JPH0817984B2 - ディッピング処理方法及びその装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本願はゴム焼付部品の芯金等からなる被処理物に対し
て接着剤等をディッピング処理するための方法及び装置
に係り、ディッピング処理の品質向上と作業の効率化を
実現したものに関する。

［従来の技術］ 従来のディッピングによる接着剤塗布工程では、被処
理物を入れたかごを接着液槽上方からチェーン等で吊り
下げて接着液中へ浸漬し、液中で揺り動かすことにより
ディッピングを行い、その後液中から引上げて静止する
ことにより、タレ切り及び乾燥を行っていた。

また、ディッピング中に接着剤によりかごが目詰まり
するので、接着剤塗布工程を数ターン行った後、目詰ま
りが生じる都度、かごを外して積み上げておき、ある程
度の数が貯えられた段階でまとめて溶剤中へ浸漬し、手
作業により洗浄していた。

［発明が解決しようとする課題］ しかし前記方法では、ディッピング時におけるかごの
揺動が手作業であるから、かご内部で被処理物を十分に
攪拌できず被処理物が相互に重なったままの場合があ
り、このような場合には部分的に接着剤が塗布しない等
塗膜の不均一化を招いた。また、乾燥時においても、被
処理物が相互に接着してしまったり、タレのあるまま乾
燥することにより部分的に盛り上がった状態で固まるこ
とにより塗膜厚に偏りが生じることがあった。しかも、
このような手作業によると、作業ムラがあり、かつ時間
がかかる等の問題があり、作業効率の向上が望まれてい
た。

さらに、上記洗浄方法によれば、かごを多数必要とす
る点で不経済であり、かつ洗浄の度に着脱しなければな
らないという点でも効率が悪い。また、比較的長い時間
かごを放置後洗浄するので、接着剤が強固に付着して洗
浄しにくく、その後のディッピングにおける品質に影響
を与えるおそれがあった。そのうえ、人手による洗浄は
溶剤に触れざるを得ず作業員に敬遠されがちであった。

そこで本願に係るディッピング処理方法は、均一な塗
膜形成を可能とし、かつ作業効率の向上を主目的とす
る。併せて、かごの洗浄工程を連続的にかつ効率的に行
うことを目的とする。

また、本願に係るディッピング装置は、上記有利なデ
ィッピング処理方法を可能とする装置の提供を主目的と
し、併せて構造を簡単にすること並びに操作を簡単かつ
効率よくできる装置及びディッピング処理を経済的にで
きる装置の提供を目的とする。

［課題を解決するための手段］ 上記課題を解決するため、本願に係るディッピング処
理方法は、略水平から斜め下方の範囲で首振動作する回
転軸を、まず、斜め下方へ傾けてその先端部に取付けら
れた予め被処理物を収容したかごの少なくとも一部を処
理液中へ浸漬して回転させる回転ディッピングを行い、
その後回転軸を略水平にし、かごの回転面を略鉛直にし
てかごを処理液から出して回転させることにより被処理
物表面に付着された処理液を回転乾燥させることを特徴
とする。

この場合、回転乾燥に先立ち、かごを処理液から出し
て回転を停止させ、斜め下向きの傾斜状態で保持するこ
とにより余剰の処理液を滴下させるタレ切りを行うこと
ができ、さらに傾けられた状態のかごを連続的にスイン
グさせることもできる。また、回転乾燥時にかごに向か
って送風することもできる。

回転乾燥後、回転軸へ取付けたままの状態で内容物を
空にしたかごを溶剤中へ浸漬して回転させることにより
かごの洗浄を行うこともできる。このとき、回転ディッ
ピング、タレ切り及び回転乾燥からなる定常工程を複数
回反復する間にかごの洗浄工程を割り込ませ、かごの洗
浄工程を定常工程と連続してかつ定期的に行うこともで
きる。また、ディッピングの処理液を接着剤とすること
ができる。さらに、ディッピングの処理液を化成処理液
とすることもできる。

本願に係るディッピング処理装置は、被処理物を収容
可能なかごと、このかごを先端側に着脱自在に片持ち支
持した回転軸と、回転軸の基端側を揺動自在に支持する
支持部材と、回転軸を回転させるための回転駆動手段
と、回転軸の先端側を略水平から斜め下向きの間で首振
動作させるとともに、回転軸を斜め下向きに傾けること
により、かごの少なくとも一部を液槽中へ浸漬するため
の首振駆動手段とを備えたことを特徴とする。このと
き、液槽の内壁面を傾斜面にしてもよい。また、かごの
枠部材を丸棒状とすることもできる。さらに、処理液か
ら出して回転させることにより回転乾燥中のかごへ送風
するダクトを支持部材へ設けることもできる。

支持部材自体を水平移動させるため水平方向駆動手段
を設け、かごの移動線に沿って予め配設された液槽の上
方又は非上方位置へかごを選択的に水平移動させること
もできる。この場合、かごを取付けたままの状態で、支
持部材の水平方向移動並びに回転軸の回転及び首振動作
をさせることができる。

また、液槽を処理液と洗浄液で構成すれば、支持部材
をいずれかの液槽上方へ選択移動させることにより、デ
ィッピングとかごの洗浄を連続して行わせることもでき
る。さらに、洗浄槽中にブラシを設けることもできる。

これらディッピング工程並びにかごの洗浄工程におけ
る支持部材の移動及び回転軸の回転並びに首振動作を自
動制御手段によって連続的に自動制御することもでき
る。

［発明の作用・効果］ 請求項１において、回転ディッピング中に回転軸を斜
めにして処理液の液面に対して回転面を傾けるので、か
ごの内部で被処理物を三次元的に撹拌し、処理液接触を
均一化でき、かつディッピングの時間を短縮して処理を
迅速化できる。また、被処理物をかごのコーナー部へ集
めることになるので、処理液の量を少なくできる。

その後、かごの回転面を略鉛直にして回転乾燥するの
で、内容物を上下方向へ大きく撹拌でき、乾燥を迅速か
つ均一にできる。

さらに、回転軸が首振動作し、回転軸が斜め下向きに
傾くと回転ディッピングでき、略水平になると回転乾燥
できる。ゆえに、首振動作だけでかごを回転ディッピン
グと回転乾燥の各工程位置へ変更でき、回転軸の基部側
を上下動する必要が無いので、処理動作を少なくし、一
連の処理を迅速にできる。

請求項２において、回転乾燥に先立ち、回転軸を斜め
にして回転を停止させることにより、タレ切りを促進で
き、その後の回転乾燥時に多量の余剰処理液が周囲へ飛
散しないようにできる。

請求項３において、タレ切り時にかごを連続的にスイ
ングさせ、その傾斜角度を変化させると、さらにタレ切
りをさらに促進できる。

請求項４において、回転するかごに向かって送風する
と、一層乾燥が迅速になる。

請求項５において、回転乾燥後かごの内容物を空にし
てから、溶剤液中へ入れて再びかごを回転させると、か
ごは回転洗浄されて目詰りが除去される。ゆえに、洗浄
作業を容易にでき、しかも、ディッピング工程後直ちに
洗浄できるので、付着物が短時間でより良好に除去され
易くなり、洗浄時間を短縮できる。そのうえ、洗浄で除
去されない付着物の量が少なくなるので、これら付着物
の処理液中へ混入する量が少なくなり、ディッピング工
程の品質を安定させることができる。

請求項６において、定常工程を複数回反復する間に洗
浄工程を割り込ませると、定常工程であるディッピング
とかごの洗浄を連続する一連の作業として定期的に行う
ことができ、洗浄工程を特別に別の場所で行うことなく
かつ洗浄頻度を多くできるので、常時かごの目詰りを防
止できる。ゆえに、作業の効率をより高めることがで
き、同時にディッピングの品質向上を図ることができ
る。

請求項７において、接着剤のディッピング処理である
場合、接着剤の粘性によってかごが目詰まりし易いが、
このようなディッピングと連続する洗浄を行うことによ
り目詰りを防止できる。

請求項８において、処理液として化成処理液を用いれ
ば、均一な化成処理を迅速にできる。

請求項９において、先端側に片持ち支持されている回
転軸が回転駆動手段及び首振駆動手段によって回転及び
首振動作可能である。したがって、首振駆動手段により
回転軸の先端側だけを水平から斜め下向き状態の間で上
下動させることができ、回転軸の先端側を下方へ傾けて
かごを少なくとも部分的に液槽中へ入れて回転駆動手段
により回転させると、内容物が処理液の場合には回転デ
ィッピングが、溶剤の場合にはかごの洗浄がそれぞれ行
われる。このとき、回転軸の傾きは首振駆動手段によっ
て任意に設定できる。しかも、かごの回転面を傾けた状
態で回転させることができ、回転ディッピングに好適な
ものとなる。

回転ディッピング後、首振駆動手段により回転軸を上
方へ移動させてかごを処理液上へ出した状態で傾けると
ともに回転軸を回転停止させた状態を保持するとタレ切
りが行われる。このタレ切り時に回転軸の傾きを連続変
化するようスイングさせることも容易に可能である。タ
レ切り後、回転軸を首振駆動手段により略水平にして回
転駆動手段により回転させると回転乾燥が行われる。ゆ
えに、かごの回転、上下動並びに傾動を一軸で簡単にで
き、装置の構造が簡単になる。

請求項10において、ディッピング時にかごが傾いてい
る場合、これと対応するように液槽の壁面を斜面にする
と、それだけ内容量を少なくでき経済的であり、かつ処
理液等の交換サイクルを早くして品質を一定に維持でき
る。

請求項11において、かごの枠部材を丸棒状とすること
により、余剰の処理液の滴下を促進できるので、タレ切
りがさらに迅速になる。そのうえ、被処理物の損傷を防
止できる。

請求項12において、送風用のダクトを支持部材へ一体
化しておくと、支持部材が移動しても常時かごとダクト
の位置関係を一定に維持できる。

請求項13において、水平移動駆動手段によって支持部
材を水平移動させるとかごも一体に水平移動するので、
かごは回転軸の首振動作による上下動に加えて直交する
水平方向へも移動可能であり、予めかごの移動線に沿っ
て配設されている液槽上へ選択移動させて、回転ディッ
ピング、タレ切り及び回転乾燥の各処理を行うことがで
きる。液槽上以外の位置へ選択移動させれば被処理物の
投入又は取り出しを行うことができる。

また、複数の液槽をかごの移動線に沿って設けると、
支持部材をこの液槽毎に順次移動させることにより、複
数回のディッピングを連続処理できる。ゆえに、かごを
同一の回転軸へ取付けた状態で、回転及び傾き変化を行
うことにより、回転ディッピング、タレ切り及び回転乾
燥の各処理操作をすることができ、かごの着脱作業を不
要とするので、作業効率がよい。

請求項14において、ディッピング工程後、かごを回転
軸へ取付けたままの状態で内容物を空にしてから、水平
方向駆動手段により支持部材を洗浄槽上へ選択移動さ
せ、首振駆動手段によりかごを溶剤液中へ入れ、再びか
ごを回転させると、かごは同一の回転軸へ取付けられた
ままの状態で回転洗浄できる。ゆえに、洗浄に伴うかご
の着脱作業が不要となる。しかも、ディッピング工程後
直ちに洗浄することができる。また、洗浄を回転軸の動
力回転によって行うので、作業員が溶剤と接触しないで
済む。

請求項15において、洗浄槽内でかごを回転させると、
ブラシがかごの周囲へ接触するので、洗浄効率がより高
くなる。

請求項16において、支持部材の移動、回転軸の首振動
作並びにその回転を自動制御手段によって自動制御する
と、各処理を自動化でき作業効率が向上する。

［実施例］ 以下、第１図乃至第９図に基づいて実施例を説明す
る。

ディッピング処理の概要 第１図は接着剤のディッピング及びかごの洗浄工程全
体を示す概念図であり、この工程は、投入（Ｐ・１）、
塗布（Ｐ・２）、取出し（Ｐ・３）、洗浄（Ｐ・４）か
らなる。このうち（Ｐ・１）、（Ｐ・２）、（Ｐ・３）
の各工程は連続して１ターンを構成する定常工程であ
り、（Ｐ・４）工程のみはこの定常工程を適当ターン数
反復後、（Ｐ・１）工程へ移行する前に（Ｐ・３）工程
に続いて行われる割り込み工程である。以下、各工程を
概説する。

（Ｐ・１）投入工程 まず、かご１の口部を上に向けてフタ２を開き、ゴム
焼付部品の芯金などからなる被処理物３を内部へ投入す
る。

（Ｐ・２）ディッピング工程 続いてディッピング（Ｐ・２）工程へ移る。この工程
はサブ工程（Ｐ・２・１）乃至（Ｐ・２・４）からな
る。なお、図は各サブ工程毎に上段にかご１の正面視状
態を、下段にその側面視状態をそれぞれ併記してある。
まず、かご１を処理液槽４上へ移動させ、回転軸５を略
水平に位置させる（Ｐ・２・１）。次に、回転軸５の首
振り動作によってかご取付側が下がるように傾け、かご
１を処理液槽４内へ浸漬し、回転軸５と一体で回転させ
ることによる回転ディッピングを行う（Ｐ・２・２）。
所定時間後、回転軸５の回転を止め、略水平へ戻してか
ご１を処理液槽４から出し、回転軸５の静止状態で余分
な処理液のタレ切りを行う（Ｐ・２・３）。その後、回
転軸５を回転させるとともに、ダクト６から温風又は冷
風を吹き付けることにより回転乾燥させる（Ｐ・２・
４）。このとき、処理液槽４にはフタ７を被せる。

以上のサブ工程（Ｐ・２・１）乃至（Ｐ・２・４）で
ディッピングの単位工程が完了する。一液処理の場合
は、次に（Ｐ・３）工程へ移り、二液又はそれ以上の処
理を行う場合は、各処理液槽毎にこの単位工程を反復し
た後、（Ｐ・３）工程へ移る。

（Ｐ・３）取出し工程 かご１を適当位置まで移動させた後、口部を下へ向け
てフタ２を開き、ディッピング済の被処理物３を取り出
す。これで定常処理工程の１ターンを終了し、次ターン
開始のため（Ｐ・１）工程へ戻り、以後所定ターンを反
復する。

（Ｐ・４）洗浄工程 定常処理工程を所定数反復して最後の取出し工程（Ｐ
・３）を終了した段階で、かご１の目詰まりを取るた
め、洗浄工程（Ｐ・４）定期的に割り込ませる。この工
程では内容物が空のかご１を洗浄槽（後述）上へ移動さ
せ、その後はディッピング工程（Ｐ・２）と殆ど同様に
浸漬回転、タレ切り、乾燥と連続して行われる。この工
程後、再び投入工程（Ｐ・１）へ移り、継続して定常工
程が再開される。

ディッピング処理装置 第２図は処理装置全体を概略的に示す図であり、ブー
ス８内の壁面には奥行方向へ上下平行に延びる２本のガ
イドレール９、９が設けられ、これにスライダ10が支持
されている。スライダ10は本願における支持部材の具体
例であり、かご１を着脱自在に支持するとともに、ガイ
ドレール９、９によって案内移動可能である。また、か
ご１を回転させるための第１モータ11とかご１を傾かせ
るため回転軸５を首振動作させる第２モータ12が設けら
れている。かご１はガイドレール９、９間にこれと平行
に設けられたネジ軸13と係合しており、ネジ軸13の一端
に設けられたステップモータ14の回転量に応じて移動す
るようになっている。また、図では想像線で示してある
が、ダクト６がかご１の周囲へ位置するようにスライダ
10上へ取付けられている。第１モータ11、第２モータ12
及びステップモータ14はそれぞれ本願における回転駆動
手段、首振駆動手段及び水平方向駆動手段を構成し、シ
ーケンサからなるコントローラ15によって制御されてい
る。コントローラ15はステップモータ14、第１モータ1
1、第２モータ12及び送風ダクト６のそれぞれと電気的
に接続し、予め定められた処理時間毎にそれぞれを順次
作動制御するようになっている。個々の動作に対する設
定時間は作業員によって任意に設定できることは当然で
ある。但し、コントローラ15をマイクロコンピュータに
することができ、この場合にはよりキメ細かな制御がで
きる。

ガイドレール９、９の下方にはかご１の移動方向に沿
って単数又は複数の液槽すなわち処理液槽４及び洗浄槽
16が配置されている。処理液槽４は処理内容に応じた数
になるよう適宜増減される。本実施例の処理液槽４は、
第１接着剤槽（Ａ）と第２接着剤槽（Ｂ）の２槽からな
る２液処理用に構成されている。以下、処理液槽を区別
する必要があるときのみ、符号４に（Ａ）又は（Ｂ）を
添えるものとする。各槽４、16はキャスターにより移動
可能であり、各槽上にはフタ７、17が自動又は手動で開
閉可能に設けられる。本実施例ではスライダ10が順次処
理液槽４（Ａ）→同４（Ｂ）→洗浄槽16上へ選択移動す
る構成になっているが、逆にスライダ10を停止してお
き、これらの処理液槽４（Ａ）、４（Ｂ）及び洗浄槽16
側を手動又は自動的にスライダ10の下方へ移動させるこ
ともできる。ブース８の最奥部下方には排風ダクト18が
設けられ、好ましくはダクト６の吹き出し口の方向をこ
の排風ダクト18へ向けるようにする。

第３図はスライダ10の正面側、第４図は側面側の各詳
細構造を示す。スライダ10には角筒状のスプロケットケ
ース20がガイドレール９、９と平行な横軸21を介して軸
回り方向へ回動可能に連結されている。このスプロケッ
トケース20内には回転軸５の軸端部へ一体回転可能に取
付けられた従動スプロケット22が収容されている。従動
スプロケット22はチェーン23を介して第１モータ11の駆
動スプロケット24へ連結されている。第１モータ11はス
テー25によってスプロケットケース20上へ固定されてい
る。さらに、第４図に明らかなように、第１モータ11と
直交方向にスライダ10へ取付けられている第２モータ12
の駆動スプロケット26は巻き上げ用チェーン27と噛み合
っており、巻き上げ用チェーン27の一端はスプロケット
ケース20上に突出形成されたステー28へ取付けられてい
る。

第２モータ12の正転（巻き上げ側を正転とする、以下
同）によって巻き上げ用チェーン27が巻き上げられる
と、従動スプロケット22は図示の水平状態になり、第２
モータ12の逆転により巻き上げ用チェーン27が延びる
と、従動スプロケット22は横軸21を中心に先端が略45゜
まで下向きに傾動することにより、首振り動作を行う。
但し、首振り時の傾動角θ_１（第６図）は水平に対して
０゜〜90゜の範囲で任意に設定可能である。

このように、本実施例によれば、回転軸５を上下方向
へ首振動作させたので、スライダ10又は回転軸５全体を
上下動する必要がなく、装置をコンパクトかつ簡単な構
造にできる。但し、首振動作と異なり、回転軸５を上下
方向へ伸縮動作させたり、回転軸５の中間に関節部を設
けて先端側を関節動作により上下動させる等種々の構造
も可能である。

回転軸５はスプロケットケース20に突設されたホルダ
29に軸受部材29aを介して回転可能に支持され、その先
端にはフランジ30が設けられている。このフランジ30に
はかご１の取付座31がボルト31aによって着脱自在に取
付けられている。

スライダ10のガイドレール９、９と対面する側には、
レール噛み合いブロック32が各ガイドレール９、９に対
応して上下に設けられ、上下のブロック32、32間にネジ
軸13と係合するスライドナット33が取付けられている。
ネジ軸13はスライドナット33を貫通して紙面の上下方向
へ延出している。したがって、ネジ軸13の正転（スライ
ダ10を進める回転）又は逆転によってスライドナット33
が進退方向の力を受けるので、スライダ10がガイドレー
ル９、９に案内されて進退動を行うことになる。なお、
本願では第１図に示すブース８の奥行方向への移動を進
むとし、これと逆方向の移動を退くとする。

本実施例の装置によれば、回転軸５の首振動作により
かご１を上下動させることができるので、回転ディッピ
ング、タレ切り及び回転乾燥の各処理操作の全てが、か
ご１を回転軸５へ取付けたままの状態で行うことができ
る。また、回転と上下動を一軸でまかなうことができ、
装置の構造を簡単にできる。さらに、回転軸５の首振り
により回転ディッピング及びタレ切り時におけるかご１
の傾動を容易とし、かつ、その傾き調節を自由に変化可
能になる。

また、スライダ10ろ水平方向へ移動自在としたので、
かご１を投入、ディッピング工程、取出しの各工程間で
移動させること並びにディッピング時における複数の処
理液槽４間の移動、さらには洗浄槽16上への移動をそれ
ぞれステップモータ14の動力で選択的に行うことができ
る。ゆえに、かご１を回転軸５へ取付けたままで連続作
業ができ、作業効率が良い。しかも、スライダ10の水平
移動並びに回転軸５の首振動作等をコントローラ15によ
って連続制御するので、ディッピング処理の品質を安定
にできると共に、自動化によって作業効率を一層高める
ことができる。また、コントローラ15をシーケンサとす
ることにより制御部を安価に製造できる。但し、マイク
ロコンピュータによれば、回転の強弱変化や傾斜角の連
続変化等をよりキメ細かく実現できる。

そのうえ、スライダ10へダクト６を取付けておくと、
スライダ10が移動しても常時ダクト６を一体に移動でき
るので、かご１とダクト６の位置関係を一定にでき、送
風に好都合である。

第５図はかご１の詳細構造を示す。かご１は全体が略
円筒状をなし、丸棒状の枠部材34とステンレス製の金網
35で構成されている。円周側側面の一部には口部36が開
口形成され、フタ２により開閉自在である。フタ２は基
端側が開口部36周囲の枠部材へヒンジ37により回動自在
に連結され、他端側にはフック38が設けられている。こ
のフック38は開口部36周囲の対応部に設けられたバック
ル39と係脱可能である。また、一側面の中央部には前述
の取付座31（第４図）が設けられている。

第６図は処理液槽４の断面構造（第２図Ｃ−Ｃ線断
面）が示されている。これより明らかなように、処理液
槽４の枠40の内側上方には略Ｖ字型断面の処理液収容部
41が設けられている。処理液収容部41をなす２つの傾斜
壁面のうち、内側傾斜壁面42の水平となす角θ_２は略45
゜であり、ディッピング時におけるかご１の回転中心軸
Ｌの傾斜角θ_１とほぼ等しい。一方、反対側の外側傾斜
壁面43はこれよりも緩い傾斜をなし、その水平となす角
θ_３はθ_２よりも若干小さくなっている。外側傾斜壁面
43側の傾斜を緩くすると、かご１が首振動作するときの
逃げを確保できる。なお、図中の符号44は液抜き用バル
ブ、45は処理液である。処理液収容部41の内壁を傾斜面
にすると、かご１が斜め下方へ首振り状態で回転ディッ
ピングを行うとき、その外形に略沿うことができ、処理
液45の容量を必要かつ十分にできる。また、処理液45の
内容量を少なくできるので経済的であり、しかも交換サ
イクルを早くして性能を一定に維持できる。

第９図には洗浄槽16についての同様断面が示されてい
る。洗浄槽16は処理液槽４とほぼ同様の構造をなし、溶
剤収容部46は内側傾斜面47と外側傾斜面48によてＶ字状
断面に形成され、それぞれの傾斜角θ_２、θ_３も処理液
槽４と同じであり、内部には洗浄液である溶剤49が収容
されている。また、各傾斜面47、48にはブラシ50が設け
られ、かご１が溶剤49中へ浸漬されたとき、その周囲へ
接触可能になっている。溶剤収容部46を略Ｖ字状断面に
した利点は処理液槽４におけると同じである。

ディッピング工程の詳細 次に、ディッピング工程の各サブ工程（Ｐ・２・１）
〜（Ｐ・２・４）につき詳述する。

（Ｐ・２・１）かご移動 かご１に対する投入工程（Ｐ・１、第１図）では、ス
ライダ10がガイドレール９、９の左端に位置する（第２
図）。そこで投入が終了すると、スライダ10がコントロ
ーラ15の指令によるネジ軸13の回転によりガイドレール
９、９上を処理液槽４（Ａ）の上方へ移動して停止す
る。このとき回転軸５はほぼ水平に保持されている。ま
た、フタ７（第２図）は手動又は自動的に開けられる。

（Ｐ・２・２）回転ディッピング 第６図はディッピング状態を示す。前工程に続いて、
コントローラ15によって第２モータ12が逆転し、巻き上
げ用チェーン27が延びるので、スプロケットケース20が
横軸21を中心に先端側が下方へ首振り動作を行い、回転
軸５が水平に対してθ_１（≒45゜）だけ傾くので、回転
軸５の先端側へ取付けられているかご１は処理液槽４の
処理液（接着剤）中へ略半分程度没する。このとき、か
ご１の回転軸線Ｌも傾斜角θ_１と等しく、略45゜となっ
ている。

続いて、コントローラ15によりスプロケットケース20
と一体に回動している第１モータ11を駆動させると、駆
動スプロケット24が回転しチェーン23を介して従動スプ
ロケット22へ回転力を伝達するので、回転軸５が回転
し、同時にかご１が一部を液中へ浸漬した状態で回転す
る。この回転は傾斜角θ_１なる傾斜した回転軸線Ｌの周
囲で行われるため、かご１の回転面が傾き、内部の被処
理物３は三次元的な複雑な挙動によって、相互がよく分
離した状態でかご１内で十分に攪拌されるので、被処理
物３が相互に密着することなく、かつその表面全体へ均
一に処理液が塗布される。

このとき、処理液収容部41を略Ｖ字型断面とすること
により、内容物である処理液45の量を少なくでき、それ
だけ処理液45の交換サイクルが早くなるので、処理液45
の品質を安定化でき、かつ交換が容易となって経済的で
もある。

（Ｐ・２・３）タレ切り 所定時間が経過すると、コントローラ15により第１モ
ータ11の回転が止められ、第２モータ12が正転側へ回転
されて巻き上げ用チェーン27を巻き上げるため、回転軸
５のスプロケットケース20と一体になって第７図に示す
ように横軸21を中心に上方へ回動し、この状態でタレ切
りを行う。このとき、かご１は処理液槽４（Ａ）の液面
上方へ出るとともに、その軸線Ｌは傾斜角θ_４（θ_４＜
θ_１）だけ傾いている。

この状態でかご１及び回転軸５を回転停止させて所定
時間保持することにより、かご１内の余分な処理液は処
理液槽４内へ迅速に回収される。したがって、タレ切り
が十分に行われるので、以後の回転乾燥時に周囲へ処理
液が飛散しなくなり、かつ、被処理物３の表面に部分的
なタレを生じたまま不均一の塗膜形成することが少なく
なり、ディッピング処理の品質を安定させることができ
る。しかも、傾斜角θ_４は第２モータ12により回転軸５
の首振角を調整するだけで任意に設定できるので、自由
度が大きい。そのうえ、かご１の枠部材34を丸棒状とし
たので、枠部材34への付着量も少なくなり一層タレ切り
が早くなる。

また、第２モータ12をゆっくりと正逆転させることに
より、タレ切り工程の間中又は一部の時間で回転軸５を
連続的に首振りさせてかご１を傾動変化させれば、かご
１が処理液45の液面より上方でスイングするので、さら
にタレ切りを促進できる。

（Ｐ・２・４）回転乾燥 この状態で所定時間が経過すると、コントローラ15に
より第２モータが正転して、回転軸５を水平にするとと
もに第１モータ11が再び駆動し、回転軸５を介してかご
１が回転され、同時にかご１の側面に沿って設けられた
ダクト６から温風又は冷風が吹き付けられて、第８図に
示す回転乾燥が行われる。このとき、処理液槽４上はフ
タ７によって閉じられ、送風下における処理液の飛散防
止が図られている。この回転により、かご１の回転面は
略鉛直方向になるから、内部の被処理物３はかご１の回
転面にほぼ沿って二次元的な挙動をするよう整然と攪拌
され、被処理物３が相互に密着したり、傾くことによっ
て部分的にタレが固まって盛り上がるようなことが少な
くなり、表面に塗布された処理液の塗膜の厚さが均一化
した状態で乾燥される。しかも、回転に加えてダクト６
から送風するので、乾燥がより迅速になる。また、ダク
ト６の吹き出し方向を排風ダクト18方向へ指向させるこ
とにより、ブース８外へ飛散する処理液の量を少なくで
きる。

所定時間駆動後、コントローラ15により第１モータ11
が停止されて乾燥工程を終了する。その後、コントロー
ラ15によってステップモータ14を正転させることによ
り、スライダ10を次の処理液槽４（Ｂ）上へ移動させ、
再び異なる処理液について全く同様のディッピング工程
を反復する。その後、ネジ軸13の逆転によりスライダ10
を後退させれば取出し工程となる。

本実施例では、かご１を同一の回転軸５へ取付けたま
まの状態でディッピング工程やかごの洗浄を行うことが
できるので、その都度かご１を回転軸５に対して着脱す
る必要がない。また、かご１を動力回転させるので、作
業ムラが少なく、短時間で作業できる。したがって、作
業効率がよく、ディッピング処理の品質が向上する。し
かも、回転ディッピング及び回転乾燥の採用により、被
処理物３相互の重なり合いを避けることができるので、
塗膜を均一にすることができる。

洗浄工程の詳細 次に、洗浄工程について詳細に説明する。

第１図において、（Ｐ・１）乃至（Ｐ・３）からなる
定常工程の所定ターンが終了すると、かご１は空の状態
でフタ２を閉じられ、洗浄工程（Ｐ・４）へ移る。ま
ず、第２図において、コントローラ15により、巻き上げ
用チェーン27が第２モータ12によって巻き上げられて回
転軸５が上方へ首振りし、かご１の回転軸線を略水平に
する。続いてステップモータ14の駆動でネジ軸13が正転
することにより、スライダ10がガイドレール９、９に沿
って洗浄槽16上へ移動する。このとき、フタ17は手動又
は自動で開く。さらに、コントローラ15によって第２モ
ータ12が逆転すると、第９図に示すように、巻き上げ用
チェーン27が延びるので、スプロケットケース20が横軸
21を中心に先端側が下方へ傾き、回転軸５も水平に対し
て傾斜角θ_１なる首振り動作を行うため、回転軸５の先
端側へ取付けられているかご１は洗浄槽16の溶剤49中へ
略半分程度没する。この状態は第６図に示したディッピ
ング時と実質的に同じである。続いて、コントローラ15
により第１モータ11を駆動させると、回転軸５を介して
かご１が一部を液中へ浸漬した状態で回転する。この回
転による溶剤49との激しい接触並びに回転するかご１の
周囲へブラシ50が接触することによってかご１に付着し
ていた接着剤は効率よく洗浄される。しかも、洗浄をデ
ィッピングの直後に連続して行うため、かご１へ付着し
た処理液があまり硬化せず、迅速かつより完全に除去さ
れる。

所定時間が経過すると、コントローラ15により第１モ
ータ11の回転が止められ、第２モータ12が正転側へ回転
されて巻き上げ用チェーン27を巻き上げるため、スプロ
ケットケース20は横軸21を中心に上方へ回動し、かご１
が洗浄槽16の溶剤49から脱する。そこで、回転軸線Ｌを
若干傾けた状態又は水平にした状態で回転軸５を停止さ
せ、溶剤のタレ切りが行われる。所定時間後、コントロ
ーラ15により第１モータ11が再び駆動回転されることに
より、回転軸５を介してかご１が回転され、同時にかご
１の側面に沿って設けられたダクト６から温風又は冷風
が吹き付けられる。このとき、洗浄槽16上はフタ17によ
って閉じられ、溶剤49の飛散防止が図られている。この
洗浄後、再びコントローラ15の指令で逆転駆動されるス
テップモータ14によって回転するネジ軸13を介してスラ
イダ10をブース８外へ後退させる。これにより、かご１
は新たな投入工程（Ｐ・１）へ移り、再びディッピング
処理の定常工程を開始する。

この洗浄工程によれば、洗浄をディッピング処理工程
と連続して定期的に行うことができ、かご１の着脱が不
要となるので、作業効率が著しく向上する。特に、接着
剤の場合目詰りし易いので、洗浄の頻度を多くしなけれ
ばならないから、作業効率を顕著に向上させることがで
きる。しかも、洗浄は接着剤塗布と同一の装置で自動的
に行われるので、作業員が溶剤液に触れずに作業が可能
である。そのうえ、かご１を大量に用意する必要がなく
なるので、経済的である。さらに、付着物の除去をより
完全にできるため、ディッピング中に剥離した付着物が
処理液45中に混入したり、被処理物３の表面へ付着する
おそれが少なくなり、ディッピング時の品質をより安定
させることができる。

なお、上記実施例は接着剤のディッピング処理に関す
るものであったが、本願はこれに限定されるものでな
く、化成処理など種々のディッピング処理に応用可能で
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第９図は実施例であり、第１図は全体工程の
概念図、第２図は装置全体の概略図、第３図及び第４図
はそれぞれ装置要部を示す拡大図、第５図は要部の斜視
図、第６図乃至第９図は各工程を説明するための図であ
る。 （符号の説明） １……かご、３……被処理物、４……処理液槽、５……
回転軸、６……ダクト、９……ガイドレール、10……ス
ライダ、11……第１モータ、12……第２モータ、13……
ネジ軸、14……ステップモータ、15……コントローラ、
16……洗浄槽、50……ブラシ。

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】略水平から斜め下方の範囲で首振動作する
   回転軸を、まず、斜め下方へ傾けてその先端部に取付け
   られた予め被処理物を収容したかごの少なくとも一部を
   処理液中へ浸漬して回転軸を斜めにした状態で回転させ
   る回転ディッピングを行い、その後回転軸を略水平にし
   てかごを処理液から出し、かごの回転面を略鉛直にして
   回転させることにより被処理物表面に付着された処理液
   を回転乾燥させることを特徴とするディッピング処理方
   法。
2. 【請求項２】回転乾燥に先立ち、かごを処理液から出し
   て回転を停止させ、回転軸を斜め下向きの傾斜状態で保
   持することにより余剰の処理液を滴下させるタレ切りを
   行うことを特徴とする請求項１記載のディッピング処理
   方法。
3. 【請求項３】タレ切り時にかごを連続的にスイングさせ
   ることを特徴とする請求項２記載のディッピング処理方
   法。
4. 【請求項４】回転するかごに向かって送風することを特
   徴とする請求項１記載のディッピング処理方法。
5. 【請求項５】回転乾燥後、内容物を空にしたかごを溶剤
   中へ浸漬して回転させることによりかごの洗浄を行うこ
   とを特徴とする請求項１記載のディッピング処理方法。
6. 【請求項６】回転ディッピング、タレ切り及び回転乾燥
   からなる定常工程を複数回反復する間にかごの洗浄工程
   を割り込ませ、かごの洗浄工程を定常工程と連続してか
   つ定期的に行うことを特徴とする請求項５記載のディッ
   ピング処理方法。
7. 【請求項７】処理液が接着剤であることを特徴とする請
   求項６記載のディッピング処理方法。
8. 【請求項８】処理液が化成処理液であることを特徴とす
   る請求項６記載のディッピング処理方法。
9. 【請求項９】被処理物を収容可能なかごと、このかごを
   先端側に着脱自在に片持ち支持した回転軸と、回転軸の
   基端側を揺動自在に支持する支持部材と、回転軸を回転
   させるための回転駆動手段と、回転軸の先端側を略水平
   から斜め下向きの間で首振動作させるとともに、回転軸
   を斜め下向きに傾けることによりかごの少なくとも一部
   を液槽へ浸漬とするための首振駆動手段とを備えたこと
   を特徴とするディッピング処理装置。
10. 【請求項１０】液槽の内壁面を傾斜面としたことを特徴
    とする請求項９記載のディッピング処理装置。
11. 【請求項１１】かごの枠部材を丸棒状としたことを特徴
    とする請求項９記載のディッピング処理装置。
12. 【請求項１２】処理液から出して回転させることによる
    回転乾燥中のかごへ送風するためのダクトを支持部材に
    設けたことを特徴とする請求項９記載のディッピング処
    理装置。
13. 【請求項１３】支持部材を水平方向へ移動させるための
    水平方向駆動手段と、かごの水平方向における移動線に
    沿って配設された液槽とを備えるとともに、かごは支持
    部材の水平移動と首振動作により液槽の上方又は非上方
    位置へ選択移動可能であることを特徴とする請求項９記
    載のディッピング処理装置。
14. 【請求項１４】液槽が処理液槽と溶剤槽からなり、かご
    をいずれかの液槽上へ選択的に移動することにより、か
    ごを同一回転軸へ取付けたままの状態でディッピング及
    びかごの洗浄を連続して行うことを特徴とする請求項13
    記載のディッピング処理装置。
15. 【請求項１５】溶剤槽中にかごの周囲と接触可能なブラ
    シを設けたことを特徴とする請求項14記載のディッピン
    グ処理装置。
16. 【請求項１６】支持部材の移動及び回転軸の回転並びに
    首振動作を連続的に自動制御するための自動制御手段を
    備えたことを特徴とする請求項９、12、13又は14のいず
    れかに記載したディッピング処理装置。