JP2000011374A - 回転ディスクの洗浄方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 回転ディスクの洗浄を効率的に行い得るよう
にする。 【解決手段】 回転ディスク１０は支持部材１１により
回転自在に支持された状態で、第１と第２の２つの洗浄
ローラ１７，１８の間に挟み付けられる。それぞれの洗
浄ローラ１７，１８は、回転ディスク１０に接触して回
転駆動する駆動部２１と、回転ディスク１０に滑り接触
してこれを洗浄する洗浄部２２とを有しており、両方の
洗浄ローラ１７，１８を相互に逆方向に回転駆動する
と、回転ディスク１０は洗浄ローラ１７，１８により駆
動されるとともに、洗浄ローラ１７，１８の洗浄部２２
により洗浄される。この洗浄に際しては、洗浄液がそれ
ぞれの洗浄ローラ１７，１８と回転ディスク１０との間
に供給される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はコンピュータの記憶
媒体として使用される磁気ディスクなどの回転ディスク
を洗浄する回転ディスクの洗浄技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば、コンピュータの記憶媒体とし
て使用される磁気ディスクは、アルミニウム合金製やガ
ラス製の回転ディスクを素材として製造されており、そ
の製造行程としては、ラッピングやポリッシングにより
回転ディスクの表面を研磨する行程や、表面を洗浄する
洗浄行程がある。

【０００３】洗浄行程に使用する洗浄装置としては、た
とえば、特公平7-14509 号公報に記載されるようなもの
があり、回転ディスクを支持する支持ローラをモータに
より回転駆動させることにより回転ディスクを駆動する
ようにしており、さらに、洗浄用ブラシなどのように回
転ディスクの表面を滑るようにした部材を支持ローラを
回転駆動するモータとは異なったモータにより回転する
ようにしている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】このように、従来の洗
浄装置にあっては、回転ディスクの駆動と、洗浄ブラシ
の駆動とを異なった駆動源により駆動するようにしてい
るので、装置が複雑となるという問題点がある。

【０００５】特に、近年にあっては、ディスクの洗浄度
を高めるために、洗浄行程は、洗浄薬剤を含む洗浄液を
回転ディスクに供給する洗浄行程と、洗浄薬剤を除去す
るために純水を洗浄液として回転ディスクに供給する洗
浄行程とを有しており、効率的に洗浄作業を行うには、
搬送装置によって回転ディスクを搬送して洗浄を行うこ
とが望ましい。しかしながら、従来の洗浄装置では、限
られたスペースの中で効率的に回転ディスクの洗浄を行
うことは困難であった。

【０００６】本発明の目的は、回転ディスクの両面の洗
浄を効率的に行い得るようにすることにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の回転ディスクの
洗浄方法は、回転ディスクを回転自在に支持する支持部
材と、前記回転ディスクの一方の面に接触する第１洗浄
ローラと、前記第１洗浄ローラに対して相対接近離反移
動自在となって平行に延びる第２洗浄ローラとを有する
洗浄装置に、それぞれの前記洗浄ローラを離した状態の
もとで、これらの間に前記支持部材により前記回転ディ
スクを位置決めする行程と、それぞれの前記洗浄ローラ
を相互に接近移動させて、両方の洗浄ローラにより前記
回転ディスクをその両面で挟む行程と、それぞれの前記
洗浄ローラの表面に洗浄液を供給する行程と、それぞれ
の前記洗浄ローラを相互に逆方向に回転駆動し、それぞ
れの前記洗浄ローラに前記回転ディスクの中央部分から
半径方向の一方側に接触するように設けられた駆動部に
より前記回転ディスクを回転駆動する行程と、それぞれ
の前記駆動部により前記回転ディスクを回転しながら、
それぞれの前記洗浄ローラに前記回転ディスクの中央部
分から半径方向の他方側に接触するように設けられた洗
浄部と前記回転ディスクとの滑りにより前記回転ディス
クを洗浄する行程とを有することを特徴とする。前記そ
れぞれの洗浄ローラを回転駆動するとともに、軸方向に
往復動するようにしても良い。

【０００８】本発明の回転ディスクの洗浄装置は、回転
ディスクを回転自在に支持する支持部材と、前記回転デ
ィスクの一方の面に接触する第１洗浄ローラと、前記第
１洗浄ローラに対して相対接近離反移動自在となって平
行に延び、かつ前記回転ディスクの他方の面に接触して
前記回転ディスクを前記第１洗浄ローラとの間で挟む第
２洗浄ローラと、前記それぞれの洗浄ローラの表面に洗
浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記第１洗浄ローラ
と前記第２洗浄ローラとを相互に逆方向に回転駆動する
駆動手段とを有し、前記それぞれの洗浄ローラに前記回
転ディスクの中央部分から半径方向の一方側に接触して
前記回転ディスクを回転する駆動部と、前記回転ディス
クの中央部分から半径方向の他方側に接触して前記回転
ディスクとの滑りにより前記回転ディスクを洗浄する洗
浄部とを形成したことを特徴とする。前記それぞれの洗
浄ローラを軸方向に往復動する直線往復動手段を設ける
ようにしても良い。

【０００９】本発明にあっては、回転自在に支持された
状態の回転ディスクをその両面で２つの洗浄ローラによ
り挟み付けるようにし、それぞれの洗浄ローラに回転デ
ィスクを回転駆動する駆動部と、回転ディスクの表面を
洗浄する洗浄部とを設けたので、一対の洗浄ローラの回
転によって回転ディスクを回転させながら、洗浄ローラ
の洗浄部によって回転ディスクの洗浄を行うことができ
る。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。

【００１１】図１は本発明の一実施の形態である回転デ
ィスクの洗浄装置の基本構造を示す斜視図であり、図２
は図１の正面図であり、図３は図２におけるIII −III
線に沿う矢視図であり、図４は図３におけるIV−IV線に
沿う断面図である。

【００１２】表面が洗浄処理される回転ディスク１０
は、磁気ディスクの基板となるアルミニウム製の円板で
あって、中心部には貫通孔１０ａが形成されている。こ
の回転ディスク１０は支持部材１１によって回転自在に
支持されるようになっており、この支持部材１１は開閉
自在となった２つの支持アーム１２，１３を有し、それ
ぞれの支持アーム１２，１３には回転ディスク１０の外
周面に接触する支持ローラ１４が回転自在に取り付けら
れている。

【００１３】支持部材１１により支持された回転ディス
ク１０を洗浄するために、洗浄装置は相互に平行となっ
た２本の洗浄ロッド１５，１６を有し、それぞれの洗浄
ロッド１５，１６には洗浄ローラ１７，１８が取り付け
られている。それぞれの洗浄ローラ１７，１８はスポン
ジ製であり、回転ディスク１０の外径Ｄの寸法よりも大
きな長さＬを有している。したがって、これらの洗浄ロ
ーラ１７，１８の間で回転ディスク１０を挟んだ状態の
もとでは、回転ディスク１０の回転中心Ｏを通る半径方
向線Ｒに沿って両方の洗浄ローラ１７，１８の外周面が
接触することになる。

【００１４】回転ディスク１０を挟んだ状態のもとで、
それぞれの洗浄ローラ１７，１８は、図１に示すよう
に、相互に逆方向に回転駆動するようになっており、そ
れぞれの洗浄ローラ１７，１８は、これらによって挟ん
だ状態における回転ディスク１０の回転中心Ｏに対応す
る部分を境界として、回転ディスク１０の半径方向の一
方側に接触する駆動部２１と、半径方向の他方側に接触
する洗浄部２２とを有している。

【００１５】駆動部２１はその外周面が円筒形状となっ
ており、両方の洗浄ローラ１７，１８の駆動部２１は回
転ディスク１０の表面に対してその軸方向全体がほぼ線
接触ないし僅かに潰れることによる僅かな面接触とな
る。これに対して、洗浄部２２は駆動部２１の外径より
も小径となった円筒形状の本体部２３の表面に多数の突
起部２４が設けられており、突起部２４の表面までの外
径は駆動部２１の外周面とほぼ同一の外径となってい
る。したがって、洗浄部２２は回転ディスク１０の表面
に対して突起部２４のみが接触することになる。

【００１６】このように、駆動部２１は、回転ディスク
１０の表面に接触する領域の面積が洗浄部２２のそれよ
りも大きくなるので、駆動部２１と洗浄部２２が同一の
方向に回転しても、駆動部２１によって回転ディスク１
０に加えられる摩擦力Ｆａは、洗浄部２２によって回転
ディスク１０に加えられる摩擦力Ｆｂよりも大きくな
る。したがって、駆動部２１によって回転ディスク１０
には矢印で示す方向の回転力が加えられ、洗浄部２２に
よってこれとは反対方向の回転力が回転ディスク１０に
加えられるが、駆動部２１によって加えられる回転力の
方が大きいので、結果的に回転ディスク１０は矢印で示
される方向に回転し、洗浄部２２の突起部２４は回転デ
ィスク１０の表面に対して滑り接触することになる。こ
のようにして、両方の洗浄ローラ１７，１８を相互に逆
の方向に回転駆動することによって、回転ディスク１０
の駆動と、洗浄部２２の回転ディスク表面に対する滑り
接触による洗浄とを同時に行うことができる。

【００１７】図示する場合には、駆動部２１の外径と、
洗浄部２２のうち突起部２４の外径はほぼ同一となって
いるが、駆動部２１によって回転ディスク１０に加えら
れる回転力の方が洗浄部２２によって加えられる回転力
よりも大きくすることができれば、駆動部２１の外径を
洗浄部２２よりもやや大きく設定したり、駆動部２１と
洗浄部２２とを相違した弾性変形率のスポンジを用いる
ようにしても良い。なお、駆動部２１の外表面にも凹凸
を設けるようにしても良い。

【００１８】図示する場合には、駆動部２１と洗浄部２
２が連なっているが、回転ディスク１０の中心部に設け
られた貫通孔１０ａの内径ｄと同一あるいはそれよりも
やや小さい距離だけ、駆動部２１と洗浄部２２とを離す
ようにして、それぞれを洗浄ロッド１５，１６に取り付
けるようにしても良い。また、洗浄部２２の突起部２４
は、図示する場合には本体部２３の表面に千鳥状に設け
られているが、格子状に設けるようにしても良く、螺旋
状に設けるようにしても良く、あるいはランダムに設け
るようにしても良い。さらに、突起部２４のサイズとし
ては、図示する場合よりも相違させるようにしても良
く、その形状も円形のみならず、多角形としても良い。

【００１９】両方の洗浄ロッド１５，１６の中心部に
は、図４に示すように、液体通路２５が形成されてお
り、この液体通路２５に連通させて吐出孔２６が形成さ
れている。これにより、液体通路２５に外部から洗浄液
を供給すると、それぞれの洗浄ローラ１７，１８の内部
を通ってその表面にまで洗浄液が案内され、それぞれの
洗浄ローラ１７，１８は回転ディスク１０に対して洗浄
液が介在した状態で接触することになる。ただし、この
ような洗浄液供給方式に代えるか、あるいはこれに加え
て、図４に示すように、吐出ノズル２７から直接洗浄液
を供給するようにしても良い。また、図４に示すよう
に、洗浄ローラ１７，１８に外周面にスクレーパ２８を
接触させるようにして、洗浄ローラ１７，１８の外周面
に付着した異物を除去するようにしても良い。

【００２０】２つの洗浄ローラ１７，１８を用いて回転
ディスク１０の両面を洗浄するには、図１において矢印
Ａで示すように、洗浄ローラ１８を洗浄ローラ１７に対
して平行状態を保持しつつ離反移動して、両方の洗浄ロ
ーラ１７，１８の間に隙間を設けた状態のもとで、支持
部材１１により回転ディスク１０を両方の洗浄ローラ１
７，１８の間に搬送して位置決めする。この状態のもと
で、洗浄ローラ１８を回転ディスク１０に向けて接近さ
せて、両方の洗浄ローラ１７，１８により挟み付ける。
液体通路２５を介して洗浄液を洗浄ローラ１７，１８の
表面と回転ディスク１０の間に供給することにより、洗
浄作業を開始することができる。

【００２１】その状態のもとで、両方の洗浄ローラ１
７，１８を相互に逆方向に回転駆動することによって、
駆動部２１により洗浄ローラ１７，１８の回転運動を回
転ディスク１０の回転運動に伝達して回転ディスク１０
を矢印Ｂの方向に駆動する。洗浄部２２の突起部２４は
回転ディスク１０の表面に滑り接触することになるの
で、洗浄部２２により回転ディスク１０は回転駆動され
ながら洗浄される。

【００２２】その際に、洗浄ローラ１７，１８を矢印Ｃ
で示すように相互に逆方向に直線往復動させる。つま
り、一方の洗浄ローラが前進移動するときには他方を後
退移動させるように軸方向に往復動させて、両方の洗浄
ローラ１７，１８のオシレート運動を行う。これによ
り、洗浄部２２が回転ディスク１０の外周面と貫通孔１
０ａの内周面に入り込んで、これらの部分も確実に洗浄
される。

【００２３】図５は前述した洗浄装置を有する洗浄乾燥
装置３０を示す正面図であり、ハウジング３１内には洗
浄ステーション３２と乾燥ステーション３３が組み込ま
れている。洗浄ステーション３２には、ワーク着脱ステ
ージ３４と第１と第２の洗浄ステージ３５，３６が設け
られ、これらの回転ディスク１０は、割り出しテーブル
３７の割り出し回転によって、２枚ずつ前述したステー
ジ３４〜３６に搬送される。第１の洗浄ステージ３５で
は、洗浄薬剤を有する洗浄液が使用されて回転ディスク
１０の洗浄が行われ、第２の洗浄ステージ３６では洗浄
液として純水が使用される。各ステージの構成は、使用
される洗浄液の種類が相違するが、同一となっている。

【００２４】図６は図５に示された割り出しテーブル３
７を拡大して示す正面図であり、図７は図６におけるVI
I −VII 線に沿う断面図である。

【００２５】割り出しテーブル３７には、ワーク着脱ス
テージ３４と、２つの洗浄ステージ３５，３６に対応さ
せて、２枚の回転ディスク１０を同時に洗浄するために
２組ずつ支持部材１１が取り付けられている。２枚の回
転ディスク１０は、図示しない搬送装置によって搬送さ
れた後に、ワーク着脱ステージ３４のそれぞれの支持部
材１１に装着され、割り出しテーブル３７を１２０度ず
つ割り出し回転することによって、第１の洗浄ステージ
３５と、第２の洗浄ステージ３６とに搬送されて洗浄さ
れ、ワーク着脱ステージ３４に戻される。洗浄後のそれ
ぞれの回転ディスク１０は、このステージ３４から図示
しない搬送装置によって乾燥ステーション３３にまで搬
送され、ここで高速回転されてスピン乾燥される。

【００２６】割り出しテーブル３７は、図９に示すよう
に、ハウジング３１内に設けられた垂直の支持壁３８に
取り付けられたモータ３９によって回転駆動される。そ
れぞれの支持アーム１２，１３は、割り出しテーブル３
７に取り付けられた支持軸１１ａを中心に回動自在とな
っており、両方の支持アーム１２，１３の間に装着され
た引張コイルばね１９によって両方の支持アーム１２，
１３には閉じる方向のばね力が加えられている。

【００２７】支持壁３８には、ワーク着脱ステージ３４
に対応させて、空気圧シリンダなどからなるアクチュエ
ータ４１が取り付けられており、このアクチュエータ４
１の先端に取り付けられた作動駒４２が、それぞれの支
持アーム１２，１３の支持軸１１ａの後端部に取り付け
られたドグ４３を回動させることにより、支持アーム１
２，１３は開くことになる。開いた状態で、それぞれの
支持部材１１に対して回転ディスク１０のローディング
とアンローディングつまり着脱が行われる。

【００２８】２つの洗浄ステージ３５，３６にはそれぞ
れ前述した洗浄ローラを駆動するための駆動ユニット３
５ａ，３６ａが図５に示すように取り付けられている。
それぞれの駆動ユニットには、各洗浄ステージ３５，３
６において２枚の回転ディスク１０を同時に洗浄するの
で、一対をなす２本の洗浄ローラ１７，１８が二対ずつ
設けられている。

【００２９】図８は一方の駆動ユニット３５ａを示す正
面側の断面図であり、図９は図８におけるIX−IX線に沿
う断面図であり、図１０は図９におけるＸ−Ｘ線に沿う
断面図である。他方の駆動ユニット３６ａも駆動ユニッ
ト３５ａと同一の構造となっている。

【００３０】駆動ユニット３５ａは支持壁３８に取り付
けられるユニットケース４６を有し、このユニットケー
ス４６内には、図９に示すように、支持壁３８に対して
垂直方向に延びるギヤボックス４７が固定され、このギ
ヤボックス４７の上下両側には支持壁３８に対して垂直
方向に延びるガイドレール４８ａ，４８ｂが設けられて
いる。上側のガイドレール４８ａには２つの軸受けボッ
クス５１ａ，５２ａが設けられ、同様に下側のガイドレ
ール４８ｂにも２つの軸受けボックス５１ｂ，５２ｂが
設けられている。

【００３１】それぞれの軸受けボッスクは、支持壁３８
に対して平行に延びており、２つの軸受けボックス５１
ａ，５１ｂはガイドレール４８ａ，４８ｂに沿って支持
壁３８に対して垂直の方向に調整移動自在となり、他の
２つの軸受けボックス５２ａ，５２ｂはガイドレール４
８ａ，４８ｂに沿って同様の方向に往復動自在となって
いる。

【００３２】軸受けボックス５１ａに回転自在に設けら
れた駆動軸５３ａの先端には、洗浄ローラ１７が取り付
けられる洗浄ロッド１５が着脱自在に装着されるように
なっており、軸受けボックス５２ａに回転自在に設けら
れた駆動軸５４ａの先端には、洗浄ローラ１８が取り付
けられる洗浄ロッド１６が着脱自在に装着されるような
っており、両方の洗浄ローラ１７，１８によって対をな
して１枚の回転ディスク１０を挟んで回転駆動するよう
になっている。同様に、下側の軸受けボックス５１ｂ，
５２ｂ内に回転自在に設けられた駆動軸５３ｂ，５４ｂ
の先端には他の対をなす洗浄ローラ１７，１８用の洗浄
ロッド１５，１６が着脱自在に装着されるようになって
いる。それぞれの駆動軸には、洗浄ロッドに形成された
液体通路２５に連通する液体通路５５が形成されてお
り、それぞれの駆動軸の後端部から洗浄液が供給される
ようになっている。

【００３３】軸受けボックス５１ａ，５１ｂに固定され
たブラケット５６ａ，５６ｂは、固定ピン５７ａ，５７
ｂによってユニットケース４６に固定されており、この
固定ピン５７ａ，５７ｂの先端に設けられたねじ部にね
じ結合するナット５８ａ，５８ｂを調整することによっ
て、軸受けボックス５１ａ，５１ｂの位置をガイドレー
ル４８ａ，４８ｂに沿って調整することができる。

【００３４】それぞれのブラケット５６ａ，５６ｂに
は、空気圧シリンダ６１ａ，６１ｂが固定され、それぞ
れの空気圧シリンダ６１ａ，６１ｂにより往復動するピ
ストンロッド６２ａ，６２ｂは、軸受けボックス５２
ａ，５２ｂに固定されたブラケット６３ａ，６３ｂに固
定されている。これにより、空気圧シリンダ６１ａ，６
１ｂを作動させることによって、洗浄ローラ１７に対し
て洗浄ローラ１８を接近離反移動させることができる。

【００３５】４本の駆動軸を同期させて駆動するため
に、図９に示すように、ギヤボックス４７にはそれぞれ
の駆動軸と平行となって２本の連動軸７１ａ，７１ｂが
回転自在に取り付けられ、ギヤボックス４７に固定され
た台座７２にはモータ７３が取り付けられ、図９に示す
ように、一方の連動軸７１ａに取り付けられたプーリ７
４と、モータ７３のシャフトに固定されたプーリ７５と
の間には、ベルト７６が掛け渡されている。

【００３６】一方の連動軸７１ａには、図８に示すよう
に、２つのプーリ７７ａ，７７ｂが固定され、駆動軸５
３ａに固定されたプーリ７８ａと一方のプーリ７７ａと
の間にはベルト７９ａが掛け渡され、駆動軸５３ｂに固
定されたプーリ７８ｂと他方のプーリ７７ｂとの間には
ベルト７９ｂが掛け渡されている。

【００３７】一方の連動軸７１ａの回転を他方の連動軸
７１ｂに伝達するために、連動軸７１ａに固定された歯
車８０に噛み合う図示しない歯車が他方の連動軸７１ｂ
に固定されており、この連動軸７１ｂにも軸方向の位置
をずらして２つの図示しないプーリが固定され、それぞ
れのプーリと駆動軸５４ａ，５４ｂに固定されたプーリ
との間には、図９に示すように、それぞれベルト８１
ａ，８１ｂが掛け渡されている。

【００３８】それぞれの駆動軸を軸方向に往復動するた
めに、図１０に示すように、ギヤボックス４７に固定さ
れた支持フレーム８２には揺動軸８３が揺動自在に装着
され、その揺動軸８３に固定された揺動レバー８４には
それぞれの駆動軸５３ａ，５４ａが連結されている。こ
の揺動レバー８４を駆動するために、ユニットケース４
６内に固定された空気圧シリンダ８５により作動するピ
ストンロッド８６の先端には、揺動レバー８４がピン結
合されている。これにより、空気圧シリンダ８５を作動
させることによって、２本の駆動軸５３ａ，５４ａは軸
方向に往復動することになり、対をなす２つの洗浄ロー
ラ１７，１８は図１において矢印Ｃで示すように軸方向
に往復動される。

【００３９】図５〜図１０に示す洗浄乾燥装置を用いて
回転ディスク１０の表面を洗浄するには、２枚の回転デ
ィスク１０を図５に示すワーク着脱ステージ３４の２対
の支持部材１１にまで搬送して、それぞれの支持部材１
１に回転ディスク１０を装填する。この状態で図６に示
す割り出し回転テーブル３７を時計方向に１２０度割り
出し回転すると、ワーク着脱ステージ３４の２枚の回転
ディスク１０は第１の洗浄ステージ３５まで搬送され、
第１の搬送ステージ３５において洗浄が終了した回転デ
ィスク１０は第２の搬送ステージ３６にまで搬送され
る。さらに、第２の搬送ステージ３６において洗浄が終
了した回転ディスク１０はワーク着脱ステージ３４にま
で搬送される。

【００４０】それぞれの洗浄ステージ３５，３６では、
駆動ユニット３５ａ，３６ａに設けられた２組の洗浄ロ
ーラによりそれぞれ洗浄処理が行われる。第１の洗浄ス
テージ３５においては洗浄薬液を有する洗浄液が使用さ
れ、第２の洗浄ステージ３６においては純水が洗浄液と
して使用される。

【００４１】本発明は前記実施の形態に限定されるもの
ではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能で
あることはいうまでもない。

【００４２】たとえば、図５〜図１０に示す洗浄装置に
あっては、同時に２枚の回転ディスクを洗浄するように
しているが、１枚ずつ洗浄するようにしても良く、割り
出しテーブルを用いずに、支持部材１１を直線方向に搬
送して両方の洗浄ローラ１７，１８の間に回転ディスク
１０を位置決め搬送するようにしても良い。

【００４３】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、２つの
洗浄ローラの間に回転ディスクを挟み付けた状態で洗浄
ローラを相互に逆方向に回転駆動すると、それぞれの洗
浄ローラの駆動部によって回転ディスクが回転駆動され
るとともに、洗浄部が回転ディスクの表面を滑って洗浄
処理が行われる。これにより、回転ディスクの洗浄のた
めに、これを駆動する装置を設けることなく、回転ディ
スクを回転させて洗浄を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態である回転ディスクの洗
浄装置の基本構造を示す斜視図である。

【図２】図１の正面図である。

【図３】図２におけるIII −III 線に沿う矢視図であ
る。

【図４】図３におけるIV−IV線に沿う断面図である。

【図５】図１〜図４に示した洗浄装置を有する洗浄乾燥
装置を示す正面図である。

【図６】図５に示された割り出しテーブルを拡大して示
す正面図である。

【図７】図６におけるVII −VII 線に沿う断面図であ
る。

【図８】一方の駆動ユニットを示す正面側の断面図であ
る。

【図９】図８におけるIX−IX線に沿う断面図である。

【図１０】図１０は図９におけるＸ−Ｘ線に沿う断面図
である。

【符号の説明】

１０ 回転ディスク １０ａ 貫通孔 １１ 支持部材 １２，１３ 支持アーム １４ 支持ローラ １５，１６ 洗浄ロッド １７，１８ 洗浄ローラ ２１ 駆動部 ２２ 洗浄部 ２４ 突起部 ２５ 液体通路 ２６ 吐出孔 ３０ 洗浄乾燥装置 ３１ ハウジング ３２ 洗浄ステーション ３３ 乾燥ステーション ３４ ワーク着脱ステージ ３５，３６ 洗浄ステージ ３７ 割り出しテーブル ３８ 支持壁 ４６ ユニットケース ５３ａ，５３ｂ 駆動軸 ５４ａ，５４ｂ 駆動軸 ６１ａ，６１ｂ ピストンロッド ７１ａ，７１ｂ 連動軸 ７３ モータ

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 回転ディスクを回転自在に支持する支持
   部材と、前記回転ディスクの一方の面に接触する第１洗
   浄ローラと、前記第１洗浄ローラに対して相対接近離反
   移動自在となって平行に延びる第２洗浄ローラとを有す
   る洗浄装置に、それぞれの前記洗浄ローラを離した状態
   のもとで、これらの間に前記支持部材により前記回転デ
   ィスクを位置決めする行程と、 それぞれの前記洗浄ローラを相互に接近移動させて、両
   方の洗浄ローラにより前記回転ディスクをその両面で挟
   む行程と、 それぞれの前記洗浄ローラの表面に洗浄液を供給する行
   程と、 それぞれの前記洗浄ローラを相互に逆方向に回転駆動
   し、それぞれの前記洗浄ローラに前記回転ディスクの中
   央部分から半径方向の一方側に接触するように設けられ
   た駆動部により前記回転ディスクを回転駆動する行程
   と、 それぞれの前記駆動部により前記回転ディスクを回転し
   ながら、それぞれの前記洗浄ローラに前記回転ディスク
   の中央部分から半径方向の他方側に接触するように設け
   られた洗浄部と前記回転ディスクとの滑りにより前記回
   転ディスクを洗浄する行程とを有することを特徴とする
   回転ディスクの洗浄方法。
2. 【請求項２】 請求項１記載の回転ディスクの洗浄方法
   において、前記それぞれの洗浄ローラを回転駆動すると
   ともに、軸方向に往復動するようにしたことを特徴とす
   る回転ディスクの洗浄方法。
3. 【請求項３】 回転ディスクを回転自在に支持する支持
   部材と、 前記回転ディスクの一方の面に接触する第１洗浄ローラ
   と、 前記第１洗浄ローラに対して相対接近離反移動自在とな
   って平行に延び、かつ前記回転ディスクの他方の面に接
   触して前記回転ディスクを前記第１洗浄ローラとの間で
   挟む第２洗浄ローラと、 前記それぞれの洗浄ローラの表面に洗浄液を供給する洗
   浄液供給手段と、 前記第１洗浄ローラと前記第２洗浄ローラとを相互に逆
   方向に回転駆動する駆動手段とを有し、 前記それぞれの洗浄ローラに前記回転ディスクの中央部
   分から半径方向の一方側に接触して前記回転ディスクを
   回転する駆動部と、前記回転ディスクの中央部分から半
   径方向の他方側に接触して前記回転ディスクとの滑りに
   より前記回転ディスクを洗浄する洗浄部とを形成したこ
   とを特徴とする回転ディスクの洗浄装置。
4. 【請求項４】 請求項３記載の回転ディスクの洗浄装置
   において、前記それぞれの洗浄ローラを軸方向に往復動
   する直線往復動手段を有することを特徴とする回転ディ
   スクの洗浄装置。