JPH09260334A - 半導体部品洗浄装置 - Google Patents
半導体部品洗浄装置Info
- Publication number
- JPH09260334A JPH09260334A JP9300996A JP9300996A JPH09260334A JP H09260334 A JPH09260334 A JP H09260334A JP 9300996 A JP9300996 A JP 9300996A JP 9300996 A JP9300996 A JP 9300996A JP H09260334 A JPH09260334 A JP H09260334A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- eccentric
- shafts
- base
- rotary
- cassette
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 超音波洗浄槽内の半導体部品を二次元的揺動
によって、万遍なく効率良く洗浄し、超音波洗浄効果を
大巾に向上させる。 【解決手段】 半導体部品を収容するカセットが揺動ベ
ース上のスタンドを介して洗浄槽内に揺動自在に配備さ
れ、該洗浄槽下部に超音波振動子を設置した洗浄装置に
おいて、前記カセットを支持するスタンドのある旋回揺
動ベースと、該旋回揺動ベースに取付けられた軸受に挿
入された偏心回転軸とを備え、該偏心回転軸を基台上に
軸受支承すると共に、回転駆動部に連結したことでカセ
ットが洗浄槽内で二次元的な動作で旋回揺動させること
になり、従来型の上下のみの一次元的揺動に比べ洗浄槽
下部に設置された超音波振動子からの超音波の照射がカ
セット内の半導体部品に対して万遍なく行われることに
なり、より効率の良い洗浄効果が得られる。
によって、万遍なく効率良く洗浄し、超音波洗浄効果を
大巾に向上させる。 【解決手段】 半導体部品を収容するカセットが揺動ベ
ース上のスタンドを介して洗浄槽内に揺動自在に配備さ
れ、該洗浄槽下部に超音波振動子を設置した洗浄装置に
おいて、前記カセットを支持するスタンドのある旋回揺
動ベースと、該旋回揺動ベースに取付けられた軸受に挿
入された偏心回転軸とを備え、該偏心回転軸を基台上に
軸受支承すると共に、回転駆動部に連結したことでカセ
ットが洗浄槽内で二次元的な動作で旋回揺動させること
になり、従来型の上下のみの一次元的揺動に比べ洗浄槽
下部に設置された超音波振動子からの超音波の照射がカ
セット内の半導体部品に対して万遍なく行われることに
なり、より効率の良い洗浄効果が得られる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体部品をカセ
ットに収容してカセットごと揺動させて半導体部品を超
音波の照射で洗浄する半導体部品洗浄装置に関するもの
である。
ットに収容してカセットごと揺動させて半導体部品を超
音波の照射で洗浄する半導体部品洗浄装置に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体部品を洗浄するのに半導体
部品を収容するカセットが揺動ベース上のスタンドを介
して洗浄槽内に揺動自在に配備され、該洗浄槽下部に設
けた超音波振動子からの超音波の照射により半導体部品
を揺動させながら洗浄することが知られている。
部品を収容するカセットが揺動ベース上のスタンドを介
して洗浄槽内に揺動自在に配備され、該洗浄槽下部に設
けた超音波振動子からの超音波の照射により半導体部品
を揺動させながら洗浄することが知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来の洗浄装置では、
図4に示す如く、洗浄槽a内に揺動自在に配備されるカ
セットbは上下動させること、即ちモータdで駆動され
る回転軸eに設けた偏心カムfを昇降動ベースgのカム
フォロアhに当接させ、偏心カムfの回転で昇降動ベー
スgをガイドシャフトiに沿って上下動させることによ
って洗浄槽aの下部に設置された超音波振動子からの超
音波の照射がカセットbの内の半導体部品cに対して行
われることを目的として採用されていたが、半導体部品
cが上下動だけの一次元的動きのために十分満足すべき
洗浄効果が得られず、一層効率よい洗浄効果が得られる
ことが要請されていた。
図4に示す如く、洗浄槽a内に揺動自在に配備されるカ
セットbは上下動させること、即ちモータdで駆動され
る回転軸eに設けた偏心カムfを昇降動ベースgのカム
フォロアhに当接させ、偏心カムfの回転で昇降動ベー
スgをガイドシャフトiに沿って上下動させることによ
って洗浄槽aの下部に設置された超音波振動子からの超
音波の照射がカセットbの内の半導体部品cに対して行
われることを目的として採用されていたが、半導体部品
cが上下動だけの一次元的動きのために十分満足すべき
洗浄効果が得られず、一層効率よい洗浄効果が得られる
ことが要請されていた。
【0004】本発明は、これら従来の問題点を排除しよ
うとするもので、超音波洗浄槽内の半導体部品を二次元
的揺動によって万遍なく効率良く洗浄して超音波洗浄効
果を大巾に向上させることができる超音波洗浄装置を構
成簡単で安価な形態で提供することを目的としたもので
ある。
うとするもので、超音波洗浄槽内の半導体部品を二次元
的揺動によって万遍なく効率良く洗浄して超音波洗浄効
果を大巾に向上させることができる超音波洗浄装置を構
成簡単で安価な形態で提供することを目的としたもので
ある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、半導体部品を
収容するカセットが揺動ベース上のスタンドを介して洗
浄槽内に揺動自在に配備され、該洗浄槽下部に超音波振
動子を設置した洗浄装置において、前記カセットを支持
するスタンドのある旋回揺動ベースと、該旋回揺動ベー
スに取付けられた軸受に挿入された偏心回転軸とを備
え、該偏心回転軸を基台上に軸受支承すると共に、回転
駆動部に連結したものである。
収容するカセットが揺動ベース上のスタンドを介して洗
浄槽内に揺動自在に配備され、該洗浄槽下部に超音波振
動子を設置した洗浄装置において、前記カセットを支持
するスタンドのある旋回揺動ベースと、該旋回揺動ベー
スに取付けられた軸受に挿入された偏心回転軸とを備
え、該偏心回転軸を基台上に軸受支承すると共に、回転
駆動部に連結したものである。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明の実施形態では、回転駆動
部10のモータが駆動するとギヤ14が回転し、これと
かみ合っているギヤ15の回転に併ない、該ギヤ15が
組付けられている偏心回転軸8は回転し、プーリー12
により、シンクロベルト13を経てテンションプーリー
16により一定のテンションを与えられながらプーリー
12で他方の偏心回転軸8を回転させる。この両偏心回
転軸8,8の回転で、軸両端に取付けられた偏心軸部が
回転し偏心軸部は揺動ベース3に組付けられた軸受7に
挿入され、ベアリングにより支持されているため揺動ベ
ース3は旋回揺動し、二次元的揺動動作を行うこととな
り、揺動ベース3に組付けられたスタンド6によって、
該スタンド6に取付けられたフック17上に載置されて
いる基板などの半導体部品1の入っているカセット2は
旋回揺動されることになり、洗浄槽4の下部に設置され
た超音波振動子5からの超音波の照射がカセット2内の
半導体部品1に対して万遍なく行われ効率良い洗浄が可
能となる。
部10のモータが駆動するとギヤ14が回転し、これと
かみ合っているギヤ15の回転に併ない、該ギヤ15が
組付けられている偏心回転軸8は回転し、プーリー12
により、シンクロベルト13を経てテンションプーリー
16により一定のテンションを与えられながらプーリー
12で他方の偏心回転軸8を回転させる。この両偏心回
転軸8,8の回転で、軸両端に取付けられた偏心軸部が
回転し偏心軸部は揺動ベース3に組付けられた軸受7に
挿入され、ベアリングにより支持されているため揺動ベ
ース3は旋回揺動し、二次元的揺動動作を行うこととな
り、揺動ベース3に組付けられたスタンド6によって、
該スタンド6に取付けられたフック17上に載置されて
いる基板などの半導体部品1の入っているカセット2は
旋回揺動されることになり、洗浄槽4の下部に設置され
た超音波振動子5からの超音波の照射がカセット2内の
半導体部品1に対して万遍なく行われ効率良い洗浄が可
能となる。
【0007】
【実施例】本発明の実施例を図1乃至図3の例で説明す
ると、半導体部品1を収容するカセットが揺動ベース3
上のスタンドを介して洗浄槽4内に揺動自在に配備さ
れ、該洗浄槽4の下部に超音波振動子5を設置した洗浄
装置において、前記カセット2を支持するスタンド6の
ある旋回揺動ベース3と、該旋回揺動ベース3に取付け
られた軸受7に挿入された偏心回転軸8とを備え、該偏
心回転軸8を基台11上に軸受け9で軸受支承すると共
に、回転駆動部10に連結し、前記カセット2を二次元
的に揺動させるようになっている。
ると、半導体部品1を収容するカセットが揺動ベース3
上のスタンドを介して洗浄槽4内に揺動自在に配備さ
れ、該洗浄槽4の下部に超音波振動子5を設置した洗浄
装置において、前記カセット2を支持するスタンド6の
ある旋回揺動ベース3と、該旋回揺動ベース3に取付け
られた軸受7に挿入された偏心回転軸8とを備え、該偏
心回転軸8を基台11上に軸受け9で軸受支承すると共
に、回転駆動部10に連結し、前記カセット2を二次元
的に揺動させるようになっている。
【0008】前記偏心回転軸8としては、基台11に一
対並設され、これらがプーリー12及びシンクロベルト
13による巻掛伝動機構を介して連結され、前記偏心回
転軸8の一方がギア14,15の歯車伝動機構を介して
回転駆動部10、例えばモータに連結され、連動される
ようになっている。
対並設され、これらがプーリー12及びシンクロベルト
13による巻掛伝動機構を介して連結され、前記偏心回
転軸8の一方がギア14,15の歯車伝動機構を介して
回転駆動部10、例えばモータに連結され、連動される
ようになっている。
【0009】前記基台11には、軸受け9が2列に2ヶ
づつ設けられテンションプーリー16と回転駆動部10
が取付けられていて、前記軸受9には偏心回転軸8がそ
れぞれ挿入されている。該偏心回転軸8はシャフトの両
端部に偏心軸部がそれぞれ取付けられて構成されている
が、一方のシャフトにはギア15とプーリー12が取付
けられている。また他方の偏心回転軸8のシャフトには
プーリー12が取付けられ、各プーリー12,12はシ
ンクロベルト13により連結され連動できるようになっ
ている。
づつ設けられテンションプーリー16と回転駆動部10
が取付けられていて、前記軸受9には偏心回転軸8がそ
れぞれ挿入されている。該偏心回転軸8はシャフトの両
端部に偏心軸部がそれぞれ取付けられて構成されている
が、一方のシャフトにはギア15とプーリー12が取付
けられている。また他方の偏心回転軸8のシャフトには
プーリー12が取付けられ、各プーリー12,12はシ
ンクロベルト13により連結され連動できるようになっ
ている。
【0010】なお、前記偏心回転軸8の偏心軸部は、前
記揺動ベース3に取付けられた軸受け7に挿入されてお
り、該軸受7のベアリングにより回転可能に支持され、
揺動ベース3上部にはスタンド6を介してフック17が
組付けられている。また、前記洗浄槽4は、フレーム1
8に固定され、旋回揺動されるフック17上に載置され
るカセット2を洗浄槽4の洗浄水中に浸漬できるように
なっている。
記揺動ベース3に取付けられた軸受け7に挿入されてお
り、該軸受7のベアリングにより回転可能に支持され、
揺動ベース3上部にはスタンド6を介してフック17が
組付けられている。また、前記洗浄槽4は、フレーム1
8に固定され、旋回揺動されるフック17上に載置され
るカセット2を洗浄槽4の洗浄水中に浸漬できるように
なっている。
【0011】この実施例では、回転駆動部10の起動で
偏心回転軸8,8が回転されると、軸両側にある偏心軸
部は揺動ベース3に組付けられた軸受け7に挿入され、
ベアリングにより支持されているため揺動ベース3は旋
回揺動し、二次元的揺動動作を行うこととなり、揺動ベ
ース3に組付けられたスタンド6によって、該スタンド
6に取付けられたフック17上に載置されている基板な
どの半導体部品1の入っているカセット2は旋回揺動さ
れることになり、洗浄槽4の下部に設置された超音波振
動子5からの超音波の照射がカセット2内の半導体部品
1に対して万遍なく行われ効率良い洗浄が可能となる。
偏心回転軸8,8が回転されると、軸両側にある偏心軸
部は揺動ベース3に組付けられた軸受け7に挿入され、
ベアリングにより支持されているため揺動ベース3は旋
回揺動し、二次元的揺動動作を行うこととなり、揺動ベ
ース3に組付けられたスタンド6によって、該スタンド
6に取付けられたフック17上に載置されている基板な
どの半導体部品1の入っているカセット2は旋回揺動さ
れることになり、洗浄槽4の下部に設置された超音波振
動子5からの超音波の照射がカセット2内の半導体部品
1に対して万遍なく行われ効率良い洗浄が可能となる。
【0012】
【発明の効果】本発明は、半導体部品を収容するカセッ
トが揺動ベース上のスタンドを介して洗浄槽内に揺動自
在に配備され、該洗浄槽下部に超音波振動子を設置した
洗浄装置において、前記カセットを支持するスタンドの
ある旋回揺動ベースと、該旋回揺動ベースに取付けられ
た軸受に挿入された偏心回転軸とを備え、該偏心回転軸
を基台上に軸受支承すると共に、回転駆動部に連結した
ことにより、スタンドに保持されたカセットが洗浄槽内
で二次元的な動作で旋回揺動させることになり、従来型
の上下のみの一次元的揺動に比べ洗浄槽下部に設置され
た超音波振動子からの超音波の照射がカセット内の半導
体部品に対して万遍なく行われることになり、より効率
の良い洗浄効果が得られ洗浄作業の簡便化に寄与でき
る。
トが揺動ベース上のスタンドを介して洗浄槽内に揺動自
在に配備され、該洗浄槽下部に超音波振動子を設置した
洗浄装置において、前記カセットを支持するスタンドの
ある旋回揺動ベースと、該旋回揺動ベースに取付けられ
た軸受に挿入された偏心回転軸とを備え、該偏心回転軸
を基台上に軸受支承すると共に、回転駆動部に連結した
ことにより、スタンドに保持されたカセットが洗浄槽内
で二次元的な動作で旋回揺動させることになり、従来型
の上下のみの一次元的揺動に比べ洗浄槽下部に設置され
た超音波振動子からの超音波の照射がカセット内の半導
体部品に対して万遍なく行われることになり、より効率
の良い洗浄効果が得られ洗浄作業の簡便化に寄与でき
る。
【図1】本発明の実施例を示す縦断面図である。
【図2】図1の例の一部の正面図である。
【図3】図2のA−A線における切断平面図である。
【図4】従来例を示し、(a)は側面図、(b)はB−
B線の平面図である。
B線の平面図である。
1 半導体部品 2 カセット 3 揺動ベース 4 洗浄槽 5 超音波振動子 6 スタンド 7 軸受 8 偏心回転軸 9 軸受 10 回転駆動部 11 基台 12 プーリー 13 シンクロベルト 14,15 ギア 16 テンションプーリー 17 フック
Claims (2)
- 【請求項1】 半導体部品を収容するカセットが揺動ベ
ース上のスタンドを介して洗浄槽内に揺動自在に配備さ
れ、該洗浄槽下部に超音波振動子を設置した洗浄装置に
おいて、前記カセットを支持するスタンドのある旋回揺
動ベースと、該旋回揺動ベースに取付けられた軸受に挿
入された偏心回転軸とを備え、該偏心回転軸を基台上に
軸受支承すると共に、回転駆動部に連結したことを特徴
とする半導体部品洗浄装置。 - 【請求項2】 前記偏心回転軸が、基台に一対並設さ
れ、これらがシンクロベルトによる巻掛伝動機構を介し
て連結され、前記偏心回転軸の一方が歯車伝動機構を介
して回転駆動部に連結された請求項1記載の半導体部品
洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9300996A JPH09260334A (ja) | 1996-03-25 | 1996-03-25 | 半導体部品洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9300996A JPH09260334A (ja) | 1996-03-25 | 1996-03-25 | 半導体部品洗浄装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09260334A true JPH09260334A (ja) | 1997-10-03 |
Family
ID=14070419
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9300996A Pending JPH09260334A (ja) | 1996-03-25 | 1996-03-25 | 半導体部品洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09260334A (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007059832A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Ses Co Ltd | 基板処理装置 |
DE112009000361T5 (de) | 2008-02-28 | 2011-03-31 | Shin-Etsu Handotai Co. Ltd. | Ultraschall-Reinigungsvorrichtung und Ultraschall-Reinigungsverfahren |
CN102211097A (zh) * | 2011-03-29 | 2011-10-12 | 常州亿晶光电科技有限公司 | 一种镀膜石墨框的超声波清洗装置 |
CN102716868A (zh) * | 2012-07-03 | 2012-10-10 | 济南巴克超声波科技有限公司 | 一种超声波清洗用的重型抛动装置 |
CN103212551A (zh) * | 2013-04-02 | 2013-07-24 | 苏州海铂晶体有限公司 | 一种用于晶片的超声波清洗装置 |
CN103949433A (zh) * | 2014-04-15 | 2014-07-30 | 苏州金牛精密机械有限公司 | 一种超声清洗机抛动架的导向装置 |
CN105728396A (zh) * | 2016-05-10 | 2016-07-06 | 江苏万新光学有限公司 | 一种镜片超声波清洗机抛动装置 |
CN105750267A (zh) * | 2016-05-10 | 2016-07-13 | 江苏万新光学有限公司 | 一种洗篮托架移动及抛动装置 |
CN106623239A (zh) * | 2016-11-25 | 2017-05-10 | 湖州市道场乡资产经营有限公司 | 机加工零件超声波清洗机 |
CN108765728A (zh) * | 2018-06-27 | 2018-11-06 | 北京云橱科技有限公司 | 用于多功能自动售卖机的机械手装置 |
CN108816926A (zh) * | 2018-08-21 | 2018-11-16 | 重庆铁源紧固件制造有限公司 | 一种紧固件除油污装置 |
CN108926392A (zh) * | 2018-05-31 | 2018-12-04 | 王红 | 一种手术器械清洗消毒烘干装置 |
JP2019125657A (ja) * | 2018-01-15 | 2019-07-25 | ジャパンクリエイト株式会社 | 半導体ウェハ処理装置 |
-
1996
- 1996-03-25 JP JP9300996A patent/JPH09260334A/ja active Pending
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007059832A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Ses Co Ltd | 基板処理装置 |
DE112009000361B4 (de) | 2008-02-28 | 2017-12-14 | Shin-Etsu Handotai Co. Ltd. | Ultraschall-Reinigungsvorrichtung und Ultraschall-Reinigungsverfahren |
DE112009000361T5 (de) | 2008-02-28 | 2011-03-31 | Shin-Etsu Handotai Co. Ltd. | Ultraschall-Reinigungsvorrichtung und Ultraschall-Reinigungsverfahren |
US8083856B2 (en) | 2008-02-28 | 2011-12-27 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Ultrasonic cleaning apparatus and ultrasonic cleaning method |
CN102211097A (zh) * | 2011-03-29 | 2011-10-12 | 常州亿晶光电科技有限公司 | 一种镀膜石墨框的超声波清洗装置 |
CN102716868A (zh) * | 2012-07-03 | 2012-10-10 | 济南巴克超声波科技有限公司 | 一种超声波清洗用的重型抛动装置 |
CN103212551A (zh) * | 2013-04-02 | 2013-07-24 | 苏州海铂晶体有限公司 | 一种用于晶片的超声波清洗装置 |
CN103949433A (zh) * | 2014-04-15 | 2014-07-30 | 苏州金牛精密机械有限公司 | 一种超声清洗机抛动架的导向装置 |
CN105750267A (zh) * | 2016-05-10 | 2016-07-13 | 江苏万新光学有限公司 | 一种洗篮托架移动及抛动装置 |
CN105728396A (zh) * | 2016-05-10 | 2016-07-06 | 江苏万新光学有限公司 | 一种镜片超声波清洗机抛动装置 |
CN106623239A (zh) * | 2016-11-25 | 2017-05-10 | 湖州市道场乡资产经营有限公司 | 机加工零件超声波清洗机 |
JP2019125657A (ja) * | 2018-01-15 | 2019-07-25 | ジャパンクリエイト株式会社 | 半導体ウェハ処理装置 |
CN108926392A (zh) * | 2018-05-31 | 2018-12-04 | 王红 | 一种手术器械清洗消毒烘干装置 |
CN108765728A (zh) * | 2018-06-27 | 2018-11-06 | 北京云橱科技有限公司 | 用于多功能自动售卖机的机械手装置 |
CN108816926A (zh) * | 2018-08-21 | 2018-11-16 | 重庆铁源紧固件制造有限公司 | 一种紧固件除油污装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH09260334A (ja) | 半導体部品洗浄装置 | |
JP3333733B2 (ja) | 洗浄装置 | |
JP5072591B2 (ja) | 床処理洗浄システム | |
US20020185164A1 (en) | Apparatus for applying cleaning treatment to the surface of a processed member | |
WO2019210777A1 (zh) | 四自由度电磁振动式真空滚揉机 | |
CN109758330A (zh) | 一种振动健身机 | |
CN209450868U (zh) | 一种振动健身机 | |
KR101145850B1 (ko) | 마스크 세정장치 | |
US2970235A (en) | Agitating apparatus | |
JP3641383B2 (ja) | 超音波洗浄装置 | |
JPH0159385B2 (ja) | ||
JP2000011374A (ja) | 回転ディスクの洗浄方法および装置 | |
KR100487910B1 (ko) | 초음파 세정기의 요동장치 | |
JP2001286838A (ja) | 超音波洗浄装置並びにこれを用いた洗浄方法 | |
JP3937252B2 (ja) | 超音波洗滌装置 | |
CN108719414A (zh) | 四自由度电磁振动式真空滚揉机 | |
JP2000107712A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
KR200279983Y1 (ko) | 초음파 세정기의 요동장치 | |
CN209393704U (zh) | 清洗槽中清洗篮驱动机构 | |
JPS5852716B2 (ja) | ふるい装置 | |
CN116550680A (zh) | 一种便于调节的多槽式超声波清洗机 | |
CN214178976U (zh) | 一种方便使用的豆制品加工用浸泡装置 | |
CN220208905U (zh) | 清洗机摇篮摆动机构及晶圆片清洗机 | |
JPS61133380A (ja) | 化学表面処理方法 | |
JPH0550047A (ja) | 超音波洗浄装置 |