JPH09245385A - 光ディスクの製造方法及び光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ディスク毎に固有の情報が記録でき量産性に
優れた光ディスクの製造方法及を提供する。 【解決手段】 スタンピングディスクを用い、射出成形
等の成形加工によって、ディスク基板を作成する（ステ
ップＳ３）。これにより、プログラムエリアに成形加工
によってエンボスピットが形成されたディスク基板を大
量に複製する。次に、記録装置を用いて、ディスク毎に
固有の情報の記録を行う（ステップＳ４）。ディスク毎
に固有の情報の記録は、インナーガードエリア又はアウ
ターガードエリアに、紫外レーザビームを照射して、記
録ピットを形成することで行う。次に、反射膜又は記録
膜をコーティングする（ステップＳ５）。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスク毎に固有
な情報を記録できるようにした光ディスクの製造方法及
び光ディスクに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】コンパクトディスク（ＣＤ）やＣＤ―Ｒ
ＯＭ等の再生専用型の光ディスクは、スタンパ（スタン
ピングディスク）を用い、例えば射出成形によって、音
声、画像データ等の情報に対応する複数のピットが形成
されたポリカーボネートのディスクを作成した後に、反
射膜をコーティングして製造される。これにより、大量
の光ディスクが複製される。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】近年、複製する情報以
外に、例えば再生専用型の光ディスクをそれぞれ区別し
得、例えば違法コピーされたディスクか否かを識別する
ために、ディスク毎に固有の情報を記録することが提案
されている。このため、ディスク毎に固有の情報が記録
でき、かつ、量産性に優れた光ディスクの製造方法が要
望されている。

【０００４】本発明は、このような課題を解決するため
になされたもので、ディスク毎に固有の情報が記録で
き、かつ、量産性に優れた光ディスクの製造方法及びそ
の光ディスクを提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、この発明に係る光ディスクの製造方法は、成形加工
によって複数のピットをディスク基板の第１の領域に同
時に形成した後、第１の領域に隣接した内周側又は／及
び外周側であって再生可能な第２の領域に、ディスク基
板に吸収される波長の紫外レーザビームを照射してディ
スク毎に固有の情報に対応したピットを形成し、このデ
ィスク基板に反射膜又は記録膜を形成する。

【０００６】したがって、本発明では、成形加工によっ
て形成されたピット領域とは異なる再生可能な領域に、
ディスク毎に固有の情報を記録するので、成形加工によ
って形成されたピットの情報を失うことなく、ディスク
固有の情報を記録できる。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、添付図面を参照しながら説明する。

【０００８】図１は、光ディスク１の記録領域を示す図
である。光ディスク１のプログラムエリア２には、成形
加工によって形成されたピット（以下、エンボスピット
という。）によって、各ディスクに共通に記録される情
報（以下、複製情報という。）が記録されている。プロ
グラムエリア２の内周側にはインナーガードエリア（リ
ードインエリア）３が、プログラムエリア２の外周側に
はアウターガードエリア（リードアウトエリア）３が、
例えば幅１．５〜２ｍｍで設けられている。

【０００９】図２は、光ディスク１の記録領域を拡大し
て示す図である。光ディスク再生装置の光ピックアップ
（光学読み取りヘッド）は、プログラムエリア２だけで
なく、インナーガードエリア３からアウターガードエリ
ア４までのアクセスエリア５を走査する。すなわち、イ
ンナーガードエリア３及びアウターガードエリア４は、
シーク動作等によって、光ピックアップが、プログラム
エリア２からはずれた場合でも、サーボ制御を継続でき
るようにするためのものである。したがって、インナー
ガードエリア３、アウターガードエリア４には、サーボ
情報が記録された多数のトラックが設けられている。

【００１０】そして、本発明では、これらのインナーガ
ードエリア３及びアウターガードエリア４に、記録ビー
ムによって、ディスク毎に固有の情報に対応したピット
（以下、記録ピットという。）を形成している。なお、
インナーガードエリア３又はアウターガードエリア４の
いずれか一方のみに、ディスク毎に固有の情報を記録す
るようにしてもよい。すなわち、記録ピットは、プログ
ラムトラック６に隣接するように、インナーガードエリ
ア３の記録トラック７及びアウターガードエリア４の記
録トラック８に形成される。

【００１１】図３は、本発明に係る光デスクの製造方法
の工程図である。

【００１２】ステップＳ１において、マスターディスク
に複製情報に対応した複数のピットを形成する。

【００１３】ステップＳ２において、マスターディスク
からスタンパを作成する。

【００１４】ステップＳ３において、スタンパを用い、
射出成形、圧縮成形等の成形加工によって、ポリカーボ
ネートやアクリル等の材料からなる透明なディスク基板
を作成する。このステップ３を繰り返すことにより、複
製情報に対応した複数のエンボスピットが形成されたデ
ィスク基板が大量に複製される。

【００１５】ステップＳ４において、成形加工によっ
て、エンボスピットが形成されたディスク基板に、後述
する記録装置を用いてディスク毎に固有の情報の記録を
行う。これにより、ディスク基板に記録ピットが形成さ
れる。

【００１６】ステップＳ５において、反射膜又は記録膜
をコーティングする。

【００１７】ステップＳ６において、検査、ラベル印刷
等を行って光ディスクが完成される。

【００１８】図４は、記録ビームによるピット形成を示
す図である。ディスク基板１０にディスクに固有な情報
に対応した記録ピット１１を形成するには、紫外レーザ
ビームを用いる。具体的には、ポリカーボネートは、波
長が約２９０ｎｍ以下の光を吸収し、アクリルは波長が
約３７０ｎｍ以下の光を吸収すること、また、波長が１
９０ｎｍ以下の紫外レーザビームは空気に吸収されるこ
とから、ディスク基板１０に良好に吸収され、このディ
スク基板１０を短時間で光分解することが可能な波長が
１９０〜３７０ｎｍの紫外レーザビームを用い、この紫
外レーザビームをピット形成面側から照射する。すなわ
ち、上記紫外レーザビームが照射された部分が、溶発い
わゆるアブレーションによって削り取られることによ
り、記録ピット１１が形成される。

【００１９】ここで、ディスクに固有な情報とは、例え
ば符号又はマイクロプロセッサで用いられるマイクロコ
ードから成り、その具体的な内容としては、例えば光デ
ィスクのシリアル番号やパスワード等である。なお、図
中に示すエンボスピット１２は、成形加工によって形成
されたピットである。

【００２０】図５は、再生動作を示す図である。光ディ
スク１の再生は、ＣＤ等と同様にディスク基板１０を介
して、例えば可視レーザビームを反射膜（又は記録膜）
１３に照射し、この反射膜１３で反射された反射光の光
量に基づいてピット情報を読み出す。

【００２１】図６は、記録装置の構成を示すブロック図
である。記録装置２０は、図６に示すように、光学部２
１と、光学部２１を制御するＣＰＵ２２と、ＳＣＳＩ
（Small Computer System Interface）バス２３を介
してホスト機器と接続されたコントローラ２４と、サー
ボ回路２５と、アドレスデコーダ２６と、ＡＬＰＣ（Au
tomatic Laser Power Control）回路２７とを備え
る。

【００２２】光学部２１は、上述の図６に示すように、
ディスク基板１０を回転駆動するスピンドルモータ２８
と、スピンドルモータ２８の回転を制御するモータ駆動
回路２９と、ディスク基板１０に対してピットの記録を
行う光学ヘッド３０と、光学ヘッド３０の対物レンズを
光ディスク１の径方向及び光軸方向に移動する２軸アク
チュエータ３１と、紫外レーザビームを発生する紫外光
発生器３２と、超音波を用いて紫外レーザビームを変調
する紫外光変調器（ＡＯＭ：Acoustic - Optical Modu
lator ）３３と、電流−電圧回路３４とを備える。

【００２３】紫外線発生器３２は、例えば、波長１０６
４ｎｍのレーザ光から第４高調波の発生により波長２６
６ｎｍの紫外レーザビームを出射する固体レーザのＮ
ｄ：ＹＡＧレーザからなる。ところで、この紫外線発生
器３２としては、例えば、波長１０６４ｎｍのレーザ光
から第４高調波の発生により波長２６６ｎｍの紫外レー
ザビームを出射するＮｄ：ＹＶＯ₄ 、波長１０４７ｎｍ
のレーザ光から第４高調波の発生により波長２６２ｎｍ
の紫外レーザビームを出射するＮｄ：ＹＬＦ、波長１０
７９ｎｍのレーザ光から第４高調波の発生により波長２
７０ｎｍの紫外レーザビームを出射するＮｄ：ＹＡＰ等
を用いることができる。また、この他に、紫外線発生器
３２としては、波長７８０ｎｍ〜８６０ｎｍのレーザ光
から直接第４高調波の紫外レーザビームを出射するＡｌ
ＧａＡｓ、波長９００〜１１００ｎｍのレーザ光から直
接第４高調波の紫外レーザビームを出射するＩｎＧａＡ
ｓ等の半導体レーザを用いることができる。

【００２４】さらに、紫外線発生器３２としては、波長
が２７５ｎｍ、３０６ｎｍ、３３３ｎｍ、３５１ｎｍ、
３６４ｎｍ等の紫外レーザビームを出射するＡｒレーザ
や、波長が３２５ｎｍ及び３５４ｎｍの紫外レーザビー
ムを出射するＨｅ−Ｃｄレーザ等の気体レーザを用いる
ことができる。

【００２５】紫外光変調器３３は、ＡＬＰＣ回路２７か
ら供給される後述する記録データに基づいて、紫外光発
生器３２から出射された紫外レーザビームを変調する。
変調された記録ビームは、光学ヘッド３０内の対物レン
ズを介して光ディスク１上にスポットとして照射され
る。光ディスク１からの反射光は、光学ヘッド３０内の
複数の光検出素子で検出され、この反射光の強度に応じ
た電流は、電流電圧−変換回路３４に供給される。電流
電圧−変換回路３４は、複数の電流を電圧に変換して再
生信号を生成し、この再生信号をアドレスデコーダ２６
及びＡＬＰＣ回路２７に供給する。また、電流電圧−変
換回路３４は、例えば非点収差法やスリービーム法によ
るフォーカス誤差信号、トラックング誤差信号を生成
し、これらの信号をサーボ回路２５に供給する。

【００２６】サーボ回路２５は、ＣＰＵ２２の制御の下
に、電流電圧−変換回路３４から供給されるフォーカス
誤差信号、トラッキング誤差信号に基づいて、２軸アク
チュエータ３１の動作を制御する。

【００２７】アドレスデコーダ２６は、電流電圧−変換
回路３４から供給される再生信号に含まれる例えばトラ
ックアドレスやセクタアドレスをデコードして、ＣＰＵ
２２に供給する。

【００２８】一方、コントローラ２４は、ＳＣＳＩバス
２３を介してホスト機器との間で、コマンド、データの
送受を行う。すなわち、コントローラ２４は、ＥＣＣ
（Error Correcting Code）・エンコード回路３５を
備えており、ホスト機器から例えば記録コマンド、ディ
スク毎に記録する固有の情報（データ）、記録すべきト
ラックを指定するトラックアドレス等が供給されると、
記録コマンド及びトラックアドレスをＣＰＵ２２に供給
すると共に、ＥＣＣ・エンコード回路３５によって、デ
ィスク毎に固有のデータに誤り訂正符号を付加し、記録
データとしてＡＬＰＣ回路２７に供給する。

【００２９】ＣＰＵ２２は、アドレスデコーダ２６から
供給される光学ヘッド３０の現在の位置を示すトラック
アドレス、セクタアドレス、コントローラ２４から供給
される記録コマンド、記録するトラックアドレスに基づ
いて、光学ヘッド３０がインナーガードエリア３、又は
アウターガードエリア４内の指示されたトラック位置に
移動されるように制御を行う。また、ＣＰＵ２２は、モ
ータ駆動回路２９を介して光ディスク１の回転速度を制
御する。

【００３０】ＡＬＰＣ回路２７は、電流電圧−変換回路
３４から供給される再生信号のレベルに基づいて、記録
ビームの強度（パワー）が所定の値になるように制御す
るとともに、コントローラ２４から供給される記録デー
タを紫外光変調器３３に供給する。

【００３１】紫外光変調器３３は、上述したように、Ａ
ＬＰＣ回路２７から供給される記録データに基づいて、
紫外光発生器３２から出射された紫外レーザビームを変
調して、光ディスク１上のインナーガードエリア３又は
アウターガードエリア４に照射する。かくして、ディス
ク毎に固有のデータが記録ビームによって光ディスク１
に記録される。そして、このディスク毎に固有のデータ
は、再生可能な領域であるインナーガードエリア３又は
アウターガードエリア４に記録されているので、通常の
再生によって読み出すことができ、例えば違法コピーさ
れたディスクか否かを簡単に判別することができる。

【００３２】

【発明の効果】以上の説明でも明らかなように、本発明
に係る光ディスクの製造方法は、成形加工によって形成
されたピット領域とは異なる再生可能な領域に、ディス
ク毎に固有の情報を記録したピットを形成した後に、反
射膜又は記録膜を形成するので、成形加工によって形成
されたピットの情報を失うことなく、ディスク固有の情
報を記録でき、ディスク毎に固有の情報を記録した光デ
ィスクを量産することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】光ディスクの記録領域を示す図である。

【図２】上記記録領域を拡大して示す図である。

【図３】この発明に係る光ディスクの製造方法の工程図
である。

【図４】記録ビームによるピット形成を示す図である。

【図５】光ディスクの再生原理を説明するための図であ
る。

【図６】記録装置の構成を示すブロック図である。

【符号の説明】

１ 光ディスク、２ プログラムエリア、３ インナー
ガードエリア、４ アウターガイドエリア、５ アクセ
スエリア、１１ 記録ピット、１２ エンボスピット、
２０ 記録装置

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 成形加工によって複数のピットをディス
   ク基板の第１の領域に同時に形成し、 前記第１の領域に隣接した内周側又は／及び外周側であ
   って再生可能な第２の領域に、ディス基板に吸収される
   波長の紫外レーザビームを照射してディスク毎に固有の
   情報に対応したピットを形成し、 前記ディスク基板に反射膜又は記録膜を形成することを
   特徴とする光ディスクの製造方法。
2. 【請求項２】 前記紫外レーザビームは、１９０〜３７
   ０ｎｍの波長の紫外レーザビームであることを特徴とす
   る請求項１に記載の光ディスクの製造方法。
3. 【請求項３】 成形加工によって複数のピットが形成さ
   れた第１の領域と、 前記第１の領域に隣接した内周側又は／及び外周側であ
   ってディスク毎に固有の情報に対応したピットが形成さ
   れた第２の領域とを有し、 前記第２の領域に形成されたピットは、第１の領域に複
   数のピットが形成された後に、ディス基板に吸収される
   波長の紫外レーザビームによって形成されたピットであ
   ることを特徴とする光ディスク。