JPH09236382A - 液体除去装置、液体除去方法及び真空乾燥システム - Google Patents
液体除去装置、液体除去方法及び真空乾燥システムInfo
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- JPH09236382A JPH09236382A JP7098496A JP7098496A JPH09236382A JP H09236382 A JPH09236382 A JP H09236382A JP 7098496 A JP7098496 A JP 7098496A JP 7098496 A JP7098496 A JP 7098496A JP H09236382 A JPH09236382 A JP H09236382A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ワークに付着している液体を、真空乾燥装置
により乾燥させる前の段階で効率的に除去するための液
体除去装置を提供する。 【解決手段】 洗浄工程などから移載された、濡れた物
品(バスケット4)をいったん貯液槽2内の液体5に浸
漬し、液体の表面張力を断ち切らないような引き上げ速
度でゆっくりと、当該物品を貯液槽2内の液体5から引
き上げる。この時、物品の表面に付着していた液体は、
表面張力によって貯液槽2内の液体5に引っ張られて物
品から除去される。ついで、物品を真空乾燥装置Cに入
れて乾燥させる。
により乾燥させる前の段階で効率的に除去するための液
体除去装置を提供する。 【解決手段】 洗浄工程などから移載された、濡れた物
品(バスケット4)をいったん貯液槽2内の液体5に浸
漬し、液体の表面張力を断ち切らないような引き上げ速
度でゆっくりと、当該物品を貯液槽2内の液体5から引
き上げる。この時、物品の表面に付着していた液体は、
表面張力によって貯液槽2内の液体5に引っ張られて物
品から除去される。ついで、物品を真空乾燥装置Cに入
れて乾燥させる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液体除去装置、液
体除去方法及び真空乾燥システムに関する。特に、本発
明は濡れているワークに付着している液体を、その表面
張力を利用して除去し、液体の付着量を非常に少なくす
る液体除去装置及び液体除去方法に関する。さらに、当
該液体除去装置を含む真空乾燥システムに関する。
体除去方法及び真空乾燥システムに関する。特に、本発
明は濡れているワークに付着している液体を、その表面
張力を利用して除去し、液体の付着量を非常に少なくす
る液体除去装置及び液体除去方法に関する。さらに、当
該液体除去装置を含む真空乾燥システムに関する。
【0002】
【従来の技術】処理対象物、特に金属部品に電着塗装や
メッキ等の処理を施し、洗浄した後、これを乾燥させる
方法としては、加熱乾燥や熱風乾燥、真空乾燥などが用
いられている。なかでも、密閉容器内に処理対象物を入
れ、その内部を高真空にすることによって処理対象物に
付着している液体を強制的に乾燥させる真空乾燥装置を
用いた方法では、処理対象物に錆やしみが発生せず、ま
た、窪みや盲穴、微小な隙間がある処理対象物でも完全
に乾燥させることができ、高品質な乾燥処理を行えると
いう特徴がある。
メッキ等の処理を施し、洗浄した後、これを乾燥させる
方法としては、加熱乾燥や熱風乾燥、真空乾燥などが用
いられている。なかでも、密閉容器内に処理対象物を入
れ、その内部を高真空にすることによって処理対象物に
付着している液体を強制的に乾燥させる真空乾燥装置を
用いた方法では、処理対象物に錆やしみが発生せず、ま
た、窪みや盲穴、微小な隙間がある処理対象物でも完全
に乾燥させることができ、高品質な乾燥処理を行えると
いう特徴がある。
【0003】しかしながら、真空乾燥装置では、洗浄さ
れて濡れている処理対象物を持ち込んで乾燥させようと
すると、乾燥時間が非常に長くなり、実際上は濡れた処
理対象物を乾燥させることが困難で、完全に乾燥させる
ことができなかった。このため、処理対象物を真空乾燥
装置内に持ち込む前に、処理対象物にエアを吹き付けて
予備的に水切り乾燥させる方法も試みられているが、こ
の方法でも真空乾燥装置における乾燥時間が非常に長
く、完全に乾燥させることが困難であった。
れて濡れている処理対象物を持ち込んで乾燥させようと
すると、乾燥時間が非常に長くなり、実際上は濡れた処
理対象物を乾燥させることが困難で、完全に乾燥させる
ことができなかった。このため、処理対象物を真空乾燥
装置内に持ち込む前に、処理対象物にエアを吹き付けて
予備的に水切り乾燥させる方法も試みられているが、こ
の方法でも真空乾燥装置における乾燥時間が非常に長
く、完全に乾燥させることが困難であった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は叙上の従来例
の欠点に鑑みてなされたものであり、その目的とすると
ころは、濡れた物品を液体に浸漬して引き上げる際に液
体の表面張力を利用して液切りすることにより、効果的
に液切りすることができる液体除去装置及び液体除去方
法を提供することにある。さらに、これを真空乾燥装置
の予備工程に用いることにより、真空乾燥装置による乾
燥時間を非常に短くすることができる真空乾燥システム
を提供することにある。
の欠点に鑑みてなされたものであり、その目的とすると
ころは、濡れた物品を液体に浸漬して引き上げる際に液
体の表面張力を利用して液切りすることにより、効果的
に液切りすることができる液体除去装置及び液体除去方
法を提供することにある。さらに、これを真空乾燥装置
の予備工程に用いることにより、真空乾燥装置による乾
燥時間を非常に短くすることができる真空乾燥システム
を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、物品に付着している液体を除去するための液体除去
装置であって、液体の付着した前記物品を浸漬するため
の貯液槽と、前記貯液槽内の液体につけた前記物品をゆ
っくりとした引き上げ速度で貯液槽内の液体から引き上
げるための引き上げ装置と、を備えたことを特徴として
いる。
は、物品に付着している液体を除去するための液体除去
装置であって、液体の付着した前記物品を浸漬するため
の貯液槽と、前記貯液槽内の液体につけた前記物品をゆ
っくりとした引き上げ速度で貯液槽内の液体から引き上
げるための引き上げ装置と、を備えたことを特徴として
いる。
【0006】請求項2に記載の発明は、物品に付着して
いる液体を除去するための液体除去方法であって、液体
の付着した前記物品を貯液槽内の液体に浸漬し、つい
で、液体の表面張力を断ち切らない引き上げ速度で、前
記物品を貯液槽内の液体から引き上げることを特徴とし
ている。
いる液体を除去するための液体除去方法であって、液体
の付着した前記物品を貯液槽内の液体に浸漬し、つい
で、液体の表面張力を断ち切らない引き上げ速度で、前
記物品を貯液槽内の液体から引き上げることを特徴とし
ている。
【0007】ここで、物品に付着している液体と貯液槽
に溜められている液体とは、同じ液体である必要はな
く、種類の異なる液体であっても差し支えない。
に溜められている液体とは、同じ液体である必要はな
く、種類の異なる液体であっても差し支えない。
【0008】請求項1に記載の液体除去装置又は請求項
2に記載の液体除去方法にあっては、洗浄等により濡れ
た物品を貯液槽内の液体に浸漬し、液体の表面張力を断
ち切らないようにゆっくりとした引き上げ速度で当該物
品を貯液槽から引き上げると、物品に付着していた液体
は貯液槽内の液体との表面張力によって物品から引き剥
がされる。この結果、物品に付着されていた液体が除去
されることになる。
2に記載の液体除去方法にあっては、洗浄等により濡れ
た物品を貯液槽内の液体に浸漬し、液体の表面張力を断
ち切らないようにゆっくりとした引き上げ速度で当該物
品を貯液槽から引き上げると、物品に付着していた液体
は貯液槽内の液体との表面張力によって物品から引き剥
がされる。この結果、物品に付着されていた液体が除去
されることになる。
【0009】従って、この液体除去装置もしくは液体除
去方法を用いて予め物品に付着していた液体を予備的に
液切りすることにより、引き続き行なわれる乾燥工程に
おける乾燥処理時間を短縮することができる。また、乾
燥処理工程における処理の高効率化を図ることができ
る。
去方法を用いて予め物品に付着していた液体を予備的に
液切りすることにより、引き続き行なわれる乾燥工程に
おける乾燥処理時間を短縮することができる。また、乾
燥処理工程における処理の高効率化を図ることができ
る。
【0010】請求項3に記載の実施態様は、請求項2記
載の液体除去方法であって、前記物品の引き上げ速度が
40mm/sec以下であることを特徴としている。
載の液体除去方法であって、前記物品の引き上げ速度が
40mm/sec以下であることを特徴としている。
【0011】請求項4に記載の実施態様は、請求項2記
載の液体除去方法において、前記物品の引き上げ速度が
20mm/sec以下であることを特徴としている。
載の液体除去方法において、前記物品の引き上げ速度が
20mm/sec以下であることを特徴としている。
【0012】物品を液体の表面張力を断ち切らないよう
に貯液槽から引き上げるためには、40mm/sec以下、
特に20mm/sec以下の引き上げ速度で引き上げるのが
好ましい。
に貯液槽から引き上げるためには、40mm/sec以下、
特に20mm/sec以下の引き上げ速度で引き上げるのが
好ましい。
【0013】請求項5に記載の液体除去装置は、洗浄槽
やメッキ槽、電着塗装槽などの処理槽を兼ねた貯液槽
と、液体の表面張力を断ち切らない引き上げ速度でゆっ
くりと、前記貯液槽内の液体に浸漬された物品を貯液槽
内の液体から引き上げるための引き上げ装置と、を備え
たことを特徴としている。
やメッキ槽、電着塗装槽などの処理槽を兼ねた貯液槽
と、液体の表面張力を断ち切らない引き上げ速度でゆっ
くりと、前記貯液槽内の液体に浸漬された物品を貯液槽
内の液体から引き上げるための引き上げ装置と、を備え
たことを特徴としている。
【0014】請求項5に記載の液体除去装置によって
も、液体の表面張力を利用して物品から液体を除去する
ことができる。しかも、貯液槽が洗浄槽やメッキ槽、電
着塗装槽などの処理槽を兼ねているので、これらの処理
槽からの液体の持ち出しも少なくなり、処理槽内の液体
(処理液)が安定する。
も、液体の表面張力を利用して物品から液体を除去する
ことができる。しかも、貯液槽が洗浄槽やメッキ槽、電
着塗装槽などの処理槽を兼ねているので、これらの処理
槽からの液体の持ち出しも少なくなり、処理槽内の液体
(処理液)が安定する。
【0015】請求項6に記載の真空乾燥システムは、密
閉容器内を高真空にすることによって前記物品に付着し
ている液体を強制的に蒸発させる真空乾燥装置と、請求
項1に記載の液体除去装置とからなることを特徴として
いる。
閉容器内を高真空にすることによって前記物品に付着し
ている液体を強制的に蒸発させる真空乾燥装置と、請求
項1に記載の液体除去装置とからなることを特徴として
いる。
【0016】本発明の液体除去装置により予め物品に付
着している液体を除去することにより、真空乾燥装置に
よる乾燥所要時間を短縮することができ、効率的に真空
乾燥を実施することができる。
着している液体を除去することにより、真空乾燥装置に
よる乾燥所要時間を短縮することができ、効率的に真空
乾燥を実施することができる。
【0017】
【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施形態による
真空乾燥システムAを示す概略断面図である。真空乾燥
システムAは、液体除去装置Bと真空乾燥装置Cとから
なる。液体除去装置Bにあっては、図1に示すように、
ベース1上に貯液槽2と引き上げ装置3が設置されてい
る。貯液槽2内には、処理対象物を収納したバスケット
4を浸漬できるだけの深さに液体5が溜められている。
この液体5は、例えば純水や炭化水素系の液体などであ
って、処理対象物に付着して処理対象物を濡らしている
液体と同じものが好ましいが、異なる種類の液体でも差
し支えない。この貯液槽2には、液体温度を所定温度に
保つためのヒーター(図示せず)及び温度センサ6が設
けられている。また、引き上げ装置3は、バスケット4
を吊り下げたハンガー部7bを精密な昇降速度で上下さ
せることができるものである。例えば、詳細な機構は図
示しないが、モータ8によって主柱9内部の筒状ギア
(雌ネジ;図示せず)を回転させることにより、主柱9
からボールネジ10を出し入れし、ボールネジ10先端
のハンガー保持部7aに固定されたハンガー部7を昇降
させるようになっている。
真空乾燥システムAを示す概略断面図である。真空乾燥
システムAは、液体除去装置Bと真空乾燥装置Cとから
なる。液体除去装置Bにあっては、図1に示すように、
ベース1上に貯液槽2と引き上げ装置3が設置されてい
る。貯液槽2内には、処理対象物を収納したバスケット
4を浸漬できるだけの深さに液体5が溜められている。
この液体5は、例えば純水や炭化水素系の液体などであ
って、処理対象物に付着して処理対象物を濡らしている
液体と同じものが好ましいが、異なる種類の液体でも差
し支えない。この貯液槽2には、液体温度を所定温度に
保つためのヒーター(図示せず)及び温度センサ6が設
けられている。また、引き上げ装置3は、バスケット4
を吊り下げたハンガー部7bを精密な昇降速度で上下さ
せることができるものである。例えば、詳細な機構は図
示しないが、モータ8によって主柱9内部の筒状ギア
(雌ネジ;図示せず)を回転させることにより、主柱9
からボールネジ10を出し入れし、ボールネジ10先端
のハンガー保持部7aに固定されたハンガー部7を昇降
させるようになっている。
【0018】真空乾燥装置Cの概略断面図を図2に示
す。真空乾燥装置Cは、処理対象物を収納するための真
空容器11を備え、真空容器11の上面開口12は蓋体
13によって密閉できるようになっている。この蓋体1
3は両側面に設けたコロ14をレール15に載置されて
おり、取手16を掴んで蓋体13をレール15に沿って
移動させることにより、真空容器11を密閉したり、開
いたりできるようになっている。真空容器11の外周面
には、真空容器11内部を加熱するためのヒータ17が
設けられている。また、真空乾燥装置C内には、ドライ
ポンプ18が設置されており、真空容器11の底面の排
気口は排気路19を通じてドライポンプ18に接続され
ている。
す。真空乾燥装置Cは、処理対象物を収納するための真
空容器11を備え、真空容器11の上面開口12は蓋体
13によって密閉できるようになっている。この蓋体1
3は両側面に設けたコロ14をレール15に載置されて
おり、取手16を掴んで蓋体13をレール15に沿って
移動させることにより、真空容器11を密閉したり、開
いたりできるようになっている。真空容器11の外周面
には、真空容器11内部を加熱するためのヒータ17が
設けられている。また、真空乾燥装置C内には、ドライ
ポンプ18が設置されており、真空容器11の底面の排
気口は排気路19を通じてドライポンプ18に接続され
ている。
【0019】しかして、真空容器11の開口12を蓋体
13によって密閉し、ドライポンプ18を運転すると、
真空容器11内の気体が排気路19及びドライポンプ1
8の排気筒21を通して大気へ排出され、真空容器11
内部が高真空に保たれる。従って、真空容器11内に液
体5の付着した処理対象物が入れられていると、処理対
象物に付着していた液体が強制的に蒸発させられ、排気
路19を通して大気に排出される。このような真空乾燥
装置Cは、無酸素状態で乾燥処理を行ない、しかも高温
に加熱されることもないので、金属製の処理対象物であ
っても処理対象物の表面に微細な錆が発生したりするこ
とがない。また、強制的に液体を蒸発させるので、窪み
や細い隙間に入っている液体も確実に乾燥させることが
できる。
13によって密閉し、ドライポンプ18を運転すると、
真空容器11内の気体が排気路19及びドライポンプ1
8の排気筒21を通して大気へ排出され、真空容器11
内部が高真空に保たれる。従って、真空容器11内に液
体5の付着した処理対象物が入れられていると、処理対
象物に付着していた液体が強制的に蒸発させられ、排気
路19を通して大気に排出される。このような真空乾燥
装置Cは、無酸素状態で乾燥処理を行ない、しかも高温
に加熱されることもないので、金属製の処理対象物であ
っても処理対象物の表面に微細な錆が発生したりするこ
とがない。また、強制的に液体を蒸発させるので、窪み
や細い隙間に入っている液体も確実に乾燥させることが
できる。
【0020】図3(a)(b)(c)は上記真空乾燥シ
ステムAの動作を説明する概略図である。例えばメッキ
処理した後、洗浄槽で洗浄された処理対象物はバスケッ
ト4内に収納されており、このバスケット4はフック4
aによって引き上げ装置3のハンガー部7に吊り下げら
れる(図1参照)。濡れた処理対象物を収納したバスケ
ット4がハンガー部7bに吊り下げられると、引き上げ
装置3のハンガー部7bが下降し、図3(a)に示すよ
うに、処理対象物の全体を貯液槽2内の液体5に完全に
浸漬する。ついで、ゆっくりとした引き上げ速度、例え
ば約10mm/secの引き上げ速度でハンガー部7bを昇
降させ、徐々に処理対象物を引き上げる。このとき、貯
液槽2内の液体界面では、引き上げられる処理対象物の
表面に付着している液体5は、貯液槽2内の液体5との
表面張力によって処理対象物から引き剥がされる。
ステムAの動作を説明する概略図である。例えばメッキ
処理した後、洗浄槽で洗浄された処理対象物はバスケッ
ト4内に収納されており、このバスケット4はフック4
aによって引き上げ装置3のハンガー部7に吊り下げら
れる(図1参照)。濡れた処理対象物を収納したバスケ
ット4がハンガー部7bに吊り下げられると、引き上げ
装置3のハンガー部7bが下降し、図3(a)に示すよ
うに、処理対象物の全体を貯液槽2内の液体5に完全に
浸漬する。ついで、ゆっくりとした引き上げ速度、例え
ば約10mm/secの引き上げ速度でハンガー部7bを昇
降させ、徐々に処理対象物を引き上げる。このとき、貯
液槽2内の液体界面では、引き上げられる処理対象物の
表面に付着している液体5は、貯液槽2内の液体5との
表面張力によって処理対象物から引き剥がされる。
【0021】この結果、図3(b)に示すように、貯液
槽2から取り出された処理対象物においては、その表面
にもともと付着していた液体5までが貯液槽2内に回収
され、処理対象物に付着していた液体5は簡単な方法に
より高効率で除去される。しかも、加熱などを必要とし
ないので、ランニングコストも安価で、かつ比較的短時
間で液体を除去することができる。
槽2から取り出された処理対象物においては、その表面
にもともと付着していた液体5までが貯液槽2内に回収
され、処理対象物に付着していた液体5は簡単な方法に
より高効率で除去される。しかも、加熱などを必要とし
ないので、ランニングコストも安価で、かつ比較的短時
間で液体を除去することができる。
【0022】こうして液体除去装置Bにより液体を除去
された処理対象物は、図3(c)に示すように、真空乾
燥装置Cの真空容器11内に納入され、真空乾燥装置C
により乾燥させられる。本発明の真空乾燥システムAに
おいては、予め液体除去装置Bにより処理対象物に付着
していた液体を除去しているので、真空乾燥装置Cへの
液体の持ち込みが少なくなり、真空乾燥装置Cにおいて
は比較的短時間で効率的に処理対象物の乾燥を行なうこ
とができる。
された処理対象物は、図3(c)に示すように、真空乾
燥装置Cの真空容器11内に納入され、真空乾燥装置C
により乾燥させられる。本発明の真空乾燥システムAに
おいては、予め液体除去装置Bにより処理対象物に付着
していた液体を除去しているので、真空乾燥装置Cへの
液体の持ち込みが少なくなり、真空乾燥装置Cにおいて
は比較的短時間で効率的に処理対象物の乾燥を行なうこ
とができる。
【0023】図4は処理対象物の引き上げ速度を変化さ
せ、貯液槽2から取り出した後の処理対象物に付着して
いた水分量を測定した結果を示す図である。これは図5
(a)(b)に示すような真鍮製品(BSBMリベット
26)を処理対象物として用い、この処理対象物を10
kg分だけバスケット4内に入れた。貯液槽2内の液体5
としては、湯温80℃の純水を用いた。
せ、貯液槽2から取り出した後の処理対象物に付着して
いた水分量を測定した結果を示す図である。これは図5
(a)(b)に示すような真鍮製品(BSBMリベット
26)を処理対象物として用い、この処理対象物を10
kg分だけバスケット4内に入れた。貯液槽2内の液体5
としては、湯温80℃の純水を用いた。
【0024】しかして、この処理対象物を入れたバスケ
ット4を貯液槽2内に2分間浸漬した後、所定の均一な
引き上げ速度で処理対象物を貯液槽2から引き上げ、5
秒間空中に放置し、処理対象物に付着している水分量を
測定した。この結果が図4に示したものである。
ット4を貯液槽2内に2分間浸漬した後、所定の均一な
引き上げ速度で処理対象物を貯液槽2から引き上げ、5
秒間空中に放置し、処理対象物に付着している水分量を
測定した。この結果が図4に示したものである。
【0025】手作業でバスケット4を貯液槽2から取り
出す場合の引き上げ速度は約45mm/secであり、また
洗浄装置などにおいて機械装置により処理対象物を洗浄
水から引き上げる引き上げ速度はこの手作業による引き
上げ速度よりも高速で行なわれている。このような約4
5mm/sec以上の引き上げ速度で処理対象物を引き上げ
ている場合には、多量の水分が処理対象物に残っている
(前記10kgの真鍮製品の場合には、約60cc以上)
ので、真空乾燥装置Cにより30分以上乾燥処理を行な
っても乾燥させることができなかった。これに対し、本
発明の液体除去装置Bにより手作業よりも遅い引き上げ
速度、例えば40mm/sec以下で引き上げた場合には、
処理対象物に残る液体量が少なくなるので、真空乾燥装
置Cによる乾燥処理時間を短くすることができる。特
に、引き上げ速度を20mm/sec以下にすることによっ
て残存する水分量を半減させることができる(前記10
kgの真鍮製品の場合には、30cc以下)ので、真空乾
燥装置Cによる乾燥時間が1桁台(3〜8分)と短時間
で効率的に真空乾燥させることが可能になった。最適な
引き上げ速度としては、時間効率なども考慮すると、1
0mm/sec程度であった。
出す場合の引き上げ速度は約45mm/secであり、また
洗浄装置などにおいて機械装置により処理対象物を洗浄
水から引き上げる引き上げ速度はこの手作業による引き
上げ速度よりも高速で行なわれている。このような約4
5mm/sec以上の引き上げ速度で処理対象物を引き上げ
ている場合には、多量の水分が処理対象物に残っている
(前記10kgの真鍮製品の場合には、約60cc以上)
ので、真空乾燥装置Cにより30分以上乾燥処理を行な
っても乾燥させることができなかった。これに対し、本
発明の液体除去装置Bにより手作業よりも遅い引き上げ
速度、例えば40mm/sec以下で引き上げた場合には、
処理対象物に残る液体量が少なくなるので、真空乾燥装
置Cによる乾燥処理時間を短くすることができる。特
に、引き上げ速度を20mm/sec以下にすることによっ
て残存する水分量を半減させることができる(前記10
kgの真鍮製品の場合には、30cc以下)ので、真空乾
燥装置Cによる乾燥時間が1桁台(3〜8分)と短時間
で効率的に真空乾燥させることが可能になった。最適な
引き上げ速度としては、時間効率なども考慮すると、1
0mm/sec程度であった。
【0026】また、このようにして表面張力を断ち切ら
ないようにゆっくりと処理対象物を引き上げた結果、処
理対象物の表面に付着していた水分が単に除去されただ
けでなく、図5に示したような形状の処理対象物の窪み
27内の液体までもが表面張力によって除去(回収)さ
れることが確認された。
ないようにゆっくりと処理対象物を引き上げた結果、処
理対象物の表面に付着していた水分が単に除去されただ
けでなく、図5に示したような形状の処理対象物の窪み
27内の液体までもが表面張力によって除去(回収)さ
れることが確認された。
【0027】図6は本発明の別な実施形態による液体除
去装置Bを示す一部破断した正面図である。この液体除
去装置Bにおいては、ボールネジ10の先端に設けられ
たハンガー支持部7aに可動ハンガー部23の基端部を
ヒンジ24で回動自在に支持してあり、ハンガー支持部
7aから固定ハンガー部22を延出し、固定ハンガー部
22の先端部と可動ハンガー部23の先端部にそれぞれ
エアーシリンダ25の両端を枢着している。しかして、
図7に示すように、エアーシリンダ25を伸縮させるこ
とによって可動ハンガー部23を傾けることができるよ
うになっている。従って、可動ハンガー部23に処理対
象物を入れたバスケット4を吊り下げることにより、可
動ハンガー部23と共にバスケット4を傾けることがで
きるようになっている。
去装置Bを示す一部破断した正面図である。この液体除
去装置Bにおいては、ボールネジ10の先端に設けられ
たハンガー支持部7aに可動ハンガー部23の基端部を
ヒンジ24で回動自在に支持してあり、ハンガー支持部
7aから固定ハンガー部22を延出し、固定ハンガー部
22の先端部と可動ハンガー部23の先端部にそれぞれ
エアーシリンダ25の両端を枢着している。しかして、
図7に示すように、エアーシリンダ25を伸縮させるこ
とによって可動ハンガー部23を傾けることができるよ
うになっている。従って、可動ハンガー部23に処理対
象物を入れたバスケット4を吊り下げることにより、可
動ハンガー部23と共にバスケット4を傾けることがで
きるようになっている。
【0028】図8(a)〜(f)は図7の液体除去装置
Bを用いた液体除去方法の一例を示す図である。この液
体除去方法では、処理対象物を貯液槽2内に浸漬した
(図8(a)(b))後、可動ハンガー部23を傾ける
ことによって貯液槽2内でバスケット4を傾け(図8
(c))、傾いた姿勢でバスケット4を貯液槽2から引
き上げ(図8(d))、この姿勢でしばらく保持した
後、バスケット4を水平に戻す(図8(e)(f))。
バスケット4をゆっくりと引き上げても、バスケット4
の底面などには、水分が付着したまま残ることがある
が、この実施形態のようにバスケット4を傾けて貯液槽
2から引き上げることにより、バスケット4の下面など
に付着している水分をバスケット4の最下端側で液切り
することができ、一層液切り効果を高めることができ
る。
Bを用いた液体除去方法の一例を示す図である。この液
体除去方法では、処理対象物を貯液槽2内に浸漬した
(図8(a)(b))後、可動ハンガー部23を傾ける
ことによって貯液槽2内でバスケット4を傾け(図8
(c))、傾いた姿勢でバスケット4を貯液槽2から引
き上げ(図8(d))、この姿勢でしばらく保持した
後、バスケット4を水平に戻す(図8(e)(f))。
バスケット4をゆっくりと引き上げても、バスケット4
の底面などには、水分が付着したまま残ることがある
が、この実施形態のようにバスケット4を傾けて貯液槽
2から引き上げることにより、バスケット4の下面など
に付着している水分をバスケット4の最下端側で液切り
することができ、一層液切り効果を高めることができ
る。
【0029】図9(a)〜(e)は別な液体除去方法を
示す図である。この実施形態では、図9(a)(b)
(c)に示すように処理対象物を入れたバスケット4を
傾けた姿勢で貯液槽2内に入れ、図9(d)(e)に示
すように傾いた姿勢のままでバスケット4を貯液槽2か
ら引き上げている。図8の方法では、バスケット4を傾
けるための機構が必要であったが、この実施形態のよう
にバスケット4を傾けたままで貯液槽2に出し入れすれ
ば、このような機構が必要無くなり、液体除去装置Bの
構造を簡単にすることができる。
示す図である。この実施形態では、図9(a)(b)
(c)に示すように処理対象物を入れたバスケット4を
傾けた姿勢で貯液槽2内に入れ、図9(d)(e)に示
すように傾いた姿勢のままでバスケット4を貯液槽2か
ら引き上げている。図8の方法では、バスケット4を傾
けるための機構が必要であったが、この実施形態のよう
にバスケット4を傾けたままで貯液槽2に出し入れすれ
ば、このような機構が必要無くなり、液体除去装置Bの
構造を簡単にすることができる。
【0030】なお、上記各実施形態では、液体除去装置
は洗浄装置やメッキ装置などとは別個の独立した装置と
して説明したが、液体除去装置の貯液槽は洗浄槽やメッ
キ槽(メッキ浴)、電着塗装槽などを兼ねていてもよ
い。すなわち、従来の洗浄装置やメッキ装置などに本発
明の液体除去装置を組み込むことも可能である。その場
合には、メッキ槽や洗浄槽から持ち出される液体量も少
なくなるので、メッキ液等の液体が安定し、あるいは純
水などの液体の補充も軽減される。
は洗浄装置やメッキ装置などとは別個の独立した装置と
して説明したが、液体除去装置の貯液槽は洗浄槽やメッ
キ槽(メッキ浴)、電着塗装槽などを兼ねていてもよ
い。すなわち、従来の洗浄装置やメッキ装置などに本発
明の液体除去装置を組み込むことも可能である。その場
合には、メッキ槽や洗浄槽から持ち出される液体量も少
なくなるので、メッキ液等の液体が安定し、あるいは純
水などの液体の補充も軽減される。
【0031】また、本発明の液体除去装置は上記のよう
に真空乾燥装置と組合せることによって顕著な効果を発
揮するが、真空乾燥装置以外の加熱乾燥装置などと組合
せてもよい。
に真空乾燥装置と組合せることによって顕著な効果を発
揮するが、真空乾燥装置以外の加熱乾燥装置などと組合
せてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態による液体除去装置を含む
真空乾燥システムを示す概略断面図である。
真空乾燥システムを示す概略断面図である。
【図2】同上の真空乾燥装置を示す概略断面図である。
【図3】(a)(b)(c)は同上の真空乾燥システム
の動作説明図である。
の動作説明図である。
【図4】処理対象物の引き上げ速度と処理対象物に残る
水分量との関係を示す図である。
水分量との関係を示す図である。
【図5】(a)(b)は同上の測定に用いた処理対象物
(リベット)の形状を示す斜視図及び断面図である。
(リベット)の形状を示す斜視図及び断面図である。
【図6】本発明の別な実施形態による液体除去装置を示
す概略断面図である。
す概略断面図である。
【図7】同上の動作を示す概略説明図である。
【図8】(a)〜(f)は同上の液体除去装置による液
切り動作を示す概略図である。
切り動作を示す概略図である。
【図9】(a)〜(e)は同上の液体除去装置による別
な液切り動作を示す概略図である。
な液切り動作を示す概略図である。
A 真空乾燥システム B 液体除去装置 C 真空乾燥装置 2 貯液槽 3 引き上げ装置 4 処理対象物を入れたバスケット 5 液体 7b ハンガー部 11 真空容器 18 ドライポンプ
Claims (6)
- 【請求項1】 物品に付着している液体を除去するため
の液体除去装置であって、 液体の付着した前記物品を浸漬するための貯液槽と、 前記貯液槽内の液体に浸漬された前記物品をゆっくりと
した引き上げ速度で貯液槽内の液体から引き上げるため
の引き上げ装置と、を備えた液体除去装置。 - 【請求項2】 物品に付着している液体を除去するため
の液体除去方法であって、 液体の付着した前記物品を貯液槽内の液体に浸漬し、つ
いで、液体の表面張力を断ち切らない引き上げ速度で、
前記物品を貯液槽内の液体から引き上げることを特徴と
する液体除去方法。 - 【請求項3】 前記物品の引き上げ速度が40mm/sec
以下であることを特徴とする、請求項2に記載の液体除
去方法。 - 【請求項4】 前記物品の引き上げ速度が20mm/sec
以下であることを特徴とする、請求項2に記載の液体除
去方法。 - 【請求項5】 洗浄槽やメッキ槽、電着塗装槽などの処
理槽を兼ねた貯液槽と、 液体の表面張力を断ち切らない引き上げ速度でゆっくり
と、前記貯液槽内の液体に浸漬された物品を貯液槽内の
液体から引き上げるための引き上げ装置と、を備えた液
体除去装置。 - 【請求項6】 密閉容器内を高真空にすることによって
前記物品に付着している液体を強制的に蒸発させる真空
乾燥装置と、請求項1又は5に記載の液体除去装置とか
らなる真空乾燥システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7098496A JPH09236382A (ja) | 1996-02-29 | 1996-02-29 | 液体除去装置、液体除去方法及び真空乾燥システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7098496A JPH09236382A (ja) | 1996-02-29 | 1996-02-29 | 液体除去装置、液体除去方法及び真空乾燥システム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09236382A true JPH09236382A (ja) | 1997-09-09 |
Family
ID=13447312
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7098496A Pending JPH09236382A (ja) | 1996-02-29 | 1996-02-29 | 液体除去装置、液体除去方法及び真空乾燥システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09236382A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016538135A (ja) * | 2013-11-15 | 2016-12-08 | エーディーエム28 エス.アー.エール.エルAdm28 S.Ar.L | 放電成形装置 |
CN106803491A (zh) * | 2017-03-14 | 2017-06-06 | 苏州聚晶科技有限公司 | 一种缓慢提升清洗架 |
JPWO2023032191A1 (ja) * | 2021-09-06 | 2023-03-09 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61270399A (ja) * | 1985-05-23 | 1986-11-29 | Seiko Epson Corp | 水洗後の水切り方法 |
JPH076677A (ja) * | 1993-06-19 | 1995-01-10 | Uchihashi Estec Co Ltd | 基板型温度ヒュ−ズ |
JPH0743066A (ja) * | 1993-07-28 | 1995-02-10 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 真空乾燥装置 |
-
1996
- 1996-02-29 JP JP7098496A patent/JPH09236382A/ja active Pending
Patent Citations (3)
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CN106803491B (zh) * | 2017-03-14 | 2023-11-03 | 池州市琼琚信息技术服务有限公司 | 一种缓慢提升清洗架 |
JPWO2023032191A1 (ja) * | 2021-09-06 | 2023-03-09 | ||
WO2023032191A1 (ja) * | 2021-09-06 | 2023-03-09 | 株式会社荏原製作所 | めっき方法及びめっき装置 |
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