JPH06130002A - 小角領域ｘ線装置 - Google Patents
小角領域ｘ線装置Info
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- JPH06130002A JPH06130002A JP30046592A JP30046592A JPH06130002A JP H06130002 A JPH06130002 A JP H06130002A JP 30046592 A JP30046592 A JP 30046592A JP 30046592 A JP30046592 A JP 30046592A JP H06130002 A JPH06130002 A JP H06130002A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 平行Ｘ線ビーム系の小角領域Ｘ線装置におい
て、ピンホール等のＸ線規制孔で発生する寄生散乱線が
試料に到達するのを防止して、分解能及びＳ／Ｎ比の高
いＸ線像を得る。 【構成】 試料２にＸ線を入射したときにその試料２か
ら生じる散乱Ｘ線を入射Ｘ線に対する小角度の領域内に
おいて検出する小角領域Ｘ線装置である。Ｘ線源１から
試料２に向かうＸ線光路上にピンホール１１を設け、Ｘ
線源１から出たＸ線をそのピンホール１１によって平行
Ｘ線ビームに成形して試料２に照射する。ピンホール１
１と試料２との間のＸ線光路上に、チャンネルカット結
晶１４，１６を設ける。ピンホール１１で発生する寄生
散乱線Ｑはチャンネルカット結晶１４，１６によって除
去される。
て、ピンホール等のＸ線規制孔で発生する寄生散乱線が
試料に到達するのを防止して、分解能及びＳ／Ｎ比の高
いＸ線像を得る。 【構成】 試料２にＸ線を入射したときにその試料２か
ら生じる散乱Ｘ線を入射Ｘ線に対する小角度の領域内に
おいて検出する小角領域Ｘ線装置である。Ｘ線源１から
試料２に向かうＸ線光路上にピンホール１１を設け、Ｘ
線源１から出たＸ線をそのピンホール１１によって平行
Ｘ線ビームに成形して試料２に照射する。ピンホール１
１と試料２との間のＸ線光路上に、チャンネルカット結
晶１４，１６を設ける。ピンホール１１で発生する寄生
散乱線Ｑはチャンネルカット結晶１４，１６によって除
去される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、試料にＸ線を入射した
ときにその試料から生じる出力Ｘ線を入射Ｘ線に対する
小角度の領域内において検出する小角領域Ｘ線装置に関
する。ここにいう出力Ｘ線とは、０度〜５度程度の小角
度領域内に発生する散乱Ｘ線や、長周期の結晶構造に起
因して小角度領域内に発生する回折Ｘ線等のことであ
る。
ときにその試料から生じる出力Ｘ線を入射Ｘ線に対する
小角度の領域内において検出する小角領域Ｘ線装置に関
する。ここにいう出力Ｘ線とは、０度〜５度程度の小角
度領域内に発生する散乱Ｘ線や、長周期の結晶構造に起
因して小角度領域内に発生する回折Ｘ線等のことであ
る。
【０００２】
【従来の技術】ある物質に１０〜１０００オングストロ
ーム程度の微細な粒子やこれに相当する大きさの密度の
不均一な領域があると、その物質にＸ線を照射したと
き、その試料から散乱Ｘ線が発生する。この散乱Ｘ線は
粒子の内部構造には無関係で粒子が小さい程広がる。こ
の散乱Ｘ線は結晶質であるか非晶質であるかに拘らず存
在し、入射Ｘ線に対する角度が０度〜５度程度の小角度
領域内で観測される。特殊な物質を除いて、この小角度
領域にはブラッグ反射は存在しない。
ーム程度の微細な粒子やこれに相当する大きさの密度の
不均一な領域があると、その物質にＸ線を照射したと
き、その試料から散乱Ｘ線が発生する。この散乱Ｘ線は
粒子の内部構造には無関係で粒子が小さい程広がる。こ
の散乱Ｘ線は結晶質であるか非晶質であるかに拘らず存
在し、入射Ｘ線に対する角度が０度〜５度程度の小角度
領域内で観測される。特殊な物質を除いて、この小角度
領域にはブラッグ反射は存在しない。
【０００３】また、タンパク質の結晶のように結晶格子
面間隔が非常に大きい場合には、このような小角度領域
内にもブラッグ反射が生じる。また、繊維試料で結晶質
と非晶質とが周期的に並んでいる場合には、その周期に
対応して小角領域内にＸ線の回折が生じる。このような
Ｘ線のブラッグ反射または回折は、一般的に、長周期の
結晶構造に起因して発生する回折Ｘ線と呼ばれている。
面間隔が非常に大きい場合には、このような小角度領域
内にもブラッグ反射が生じる。また、繊維試料で結晶質
と非晶質とが周期的に並んでいる場合には、その周期に
対応して小角領域内にＸ線の回折が生じる。このような
Ｘ線のブラッグ反射または回折は、一般的に、長周期の
結晶構造に起因して発生する回折Ｘ線と呼ばれている。
【０００４】以上のような事実から考えて、ある試料に
Ｘ線を入射し、そのときの小角度領域内での散乱Ｘ線ま
たは回折Ｘ線を観察すれば、その試料内の微細粒子の粒
径や、結晶の周期構造等を知ることができる。このよう
な小角度領域内のＸ線情報を観測するためのＸ線装置、
すなわち小角領域Ｘ線装置は従来より知られている。
Ｘ線を入射し、そのときの小角度領域内での散乱Ｘ線ま
たは回折Ｘ線を観察すれば、その試料内の微細粒子の粒
径や、結晶の周期構造等を知ることができる。このよう
な小角度領域内のＸ線情報を観測するためのＸ線装置、
すなわち小角領域Ｘ線装置は従来より知られている。
【０００５】このような小角領域Ｘ線装置として、例え
ば図３に示すように、Ｘ線源１と測定対象である試料２
との間に複数のＸ線規制孔、例えばピンホール３及び４
を設け、さらにその後ろに散乱防止スリット５を設けた
光学系を備えたものがある。この装置では、Ｘ線源１か
ら発散するＸ線ビームをピンホール３，４によって平行
ビームに成形して試料２に照射し、試料２に発生する散
乱Ｘ線等をＸ線検出器６、例えばＸ線フィルムで検出す
る。散乱防止スリット５は、ピンホール４で発生する寄
生散乱線を除去する働きをする。このようなピンホール
等といったＸ線規制孔を用いて平行Ｘ線ビームを形成し
てそれを試料に照射する方式の小角領域Ｘ線装置は、い
わゆる平行Ｘ線ビーム系のＸ線装置と呼ばれている。
ば図３に示すように、Ｘ線源１と測定対象である試料２
との間に複数のＸ線規制孔、例えばピンホール３及び４
を設け、さらにその後ろに散乱防止スリット５を設けた
光学系を備えたものがある。この装置では、Ｘ線源１か
ら発散するＸ線ビームをピンホール３，４によって平行
ビームに成形して試料２に照射し、試料２に発生する散
乱Ｘ線等をＸ線検出器６、例えばＸ線フィルムで検出す
る。散乱防止スリット５は、ピンホール４で発生する寄
生散乱線を除去する働きをする。このようなピンホール
等といったＸ線規制孔を用いて平行Ｘ線ビームを形成し
てそれを試料に照射する方式の小角領域Ｘ線装置は、い
わゆる平行Ｘ線ビーム系のＸ線装置と呼ばれている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記の平行Ｘ線ビーム
系の小角領域Ｘ線装置は、湾曲反射ミラーや湾曲結晶モ
ノクロメータを用いた集束Ｘ線ビーム系の小角領域Ｘ線
装置に比べて光学系の構造が簡単であることから、従来
より広く用いられている。しかしながらこの平行Ｘ線ビ
ーム系のＸ線装置で用いられる散乱防止スリット５は、
ピンホール４で発生した寄生散乱線を除去することに関
して十分に作用していなかった。しかも散乱防止スリッ
ト５それ自体から寄生散乱線が発生するという問題もあ
った。そのため、従来の平行Ｘ線ビーム方式の小角領域
Ｘ線装置においては、寄生散乱線の発生によりＸ線検出
器６上に得られる入射ビーム近傍のＸ線像の分解能及び
Ｓ／Ｎ比が低下して低角度までの高精度な測定を行うこ
とが困難であった。図３では、符号Ｎで示す領域がピン
ホール４からの寄生散乱線がＸ線検出器６に到達する領
域を示しており、この領域内では測定対象である試料２
からの散乱Ｘ線は測定できない。
系の小角領域Ｘ線装置は、湾曲反射ミラーや湾曲結晶モ
ノクロメータを用いた集束Ｘ線ビーム系の小角領域Ｘ線
装置に比べて光学系の構造が簡単であることから、従来
より広く用いられている。しかしながらこの平行Ｘ線ビ
ーム系のＸ線装置で用いられる散乱防止スリット５は、
ピンホール４で発生した寄生散乱線を除去することに関
して十分に作用していなかった。しかも散乱防止スリッ
ト５それ自体から寄生散乱線が発生するという問題もあ
った。そのため、従来の平行Ｘ線ビーム方式の小角領域
Ｘ線装置においては、寄生散乱線の発生によりＸ線検出
器６上に得られる入射ビーム近傍のＸ線像の分解能及び
Ｓ／Ｎ比が低下して低角度までの高精度な測定を行うこ
とが困難であった。図３では、符号Ｎで示す領域がピン
ホール４からの寄生散乱線がＸ線検出器６に到達する領
域を示しており、この領域内では測定対象である試料２
からの散乱Ｘ線は測定できない。
【０００７】本発明は、その問題点を解消するためにな
されたものであって、ピンホール等のＸ線規制孔で発生
する寄生散乱線が試料に到達するのを防止して、分解能
及びＳ／Ｎ比の高いＸ線像を得ることのできる小角領域
Ｘ線装置を提供することを目的とする。
されたものであって、ピンホール等のＸ線規制孔で発生
する寄生散乱線が試料に到達するのを防止して、分解能
及びＳ／Ｎ比の高いＸ線像を得ることのできる小角領域
Ｘ線装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明に係る小角領域Ｘ
線装置は、Ｘ線源から試料に向かうＸ線光路上に配置さ
れたＸ線規制孔、例えばピンホールを有しており、Ｘ線
源から出たＸ線をそのＸ線規制孔によって平行Ｘ線ビー
ムに形成して試料に照射するようにした小角領域Ｘ線装
置であって、そのＸ線規制孔と試料との間のＸ線光路上
に、チャンネルカット結晶を設けたことを特徴としてい
る。
線装置は、Ｘ線源から試料に向かうＸ線光路上に配置さ
れたＸ線規制孔、例えばピンホールを有しており、Ｘ線
源から出たＸ線をそのＸ線規制孔によって平行Ｘ線ビー
ムに形成して試料に照射するようにした小角領域Ｘ線装
置であって、そのＸ線規制孔と試料との間のＸ線光路上
に、チャンネルカット結晶を設けたことを特徴としてい
る。
【０００９】
【作用】Ｘ線規制孔によって平行ビームとされたＸ線
は、チャンネルカット結晶で反射した後に試料に入射す
る。そして、試料から発生した出力Ｘ線、例えば散乱Ｘ
線、回折Ｘ線等がＸ線検出器によって検出される。
は、チャンネルカット結晶で反射した後に試料に入射す
る。そして、試料から発生した出力Ｘ線、例えば散乱Ｘ
線、回折Ｘ線等がＸ線検出器によって検出される。
【００１０】チャンネルカット結晶というのは、それ自
体周知の通り、ゲルマニウムその他の結晶ブロックに溝
を掘って、その溝を形成する両側壁をＸ線反射面として
利用するＸ線反射要素である。このチャンネルカット結
晶をピンホール等のＸ線規制孔の後ろに配置すると、そ
のＸ線規制孔で発生する寄生散乱線が試料に向かって進
行することを防止でき、その結果、分解能及びＳ／Ｎ比
の高い小角領域の測定ができる。
体周知の通り、ゲルマニウムその他の結晶ブロックに溝
を掘って、その溝を形成する両側壁をＸ線反射面として
利用するＸ線反射要素である。このチャンネルカット結
晶をピンホール等のＸ線規制孔の後ろに配置すると、そ
のＸ線規制孔で発生する寄生散乱線が試料に向かって進
行することを防止でき、その結果、分解能及びＳ／Ｎ比
の高い小角領域の測定ができる。
【００１１】
【実施例】図１は、本発明に係る小角領域Ｘ線装置の一
実施例を示している。この図は、同Ｘ線装置を上方から
見た場合を示している。このＸ線装置は、ポイントフォ
ーカスのＸ線源１を備えたＸ線発生装置７と、そのＸ線
発生装置７に接続されたハウジング８とを有している。
ハウジング８の内部には、左から順に、補助ピンホール
９を備えた補助Ｘ線規制板１０と、Ｘ線規制孔としての
ピンホール１１を備えたＸ線規制板１２と、測定対象で
ある試料２と、そしてＸ線検出器としてのＸ線フィルム
１３とが、それぞれ固定して配置されている。
実施例を示している。この図は、同Ｘ線装置を上方から
見た場合を示している。このＸ線装置は、ポイントフォ
ーカスのＸ線源１を備えたＸ線発生装置７と、そのＸ線
発生装置７に接続されたハウジング８とを有している。
ハウジング８の内部には、左から順に、補助ピンホール
９を備えた補助Ｘ線規制板１０と、Ｘ線規制孔としての
ピンホール１１を備えたＸ線規制板１２と、測定対象で
ある試料２と、そしてＸ線検出器としてのＸ線フィルム
１３とが、それぞれ固定して配置されている。
【００１２】そしてさらに、ピンホール１１と試料２と
の間であって試料２に近い位置に、第１チャンネルカッ
ト結晶１４が固定配置され、補助ピンホール９とピンホ
ール１１との間に第２チャンネルカット結晶１５が固定
配置され、そしてピンホール１１と第１チャンネルカッ
ト結晶１４との間に第３チャンネルカット結晶１６が固
定配置されている。Ｘ線フィルム１３の直前位置にはダ
イレクトビームの進行を阻止するためのダイレクトビー
ムストッパ１７が固定配置されている。
の間であって試料２に近い位置に、第１チャンネルカッ
ト結晶１４が固定配置され、補助ピンホール９とピンホ
ール１１との間に第２チャンネルカット結晶１５が固定
配置され、そしてピンホール１１と第１チャンネルカッ
ト結晶１４との間に第３チャンネルカット結晶１６が固
定配置されている。Ｘ線フィルム１３の直前位置にはダ
イレクトビームの進行を阻止するためのダイレクトビー
ムストッパ１７が固定配置されている。
【００１３】各チャンネルカット結晶１４，１５，１６
は、同じ材料、例えばゲルマニウムによって形成されて
いて、互いに同一の形状を有している。その形状は、図
２に示すように、１つの直方体形状の結晶ブロック１８
の中央部に溝Ｍを掘ることによって、その溝Ｍの両側に
２つの側壁１８ａ及び１８ｂを形成した形状となってい
る。それら両側壁１８ａ及び１８ｂのうちの互いに対向
する内壁面をＸ線反射面として利用する。
は、同じ材料、例えばゲルマニウムによって形成されて
いて、互いに同一の形状を有している。その形状は、図
２に示すように、１つの直方体形状の結晶ブロック１８
の中央部に溝Ｍを掘ることによって、その溝Ｍの両側に
２つの側壁１８ａ及び１８ｂを形成した形状となってい
る。それら両側壁１８ａ及び１８ｂのうちの互いに対向
する内壁面をＸ線反射面として利用する。
【００１４】図１に戻って、本実施例では第１チャンネ
ルカット結晶１４のＸ線反射面及び第２チャンネルカッ
ト結晶１５のＸ線反射面がいずれも紙面垂直方向、すな
わち鉛直方向に延び、そして第３チャンネルカット結晶
１６のＸ線反射面が紙面上下方向、すなわち水平方向に
延びている。つまり、第１チャンネルカット結晶１４と
第２チャンネルカット結晶１５のＸ線反射面が互いに平
行に置かれ、そして第３チャンネルカット結晶１６のＸ
線反射面がそれらと直角を成す方向に置かれている。
ルカット結晶１４のＸ線反射面及び第２チャンネルカッ
ト結晶１５のＸ線反射面がいずれも紙面垂直方向、すな
わち鉛直方向に延び、そして第３チャンネルカット結晶
１６のＸ線反射面が紙面上下方向、すなわち水平方向に
延びている。つまり、第１チャンネルカット結晶１４と
第２チャンネルカット結晶１５のＸ線反射面が互いに平
行に置かれ、そして第３チャンネルカット結晶１６のＸ
線反射面がそれらと直角を成す方向に置かれている。
【００１５】本実施例の小角領域Ｘ線装置は、以上のよ
うに構成されているので、Ｘ線源１から放射されたＸ線
は、補助ピンホール９、第２チャンネルカット結晶１
５、ピンホール１１、第３チャンネルカット結晶１６及
び第１チャンネルカット結晶１４を通過する間に平行Ｘ
線ビームに成形され、その平行Ｘ線ビームが試料２に入
射する。平行Ｘ線ビームが入射した試料からは、入射Ｘ
線に対する微小角度領域内に散乱Ｘ線が発生し、その散
乱Ｘ線がＸ線フィルム１３によって検出される。こうし
て得られたＸ線フィルム１３上の図形に基づいて、試料
２の内部の微小粒子径等が判定される。
うに構成されているので、Ｘ線源１から放射されたＸ線
は、補助ピンホール９、第２チャンネルカット結晶１
５、ピンホール１１、第３チャンネルカット結晶１６及
び第１チャンネルカット結晶１４を通過する間に平行Ｘ
線ビームに成形され、その平行Ｘ線ビームが試料２に入
射する。平行Ｘ線ビームが入射した試料からは、入射Ｘ
線に対する微小角度領域内に散乱Ｘ線が発生し、その散
乱Ｘ線がＸ線フィルム１３によって検出される。こうし
て得られたＸ線フィルム１３上の図形に基づいて、試料
２の内部の微小粒子径等が判定される。
【００１６】Ｘ線源１から出てＸ線フィルム１３に到達
するＸ線が空気によって散乱するのを防止するため、ハ
ウジング８の内部を真空状態に保持したり、またはハウ
ジング８の適所にガス導入口１９を設け、このガス導入
口１９を通してヘリウムガス等の不活性ガスをハウジン
グ８の内部に導入することが、しばしば行われる。
するＸ線が空気によって散乱するのを防止するため、ハ
ウジング８の内部を真空状態に保持したり、またはハウ
ジング８の適所にガス導入口１９を設け、このガス導入
口１９を通してヘリウムガス等の不活性ガスをハウジン
グ８の内部に導入することが、しばしば行われる。
【００１７】Ｘ線源１から出て補助ピンホール９及び第
２チャンネルカット結晶１５を通過したＸ線Ｒ１はその
断面が、図示の通り、縦長の断面形状に成形される。こ
の縦長Ｘ線Ｒ１はピンホール１１を通過することによっ
て断面円形状のＸ線Ｒ２に成形される。しかしながらそ
のとき、ピンホール１１でＸ線の寄生散乱Ｑが発生し、
その結果、本来得よとしているＸ線Ｒ２の中心核部分の
まわりに寄生散乱成分Ｑが存在することになる。
２チャンネルカット結晶１５を通過したＸ線Ｒ１はその
断面が、図示の通り、縦長の断面形状に成形される。こ
の縦長Ｘ線Ｒ１はピンホール１１を通過することによっ
て断面円形状のＸ線Ｒ２に成形される。しかしながらそ
のとき、ピンホール１１でＸ線の寄生散乱Ｑが発生し、
その結果、本来得よとしているＸ線Ｒ２の中心核部分の
まわりに寄生散乱成分Ｑが存在することになる。
【００１８】この寄生散乱成分Ｑを含んだＸ線Ｒ２は、
第３チャンネルカット結晶１６を通過する間に上下方向
の寄生散乱成分の進行が阻止されて、符号Ｒ３で示すよ
うに左右の寄生散乱成分だけが残る状態となる。そして
そのＸ線Ｒ３が第１チャンネルカット結晶１４を通過す
ると、符号Ｒ４で示すように、左右の寄生散乱成分の進
行も阻止されて中心核部分のみが取り出される。なお、
Ｒ１〜Ｒ４に示したＸ線の断面形状は、矢印Ａ方向から
見た場合のＸ線の断面形状を模式的に示すものである。
第３チャンネルカット結晶１６を通過する間に上下方向
の寄生散乱成分の進行が阻止されて、符号Ｒ３で示すよ
うに左右の寄生散乱成分だけが残る状態となる。そして
そのＸ線Ｒ３が第１チャンネルカット結晶１４を通過す
ると、符号Ｒ４で示すように、左右の寄生散乱成分の進
行も阻止されて中心核部分のみが取り出される。なお、
Ｒ１〜Ｒ４に示したＸ線の断面形状は、矢印Ａ方向から
見た場合のＸ線の断面形状を模式的に示すものである。
【００１９】以上のようにして、試料２には寄生散乱成
分Ｑを含まない、所定断面形状のＸ線が入射するので、
Ｘ線フィルム１３上に得られるＸ線図形は分解能及びＳ
／Ｎ比が非常に高くなる。
分Ｑを含まない、所定断面形状のＸ線が入射するので、
Ｘ線フィルム１３上に得られるＸ線図形は分解能及びＳ
／Ｎ比が非常に高くなる。
【００２０】以上、１つの実施例をあげて本発明を説明
したが、本発明はその実施例に限定されることなく種々
に改変できる。例えば、Ｘ線源１としてポイントフォー
カスのＸ線源ではなくて、ラインフォーカスのＸ線源を
用いることができる。このラインフォーカスは、ポイン
トフォーカスに比べて広い領域からＸ線を取り出すこと
ができるので、強度の強いＸ線を取り出すことができる
という長所がある。このラインフォーカスを用いたＸ線
装置では、ラインフォーカスの長手方向に相当する方向
の寄生散乱成分は除去する必要がないので、ピンホール
１１と試料２との間に配置される第１チャンネルカット
結晶１４の配置角度をラインフォーカスの短手方向に対
応する方向の寄生散乱成分を除去できる角度位置に設定
し、そして第３チャンネルカット結晶１６を省略するこ
とができる。
したが、本発明はその実施例に限定されることなく種々
に改変できる。例えば、Ｘ線源１としてポイントフォー
カスのＸ線源ではなくて、ラインフォーカスのＸ線源を
用いることができる。このラインフォーカスは、ポイン
トフォーカスに比べて広い領域からＸ線を取り出すこと
ができるので、強度の強いＸ線を取り出すことができる
という長所がある。このラインフォーカスを用いたＸ線
装置では、ラインフォーカスの長手方向に相当する方向
の寄生散乱成分は除去する必要がないので、ピンホール
１１と試料２との間に配置される第１チャンネルカット
結晶１４の配置角度をラインフォーカスの短手方向に対
応する方向の寄生散乱成分を除去できる角度位置に設定
し、そして第３チャンネルカット結晶１６を省略するこ
とができる。
【００２１】また、第２チャンネルカット結晶１５はピ
ンホール１１に入るＸ線の断面形状を希望の形状、例え
ば長方形状に成形するのが主目的であり、ピンホール１
１で発生する寄生散乱線Ｑとは直接的に関係はない。従
って、場合によってはこの第２チャンネルカット結晶１
５を省略することも可能である。また、Ｘ線発生装置７
を出てハウジング８に入るＸ線の断面形状に大きな乱れ
がない場合には、補助ピンホール９を備えた補助Ｘ線規
制板１０を省略することもできる。
ンホール１１に入るＸ線の断面形状を希望の形状、例え
ば長方形状に成形するのが主目的であり、ピンホール１
１で発生する寄生散乱線Ｑとは直接的に関係はない。従
って、場合によってはこの第２チャンネルカット結晶１
５を省略することも可能である。また、Ｘ線発生装置７
を出てハウジング８に入るＸ線の断面形状に大きな乱れ
がない場合には、補助ピンホール９を備えた補助Ｘ線規
制板１０を省略することもできる。
【００２２】試料２から発生した散乱Ｘ線を検出するた
めのＸ線検出器としては、Ｘ線フィルム１３以外に、Ｘ
線フィルムと同様にＸ線を平面領域内で同時に検出でき
る蓄積性蛍光体とか、ワイヤ状の陰極線を張設した範囲
内でＸ線を同時に検出できる位置感応型Ｘ線検出器等を
適用できる。また、それらのような広い範囲で同時にＸ
線を検出するＸ線検出器ではなくて、周知のシンチレー
ションカウンタ等のように受光スリットによって狭い範
囲に制限された受光口からＸ線を取り込むようにした、
いわゆる一次元Ｘ線検出器を２θ走査させることによっ
て散乱Ｘ線情報を検出する方法を採用することもでき
る。なお、シンチレーションカウンタ等の一次元Ｘ線検
出器を用いる場合は、Ｘ線規制孔としてピンホールに代
えて細長いスリットを用いることができる。
めのＸ線検出器としては、Ｘ線フィルム１３以外に、Ｘ
線フィルムと同様にＸ線を平面領域内で同時に検出でき
る蓄積性蛍光体とか、ワイヤ状の陰極線を張設した範囲
内でＸ線を同時に検出できる位置感応型Ｘ線検出器等を
適用できる。また、それらのような広い範囲で同時にＸ
線を検出するＸ線検出器ではなくて、周知のシンチレー
ションカウンタ等のように受光スリットによって狭い範
囲に制限された受光口からＸ線を取り込むようにした、
いわゆる一次元Ｘ線検出器を２θ走査させることによっ
て散乱Ｘ線情報を検出する方法を採用することもでき
る。なお、シンチレーションカウンタ等の一次元Ｘ線検
出器を用いる場合は、Ｘ線規制孔としてピンホールに代
えて細長いスリットを用いることができる。
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、ピンホール等といった
Ｘ線規制孔の所で発生した寄生散乱Ｘ線が試料に向かっ
て進行するのをチャンネルカット結晶によって阻止で
き、よって、小角度領域内で試料から発生する散乱Ｘ線
や長周期結晶構造に起因する回折Ｘ線を高分解能及び高
Ｓ／Ｎ比で測定することができる。
Ｘ線規制孔の所で発生した寄生散乱Ｘ線が試料に向かっ
て進行するのをチャンネルカット結晶によって阻止で
き、よって、小角度領域内で試料から発生する散乱Ｘ線
や長周期結晶構造に起因する回折Ｘ線を高分解能及び高
Ｓ／Ｎ比で測定することができる。
【００２４】
【図１】本発明に係る小角領域Ｘ線装置の一実施例を示
す平面断面図である。
す平面断面図である。
【図２】同小角領域Ｘ線装置に用いられるチャンネルカ
ット結晶の一例を示す斜視図である。
ット結晶の一例を示す斜視図である。
【図３】従来の小角領域Ｘ線装置、特に平行Ｘ線ビーム
法に従った小角領域Ｘ線装置の一例を示す模式図であ
る。
法に従った小角領域Ｘ線装置の一例を示す模式図であ
る。
１ Ｘ線源 ２ 試料 ９ 補助ピンホール １１ ピンホール（Ｘ線規制孔） １４ 第１チャンネルカット結晶 １５ 第２チャンネルカット結晶 １６ 第３チャンネルカット結晶
Claims (3)
- 【請求項１】 試料にＸ線を入射したときにその試料か
ら生じる出力Ｘ線を入射Ｘ線に対する小角度の領域内に
おいて検出する小角領域Ｘ線装置であって、Ｘ線源から
試料に向かうＸ線光路上にＸ線規制孔を設け、Ｘ線源か
ら出たＸ線をそのＸ線規制孔によって平行Ｘ線ビームに
成形して試料に照射するようにした小角領域Ｘ線装置に
おいて、 上記Ｘ線規制孔と試料との間のＸ線光路上に、第１チャ
ンネルカット結晶を設けたことを特徴とする小角領域Ｘ
線装置。 - 【請求項２】 上記Ｘ線規制孔の前のＸ線光路上に第２
チャンネルカット結晶を設けたことを特徴とする請求項
１記載の小角領域Ｘ線装置。 - 【請求項３】 Ｘ線源がポイントフォーカスのＸ線源で
ある請求項１記載の小角領域Ｘ線装置において、 上記Ｘ線規制孔の前のＸ線光路上に第２チャンネルカッ
ト結晶を設け、さらにそのＸ線規制孔と試料との間のＸ
線光路上に、上記第１チャンネルカット結晶のＸ線反射
面に対して９０度ずれたＸ線反射面を有する第３チャン
ネルカット結晶を設けたことを特徴とする請求項１記載
の小角領域Ｘ線装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30046592A JPH06130002A (ja) | 1992-10-13 | 1992-10-13 | 小角領域ｘ線装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30046592A JPH06130002A (ja) | 1992-10-13 | 1992-10-13 | 小角領域ｘ線装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06130002A true JPH06130002A (ja) | 1994-05-13 |
Family
ID=17885125
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30046592A Pending JPH06130002A (ja) | 1992-10-13 | 1992-10-13 | 小角領域ｘ線装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06130002A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002310947A (ja) * | 2001-04-11 | 2002-10-23 | Rigaku Corp | 小角散乱測定方法とその装置 |
| KR20160137951A (ko) | 2014-03-27 | 2016-12-02 | 가부시키가이샤 리가쿠 | 빔 생성 유닛 및 x선 소각 산란 장치 |
-
1992
- 1992-10-13 JP JP30046592A patent/JPH06130002A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002310947A (ja) * | 2001-04-11 | 2002-10-23 | Rigaku Corp | 小角散乱測定方法とその装置 |
| JP4514982B2 (ja) * | 2001-04-11 | 2010-07-28 | 株式会社リガク | 小角散乱測定装置 |
| KR20160137951A (ko) | 2014-03-27 | 2016-12-02 | 가부시키가이샤 리가쿠 | 빔 생성 유닛 및 x선 소각 산란 장치 |
| US10145808B2 (en) | 2014-03-27 | 2018-12-04 | Rigaku Corporation | Beam generation unit and X-ray small-angle scattering apparatus |
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