JP2019125657A - 半導体ウェハ処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、ウェハ処理装置の構成を示した側面図であり、図2は、ウェハ処理装置の構成を示した正面図であり、図3は、カセットの構成を示した斜視図である。
図1及び図2に示すように、ウェハ処理装置1は、処理槽100と、揺動機構200と、駆動モータ300と、カセット400とから構成されている。処理槽100は、外槽101と内槽102とから構成されており、内槽102には処理液が収容され、この処理液は、オーバーフローして外槽101に流れるような構成となっている。なお、図示していないが、処理槽100に外槽101へ流れた処理液を回収する機構を有してもよい。
そして、揺動シャフト203は、このシャフト203aの長さ方向に往復運動することができる。
また、揺動プレート208は、駆動シャフト206と固定軸208cによって接続している。
図4(a)は、揺動機構の動作を示した図であり、図4(b)は、カセットの揺動する状態を示した図であり、図5(a)は、揺動機構の動作を示した図であり、図5(b)は、カセットの揺動する状態を示した図であり、図6(a)は、揺動機構の動作を示した図であり、図6(b)は、カセットの揺動する状態を示した図である。
100 処理槽
101 外槽
102 内槽
200 揺動機構
201 支持体
201a シャフト取付部
201b 下延出部
202 カセット載置台
202a 係合部
203 揺動シャフト
204 第1の連結部
205 第2の連結部
206 駆動シャフト
207 伝達部
207a 回転軸
208 揺動プレート
208a 嵌合部
208b 支持部
208c 固定軸
209 レール体
209a レール
300 駆動モータ
301 出力シャフト
Claims (5)
- 処理液を収容した処理槽と、
略円板状の半導体ウェハの周縁部を縦置きに複数支持して、前記処理槽に浸漬させるカセットと、を備える半導体ウェハ処理装置において、
前記カセットを前記処理槽内で支持する支持体と、
該支持体を前方視で円を描くように揺動させる揺動部を有することを特徴とする半導体ウェハ処理装置。 - 前記揺動部は、前記支持体を左右方向へ揺動させる第1の揺動部と、前記支持体を上下方向に揺動させる第2の揺動部と、該第1の揺動部及び第2の揺動部を駆動させるための駆動部を有することを特徴とする請求項1記載の半導体ウェハ処理装置。
- 前記第1の揺動部は、前記第2の揺動部が備えるシャフトに対し、前記シャフトの長さ方向に左右移動可能なように接続されていることを特徴とする請求項2記載の半導体ウェハ処理装置。
- 前記第2の揺動部は、前記処理槽の外壁の高さ方向に設置されているレールに対し、上下方向に移動可能なように接続されていることを特徴とする請求項2記載の半導体ウェハ処理装置。
- 前記駆動部の駆動により、第1の揺動部が左右方向に移動し、同時に第2の揺動部が上下方向に移動を繰り返すことで、前記カセットの水平を維持しながら前方視で円を描くようにして前記カセットを前記処理槽内で揺動させることを特徴とする請求項3または4に記載の半導体ウェハ処理装置。
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CN117438347A (zh) * | 2023-12-15 | 2024-01-23 | 山东联盛电子设备有限公司 | 一种晶圆腐蚀装置 |
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JPH09260334A (ja) * | 1996-03-25 | 1997-10-03 | Kaijo Corp | 半導体部品洗浄装置 |
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JP2006035139A (ja) * | 2004-07-28 | 2006-02-09 | Ptc Engineering:Kk | 超音波洗浄装置 |
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2018
- 2018-01-15 JP JP2018004510A patent/JP6994242B2/ja active Active
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CN117438347B (zh) * | 2023-12-15 | 2024-03-12 | 山东联盛电子设备有限公司 | 一种晶圆腐蚀装置 |
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