JPH09241184A - フリーデル−クラフト−アルキル化反応生成物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高活性な触媒を用いることによるフリーデル
−クラフト−アルキル化反応生成物の効率的な製造方法
を提供する。 【解決手段】 一般式［Ｉ］で示される化合物の存在
下、一般式［ＩＩ］で示される化合物と一般式［ＩＩ
Ｉ］で示される化合物とを反応させることによる一般式
［ＩＶ］で示されるフリーデル−クラフト−アルキル化
反応生成物の製造方法。 【化１】 【化２】 【化３】 【化４】 【効果】 医薬品、農薬あるいは各種機能材料などの製
造中間体として有用な化合物であるフリーデル−クラフ
ト−アルキル化反応生成物を効率よく、かつ、高収率で
製造することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、一般式［ＩＶ］

【０００２】

【化５】

【０００３】［式中、Ｒ⁴は低級アルキル基、低級アル
ケニル基または低級アルカジエニル基を表す。］で示さ
れるフリーデル−クラフト−アルキル化反応生成物の製
造方法に関するものである。上式［ＩＶ］で示されるフ
リーデル−クラフト−アルキル化反応生成物は、医薬
品、農薬あるいは各種機能材料などの製造中間体として
有用な化合物である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従来、フリーデル−ク
ラフト−アルキル化反応は、よく知られている反応であ
る。

【０００５】このフリーデル−クラフト−アルキル化反
応においては、通常、ルイス酸触媒が使用されるが、よ
り高活性のルイス酸触媒の開発が望まれている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる問
題点に鑑み、鋭意、検討を行なった結果、フリーデル−
クラフト−アルキル化反応において、種々のパーフルオ
ロアルカンスルホニルイミド基を有する化合物を触媒と
して使用することにより、反応速度が加速され、高収率
でフリーデル−クラフト−アルキル化反応生成物を製造
することができることを見出し、本発明に到達した。

【０００７】すなわち、本発明は、一般式［Ｉ］

【０００８】

【化６】

【０００９】［式中、Ｘは水素または−Ｎ（Ｔ_f ¹）Ｔ_f ²
〔Ｔ_f ¹は−ＳＯ₂Ｒ_f ¹を表し、Ｔ_f ²は−ＳＯ₂Ｒ_f ²（Ｒ_f ¹
およびＲ_f ²はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パー
フルオロアルキル基を表す。）を表す。〕を表し、Ｒ¹
は置換もしくは非置換のシクロペンタジエニル基、−Ｏ
Ｒ⁵、−Ｎ（Ｔ_f ³）Ｒ⁶または−Ｎ（Ｔ_f ⁴）Ｔ_f ⁵を表し、
Ｒ²は置換もしくは非置換のシクロペンタジエニル基、
−ＯＲ⁷、−Ｎ（Ｔ_f ⁶）Ｒ⁸または−Ｎ（Ｔ_f ⁷）Ｔ_f ⁸〔Ｔ
_f ³は−ＳＯ₂Ｒ_f ³を表し、Ｔ_f ⁴は−ＳＯ₂Ｒ_f ⁴を表し、Ｔ
_f ⁵は−ＳＯ₂Ｒ_f ⁵を表し、Ｔ_f ⁶は−ＳＯ₂Ｒ_f ⁶を表し、Ｔ
_f ⁷は−ＳＯ₂Ｒ_f ⁷を表し、Ｔ_f ⁸は−ＳＯ₂Ｒ_f ⁸（Ｒ_f ³、Ｒ
_f ⁴、Ｒ_f ⁵、Ｒ_f ⁶、Ｒ_f ⁷およびＲ_f ⁸はそれぞれ独立にフッ
素原子または低級パーフルオロアルキル基を表す。）を
表し、Ｒ ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷およびＲ⁸はそれぞれ独立に低級ア
ルキル基を表すか、または、Ｒ⁵およびＲ⁷、Ｒ⁵および
Ｒ⁸、Ｒ⁶およびＲ⁷、あるいは、Ｒ⁶およびＲ⁸がいっし
ょになって２価の基を形成する。〕を表し、Ｍはアルカ
リ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、遷移金属、ホ
ウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウ
ム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、ヒ素、アンチモ
ン、ビスマス、セレンまたはテルルから選ばれる元素を
表し、ｍは０または１であり、ｐは０または１であり、
ｍ＝１かつｐ＝１の場合には、ｎは該当するＭの原子価
−２の整数を表し、ｍ＝１かつｐ＝０の場合およびｍ＝
０かつｐ＝１の場合には、ｎは該当するＭの原子価−１
の整数を表し、ｍ＝０かつｐ＝０の場合には、ｎは該当
するＭの原子価の整数を表し、−Ｎ（Ｔ_f ¹）Ｔ_f ²、−Ｎ
（Ｔ_f ³）Ｒ⁶、−Ｎ（Ｔ_f ⁴）Ｔ_f ⁵、−Ｎ（Ｔ_f ⁶）Ｒ⁸また
は−Ｎ（Ｔ_f ⁷）Ｔ_f ⁸のうちの少なくとも１つを有す
る。］で示される化合物の存在下、一般式［ＩＩ］

【００１０】

【化７】

【００１１】［式中、Ｒ³は水素またはホルミル基を表
す。］で示される化合物と一般式［ＩＩＩ］

【００１２】

【化８】

【００１３】［式中、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰はそれぞれ独立に低級
アルキル基またはトリアルキルシリルアルキル基を表
す。］で示される化合物とを反応させることを特徴とす
る一般式［ＩＶ］

【００１４】

【化９】

【００１５】［式中、Ｒ⁴は低級アルキル基、低級アル
ケニル基または低級アルカジエニル基を表す。］で示さ
れるフリーデル−クラフト−アルキル化反応生成物の製
造方法である。

【００１６】以下、本発明のフリーデル−クラフト−ア
ルキル化反応生成物の製造方法について詳細に説明す
る。本発明のフリーデル−クラフト−アルキル化反応生
成物の製造方法においては、一般式［Ｉ］

【００１７】

【化１０】

【００１８】［式中、Ｘは水素または−Ｎ（Ｔ_f ¹）Ｔ_f ²
〔Ｔ_f ¹は−ＳＯ₂Ｒ_f ¹を表し、Ｔ_f ²は−ＳＯ₂Ｒ_f ²（Ｒ_f ¹
およびＲ_f ²はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パー
フルオロアルキル基を表す。）を表す。〕を表し、Ｒ¹
は置換もしくは非置換のシクロペンタジエニル基、−Ｏ
Ｒ⁵、−Ｎ（Ｔ_f ³）Ｒ⁶または−Ｎ（Ｔ_f ⁴）Ｔ_f ⁵を表し、
Ｒ²は置換もしくは非置換のシクロペンタジエニル基、
−ＯＲ⁷、−Ｎ（Ｔ_f ⁶）Ｒ⁸または−Ｎ（Ｔ_f ⁷）Ｔ_f ⁸〔Ｔ
_f ³は−ＳＯ₂Ｒ_f ³を表し、Ｔ_f ⁴は−ＳＯ₂Ｒ_f ⁴を表し、Ｔ
_f ⁵は−ＳＯ₂Ｒ_f ⁵を表し、Ｔ_f ⁶は−ＳＯ₂Ｒ_f ⁶を表し、Ｔ
_f ⁷は−ＳＯ₂Ｒ_f ⁷を表し、Ｔ_f ⁸は−ＳＯ₂Ｒ_f ⁸（Ｒ_f ³、Ｒ
_f ⁴、Ｒ_f ⁵、Ｒ_f ⁶、Ｒ_f ⁷およびＲ_f ⁸はそれぞれ独立にフッ
素原子または低級パーフルオロアルキル基を表す。）を
表し、Ｒ ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷およびＲ⁸はそれぞれ独立に低級ア
ルキル基を表すか、または、Ｒ⁵およびＲ⁷、Ｒ⁵および
Ｒ⁸、Ｒ⁶およびＲ⁷、あるいは、Ｒ⁶およびＲ⁸がいっし
ょになって２価の基を形成する。〕を表し、Ｍはアルカ
リ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、遷移金属、ホ
ウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウ
ム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、ヒ素、アンチモ
ン、ビスマス、セレンまたはテルルから選ばれる元素を
表し、ｍは０または１であり、ｐは０または１であり、
ｍ＝１かつｐ＝１の場合には、ｎは該当するＭの原子価
−２の整数を表し、ｍ＝１かつｐ＝０の場合およびｍ＝
０かつｐ＝１の場合には、ｎは該当するＭの原子価−１
の整数を表し、ｍ＝０かつｐ＝０の場合には、ｎは該当
するＭの原子価の整数を表し、−Ｎ（Ｔ_f ¹）Ｔ_f ²、−Ｎ
（Ｔ_f ³）Ｒ⁶、−Ｎ（Ｔ_f ⁴）Ｔ_f ⁵、−Ｎ（Ｔ_f ⁶）Ｒ⁸また
は−Ｎ（Ｔ_f ⁷）Ｔ_f ⁸のうちの少なくとも１つを有す
る。］で示される化合物が触媒として使用される。

【００１９】一般式［Ｉ］で示される化合物の中心元素
であるＭとしては、多くの元素を使用することができ、
具体的には、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類
元素、遷移金属、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、イ
ンジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、
鉛、ヒ素、アンチモン、ビスマス、セレンまたはテルル
から選ばれる元素を使用することができる。

【００２０】なお、本発明におけるアルカリ金属とは、
リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウ
ムまたはフランシウムを示す。また、本発明におけるア
ルカリ土類金属とは、ベリリウム、マグネシウム、カル
シウム、ストロンチウム、バリウムまたはラジウムを示
す。また、本発明における希土類元素とは、スカンジウ
ム、イットリウム、ランタン、セリウム、プラセオジ
ム、ネオジム、プロメチウム、サマリウム、ユーロピウ
ム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホル
ミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウムまたは
ルテチウムを示す。また、本発明における遷移金属と
は、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、
ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステ
ン、マンガン、テクネチウム、レニウム、鉄、ルテニウ
ム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニ
ッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミ
ウムまたは水銀を示す。

【００２１】また、本発明のフリーデル−クラフト−ア
ルキル化反応生成物の製造方法において使用される一般
式［Ｉ］で示される化合物の中心元素であるＭの配位子
としては、Ｘとしては水素または−Ｎ（Ｔ_f ¹）Ｔ_f ²〔Ｔ
_f ¹は−ＳＯ₂Ｒ_f ¹を表し、Ｔ_f ²は−ＳＯ₂Ｒ_f ²（Ｒ_f ¹およ
びＲ_f ²はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフル
オロアルキル基を表す。）を表す。〕が使用され、Ｒ¹
としては置換もしくは非置換のシクロペンタジエニル
基、−ＯＲ⁵、−Ｎ（Ｔ_f ³）Ｒ⁶または−Ｎ（Ｔ_f ⁴）Ｔ_f ⁵
が使用され、Ｒ²としては置換もしくは非置換のシクロ
ペンタジエニル基、−ＯＲ⁷、−Ｎ（Ｔ_f ⁶）Ｒ⁸または−
Ｎ（Ｔ_f ⁷）Ｔ_f ⁸〔Ｔ_f ³は−ＳＯ₂Ｒ_f ³を表し、Ｔ_f ⁴は−
ＳＯ₂Ｒ_f ⁴を表し、Ｔ_f ⁵は−ＳＯ₂Ｒ_f ⁵を表し、Ｔ_f ⁶は−
ＳＯ₂Ｒ_f ⁶を表し、Ｔ_f ⁷は−ＳＯ₂Ｒ_f ⁷を表し、Ｔ_f ⁸は−
ＳＯ₂Ｒ_f ⁸（Ｒ_f ³、Ｒ_f ⁴、Ｒ_f ⁵、Ｒ _f ⁶、Ｒ_f ⁷およびＲ_f ⁸
はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフルオロア
ルキル基を表す。）を表し、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷およびＲ⁸は
それぞれ独立に低級アルキル基を表すか、または、Ｒ⁵
およびＲ⁷、Ｒ⁵およびＲ⁸、Ｒ⁶およびＲ⁷、あるいは、
Ｒ⁶およびＲ⁸がいっしょになって２価の基を形成す
る。〕が使用される。

【００２２】また、ｍは０または１であり、ｐは０また
は１であり、ｍ＝１かつｐ＝１の場合、すなわち、一般
式［Ｉ］で示される化合物がＲ¹およびＲ²の双方を有す
る場合には、ｎは該当するＭの原子価−２の整数を表
し、ｍ＝１かつｐ＝０の場合およびｍ＝０かつｐ＝１の
場合、すなわち、一般式［Ｉ］で示される化合物がＲ¹
またはＲ²の一方のみを有する場合には、ｎは該当する
Ｍの原子価−１の整数を表し、ｍ＝０かつｐ＝０の場
合、すなわち、一般式［Ｉ］で示される化合物がＲ ¹お
よびＲ²のいずれも有しない場合には、ｎは該当するＭ
の原子価の整数を表す。

【００２３】上記の配位子Ｘ、Ｒ¹およびＲ²は、どのよ
うな組み合わせとしてもよいが、一般式［Ｉ］で示され
る化合物が充分な触媒活性を示すためには、強力に電子
を引きつけるパーフルオロアルカンスルホニルイミド基
−Ｎ（Ｔ_f ¹）Ｔ_f ²、−Ｎ（Ｔ _f ³）Ｒ⁶、−Ｎ（Ｔ_f ⁴）Ｔ_f
⁵、−Ｎ（Ｔ_f ⁶）Ｒ⁸または−Ｎ（Ｔ_f ⁷）Ｔ_f ⁸のうちの少
なくとも１つを有することが必要であり、より強いルイ
ス酸活性を示すためには、これらのパーフルオロアルカ
ンスルホニルイミド基をより多く有することが好まし
い。

【００２４】なお、本発明における低級アルキル基と
は、炭素数１〜１０の直鎖または分岐鎖を有するアルキ
ル基を示し、具体的には、たとえば、メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−
ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプ
チル基、ｎ−オクチル基などを挙げることができる。ま
た、本発明における低級パーフルオロアルキル基とは、
炭素数１〜１０の直鎖または分岐鎖を有するパーフルオ
ロアルキル基を示し、具体的には、たとえば、トリフル
オロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ｎ−ヘプタフ
ルオロプロピル基、ｉｓｏ−ヘプタフルオロプロピル
基、ｎ−ノナフルオロブチル基、ｉｓｏ−ノナフルオロ
ブチル基、ｓｅｃ−ノナフルオロブチル基、ｔｅｒｔ−
ノナフルオロブチル基、ｎ−ウンデカフルオロペンチル
基、ｎ−トリデカフルオロヘキシル基、ｎ−ペンタデカ
フルオロヘプチル基、ｎ−ヘプタデカフルオロオクチル
基などを挙げることができる。

【００２５】また、本発明における上記のＲ⁵、Ｒ⁶、Ｒ
⁷、Ｒ⁸は、それぞれが独立に低級アルキル基である場合
の他、ｍ＝１かつｐ＝１の場合、すなわち、一般式
［Ｉ］で示される化合物がＲ¹およびＲ²の双方を有する
場合には、Ｒ¹に含まれるＲ⁵またはＲ⁶とＲ²に含まれる
Ｒ⁷またはＲ⁸のうちの２つが一組となって、すなわち、
Ｒ ⁵およびＲ⁷、Ｒ⁵およびＲ⁸、Ｒ⁶およびＲ⁷、あるい
は、Ｒ⁶およびＲ⁸がいっしょになって２価の基を形成し
てもよい。

【００２６】本発明においては、以上のような一般式
［Ｉ］で示される化合物を触媒として用い、一般式［Ｉ
Ｉ］

【００２７】

【化１１】

【００２８】［式中、Ｒ³は水素またはホルミル基を表
す。］で示される化合物と一般式［ＩＩＩ］

【００２９】

【化１２】

【００３０】［式中、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰はそれぞれ独立に低級
アルキル基またはトリアルキルシリルアルキル基を表
す。］で示される化合物とを反応させることにより、一
般式［ＩＶ］

【００３１】

【化１３】

【００３２】［式中、Ｒ⁴は低級アルキル基、低級アル
ケニル基または低級アルカジエニル基を表す。］で示さ
れるフリーデル−クラフト−アルキル化反応生成物を製
造することができる。

【００３３】本発明のフリーデル−クラフト−アルキル
化反応生成物の製造方法における上記の反応において
は、一般式［ＩＩＩ］で示される化合物は、通常、一般
式［ＩＩ］で示される化合物１モルに対して、１モル〜
２モル使用すればよく、好ましくは１モル〜５モル、さ
らに好ましくは１モル〜３モル使用するのがよい。使用
量がこの範囲より少ない場合には、未反応の一般式［Ｉ
Ｉ］で示される化合物が多量に残るため、収率低下の原
因となり、経済的に不利となり、また、未反応の一般式
［ＩＩ］で示される化合物の除去あるいは回収のために
後処理工程に負荷がかかるため、好ましくない。また、
この範囲より多く使用しても、目的とする一般式［Ｉ
Ｖ］で示されるフリーデル−クラフト−アルキル化反応
生成物の収量にほとんど変化はなく、過剰に添加した一
般式［ＩＩＩ］で示される化合物が、未反応のまま、多
量に残るだけであり、経済的に不利となり、また、未反
応の一般式［ＩＩＩ］で示される化合物の除去あるいは
回収のために後処理工程に負荷がかかるため、好ましく
ない。

【００３４】また、本発明のフリーデル−クラフト−ア
ルキル化反応生成物の製造方法において触媒として使用
される一般式［Ｉ］で示される化合物は、通常、一般式
［ＩＩ］で示される化合物１モルに対して０．０１モル
〜５０モル、好ましくは０．１モル〜３０モル、さらに
好ましくは１モル〜２０モル使用するのがよい。使用量
がこの範囲より少ない場合には、反応が充分に進行せ
ず、収率低下の原因となり、経済的に不利となる、ある
いは、反応速度が低下して反応終了までに長時間を要
し、目的物を効率よく製造することができなくなるなど
の問題を生ずる場合があり、好ましくない。また、この
範囲より多く使用しても、反応速度、目的物の収率など
にほとんど変化はなく、経済的に不利となるだけであ
り、好ましくない。

【００３５】本発明のフリーデル−クラフト−アルキル
化反応生成物の製造方法においては、通常、溶媒が使用
されるが、使用される溶媒としては特に限定はなく、一
般に使用されているものを広く使用することができ、た
とえば、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノー
ル、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉｓｏ−
ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノー
ルなどのアルコール類、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、
ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタンなどの脂肪族炭化水素類、
シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シ
クロオクタンなどの脂環式炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレンなど
の芳香族炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルム、ジク
ロロメタン、ジクロロエタン（ＥＤＣ）、クロロベンゼ
ンなどのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、エチレング
リコールジメチルエーテルなどのエーテル類、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなど
のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラク
トンなどのエステル類、アセトニトリル、ベンゾニトリ
ルなどのニトリル類、ピリジンなどの第３級アミン類、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチルピロリド
ンなどの酸アミド類、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳ
Ｏ）、スルホランなどの含硫黄化合物類、ニトロメタ
ン、ニトロエタンなどのニトロ化合物類、酢酸、プロピ
オン酸、酪酸、イソ酪酸などの有機酸類、無水酢酸、無
水プロピオン酸、無水酪酸、無水イソ酪酸などの有機酸
無水物類などを挙げることができる。

【００３６】また、本発明のフリーデル−クラフト−ア
ルキル化反応生成物の製造方法における反応温度は、通
常、室温付近とすればよく、充分な反応速度で反応が進
行する。当然のことながら、加熱下においても効率よく
反応が進行するが、冷却下、たとえば、０℃付近におい
ても充分な反応速度で反応が進行する。しかしながら、
加熱や冷却をしても反応速度、目的物の収率などにほと
んど変化はなく、加熱や冷却のための工程が増えて操作
が煩雑になり、また、加熱や冷却をするために時間がか
かり、効率が悪くなるだけであり、好ましくない。さら
には、温度が低すぎる場合には、反応が充分に進行せ
ず、収率低下の原因となり、経済的に不利となる、ある
いは、反応速度が低下して反応終了までに長時間を要す
るなどの問題を生ずる場合があり、好ましくなく、一
方、温度が高すぎる場合には、反応中に分解などが起こ
る場合があり、収率低下の原因となり、経済的に不利と
なり、また、分解生成物などの除去のために後処理工程
に負荷がかかるため、好ましくない。

【００３７】本発明においては、以上のようにして一般
式［ＩＶ］で示されるフリーデル−クラフト−アルキル
化反応生成物を効率よく製造することができる。本発明
のフリーデル−クラフト−アルキル化反応生成物の製造
方法においては、反応終了後、通常の後処理を行うこと
により粗生成物を得ることができる。得られた粗生成物
は、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィーな
どの精製操作を行い、目的のフリーデル−クラフト−ア
ルキル化反応生成物を高純度で得ることができる。

【００３８】

【発明の実施の形態】以下、実施例により、本発明の実
施の形態を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施
例に限定されるものではない。

【００３９】

【実施例】実施例１ ビストリフルオロメタンスルホニルイミドイッテルビウ
ム（５０ｍｇ、０．０５ｍｍｏｌ）をジクロロメタン
（５ｍＬ）に溶解し、これにベンズアルデヒド（１０２
μＬ、１ｍｍｏｌ）およびアリルトリメチルシラン（３
１８μＬ、２．０ｍｍｏｌ）を室温で添加した。室温で
２時間撹拌した後、エーテル（５ｍＬ）で希釈し、飽和
ＮａＨＣＯ₃水溶液（１０ｍＬ）を加えた。ろ過後、ろ
液をエーテルで３回（合計１５ｍＬ）抽出した。有機層
を合わせ、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、減圧下、溶媒を留去した。シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン／酢
酸エチル＝２０／１）により精製し、４−フェニルヘプ
タ−１，６−ジエンを収率４８％で得た。

【００４０】

【発明の効果】本発明の製造方法により、医薬品、農薬
あるいは各種機能材料などの製造中間体として有用な化
合物であるフリーデル−クラフト−アルキル化反応生成
物を効率よく、かつ、高収率で製造することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 15/44 6958−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 15/44

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式［Ｉ］ 【化１】 ［式中、Ｘは水素または−Ｎ（Ｔ_f ¹）Ｔ_f ²〔Ｔ_f ¹は−Ｓ
   Ｏ₂Ｒ_f ¹を表し、Ｔ_f ²は−ＳＯ₂Ｒ_f ²（Ｒ_f ¹およびＲ_f ²は
   それぞれ独立にフッ素原子または低級パーフルオロアル
   キル基を表す。）を表す。〕を表し、Ｒ¹は置換もしく
   は非置換のシクロペンタジエニル基、−ＯＲ⁵、−Ｎ
   （Ｔ_f ³）Ｒ⁶または−Ｎ（Ｔ_f ⁴）Ｔ_f ⁵を表し、Ｒ²は置換
   もしくは非置換のシクロペンタジエニル基、−ＯＲ⁷、
   −Ｎ（Ｔ_f ⁶）Ｒ⁸または−Ｎ（Ｔ_f ⁷）Ｔ_f ⁸〔Ｔ_f ³は−Ｓ
   Ｏ₂Ｒ_f ³を表し、Ｔ_f ⁴は−ＳＯ₂Ｒ_f ⁴を表し、Ｔ_f ⁵は−Ｓ
   Ｏ₂Ｒ_f ⁵を表し、Ｔ_f ⁶は−ＳＯ₂Ｒ_f ⁶を表し、Ｔ_f ⁷は−Ｓ
   Ｏ₂Ｒ_f ⁷を表し、Ｔ_f ⁸は−ＳＯ₂Ｒ_f ⁸（Ｒ_f ³、Ｒ_f ⁴、
   Ｒ_f ⁵、Ｒ_f ⁶、Ｒ_f ⁷およびＲ_f ⁸はそれぞれ独立にフッ素原
   子または低級パーフルオロアルキル基を表す。）を表
   し、Ｒ ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷およびＲ⁸はそれぞれ独立に低級アル
   キル基を表すか、または、Ｒ⁵およびＲ⁷、Ｒ⁵および
   Ｒ⁸、Ｒ⁶およびＲ⁷、あるいは、Ｒ⁶およびＲ⁸がいっし
   ょになって２価の基を形成する。〕を表し、Ｍはアルカ
   リ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、遷移金属、ホ
   ウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウ
   ム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、ヒ素、アンチモ
   ン、ビスマス、セレンまたはテルルから選ばれる元素を
   表し、ｍは０または１であり、ｐは０または１であり、
   ｍ＝１かつｐ＝１の場合には、ｎは該当するＭの原子価
   −２の整数を表し、ｍ＝１かつｐ＝０の場合およびｍ＝
   ０かつｐ＝１の場合には、ｎは該当するＭの原子価−１
   の整数を表し、ｍ＝０かつｐ＝０の場合には、ｎは該当
   するＭの原子価の整数を表し、−Ｎ（Ｔ_f ¹）Ｔ_f ²、−Ｎ
   （Ｔ_f ³）Ｒ⁶、−Ｎ（Ｔ_f ⁴）Ｔ_f ⁵、−Ｎ（Ｔ_f ⁶）Ｒ⁸また
   は−Ｎ（Ｔ_f ⁷）Ｔ_f ⁸のうちの少なくとも１つを有す
   る。］で示される化合物の存在下、一般式［ＩＩ］ 【化２】 ［式中、Ｒ³は水素またはホルミル基を表す。］で示さ
   れる化合物と一般式［ＩＩＩ］ 【化３】 ［式中、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰はそれぞれ独立に低級アルキル基ま
   たはトリアルキルシリルアルキル基を表す。］で示され
   る化合物とを反応させることを特徴とする一般式［Ｉ
   Ｖ］ 【化４】 ［式中、Ｒ⁴は低級アルキル基、低級アルケニル基また
   は低級アルカジエニル基を表す。］で示されるフリーデ
   ル−クラフト−アルキル化反応生成物の製造方法。
2. 【請求項２】Ｔ_f ¹、Ｔ_f ²、Ｔ_f ³、Ｔ_f ⁴、Ｔ_f ⁵、Ｔ_f ⁶、Ｔ
   _f ⁷およびＴ_f ⁸が−ＳＯ₂ＣＦ₃である請求項１記載のフリ
   ーデル−クラフト−アルキル化反応生成物の製造方法。
3. 【請求項３】Ｍが希土類元素である請求項１または請求
   項２記載のフリーデル−クラフト−アルキル化反応生成
   物の製造方法。
4. 【請求項４】Ｍがイッテルビウムである請求項１または
   請求項２記載のフリーデル−クラフト−アルキル化反応
   生成物の製造方法。