸法
に調節できる。つまり、スリット片１５ａ，１５ｂにネ
ジ嵌合する調節ツマミ１７によってスリット幅を調節す
るためのスリット幅調節装置２０が構成される。

【００２７】図１に戻って、第１真空チャンバ１１ａの
外側にスリット位置調節装置１８が設けられる。このス
リット位置調節装置１８は、Ｘ線光軸Ｒに対して平行に
設けられたレール１９と、そのレールによって案内され
て移動する３個の移動体２１とによって構成される。各
移動体２１は、それぞれ、第１スリット１を支持するス
リット支持部材５ａ、第１真空チャンバ１１ａ及び第２
スリット２を支持するスリット支持部材５ｂに接続され
る。各移動体２１をレール１９に沿って適宜の距離だけ
移動すれば、第１スリット１及び第２スリット２をＸ線
光軸Ｒ上における希望する適宜の位置に置くことがで
き、さらに、それらのスリット間の間隔を変化させるこ
とができる。

【００２８】本実施形態のＸ線小角散乱装置は以上のよ
うに構成されているので、図１において、排気装置１２
によって第１真空チャンバ１１ａ及び第２真空チャンバ
１１ｂの内部が排気されて真空状態に保持される。この
状態で、Ｘ線源Ｆから放射されて発散するＸ線は、第１
スリット１及び第２スリット２から成るスリットユニッ
ト９によって平行Ｘ線ビームに成形され、その平行Ｘ線
ビームが試料Ｓに入射する。すると、試料Ｓの性質に応
じてその試料Ｓから散乱Ｘ線が発生し、その散乱Ｘ線が
Ｘ線検出器４に到達してそれを感光し、その感光部分に
潜像を形成する。本実施形態ではＸ線検出器４を蓄積性
蛍光体によって構成したので、Ｘ線検出器４の内部には
散乱Ｘ線が当たった部分にエネルギー潜像が形成され
る。

【００２９】Ｘ線検出器４に対する試料Ｓからの散乱Ｘ
線の照射作業が完了した後、そのＸ線検出器４を所定の
読取りステージへ持ち運び、レーザ光などの輝尽励起光
をそのＸ線検出器４へ照射する。すると、Ｘ線検出器４
の内部に蓄積したエネルギー潜像が外部へ発光し、この
発光を光電変換器などによって読み取ることにより、散
乱Ｘ線の散乱角度及びＸ線強度を測定する。散乱角度と
いうのは、図１において、Ｘ線光軸Ｒを基準とした角度
２θのことである。

【００３０】以上の測定の際、第１スリット１からＸ線
検出器４へ至るＸ線光路は第１真空チャンバ１１ａ及び
第２真空チャンバ１１ｂによって真空状態に保持される
ので、Ｘ線光路上を進むＸ線のまわりに空気散乱Ｘ線が
生じることがなくなり、よって、試料Ｓから発生する散
乱Ｘ線を精度高く検出できる。測定条件を変更するため
に第１スリット１及び／又は第２スリット２のスリット
幅を変化させる必要があるときには、希望のスリット幅
を有するスリットをスリット支持部材５ａ及び／又はス
リット支持部材５ｂに差し替える。また、第１スリット
１と第２スリット２との間のスリット間距離を変更する
必要がある場合は、各スリットに対応する移動体２１を
レール１９に沿って移動させる。これらの操作は、第１
真空チャンバ１１ａ及び第２真空チャンバ１１ｂ内の真
空状態を解除すること無しに実行できるので、作業を短
時間の間に簡単に行うことができる。

【００３１】なお、第３スリット３のスリット幅を変更
する必要がある場合には、図２において、２個の調節ツ
マミ１７のうちのいずれかを選択して又はそれらの両方
を適宜の角度だけ回して各スリット片１５ａ，１５ｂを
平行移動させ、これにより、第３スリット３のスリット
幅を調節する。この場合にも、第２真空チャンバ１１ｂ
内の真空状態を解除する必要がない。

【００３２】図１において、第２真空チャンバ１１ｂの
第２スリット２に近い側のＸ線通過用窓１３ＹはＸ線が
当たったときに寄生散乱Ｘ線を発生する。この寄生散乱
線は第３スリット３によってその進行が阻止されるので
あるが、Ｘ線検出器４に関して符号Ｅで示す中心部分に
到達する寄生散乱Ｘ線は阻止することができない。つま
り、寄生散乱Ｘ線によるノイズ成分を含むことなく判定
の対象にすることができるＸ線像の範囲というのは、中
心部分Ｅを除いたその外側の範囲ということになる。

【００３３】この寄生散乱Ｘ線を含む測定不可能範囲Ｅ
は、Ｘ線通過用窓１３Ｙの配置位置が第３スリット３に
近づけば近づくほど広くなる。従って、Ｘ線通過用窓１
３Ｙは第３スリット３からできる限り遠く離れた位置、
本実施形態の場合は第２スリット２にできるだけ近づく
位置に配設するのが望ましい。本実施形態では、第２ス
リット２がスリット支持部材５ｂに装着されるので、Ｘ
線通過用窓１３Ｙを第２スリット２に直接に接触させる
ことはできず、スリット支持部材５ｂに接触させるのが
最も第２スリット２に近づく位置ということになるかも
しれない。

【００３４】以上、好ましい実施形態に基づいて本発明
を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるもの
ではなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に
改変できる。例えば、Ｘ線検出器は、蓄積性蛍光体のよ
うな平面状Ｘ線検出器に限られず、シンチレーションカ
ウンタなどの点状Ｘ線検出器や、ＰＳＰＣなどの線状Ｘ
線検出器を用いることもできる。

【００３５】また、第３スリットのスリット幅を真空チ
ャンバの外側から調節するためのスリット幅調節装置２
０並びに第１スリット１及び第２スリット２の配置位置
を調節するためのスリット位置調節装置１８は必ずしも
設けなくても良い。また、それらの具体的な構造も、図
１に示した構造に限定されるものではない。

【００３６】

【発明の効果】請求項１記載のＸ線小角散乱装置によれ
ば、第１スリット及び第２スリットが真空チャンバの外
部に配置されるので、それらのスリットに関するスリッ
ト幅の変更作業及びスリット位置の調節作業を、真空チ
ャンバ内の真空状態を解除することなしに、簡単に行う
ことができる。

【００３７】請求項２記載のＸ線小角散乱装置によれ
ば、Ｘ線検出器を固定した状態で測定が行われるので、
第２真空チャンバも固定設置できる。これに対し、点状
Ｘ線検出器を用いる場合は、Ｘ線検出器をＸ線回折角度
方向に移動させる必要があるので、それに対応させて真
空チャンバも移動させる必要があるかもしれない。よっ
て、直線状Ｘ線検出器や平面状Ｘ線検出器を用いれば、
真空チャンバに関する構造を簡単にすることができる。

【００３８】請求項３記載のＸ線小角散乱装置によれ
ば、Ｘ線検出器によってＸ線を検出できる範囲のうち、
寄生散乱Ｘ線によって邪魔されることなく判定の対象と
することができる範囲を広くすることができる。

【００３９】請求項４記載のＸ線小角散乱装置によれ
ば、真空チャンバ内の真空を解除することなく、第３ス
リットのスリット幅も調節できる。

【００４０】請求項５記載のＸ線小角散乱装置によれ
ば、第１スリット及び第２スリットに関して、真空チャ
ンバ内の真空状態を解除することなしに、スリット幅の
変更に加えてスリット間の間隔をも調節することが可能
となる。

【００４１】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るＸ線小角散乱装置の一実施形態を
模式的に示す側面断面図である。

【図２】図１の装置の要部を示す正面断面図である。

【図３】Ｘ線検出器の他の一例を示す斜視図である。

【図４】従来のＸ線小角散乱装置の一例を示す側面断面
図である。

【符号の説明】

１ 第１スリット ２ 第２スリット ３ 第３スリット ４ Ｘ線検出器 ５ａ，５ｂ スリット支持部材 ９ スリットユニット １１ａ，１１ｂ 真空チャンバ １３ Ｘ線通過用窓 １４ ダイレクトビームストッパ １５ａ，１５ｂ スリット片 １６ ネジ軸 １７ 調節ツマミ １８ スリット位置調節装置 １９ レール ２０ スリット幅調節装置 ２１ 移動体 ３４ Ｘ線取込み窓 ３５ ＰＳＰＣ Ｆ Ｘ線源 Ｓ 試料 Ｒ Ｘ線光軸

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 Ｘ線源から放射されたＸ線を平行Ｘ線ビ
   ームに成形する第１スリット及び第２スリットと、第２
   スリットで発生する寄生散乱Ｘ線の進行を阻止しながら
   平行Ｘ線ビームを試料へ導く第３スリットと、試料から
   発生する被測定散乱Ｘ線を検出するＸ線検出器とを有す
   るＸ線小角散乱装置において、 第１スリットと第２スリットとの間に配設された第１真
   空チャンバと、 第２スリットとＸ線検出器との間に配設されて第３スリ
   ット及び試料を包囲する第２真空チャンバとを有するこ
   とを特徴とするＸ線小角散乱装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載のＸ線小角散乱装置におい
   て、Ｘ線検出器は直線状Ｘ線検出器又は平面状Ｘ線検出
   器であることを特徴とするＸ線小角散乱装置。
3. 【請求項３】 請求項１又は請求項２記載のＸ線小角散
   乱装置において、第２真空チャンバは第２スリットに接
   触又は近接することを特徴とするＸ線小角散乱装置。
4. 【請求項４】 請求項１から請求項３のうちのいずれか
   １つに記載のＸ線小角散乱装置において、 第３スリットのスリット幅を第２真空チャンバの外部か
   ら調節するスリット幅調節手段を設けたことを特徴とす
   るＸ線小角散乱装置。
5. 【請求項５】 請求項１から請求項４のうちのいずれか
   １つに記載のＸ線小角散乱装置において、 第１スリット、第２スリット及び第１真空チャンバの設
   置位置をＸ線光軸上で変化させるスリット位置調節手段
   を有することを特徴とするＸ線小角散乱装置。