JPH09252166A - 半導体発光装置 - Google Patents

半導体発光装置

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JPH09252166A
JPH09252166A JP8749696A JP8749696A JPH09252166A JP H09252166 A JPH09252166 A JP H09252166A JP 8749696 A JP8749696 A JP 8749696A JP 8749696 A JP8749696 A JP 8749696A JP H09252166 A JPH09252166 A JP H09252166A
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semiconductor light
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 素子構成や作製工程等を複雑化させずに、ま
た、歪等を生じさせずに、発光駆動時のアレイ状の各発
光部の発光出力のバラツキや発光波長のバラツキを抑制
することの可能な半導体発光装置を提供する。 【解決手段】 基板1上に整列している発光部E1乃至
nとその発光部が整列している面(基板表面)2とは反
対側の基板面(基板裏面)3との間の距離LCが、n個の
発光部E1乃至Enの隣接する発光部間の(n−1)個の距
離L1,L2,…,Ln-1のうち一番短い距離をLkとした
ときに、LC≦Lk/(2×tan30゜)の条件を満たし
ている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体アレイレー
ザ装置,半導体アレイLED装置等の半導体発光装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】半導体アレイ発光装置,特に半導体アレ
イレーザ装置は、レーザプリンタのマルチビーム書き込
み系や大出力レーザ光源,光情報処理用光源等への利用
などから実用化が進められている。
【0003】しかしながら、半導体アレイ発光装置で
は、複数の発光部が隣接して配列されているため、素子
駆動時の発熱で半導体アレイ発光装置内に不均一な温度
分布ができ、そのため、半導体アレイ発光装置の各発光
部の光出力にバラツキが生じ、また、光出力が低下した
り、各発光部の発光波長にバラツキが生じたりするとい
う問題がある。
【0004】図19は従来の一般的な半導体アレイ発光
装置の構成例を示す図であり、図19の半導体アレイ発
光装置は、基板101上に5つの発光部E1乃至E5がア
レイ状に整列しており、各発光部E1乃至E5がビット
(ドット)1乃至5として機能するようになっている。図
19の半導体アレイ発光装置の全ドット1〜5(発光部
1乃至E5)を同時に点灯駆動すると、発光部E1乃至E
5付近の基板101の温度分布は図20(a)に示すよう
になる。このように、一般に、半導体アレイ発光装置で
は、素子の中央付近(発光部E3付近)の温度が素子周辺
部よりも高くなる傾向が大きい。このため、このような
半導体アレイ発光装置では、駆動時の光出力は図20
(b)に示すように、素子中央に近い素子の光出力(発光
部E3の光出力)が素子周辺付近の素子の光出力よりも低
くなってしまう。また、発光スペクトルは、素子中央付
近の素子(発光部E3)が素子周辺の素子(例えば発光部E
1,E5など)よりも波長が長い方にシフトしてしまう。
【0005】このようなアレイ状発光素子の問題を解決
するために、従来、以下のようなものが提案されてい
る。
【0006】図21は特開平2−56986号に示され
ている半導体発光装置の構成例を示す図である。図21
の半導体発光装置は、活性層としての半導体層102を
内部に有する多数の半導体発光素子D1,D2,…が共通
の基板103上に並置されている。各発光素子は、半導
体発光素子形成チップ体104に基板体103側とは反
対側から、活性層としての半導体層102よりも深い位
置まで穿設されている素子分離溝105によって電気・
光学的に分離されている。
【0007】ところで、この発光装置では、素子分離溝
105を熱伝導性材110で充填し、かつ活性層として
の半導体層102からヒートシンク用体106の主面
(基板裏面)107までの距離を60μm以下としてい
る。このように、分離溝105を熱伝導率の良い物質で
埋めることにより、放熱性を改良することができ、ま
た、活性層から基板裏面までの距離を60μm以下とす
ることにより、基板裏面への放熱を良好に行なうことが
可能となる。
【0008】また、図22は特開平4−188688号
に示されている半導体レーザ装置の構成図である。図2
2の半導体レ−ザ装置では、基板206上にレーザダイ
オード201〜204がアレイ状に形成されており、そ
の両端には発光に関与しない放熱用素子205,206
が形成されている。なお、この放熱用素子205,20
6は、レーザダイオード201〜204と同様の構造を
有している。この半導体レーザ装置では、発光に関与し
ないダミーの素子を余分に設けることによって、その部
分から放熱させ、温度上昇を抑えることを意図してい
る。
【0009】また、図23は特開平4−192483号
に示されている半導体アレイレーザ装置の構成図であ
る。図23において、301はp型電極、302はn型
GaAsコンタクト層、303はp型AlGa1-yAs
クラッド層、304はn型AlzGa1-zAs活性層、
305はn型AlyGa1-yAs下クラッド層、306
はn型GaAs基板、307はn型基板、308はハン
ダ、309はヒートシンク、313はZn拡散領域であ
る。
【0010】ここで、この半導体アレイレーザ装置で
は、アレイレーザの基板306の面を凹状にし、基板3
06面と対向するヒートシンク309の形状を凸状にし
ている。これにより、レーザチップの中央部分からの放
熱を良好なものとし、アレイ素子の中央と周辺の温度差
を抑制し、温度分布のために生じる発光波長のバラツキ
の発生を抑えることを意図している。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図21
の例のように分離溝を熱伝導材で充填して放熱性を改良
する仕方は、発光部の分離に分離溝を用いない構造の発
光装置、例えば埋め込み型のアレイ素子等に対しては、
用いることができない。また、空間分離型のアレイ素子
の場合でも、埋め込む熱伝導性材料の熱膨張率と発光ア
レイ素子材料の熱膨張率の差から、素子の作成プロセス
中の温度履歴や、素子駆動中の温度上昇により素子へ外
力が加わり、素子の歪みの発生や、最悪の場合素子の破
壊が生じるという恐れがある。また、図21の例では、
活性層から基板裏面までの距離を60μm以下としてい
るが、これは分離部での基板の厚さが60μm以下とい
うことであり、化合物半導体素子の場合には、その程度
の厚さのものにすると、劈開または分離が非常に起こり
やすくなる。特に、この例ではアレイ素子の長さや幅に
関わらずに厚さを一律に60μm以下と規定している
が、実際、素子の長さに対する厚さの比が10以上にな
ると、素子分離工程での歩留まりが著しく低下すること
が経験的にも知られており、発光部の個数の多いアレイ
素子や、発光部の間隔の広いアレイ素子では素子長が長
くなることから、この例のように厚さ60μm以下のア
レイ素子を安定した歩留まりで作成することは困難であ
る。
【0012】また、図22の例では、ダミーの素子を設
けることで素子の発熱を抑制することを意図している
が、実際この手法で素子の発熱を効果的に抑制するため
には、素子の厚さ,長さ,発光素子間隔,発光素子数等
によっては相当の数のダミーの素子をアレイ上に形成し
なくてはならない。このため、実際にアレイ素子を装置
に組み込む場合には、アレイ素子上の発光部の数,発光
部の間隔等の制限が生じ、効果的に放熱を促進する程の
ダミーの素子をアレイ素子上に設けるのは困難であると
いう問題がある。
【0013】また、図23の例では、アレイレーザの基
板306の面を凹状にし、基板306面と対向するヒー
トシンク309の形状を凸状にすることで、レーザチッ
プの中央部分からの放熱を良好なものとし、アレイ素子
の中央と周辺の温度差を抑制し、温度分布のために生じ
る発光波長のバラツキの発生を抑えることを意図してい
るが、アレイレーザ素子の基板面を凹状に形成すること
は素子作成プロセス上、非常に困難であり、また、それ
が素子分離される前のウェハー状態での加工はほとんど
不可能であり、素子の量産には適しないという問題があ
る。
【0014】本発明は、素子構成や作製工程等を複雑化
させずに、また、歪等を生じさせずに、発光駆動時のア
レイ状の各発光部の発光出力のバラツキや発光波長のバ
ラツキを抑制することの可能な半導体発光装置を提供す
ることを目的としている。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1記載の発明では、複数個(n個)の発光部が
基板上にアレイ状に整列している半導体発光装置におい
て、n個の発光部の隣接する発光部間の(n−1)個の距
離L1,L2,…,Ln-1のうち一番短い距離をLkとした
ときに、基板上に整列している各発光部と各発光部が整
列している面とは反対側の基板面との間の距離LCが、
C≦Lk/(2×tan30゜)の条件を満たしているこ
とを特徴としている。これにより、駆動時の発光部の発
熱のほとんどが基板の裏面へと流れ、基板裏面を通して
放熱されるようになり、1つの発光部で発生する熱が、
この発光部に隣接する発光部に与える影響を抑制するこ
とが可能となり、各発光部駆動時の各発光部の光出力
(光量)や発光波長のバラツキを抑えることができる。
【0016】また、請求項2記載の発明では、基板の長
手縁部から該長手縁部に最も近い発光部までの距離が少
なくともLk/2であることを特徴としている。これに
より、特に面発光型のアレイ素子において、駆動時の発
光部の発熱のほとんどが、さらにより有効に、基板の裏
面へと流れ、基板の裏面を通して放熱されるようにな
り、隣接する発光部への熱の影響をより一層抑制するこ
とが可能となり、各発光部駆動時の各発光部の光出力
(光量)や発光波長のバラツキをより一層抑えることがで
きる。
【0017】また、請求項3記載の発明では、基板の短
手縁部から該短手縁部に最も近い発光部までの距離が少
なくともLk/2であることを特徴としている。これに
より、アレイ状に整列された複数の発光部の端の発光部
の温度上昇を抑制し、アレイ状の端の発光部の光出力
(光量)や発光波長のバラツキを抑えることができる。
【0018】また、請求項4記載の発明では、基板の長
手縁部から該長手縁部に最も近い発光部までの間が、基
板の他の表面に対し0゜<θ≦60゜の角度θの斜面と
して形成されていることを特徴としている。これによ
り、特に端面発光型のアレイ素子において、さらに光出
力のバラツキ等を抑えることができる。
【0019】
【発明の実施の形態】図1,図2は本発明に係る半導体
発光装置の構成例を示す図である。なお、図1は断面
図、図2は平面図である。図1および図2を参照する
と、この半導体発光装置は、複数個(n個)の発光部E1
乃至Enが基板1上にアレイ状に整列している。
【0020】ここで、各発光部E1乃至Enは、面発光型
の素子であっても良いし、あるいは、端面発光型の素子
であっても良い。各発光部E1乃至Enが面発光型の素子
である場合には、各発光部E1乃至Enからは、矢印zの
方向(図2では紙面に垂直方向)に光が出射し、また、各
発光部E1乃至Enが端面発光型の素子である場合には、
各発光部E1乃至Enからは、矢印yの方向(図1では紙
面に垂直方向)に光が出射するようになっている。
【0021】ところで、図1,図2の半導体発光装置で
は、基板1上に整列している発光部E1乃至Enとその発
光部が整列している面(基板表面)2とは反対側の基板面
(基板裏面)3との間の距離LCが、n個の発光部E1乃至
nの隣接する発光部間の(n−1)個の距離L1,L2
…,Ln-1のうち一番短い距離をLkとしたときに、次式
の条件を満たしている。
【0022】
【数1】LC≦Lk/(2×tan30゜)
【0023】図3は図1,図2の半導体発光装置におい
て、駆動時に各発光部E1乃至Enから発生する熱の放熱
の様子を示す図である。なお、図3においては、図1,
図2の半導体発光装置をヒートシンク20に実装し、半
導体発光装置の基板面3をヒートシンク20に当ててい
る。図3を参照すると、各発光部E1乃至Enを駆動する
ときに各発光部E1乃至Enから発生する熱は、基板1内
を熱伝導によって基板1の裏面3へと向かい、ヒートシ
ンク20へ放熱される。このとき、各発光部E 1乃至En
とヒートシンク20との温度差は、一般に、10℃以上
である。この場合、熱が伝わるパターンP1乃至Pnは、
発光部E1乃至Enとヒートシンク20との温度差が10
℃以上であるときには、図に示すように、主として、各
発光部E1乃至Enから30゜の角度拡がりの中に入って
いると考えられる。
【0024】このことから、数1の条件を満たせば、1
つの発光部からの発熱は、隣接する発光部からの発熱と
ほとんど干渉することなく、基板1の裏面3に放熱され
ると考えられる。換言すれば、数1の条件を満たす半導
体発光装置では、駆動時の発光部の発熱のほとんどが基
板1の裏面3へと流れ、基板面3を通して放熱されるよ
うになり、1つの発光部で発生する熱が、この発光部に
隣接する発光部に与える影響を抑制することが可能とな
る。換言すれば、各発光部E1乃至Enからの放熱の挙動
は、各々独立した個別素子からの放熱の挙動と極めて似
たものとなり(各々独立した個別素子からの放熱の挙動
と実質的に等価となり)、アレイ化することによって従
来問題となっている素子内の不均一な温度分布の発生を
抑え、各発光部E1乃至Enを駆動時の各発光部E1乃至
nの光出力(光量)のバラツキや発光波長のバラツキを
抑えることができる。
【0025】図1,図2の半導体発光装置では、さら
に、基板1の長手縁部4aから該長手縁部4aに最も近
い発光部までの距離LDが少なくともLk/2(Lk/2以
上)となっている。これにより、特に面発光型のアレイ
素子において、駆動時の発光部の発熱のほとんどが、さ
らにより有効に基板1の裏面3へと流れ、基板1の裏面
3を通して放熱されるようになり、隣接する発光部への
熱の影響をより一層抑制することが可能となり、各発光
部駆動時の各発光部の光出力(光量)や発光波長のバラツ
キをより一層抑えることができる。
【0026】また、図1,図2の半導体発光装置では、
さらに、基板1の短手縁部4bから該短手縁部4bに最
も近い発光部までの距離LFが少なくともLk/2(LF
k/2)となっている。すなわち、半導体発光装置の両
端の発光部E1,Enに関して両端の発光部E1,Enと基
板1の短手縁部4bとの間の距離LFが少なくともLk
2(LF≧Lk/2)となっている。これにより、両端の発
光部E1,Enにも、その他の発光部E2乃至En-1と同様
の放熱環境をもたせることができ、これによって、基板
1内の温度特性をより一層そろえることができて、各発
光部E1乃至Enの光出力のバラツキをより一層有効に抑
えることができる。換言すれば、アレイ状に整列された
複数の発光部の端の発光部E1,Enの温度上昇を抑制
し、アレイ状の端の発光部E1,Enの光出力(光量)や発
光波長のバラツキを抑えることができる。
【0027】また、図1,図2の半導体発光装置の各発
光部E1乃至Enが端面発光型の素子である場合には、さ
らに、基板1の長手縁部4aから該長手縁部4aに最も
近い発光部までの間が基板表面に対し0゜<θ≦60゜
の角度θの斜面として形成されているのが良い。図4は
図1,図2の半導体発光装置において各発光部E1乃至
nが端面発光型の素子であるとした場合の、図1,図
2の半導体発光装置のA−A線における断面図,すなわ
ち側断面図である。図4を参照すると、各発光部E1
至Enが端面発光型の素子として構成されている場合に
は、各発光部(端面発光型素子)E1乃至Enからの光
は、基板面とほぼ平行に出射されるようになっている。
【0028】従って、従来では、各発光部E1乃至En
端面発光型の素子である場合には、端面発光型素子から
の光の出射経路を遮ぎらないようにするため、図5,図
6に示すように、各発光部E1乃至Enを、基板1の長手
縁部4aに合わせて、アレイ状に整列させていた。しか
しながら、図5,図6のように、各発光部E1乃至En
基板1の長手縁部4aに合わせて整列させるときには、
基板1の長手縁部4aから各発光部E1乃至Enまでの距
離LDがLD≧Lk/2の条件を満たさなくなり、各発光
部E1乃至Enからの発熱による影響を良好に抑制するこ
とができなくなってしまう。
【0029】これに対し、図2のように、各発光部E1
乃至Enを基板1の長手縁部4aから所定の距離LD(≧
k/2)だけ隔てて(引っ込めて)配置するときには、前
述のように各発光部E1乃至Enからの発熱による影響を
良好に抑制することが可能となる。しかしながら、この
場合、例えば図7のように、基板1の長手縁部4aから
各発光部E1乃至Enまでの間が基板1の他の表面2と平
行であると、各発光部E1乃至Enが端面発光型素子であ
るときには、各発光部E1乃至Enからの光の出射経路の
一部が基板面によって遮ぎられてしまう。
【0030】そこで、各発光部E1乃至Enが端面発光型
の素子である場合には、各発光部E1乃至Enからの発熱
による影響を良好に抑制し、かつ、各発光部E1乃至En
からの光の出射経路が遮ぎられないようにするため、図
4に示したように、基板1の長手縁部4aから該長手縁
部4aに最も近い発光部までの間を基板1の他の表面2
に対し0゜<θ≦60゜の角度θの斜面として形成する
のが良い。
【0031】これにより、端面発光型アレイ素子におい
て、基板1の短手方向(光出射方向)にも発光部の発熱を
基板1の裏面3に熱伝導させる良好な放熱経路を提供す
ることができて光出力のバラツキ等を抑えることができ
るとともに、光の出射経路を遮ぎらないようにすること
ができる。
【0032】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。
【0033】実施例1 図8は実施例1の半導体発光装置の断面図である。図8
を参照すると、実施例1の半導体発光装置の発光部は、
5個のLED(E1乃至E5)からなっている。各発光部E
1乃至E5は、互いに同一構造,形状のものであって、基
板長手方向(x方向)の幅wが20μm,厚さrが1μm
以下の端面発光型LED素子として構成されており、各
発光部は基板表面2から深さdが3μmのところに設け
られている。また、各発光部E1乃至E5は等間隔に整列
され(Lk=L1=L2=L3=L4)、各発光部E1乃至E5
のピッチptは250μmである。また、基板1の厚さ
Lは200μm、基板1の長手縁部4aの長さvは12
50μmである。
【0034】各発光部E1乃至E5は基板表面から3μm
のところに設けられ、厚さが1μm以下のものとなって
いるので、各発光部E1乃至E5から基板裏面3までの距
離LCは約197μmとなる。また、発光部のピッチp
tが250μmであり、発光部の幅wが20μmである
ので、発光部間の距離Lkは230μmとなる。すなわ
ち、LC=197mm、Lk/(2×tan30°)=23
0mm/(2×1/31/2)=115×31/2mm=19
9.7mmであり、従って、この半導体発光装置は、数
1の条件LC≦Lk/(2×tan30°)を満たしてい
る。
【0035】また、図8の半導体発光装置は、基板1の
短手縁部4bからこれに最も近い端部の発光部E1,E5
までの距離LFが115μmとなっている。これによ
り、基板の短手縁部4bから該短手縁部4bに最も近い
発光部までの距離LFが少なくともLk/2(LF≧Lk
2)であるという条件を満たしている。
【0036】図9は図8の半導体発光装置の概略図であ
り、各発光部E1乃至E5がビット(ドット)1乃至5とし
て機能するようになっている。図10には、図8,図9
の半導体発光装置(デバイス)を、図3に示したように、
放熱性の良いヒートシンク20に実装し、各発光部E1
乃至E5の点灯駆動を行なった結果が示されている。す
なわち、図8,図9に示すように基板1の厚さLが20
0μmである半導体発光装置において、駆動電流10m
A/bitで5bit(5個の発光部E1乃至E5)を全点
灯し、第3ビット(5ビット中の中央のビット(中央の発
光部E3))の光出力を1で規格化した各ビットの光出力
分布が示されている。
【0037】また、図11,図12,図13,図14に
は、比較のため、図8の半導体発光装置において、各発
光部E1乃至E5については図8と全く同様の構成にし、
また、各発光部E1乃至E5の配置についても、図8と全
く同様のものにし(d=3μm,pt=250μm,LD
=115μm)、基板1の厚さLを、それぞれ150μ
m,250μm,300μm,350μmにかえて、駆
動電流10mA/bitで5bit(5個の発光部E1
至E5)を全点灯し、第3ビット(5ビット中の中央のビ
ット(中央の発光部E3))の光出力を1で規格化した各ビ
ットの光出力分布を示した。
【0038】図10の結果から、本発明を適用した半導
体発光装置では(数1の条件を満たす半導体発光装置で
は)、駆動時の各発光部E1乃至E5の光出力をほぼ同じ
にすることができ、光出力のバラツキを有効に抑えるこ
とができることがわかる。
【0039】また、図10と図11とを比べると、図1
0,図11はいずれも、各発光部E1乃至E5の光出力の
バラツキが小さくなっており、基板1の厚さL(≒LC)
による差はほとんど見られない。これは、基板の厚さ
(≒LC)が、数1の条件を満たしてさえいれば、これを
十分に小さなものにする必要がないことを意味してい
る。すなわち、図11では、基板1の厚さL(≒LC)を
150μmとしたが、基板1の厚さL(≒LC)を150
μmよりも厚い200μmとしても、数1の条件を満た
しているので、基板1の厚さLを非常に薄いものとしな
くとも、各発光部E1乃至E5の光出力のバラツキを有効
に抑えることができる。
【0040】これに対して、基板1の厚さL(≒LC)を
200μmよりもさらに大きいものにすると、図12,
図13,図14に示すように、各発光部E1乃至E5の光
出力のバラツキが大きくなる。すなわち、200μm以
上では、基板1の厚さL(≒LC)が厚くなる程、各発光
部E1乃至E5の光出力のバラツキが大きくなる。
【0041】図15は図8,図9の半導体発光装置にお
いて、駆動時に各発光部E1乃至E5から発生する熱の放
熱の様子を示す図である。各発光部E1乃至E5を駆動す
るときに各発光部E1乃至E5から発生する熱は、基板1
内を熱伝導によって基板1の裏面3へと向かい、ヒート
シンク20へ放熱される。このとき、各発光部E1乃至
5とヒートシンク20との温度差は、一般に、10℃
以上である。この場合、熱が伝わるパターンP1乃至P5
は、発光部E1乃至E5とヒートシンク20との温度差が
10℃以上であるときには、図に示すように、主とし
て、各発光部E1乃至E5から30゜の角度拡がりの中に
入っていると考えられる。
【0042】このことから、数1の条件を満たせば、1
つの発光部からの発熱を、隣接する発光部からの発熱と
ほとんど干渉させることなく、基板1の裏面3に放熱さ
せることができ、アレイ化することによって従来問題と
なっている素子内の不均一な温度分布の発生を抑え、各
発光部E1乃至E5を駆動時の各発光部E1乃至E5の光出
力(光量)のバラツキや発光波長のバラツキを抑えること
ができることがわかる。
【0043】換言すれば、図12,図13,図14で
は、基板1の厚さ(≒LC)が厚くなり、数1の条件を満
たさなくなるため、各発光部からの発熱を各々独立に放
熱することができなくなり放熱経路の重なりができるた
めに、基板1内に顕著な温度分布(不均一な温度分布)が
できてしまい、これによって、各発光部の光出力特性に
バラツキが生じると考えられる。
【0044】このように、本発明では、数1の条件を満
たすように、基板1の厚さ,各発光部E1乃至Enの配置
等を設定することで、アレイ化することによって従来問
題となっている素子内の不均一な温度分布の発生を抑
え、各発光部E1乃至Enを駆動時の各発光部E1乃至En
の光出力(光量)のバラツキや発光波長のバラツキを抑え
ることができる。
【0045】また、図8の半導体発光装置では、半導体
発光装置の両端の発光部E1,E5と基板1の短手縁部4
bとの間の距離LFが少なくともLk/2(LF≧Lk/2)
であるという条件をさらに満たしていることにより、両
端の発光部E1,E5にも、その他の発光部E2,E3,E
4と同様の放熱環境をもたせることができる。これによ
り、基板1内の温度特性をそろえることができ、各発光
部E1乃至E5の光出力のバラツキをより一層有効に抑え
ることができる。
【0046】実施例2 図16は実施例2の半導体発光装置の平面図である。図
16を参照すると、実施例2の半導体発光装置の発光部
は、5個のLED(E1乃至E5)からなっている。なお、
図16には、各発光部E1乃至E5を駆動するための引出
し電極A1乃至A5とボンディングパットB1乃至B5も示
されている。
【0047】ここで、各発光部E1乃至E5は、発光部形
状20μm角の面発光型LED素子として構成されてお
り、各発光部E1乃至E5のピッチptは、250μmで
ある。また、基板1の厚さLは200μm、基板の長手
方向の長さvは1250μm、基板1の幅(短手方向の
長さ)qは500μmである。また、基板1の短手縁部
4bから該短手縁部4bに最も近い発光部までの距離L
Fは115μmとなっている。また、基板1の長手縁部
4aから該長手縁部4aに最も近い発光部までの距離L
Dは、115μmとなっている。なお、基板1の一方の
長手縁部4aからの距離LDは、115μmであるが、
図16の例では、他方の長手縁部4aからの距離は、3
65μmとなっている。
【0048】この実施例2の半導体発光装置において
も、基板1の厚さは、200μmであり、基板1の厚さ
(≒LC)に関しては実施例1と同様に、数1の条件を満
たしている。
【0049】また、基板1の短手縁部4bから該短手縁
部4bに最も近い発光部までの距離LFは、115μm
であり、従って、実施例1と同様に、この距離数LF
少なくともLk/2であるという条件をも満たしてい
る。
【0050】さらに、図16の半導体発光装置では、基
板1の一方の長手縁部4aから発光部までの距離LD
115μmであり、従って、この距離LDが少なくとも
k/2であるという条件をも満たしている。
【0051】図17には、図16に示す半導体発光装置
において、駆動電流10mA/bitで5ビット(5個
の発光部E1乃至E5)を全点灯し、第3ビット(5ビット
中の中央のビット(中央の発光部E3))の光出力を1で規
格化した各ビットの光出力分布が示されている。なお、
図17において、白丸が本発明の実施例2の半導体発光
装置の光出力特性を示す図であり、黒丸は、実施例2と
の比較のために、発光部E1乃至E5の位置以外について
は実施例1と同一の構成にし、発光部E1乃至E5の位置
については、発光部E1乃至E5から基板1の一方の長手
縁部4aまでの距離LDを10μmにした比較用の半導
体発光装置(距離LDが少なくともLk/2であるという
条件の範囲からはずれた位置に各発光部E1乃至E5を形
成した比較用の半導体発光装置)の測定結果である。
【0052】実施例2の半導体発光装置での測定結果
(白丸)と比較用の半導体発光装置(黒丸)での測定結果と
を比べればわかるように、実施例2の半導体発光装置で
は、各発光部E1乃至E5の光出力の低下が小さいことが
わかる。
【0053】これは、比較用の半導体発光装置では、各
発光部E1乃至E5の発熱が基板1の裏面3側に放熱され
るとき、各発光部E1乃至E5から基板1の一方の長手縁
部4aまでの距離LDが10μmと短かいため、主たる
熱伝導の一部が基板1の側面に達し、そこで熱抵抗の高
い空気に放熱を妨げられるために十分な放熱ができなく
なるからであると考えられる。これに対して、実施例2
の半導体発光装置では、発光部の発熱による主たる熱伝
導による放熱は、基板1の側面に達することなく、基板
裏面3に全て伝わることになるので、良好な放熱効果が
得られる。これにより、上記測定結果が示すように、各
発光部E1乃至E5の光出力の低下を防止できる。
【0054】実施例3 図18は実施例3の半導体発光装置の側断面図である。
図18を参照すると、実施例3の半導体発光装置は、各
発光部E1乃至E5が端面発光型LEDとして構成されて
おり、各発光部(端面発光型LED)E1乃至E5からの
光は、基板面とほぼ平行に出射されるようになってい
る。
【0055】ところで、この実施例3の構成では、基板
1の長手縁部4aから該長手縁部4aに最も近い発光部
までの間が、基板1の他の表面2に対し0゜<θ≦60
゜の角度θの斜面として形成されている。これにより、
端面発光型アレイ素子においても、基板1の短手方向
(光出射方向)に発光部の発熱を基板1の裏面3に熱伝導
させる良好な放熱経路を提供することができて光出力の
バラツキ等を抑えることができるとともに、光の出射経
路を遮ぎらないようにすることができる。
【0056】
【発明の効果】以上に説明したように、請求項1記載の
発明によれば、複数個(n個)の発光部が基板上にアレイ
状に整列している半導体発光装置において、n個の発光
部の隣接する発光部間の(n−1)個の距離L1,L2
…,Ln-1のうち一番短い距離をLkとしたときに、基板
上に整列している各発光部と各発光部が整列している面
とは反対側の基板面との間の距離LCが、LC≦Lk/(2
×tan30゜)の条件を満たしているので、駆動時の
発光部の発熱のほとんどが基板の裏面へと流れ、基板裏
面を通して放熱されるようになり、1つの発光部で発生
する熱が、この発光部に隣接する発光部に与える影響を
抑制することが可能となり、各発光部駆動時の各発光部
の光出力(光量)や発光波長のバラツキを抑えることがで
きる。
【0057】また、請求項2記載の発明によれば、基板
の長手縁部から該長手縁部に最も近い発光部までの距離
が少なくともLk/2であるので、特に面発光型のアレ
イ素子において、駆動時の発光部の発熱のほとんどが、
さらにより有効に、基板の裏面へと流れ、基板の裏面を
通して放熱されるようになり、隣接する発光部への熱の
影響をより一層抑制することが可能となり、各発光部駆
動時の各発光部の光出力(光量)や発光波長のバラツキを
より一層抑えることができる。
【0058】また、請求項3記載の発明によれば、基板
の短手縁部から該短手縁部に最も近い発光部までの距離
が少なくともLk/2であるので、アレイ状に整列され
た複数の発光部の端の発光部の温度上昇を抑制し、アレ
イ状の端の発光部の光出力(光量)や発光波長のバラツキ
を抑えることができる。
【0059】また、請求項4記載の発明によれば、基板
の長手縁部から該長手縁部に最も近い発光部までの間
が、基板の他の表面に対し0゜<θ≦60゜の角度θの
斜面として形成されているので、特に端面発光型のアレ
イ素子において、さらに光出力のバラツキ等を抑えるこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る半導体発光装置の構成例を示す図
(断面図)である。
【図2】本発明に係る半導体発光装置の構成例を示す図
(平面図)である。
【図3】図1,図2の半導体発光装置において、駆動時
に各発光部から発生する放熱の様子を示す図である。
【図4】図1,図2の半導体発光装置の側断面図であ
る。
【図5】発光部に端面発光型素子を用いた従来の半導体
発光装置を示す図である。
【図6】発光部に端面発光型素子を用いた従来の半導体
発光装置を示す図である。
【図7】本発明に係る半導体発光装置の構成例を示す図
(側断面図)である。
【図8】実施例1の半導体発光装置の断面図である。
【図9】図8の半導体発光装置の概略図である。
【図10】基板1の厚さLが200μmである半導体発
光装置において、駆動電流10mA/bitで5bit
(5個の発光部E1乃至E5)を全点灯し、第3ビット(5
ビット中の中央のビット(中央の発光部E3))の光出力を
1で規格化した各ビットの光出力分布を示す図である。
【図11】基板の厚さLが150μmである半導体発光
装置において、駆動電流10mA/bitで5bit
(5個の発光部E1乃至E5)を全点灯し、第3ビット(5
ビット中の中央のビット(中央の発光部E3))の光出力を
1で規格化した各ビットの光出力分布を示す図である。
【図12】基板の厚さLが250μmである半導体発光
装置において、駆動電流10mA/bitで5bit
(5個の発光部E1乃至E5)を全点灯し、第3ビット(5
ビット中の中央のビット(中央の発光部E3))の光出力を
1で規格化した各ビットの光出力分布を示す図である。
【図13】基板の厚さLが300μmである半導体発光
装置において、駆動電流10mA/bitで5bit
(5個の発光部E1乃至E5)を全点灯し、第3ビット(5
ビット中の中央のビット(中央の発光部E3))の光出力を
1で規格化した各ビットの光出力分布を示す図である。
【図14】基板の厚さLが350μmである半導体発光
装置において、駆動電流10mA/bitで5bit
(5個の発光部E1乃至E5)を全点灯し、第3ビット(5
ビット中の中央のビット(中央の発光部E3))の光出力を
1で規格化した各ビットの光出力分布を示す図である。
【図15】図8,図9の半導体発光装置において、駆動
時に各発光部E1乃至E5から発生する熱の放熱の様子を
示す図である。
【図16】実施例2の半導体発光装置の平面図である。
【図17】図16に示す半導体発光装置において、駆動
電流10mA/bitで5ビット(5個の発光部E1乃至
5)を全点灯し、第3ビット(5ビット中の中央のビッ
ト(中央の発光部E3))の光出力を1で規格化した各ビッ
トの光出力分布を示す図である。
【図18】実施例3の半導体発光装置の側断面図であ
る。
【図19】従来の一般的な半導体アレイ発光装置の構成
例を示す図である。
【図20】図19の半導体アレイ発光装置の全ドット1
〜5(発光部E1乃至E5)を同時に点灯駆動すると、発光
部E1乃至E5付近の基板の温度分布および光出力を示す
図である。
【図21】従来の半導体発光装置の構成例を示す図であ
る。
【図22】従来の半導体発光装置の構成例を示す図であ
る。
【図23】従来の半導体発光装置の構成例を示す図であ
る。
【符号の説明】
1 基板 2 基板表面 3 基板裏面 4a 基板の長手縁部 4b 基板の短手縁部 20 ヒートシンク E1乃至En 発光部

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数個(n個)の発光部が基板上にアレイ
    状に整列している半導体発光装置において、n個の発光
    部の隣接する発光部間の(n−1)個の距離L1,L2
    …,Ln-1のうち一番短い距離をLkとしたときに、基板
    上に整列している各発光部と各発光部が整列している面
    とは反対側の基板面との間の距離LCが、LC≦Lk/(2
    ×tan30゜)の条件を満たしていることを特徴とす
    る半導体発光装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の半導体発光装置におい
    て、基板の長手縁部から該長手縁部に最も近い発光部ま
    での距離が少なくともLk/2であることを特徴とする
    半導体発光装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2記載の半導体発
    光装置において、基板の短手縁部から該短手縁部に最も
    近い発光部までの距離が少なくともLk/2であること
    を特徴とする半導体発光装置。
  4. 【請求項4】 請求項2記載の半導体発光装置におい
    て、基板の長手縁部から該長手縁部に最も近い発光部ま
    での間が、基板の他の表面に対し0゜<θ≦60゜の角
    度θの斜面として形成されていることを特徴とする半導
    体発光装置。
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