JPH09209112A - 連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法及びその方法に用いるワイピングノズル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ストリップエッジにおける筋むらや外観むら
等の発生を防止しながら、エッジオーバーコート及びス
プラッシュの発生を防止することができ、この結果、ス
トリップの表裏面の溶融金属膜の厚さを所定の厚さに調
整することができ、表裏面の美麗なめっき鋼板を製造す
ることができる連続式溶融めっきにおけるワイピングガ
スの圧力制御方法を提供する。 【解決手段】 ワイピングガスの吐出領域を、ストリッ
プ１６の板幅（Ｌ₁ ）の両側にそれぞれ１００ｍｍ未満
の幅（Ｌ₂₁）を加えた幅（Ｌ₁ ＋２・Ｌ₂₁）を持って所
定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出し、スト
リップ１６の表裏面の溶融金属膜のワイピングを行う基
準吐出圧力域と、基準吐出圧力域の両側にそれぞれ２０
ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を持って吐出圧（Ｐ₀ ）より低く
かつ大気圧を越える吐出圧（Ｐ₁ ）でワイピングガスを
吹き出す背圧域とに区分する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、溶融金属浴を通過
したストリップの表裏面の溶融金属膜の厚さを、所定の
厚さに調整するための連続式溶融めっきにおけるワイピ
ングガスの圧力制御方法及びその方法に用いるワイピン
グノズルに係り、更に詳しくは、ストリップの板幅方向
の両端部（以下ストリップエッジという）のエッジオー
バーコートやスプラッシュの発生を抑制して、表裏面の
美麗なめっき鋼板を製造することができる連続式溶融め
っきにおけるワイピングガスの圧力制御方法及びその方
法に用いるワイピングノズルに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、鋼板等の金属板（以下ストリップ
という）の耐蝕性を向上させるために、ストリップの全
面に亜鉛（Ｚｎ）、錫（Ｓｎ）、鉛（Ｐｂ）、アルミニ
ウム（Ａｌ）等の金属層又はこれらの合金層をめっきす
る連続式溶融めっき法が利用されている。ここで、図面
を参照しつつ、従来の連続式溶融めっき法について説明
する。なお、図８０、図８２、図８３中、符号ＳＥは、
ストリップエッジである。

【０００３】まず、従来の連続式溶融めっき法に適用さ
れる連続式溶融めっき装置について説明する。従来の連
続式溶融めっき法に適用される連続式溶融めっき装置５
０は、図７７、図７８に示すように、酸化炉（図示せ
ず）で全面に残存する油分を酸化除去され、かつ、還元
炉（図示せず）で全面に残存する燃焼残留物を還元除去
されたストリップ５１の進行方向を、溶融金属浴５３の
方向へ方向転換するためのターンダウンロール５２と、
ストリップ５１の全面に金属層又は合金層をめっきする
ために、亜鉛や、錫、鉛、アルミニウム等又はこれらの
合金（又は混合物）からなる溶融金属５３ａを溶融状態
で保持するための溶融金属浴５３と、溶融金属浴５３内
に回転自在に支持され、溶融金属浴５３内を通過するス
トリップ５１の進行方向を、上方へ方向転換するための
シンクロール５４と、溶融金属浴５３内のシンクロール
５４の上方に、回転自在に対峙され、溶融金属浴５３内
を通過するストリップ５１の揺動を抑制するための一対
のサポートロール５５と、溶融金属浴５３の上方でかつ
一対のサポートロール５５の上方に対峙され、溶融金属
浴５３内を通過したストリップ５１の表裏面の溶融金属
膜５１ａの厚さを、所定の厚さに調整するための一対の
ワイピングノズル５６とを有する。

【０００４】続いて、従来の連続式溶融めっき法につい
て説明する。まず、ストリップ５１は、酸化炉で全面に
残存する油分を酸化除去された後、還元炉で燃焼残留物
を還元除去される。次に、酸化炉、及び、還元炉を、順
次経たストリップ５１は、ターンダウンロール５２によ
って、溶融金属浴５３に導かれた後、この溶融金属浴５
３内で、シンクロール５５によって、上方に導かれる。
ここで、ストリップ５１が、溶融金属浴５３内を通過す
る間に、ストリップ５１の全面に付着された溶融金属５
３ａの膜（以下溶融金属膜という）５１ａは、一対のワ
イピングノズル５６からそれぞれストリップ５１に吹き
付けられる空気等のワイピングガスで、所定の厚さに調
節される。そして、溶融金属膜５１ａの厚さが所定の厚
さに調節されたストリップ５１は、乾燥炉（図示せず）
等を経て、溶融金属膜５１ａがストリップ５１の全面に
固着された（以下ストリップ５１の全面に固着された溶
融金属膜５１ａを金属層又は合金層という）後、テンシ
ョンリール等で、コイル状に巻き取られている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の連続式溶融めっき法では、以下の解決すべき課題を
有していた。すなわち、通常、従来の連続式溶融めっき
法では、図７９（ａ）、（ｂ）上段等に示すように、ス
トリップ５１の表裏面に、ワイピングガスを吹き付ける
ために、一対のワイピングノズル５６には、その長手方
向（又はストリップ５１の板幅方向という）に沿って、
同じ開口幅（ｔ₁ ）のスリット５６ａ（以下、このスリ
ット５６ａの開口幅が、ストリップ５１の板幅方向に沿
って、同一幅のものを、フラットタイプのスリットとい
う）が設けられている。

【０００６】ところが、このフラットタイプのスリット
５６ａを有する一対のワイピングノズル５６では、該一
対のワイピングノズル５６の先端のワイピングガスの吹
き出し圧は、図７９（ａ）下段中、実線ａで示すよう
に、ストリップ５１の板幅方向に沿って同一圧となる
が、このワイピングガスがストリップ５１に衝突したと
きの衝突圧は、図８０下段中、実線ｃで示すように、ス
トリップ５１の板幅方向に沿って、それぞれ、ストリッ
プエッジにいくほど低くなっている。

【０００７】これは、ストリップエッジより外側、すな
わち、ストリップ５１のない所で、一対のワイピングノ
ズル５６から吐出されたワイピングガス同士が衝突する
ことにより、図７８中、矢視するように、ワイピングガ
スの流れに乱れが生じ、この結果、このワイピングガス
の乱流がストリップ５１のエッジよりも数十ｍｍ内側ま
で影響を及ぼして、ストリップエッジにおけるワイピン
グガスの衝突圧を低下させているからである。

【０００８】そして、前記の如く、ストリップエッジに
おけるワイピングガスの衝突圧が低下すると、ストリッ
プ５１の表裏面の溶融金属膜５１ａの拭払能（又はワイ
ピング能という）が低下して、図７８に示すように、ス
トリップエッジに、いわゆるエッジオーバーコートが発
生し、後工程で、コイル状に巻き取られたストリップ５
１（以下、コイル状に巻き取られたストリップ５１をコ
イルという）は、その両端部が膨れたいわゆる鼓状とな
るために、使用時、引き延ばされたストリップ５１の両
端部が波打つ、いわゆる耳波現象と呼ばれる不具合が発
生するという問題点があった。

【０００９】そこで、この耳波現象を解決するために、
ストリップ５１を巻き取る際に、コイルの形状を修正す
るべく、下層のストリップ５１と上層のストリップ５１
の間に、ダンボールを挿入する作業が行われているが、
手間と労力を要し、作業性や生産性に劣るという問題点
があった。

【００１０】そこで、前述の問題点を解決するために、
スリットの開口幅をその両端部に向かって広くした、
すなわち、スリットにテーパーを設けた、いわゆるテー
パータイプのスリットを有するワイピングノズルが提案
されている。また、実開平２−７８５５８号公報に
は、図８１（ｂ）に示すように、中空状の主ノズル５７
ａ内に、ストリップ５１の板幅方向に沿って、移動可能
に補助ノズル５７ｂを設けたワイピングノズル５７が提
案されている。

【００１１】そして、前記のテーパータイプのスリッ
トを有するワイピングノズルでは、図７９（ａ）下段
中、破線ｂで示すように、ワイピングガスの吹き出し圧
をスリットの両端部（以下スリットエッジという）にい
くほど大きくすることができ、また、前記の実開平２
−７８５５８号公報に記載されたワイピングノズル５７
も、前記と同様に、図８１（ａ）中、実線ｅで示すよう
に、ワイピングガスの吹き出し圧を、補助ノズル５７ｂ
の配置部位で、ストリップエッジ又はスリットエッジに
いくほど大きくすることができる。

【００１２】ところが、前記及びのワイピングノズ
ル５７でも、前述した問題点を解決することができず、
前記及びのワイピングノズル５７からストリップ５
１に吹き付けられたワイピングガスの衝突圧は、図８０
中、破線ｄで示すように、ストリップ５１の板幅方向に
沿って、スリットエッジにいくほど低くなるという問題
点があった。このため、やはり、前記と同様に、ストリ
ップ５１の表裏面の溶融金属膜５１ａの拭払能が低下
し、ストリップエッジにエッジオーバーコートが発生す
るという問題点があった。

【００１３】また、前記のワイピングノズルでは、図
８０中、破線ｄで示すように、ワイピングガスの衝突圧
はスリットエッジにいくにつれ一旦急激に上昇して（す
なわち、屈曲点ｋをもって急激に上昇する）急激に下降
する分布曲線となっているが、エッジオーバーコートを
防止するために、スリットエッジにおけるワイピングガ
スの衝突圧を高くすると、図８０中、符号Ｓ₁ で示す、
スリットエッジ近傍におけるワイピングガスの衝突圧
と、図８０中、符号Ｓ₂ で示す、ストリップ中央部の
（同一圧の）ワイピングガスの衝突圧の差が大きくなっ
てしまい、この結果、ストリップの表裏面に、筋むら
や、外観むら（色むら）が発生するという問題点があっ
た。

【００１４】そこで、前述の問題点を解決するために、
図８２に示すように、溶融金属浴５３を通過したストリ
ップ５１の横に、ダミープレート（又は擬似板という）
５８を置くことにより、ストリップエッジより外側で、
ワイピングガスが衝突して発生する乱流の影響を防止す
る方法が提案されている。そして、この方法によれば、
ストリップエッジより外側におけるワイピングガス同士
の衝突を、ダミープレート５８で遮ることができるが、
この方法で、乱流の影響を防止するには、ストリップエ
ッジとダミープレート５８との間隙（ｇ）を２ｍｍ≦ｇ
≦３ｍｍの範囲内に維持することが必要であった。

【００１５】ところが、ストリップ５１にダミープレー
ト５８を接触させずに、前記間隙（ｇ）を持って、連続
式溶融めっきの操業を行うことは、極めて困難であっ
た。すなわち、ストリップ５１とダミープレート５８が
接触しなくても、前記間隙（ｇ）が極めて小さくなる
と、ストリップ５１の全面に付着した溶融金属５３ａ
が、ダミープレート５８に付着し易くなると共に、この
ダミープレート５８に付着した溶融金属５３ａの厚さが
次第に厚くなって、前記間隙（ｇ）を埋めてしまい、こ
の結果、ストリップ５１の搬送を停止させる等、連続式
溶融めっき法の操業を阻害するという問題点があった。
このため、実際の操業においては、前記間隙（ｇ）を、
約３０ｍｍ程度にしなければならず、この結果、ストリ
ップエッジにおけるワイピングガスの衝突圧を、図８２
中、破線ｊで示すように、ストリップ中央部におけるワ
イピングガスの衝突圧と同じにすることができず、図８
２中、実線ｉで示すように、ストリップエッジにいくほ
ど低下させてしまい、ストリップ５１のエッジオーバー
コートを防止することができないという問題点があっ
た。

【００１６】そこで、前述の問題点を解決するために、
図８３中段中、実線ｆで示すように、ワイピングノズル
５６（５７）におけるストリップ５１と相対しない部位
をカバー（図示せず）等で覆って、ストリップエッジよ
り外側におけるワイピングガスの吐出を停止する方法が
提案されている。そして、この方法では、図８３下段
中、実線ｈで示すように、ストリップ５１の外側におけ
るワイピングガスの衝突圧の低下を防止することができ
る。

【００１７】ところが、図８４中、矢視するように、通
常、ワイピングノズル５６からストリップ５１に吹き付
けられたワイピングガスは、ストリップ５１に衝突した
後、上下方向に流れるが、この方法の場合、ストリップ
エッジより外側のワイピングガスの吐出が停止されてい
るため、ストリップエッジ近傍のワイピングガスが、ス
トリップ５１に衝突した後、ストリップエッジから外側
に向かって、左（右）方向に流れ易くなるために、この
ワイピングガスの流れに乗って、ストリップエッジの溶
融金属５３ａが飛散し（以下、このストリップエッジの
溶融金属５３ａが飛散する現象をスプラッシュとい
う）、この飛散した溶融金属５３ａが、ワイピングノズ
ル５６のスリット５６ａを閉塞するという問題点があっ
た。

【００１８】従って、連続式溶融めっき法では、ストリ
ップエッジのエッジオーバーコートとスプラッシュを同
時に解決することができる何等かの方法が、至急、希求
されていた。

【００１９】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、ストリップエッジにおける筋むらや、外観むら
等の発生を防止しながら、エッジオーバーコート及びス
プラッシュの発生を防止することができ、この結果、ス
トリップの表裏面の溶融金属膜の厚さを所定の厚さに調
整することができ、表裏面の美麗なめっき鋼板を製造す
ることができる連続式溶融めっきにおけるワイピングガ
スの圧力制御方法、及び、その方法に用いるワイピング
ノズルを提供することを目的とする。

【００２０】

【課題を解決するための手段】前記目的に沿う請求項１
記載の連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力
制御方法は、溶融金属浴を通過したストリップを、該ス
トリップの板幅（Ｌ₁）より長尺に形成され、かつ、前
記溶融金属浴の上方で対峙された一対のワイピングノズ
ルの間を通過させながら、該ワイピングノズルから前記
ストリップの表裏面にワイピングガスを吹き付けて、前
記ストリップのエッジオーバーコート及びスプラッシュ
を防止しながら、前記ストリップの表裏面の溶融金属膜
の厚さを調整する連続式溶融めっきにおけるワイピング
ガスの圧力制御方法であって、前記ワイピングガスの吐
出領域を、前記ストリップの板幅（Ｌ₁ ）の両側に、そ
の両端からそれぞれ１００ｍｍ未満の幅（Ｌ₂₁）を加え
た幅（Ｌ₁ ＋２・Ｌ₂₁）を持って、所定の吐出圧
（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出し、前記ストリップ
の表裏面の溶融金属膜のワイピングを行う基準吐出圧域
と、前記基準吐出圧域の両側に、その両端からそれぞれ
２０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を持って、前記吐出圧
（Ｐ₀ ）より低くかつ大気圧を越える吐出圧（Ｐ₁ ）で
ワイピングガスを吹き出す背圧域とに区分している。

【００２１】請求項２記載の連続式溶融めっきにおける
ワイピングガスの圧力制御方法は、溶融金属浴を通過し
たストリップを、該ストリップの板幅（Ｌ₁ ）より長尺
に形成され、かつ、前記溶融金属浴の上方で対峙された
一対のワイピングノズルの間を通過させながら、該ワイ
ピングノズルから前記ストリップの表裏面にワイピング
ガスを吹き付けて、前記ストリップのエッジオーバーコ
ート及びスプラッシュを防止しながら、前記ストリップ
の表裏面の溶融金属膜の厚さを調整する連続式溶融めっ
きにおけるワイピングガスの圧力制御方法であって、前
記ワイピングガスの吐出領域を、前記ストリップの板幅
（Ｌ₁ ）の両側に、その両端からそれぞれ５０ｍｍ以上
１００ｍｍ以下の幅（Ｌ₂₁）を加えた幅（Ｌ₁ ＋２・Ｌ
₂₁）を持って、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガス
を吹き出し、前記ストリップの表裏面の溶融金属膜のワ
イピングを行う基準吐出圧域とし、前記基準吐出圧域の
両側に、その両端からそれぞれ２０ｍｍ以上の幅
（Ｌ₃₁）を有する大気圧域を設けている。

【００２２】請求項３記載の連続式溶融めっきにおける
ワイピングガスの圧力制御方法は、溶融金属浴を通過し
たストリップを、該ストリップの板幅（Ｌ₁ ）より長尺
に形成され、かつ、前記溶融金属浴の上方で対峙された
一対のワイピングノズルの間を通過させながら、該ワイ
ピングノズルから前記ストリップの表裏面にワイピング
ガスを吹き付けて、前記ストリップのエッジオーバーコ
ート及びスプラッシュを防止しながら、前記ストリップ
の表裏面の溶融金属膜の厚さを調整する連続式溶融めっ
きにおけるワイピングガスの圧力制御方法であって、前
記ワイピングガスの吐出領域を、前記ストリップの板幅
（Ｌ₁ ）を持って、所定の吐出圧（Ｐ₀）でワイピング
ガスを吹き出し、前記ストリップの表裏面の溶融金属膜
のワイピングを行う基準吐出圧域と、前記基準吐出圧域
の両側に、その両端からそれぞれ２０ｍｍ以上の幅（Ｌ
₃₁）を持って、（０．１・Ｐ₀ ）≦（Ｐ₂ ）≦（０．８
・Ｐ₀ ）の吐出圧（Ｐ₂ ）でワイピングガスを吹き出
し、前記ストリップの両端のガス流を整える背圧域とに
区分している。

【００２３】請求項４記載の連続式溶融めっきにおける
ワイピングガスの圧力制御方法は、溶融金属浴を通過し
たストリップを、該ストリップの板幅（Ｌ₁ ）より長尺
に形成され、かつ、前記溶融金属浴の上方で対峙された
一対のワイピングノズルの間を通過させながら、該ワイ
ピングノズルから前記ストリップの表裏面にワイピング
ガスを吹き付けて、前記ストリップのエッジオーバーコ
ート及びスプラッシュを防止しながら、前記ストリップ
の表裏面の溶融金属膜の厚さを調整する連続式溶融めっ
きにおけるワイピングガスの圧力制御方法であって、前
記ワイピングガスの吐出領域を、前記ストリップの板幅
（Ｌ₁ ）の両側に、その両端からそれぞれ２００ｍｍ未
満の幅（Ｌ₂₂）を加えた幅（Ｌ₁ ＋２・Ｌ₂₂）を持っ
て、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出
し、前記ストリップの表裏面の溶融金属膜のワイピング
を行う基準吐出圧域と、前記基準吐出圧域の両側に、そ
の両端からそれぞれ２０ｍｍ以上１００ｍｍ以下の幅
（Ｌ₄₁）を持って、前記吐出圧（Ｐ₀ ）より低く大気圧
を越える吐出圧（Ｐ₁ ）でワイピングガスを吹き出す背
圧域とに区分し、前記背圧域の両側に、その両端からそ
れぞれ２０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を有する大気圧域を設
けている。

【００２４】請求項５記載の連続式溶融めっきにおける
ワイピングガスの圧力制御方法は、溶融金属浴を通過し
たストリップを、該ストリップの板幅（Ｌ₁ ）より長尺
に形成され、かつ、前記溶融金属浴の上方で対峙された
一対のワイピングノズルの間を通過させながら、該ワイ
ピングノズルから前記ストリップの表裏面にワイピング
ガスを吹き付けて、前記ストリップのエッジオーバーコ
ート及びスプラッシュを防止しながら、前記ストリップ
の表裏面の溶融金属膜の厚さを調整する連続式溶融めっ
きにおけるワイピングガスの圧力制御方法であって、前
記ワイピングガスの吐出領域を、前記ストリップの板幅
（Ｌ₁ ）の両側に、その両端からそれぞれ１００ｍｍ以
上２００ｍｍ以下の幅（Ｌ₄₂）を加えた幅（Ｌ₁ ＋２・
Ｌ₄₂）を持って、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガ
スを吹き出し、前記ストリップの表裏面の溶融金属膜の
ワイピングを行う基準吐出圧域とし、前記基準吐出圧域
の両側に、その両端からそれぞれ４０ｍｍ以上の幅（Ｌ
₃₂）を有する大気圧域を設けている。

【００２５】請求項６記載の連続式溶融めっきにおける
ワイピングガスの圧力制御方法は、溶融金属浴を通過し
たストリップを、該ストリップの板幅（Ｌ₁ ）より長尺
に形成され、かつ、前記溶融金属浴の上方で対峙された
一対のワイピングノズルの間を通過させながら、該ワイ
ピングノズルから前記ストリップの表裏面にワイピング
ガスを吹き付けて、前記ストリップのエッジオーバーコ
ート及びスプラッシュを防止しながら、前記ストリップ
の表裏面の溶融金属膜の厚さを調整する連続式溶融めっ
きにおけるワイピングガスの圧力制御方法であって、前
記ワイピングガスの吐出領域を、前記ストリップの板幅
（Ｌ₁ ）を持って、所定の吐出圧（Ｐ₀）でワイピング
ガスを吹き出し、前記ストリップの表裏面の溶融金属膜
のワイピングを行う基準吐出圧域と、前記基準吐出圧域
の両側に、その両端からそれぞれ２０ｍｍ以上１００ｍ
ｍ以下の幅（Ｌ₄₁）を持って、（０．２・Ｐ₀ ）以上の
吐出圧（Ｐ₃ ）でワイピングガスを吹き出し、前記スト
リップの両端のガス流を整える背圧域とに区分し、前記
背圧域の両側に、その両端からそれぞれ２０ｍｍ以上の
幅（Ｌ₃₁）を有する大気圧域を設けている。

【００２６】請求項７記載の連続式溶融めっきにおける
ワイピングガスの圧力制御方法は、請求項１、２、４、
５のいずれか１項に記載の連続式溶融めっきにおけるワ
イピングガスの圧力制御方法において、前記基準吐出圧
域の吐出圧（Ｐ₀ ）を、その両側部で高くして、エッジ
オーバーコートを積極的に防止している。

【００２７】請求項８記載の連続式溶融めっきにおける
ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワイピングノズ
ルは、溶融金属浴を通過したストリップとの対向部に、
前記ストリップの板幅方向に沿って、所定の間隙を持っ
て形成された主スリットを備えた主ノズルと、該主ノズ
ル内に、隙間を有して移動可能に配置され、前記主スリ
ットに方向を合わせた補助スリットを備えた補助ノズル
と、取付け取り外し可能に装着され、前記補助ノズルの
補助スリットの一部、又は、全部を閉塞する補助スリッ
ト用盲板とを有する。

【００２８】請求項９記載の連続式溶融めっきにおける
ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワイピングノズ
ルは、請求項８記載の連続式溶融めっきにおけるワイピ
ングガスの圧力制御方法に用いるワイピングノズルにお
いて、前記主ノズルの主スリット、及び、前記補助ノズ
ルの補助スリットを閉塞する主補スリット用盲板が設け
られている。

【００２９】ここで、ワイピングガスとは、ワイピング
ノズルから吐出されるガスをいうものである。また、こ
のワイピングガスとしては、空気や水蒸気（Ｈ₂ Ｏ）の
他、窒素（Ｎ₂ ）ガス、アルゴン（Ａｒ）ガス等の不活
性ガスを使用することができる。特に、ワイピングガス
に、不活性ガスを使用すると、ストリップの表裏面の溶
融金属膜の酸化を防止することができる。なお、前記吐
出圧（Ｐ₀ 、Ｐ₁ 、Ｐ₂ 、Ｐ₃ ）とは、後述する図７２
〜図７４で説明するように、予め、一対のワイピングノ
ズルの間に、該一対のワイピングノズルの長手方向の一
端から他端に亘って試験用板やストリップ等を配置した
状態でワイピングガスを吹き付けたとき、ワイピングガ
スが試験用板やストリップ等に衝突したときのストリッ
プの板幅方向に沿った各部位の衝突圧をいうものであ
る。また、吹き出し圧とは、一対のワイピングノズルに
おける主ノズルの先端の長手方向に沿った各部位の圧力
をいうものである。

【００３０】また、吐出圧（Ｐ₀ ）は、ストリップの全
面に付着される溶融金属の種類や、溶融金属膜の厚さ
（又は目付け量という）、ストリップ（又は板という）
の通板速度、ストリップと一対のワイピングノズルとの
間隔（又は距離という）等に応じて、適宜選択されるも
のである。例えば、溶融金属に溶融アルミニウムを適用
した場合、吐出圧（Ｐ₀ ）は、０ｋｇ／ｃｍ² 、又は、
０＜Ｐ₀ ≦１ｋｇ／ｃｍ² の範囲内とされ、溶融金属に
溶融亜鉛を適用した場合は、０ｋｇ／ｃｍ² 、又は、０
＜Ｐ₀ ≦２ｋｇ／ｃｍ² の範囲内とされる。

【００３１】これは、溶融金属膜の目付け量や、ストリ
ップの通板速度、ストリップと一対のワイピングノズル
との距離等にも依るが、溶融金属に溶融アルミニウムを
適用した場合は、吐出圧（Ｐ₀ ）を１ｋｇ／ｃｍ² 以
下、溶融金属に溶融亜鉛を適用した場合は、２ｋｇ／ｃ
ｍ² 以下とすることにより、確実に必要な厚さの溶融金
属膜を得ることができるからである。

【００３２】なお、吐出圧（Ｐ₀ ）が０ｋｇ／ｃｍ² と
は、ワイピングノズルからのワイピングガスの吐出を停
止したことを意味するものであり、換言すると、大気圧
であることを意味するものである。また、溶融金属に
は、亜鉛（Ｚｎ）、錫（Ｓｎ）、鉛（Ｐｂ）、アルミニ
ウム（Ａｌ）等又はこれらの合金（又は混合物）を適用
することができる。さらに、本発明の連続式溶融めっき
におけるワイピングガスの圧力制御方法を適用して製造
されためっき鋼板は、自動車用鋼板や家電用防錆鋼板等
に使用することができる。

【００３３】

【作用】ここで、従来の連続式溶融めっき法の問題点
を、前記実開平２−７８５５８号公報に記載されたワ
イピングノズルを基に要約すると、図７０に示すよう
に、ワイピングガスの吹き出し圧を、ストリップ５１の
ストリップエッジ近傍から両側に向かって大きくした場
合は、ストリップエッジのエッジオーバーコートを防止
することができず、また、図７１に示すように、ストリ
ップエッジより外側におけるワイピングガスの吐出を停
止した場合は、ストリップエッジのスプラッシュを防止
することができないという問題点があった。なお、図７
０、図７１中、符号５９は、補助ノズル５７ｂにワイピ
ングガスを供給するためのガス配管、符号６４は、補助
ノズル５７ｂの所定部を覆って、ワイピングガスの吐出
を停止するためのカバーである。

【００３４】そこで、本発明者等は、鋭意研究を重ね、
図７２〜図７４に示すように、ワイピングガスがストリ
ップ（又は試験用板）に衝突したときの衝突圧を調査し
た結果、ワイピングガスの衝突圧及びその範囲を適宜選
択することにより、ストリップエッジより外側で、ワイ
ピングガス同士の衝突がある程度発生しても、ストリッ
プエッジのワイピングガスの衝突圧の低下を抑制するこ
とが可能で、むしろ、ストリップエッジより外側部分に
適正な衝突圧を持ってワイピングガスを吹き付けること
により、ストリップエッジのエッジオーバーコート及び
スプラッシュを抑制できることが可能であることを知見
し得た。

【００３５】なお、図７２〜図７４中、符号５１ｂは、
所定間隔で点在状に開口５１ｃが設けられた試験用板、
符号５１ｄは、試験用板５１ｂに所定間隔で点在状に設
けられ、ワイピングガスの流れをみるための糸や布等の
タフトである。そして、試験用板５１ｂには、圧力測定
用管６０が設けられ、更に、圧力測定用管６０の一端部
は、圧力センサー６１に連通されている。また、圧力セ
ンサー６１で得られた試験用板５１ｂの各部位の圧力値
は、Ａ／Ｄ変換器６２でディジタル変換された後、いわ
ゆるペンレコーダ等の記録計６３で記録されるようにな
っている。

【００３６】また、本発明者等は、さらに研究を重ねた
結果、ワイピングガスの吐出領域を基準吐出圧域及び背
圧域、又は、基準吐出圧域及び大気圧域に区分すること
ができる（図８、図１５、図１６〜図１９参照）ワイピ
ングノズルを適用して連続式溶融めっきを行った場合、
基準吐出圧域の幅（又はストリップエッジから背圧域ま
での距離：Ｌ₂₁）と、背圧域の吐出圧（吐出圧（Ｐ₀ ）
を１．０としたときの吐出圧という：Ｐ₁ 、Ｐ₂ ）の関
係は、図７５中、（β）で示す範囲とするのが望ましい
ことを知見し得た。すなわち、基準吐出圧域の幅
（Ｌ₂₁）と、背圧域の吐出圧（Ｐ₁ 、Ｐ₂ ）の関係が、
図７５中、（α）で示す範囲になると、図８４を用いて
説明した如く、ワイピングガスが、ストリップに衝突し
た後、ストリップの外側に向かって左（右）方向に流れ
易くなるために、ストリップエッジにスプラッシュが発
生し易くなる一方、基準吐出圧域の幅（Ｌ₂₁）と、背圧
域の吐出圧（Ｐ₁ 、Ｐ₂ ）の関係が、図７５中、（γ）
で示す範囲になると、図８０下段を用いて説明した如
く、ワイピングガスの衝突圧が、ストリップの板幅方向
に沿って、ストリップエッジにいくほど低くなるため
に、ストリップエッジにエッジオーバーコートが発生し
易くなることを知見し得た。

【００３７】また、背圧域の幅（Ｌ₃₁）は、２０ｍｍ以
上とすることにより、オーバーコートやスプラッシュを
抑制したガス流衝突圧域を保持することができることを
知見し得た。また、背圧域の吐出圧（Ｐ₁ 、Ｐ₂ ）は、
基準吐出圧域の幅（Ｌ₂₁）によって定まり、例えば、基
準吐出圧域の幅（Ｌ₂₁）がゼロの場合は、基準吐出圧域
の吐出圧を（Ｐ₀ ）としたとき、背圧域の吐出圧
（Ｐ₂ ）は、前記の理由から、（０．１・Ｐ₀ ）≦Ｐ₂
≦（０．８・Ｐ₀ ）の範囲とするのがよいことを知見し
得た。更に、基準吐出圧域の幅（Ｌ₂₁）が大きくなった
場合、背圧域の吐出圧（Ｐ₁ ）を小さくする必要がある
ことも知見し得た。なお、基準吐出圧域の幅（Ｌ₂₁）が
１００ｍｍを越えると背圧域の効果が小さくなって、図
８４を用いて説明した如く、ワイピングガスが、ストリ
ップに衝突した後、ストリップの外側に向かって左
（右）方向に流れる傾向が現れ、この結果、エッジオー
バーコートを抑制することが困難となることも知見し得
た。

【００３８】更に、ワイピングガスの吐出領域を基準吐
出圧域と背圧域と大気圧域、又は、基準吐出圧域と大気
圧域に区分することができる（図２５、図４０〜図４５
参照）ワイピングノズルを適用して連続式溶融めっきを
行った場合、基準吐出圧域の幅（Ｌ₂₂）と、背圧域の吐
出圧（Ｐ₁ 、Ｐ₃ ）の関係は、図７６中、（ε）で示す
範囲とするのが望ましいことを知見し得た。すなわち、
基準吐出圧域の幅（Ｌ₂₂）と、背圧域の吐出圧（Ｐ₁ 、
Ｐ₃ ）の関係が、図７６中、（δ）で示す範囲になる
と、図８４を用いて説明した如く、ワイピングガスが、
ストリップに衝突した後、ストリップの外側に向かって
左（右）方向に流れ易くなるために、ストリップエッジ
にスプラッシュが発生し易くなる一方、基準吐出圧域の
幅（Ｌ₂₂）と、背圧域の吐出圧（Ｐ₁ 、Ｐ₃ ）の関係
が、図７６中、（ζ）で示す範囲になると、図８０下段
を用いて説明した如く、ワイピングガスの衝突圧が、ス
トリップの板幅方向に沿って、ストリップエッジにいく
ほど低くなるために、ストリップエッジにエッジオーバ
ーコートが発生し易くなることを知見し得た。

【００３９】また、背圧域の幅（Ｌ₄₁）は、２０ｍｍ≦
（Ｌ₄₁）≦１００ｍｍの範囲内、大気圧域の幅（Ｌ₃₁）
は、２０ｍｍ以上とすることにより、オーバーコートや
スプラッシュを抑制したガス流衝突圧域を保持すること
ができることを知見し得た。また、背圧域の吐出圧（Ｐ
₁ 、Ｐ₃ ）は、基準吐出圧域の幅（Ｌ₂₂、Ｌ₄₂）によっ
て定まり、例えば、基準吐出圧域の幅（Ｌ₂₂、Ｌ₄₂）が
ゼロの場合は、前記と同様に、基準吐出圧域の吐出圧を
（Ｐ₀ ）としたとき、背圧域の吐出圧（Ｐ₃ ）は、
（０．２・Ｐ₀ ）≦（Ｐ₃ ）≦（１０・Ｐ₀ ）の範囲内
とするのがよいことを知見し得た。

【００４０】従って、請求項１、７記載の連続式溶融め
っきにおけるワイピングガスの圧力制御方法において
は、従来、ストリップエッジにいくほど、衝突圧が低く
なると共に、ワイピングガス同士の衝突によってガス流
が乱れる結果、ストリップエッジでの衝突圧が低下して
ストリップエッジにエッジオーバーコートが発生してい
たが、ワイピングガスの吐出領域を、ストリップの板幅
（Ｌ₁ ）の両側に、その両端からそれぞれ１００ｍｍ未
満の幅（Ｌ₂₁）を加えた幅（Ｌ₁ ＋２・Ｌ₂₁）を持っ
て、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出
し、ストリップの表裏面の溶融金属膜のワイピングを行
う基準吐出圧域と、基準吐出圧域の両側に、その両端か
らそれぞれ２０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を持って、吐出圧
（Ｐ₀ ）より低くかつ大気圧を越える吐出圧（Ｐ₁ ）で
ワイピングガスを吹き出す背圧域とに区分したことによ
り、ワイピングガス同士の衝突による流れの乱れを防止
することができると共に、ストリップエッジの衝突圧の
低下を防止することができ、この結果、エッジオーバー
コートを防止することができる。また、従来、ストリッ
プの外側方向にガスが流れ易く、この流れによってスプ
ラッシュが発生していたが、前記のようなワイピングガ
スの吐出領域としたことにより、ストリップの外側方向
に向かうガス流を抑制することができ、この結果、スプ
ラッシュを防止することができる。さらに、ストリップ
表裏面におけるワイピングガスの衝突圧を、ストリップ
の板幅方向に沿って同一とすることができるので、スト
リップ表裏面の筋むらや外観むらを防止することができ
る。また、基準吐出圧域の両側部の吐出圧（Ｐ₀ ）を徐
々に（又は緩やかに）高くした場合も、ストリップ表裏
面の筋むらや外観むらを防止することができる。

【００４１】請求項２、７記載の連続式溶融めっきにお
けるワイピングガスの圧力制御方法においては、ワイピ
ングガスの吐出領域を、ストリップの板幅（Ｌ₁ ）の両
側に、その両端からそれぞれ５０ｍｍ以上１００ｍｍ以
下の幅（Ｌ₂₁）を加えた幅（Ｌ₁ ＋２・Ｌ₂₁）を持っ
て、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出
し、ストリップの表裏面の溶融金属膜のワイピングを行
う基準吐出圧域とし、基準吐出圧域の両側に、その両端
からそれぞれ２０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を有する大気圧
域を設けたことにより、前記と同様に、従来、ストリッ
プの両端部に発生していたエッジオーバーコートやスプ
ラッシュ、筋むら、外観むらを防止することができる。

【００４２】請求項３記載の連続式溶融めっきにおける
ワイピングガスの圧力制御方法においては、ワイピング
ガスの吐出領域を、ストリップの板幅（Ｌ₁ ）を持っ
て、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出
し、ストリップの表裏面の溶融金属膜のワイピングを行
う基準吐出圧域と、基準吐出圧域の両側に、その両端か
らそれぞれ２０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を持って、（０．
１・Ｐ₀ ）≦（Ｐ₂ ）≦（０．８・Ｐ₀ ）の吐出圧（Ｐ
₂ ）でワイピングガスを吹き出し、ストリップの両端の
ガス流を整える背圧域とに区分したことにより、前記と
同様に、従来、ストリップの両端部に発生していたエッ
ジオーバーコートやスプラッシュ、筋むら、外観むらを
防止することができる。

【００４３】請求項４、７記載の連続式溶融めっきにお
けるワイピングガスの圧力制御方法においては、ワイピ
ングガスの吐出領域を、ストリップの板幅（Ｌ₁ ）の両
側に、その両端からそれぞれ２００ｍｍ未満の幅
（Ｌ₂₂）を加えた幅（Ｌ₁ ＋２・Ｌ₂₂）を持って、所定
の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出し、ストリ
ップの表裏面の溶融金属膜のワイピングを行う基準吐出
圧域と、基準吐出圧域の両側に、その両端からそれぞれ
２０ｍｍ以上１００ｍｍ以下の幅（Ｌ₄₁）を持って、吐
出圧（Ｐ₀ ）より低く大気圧を越える吐出圧（Ｐ₁ ）で
ワイピングガスを吹き出す背圧域とに区分し、背圧域の
両側に、その両端からそれぞれ２０ｍｍ以上の幅
（Ｌ₃₁）を有する大気圧域を設けたことにより、前記と
同様に、従来、ストリップの両端部に発生していたエッ
ジオーバーコートやスプラッシュ、筋むら、外観むらを
防止することができる。

【００４４】請求項５、７記載の連続式溶融めっきにお
けるワイピングガスの圧力制御方法においては、ワイピ
ングガスの吐出領域を、ストリップの板幅（Ｌ₁ ）の両
側に、その両端からそれぞれ１００ｍｍ以上２００ｍｍ
以下の幅（Ｌ₄₂）を加えた幅（Ｌ₁ ＋２・Ｌ₄₂）を持っ
て、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出
し、ストリップの表裏面の溶融金属膜のワイピングを行
う基準吐出圧域とし、基準吐出圧域の両側に、その両端
からそれぞれ４０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₂）を有する大気圧
域を設けたことにより、前記と同様に、従来、ストリッ
プの両端部に発生していたエッジオーバーコートやスプ
ラッシュ、筋むら、外観むらを防止することができる。

【００４５】請求項６記載の連続式溶融めっきにおける
ワイピングガスの圧力制御方法においては、ワイピング
ガスの吐出領域を、ストリップの板幅（Ｌ₁ ）を持っ
て、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出
し、ストリップの表裏面の溶融金属膜のワイピングを行
う基準吐出圧域と、基準吐出圧域の両側に、その両端か
らそれぞれ２０ｍｍ以上１００ｍｍ以下の幅（Ｌ₄₁）を
持って、（０．２・Ｐ₀ ）以上の吐出圧（Ｐ₃ ）でワイ
ピングガスを吹き出し、ストリップの両端のガス流を整
える背圧域とに区分し、背圧域の両側に、その両端から
それぞれ２０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を有する大気圧域を
設けたことにより、前記と同様に、従来、ストリップの
両端部に発生していたエッジオーバーコートやスプラッ
シュ、筋むら、外観むらを防止することができる。

【００４６】特に、請求項７記載の連続式溶融めっきに
おけるワイピングガスの圧力制御方法においては、基準
吐出圧域の吐出圧（Ｐ₀ ）を、その両側部で高くしたこ
とにより、従来、ストリップの両端部に発生していたエ
ッジオーバーコートを積極的に防止することができる。
また、基準吐出圧域の両側部の吐出圧（Ｐ₀ ）を徐々に
（又は緩やかに）高くすれば、ストリップ表裏面の筋む
らや外観むらを防止することができる。

【００４７】請求項８、９記載の連続式溶融めっきにお
けるワイピングガスの圧力制御方法に用いるワイピング
ノズルにおいては、溶融金属浴を通過したストリップと
の対向部に、ストリップの板幅方向に沿って、所定の間
隙を持って形成された主スリットを備えた主ノズルと、
主ノズル内に、隙間を有して移動可能に配置され、スリ
ットに方向を合わせた補助スリットを備えた補助ノズル
と、取付け取り外し可能に装着され、補助ノズルの補助
スリットの一部又は全部を閉塞する補助スリット用盲板
とを有することにより、ワイピングガスの吐出領域を、
基準吐出圧域、及び、背圧域等に区分することができ
る。

【００４８】特に、請求項９記載の連続式溶融めっきに
おけるワイピングガスの圧力制御方法に用いるワイピン
グノズルにおいては、盲板には主ノズルの主スリット及
び補助ノズルの補助スリットを閉塞する主補スリット用
盲板が設けられたことにより、ワイピングガスの吐出領
域を、基準吐出圧域、背圧域、大気圧域等に区分するこ
とができる。

【００４９】

【発明の効果】以上のように、請求項１〜７記載の連続
式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法に
おいては、ストリップエッジにおけるワイピングガスの
衝突圧の低下及びストリップエッジにおけるワイピング
ガスの外側方向への流れを防止して、従来、ストリップ
エッジに発生していたエッジオーバーコートやスプラッ
シュを防止することができると共に、ストリップ表裏面
の筋むらや外観むらを防止することができ、この結果、
テンションリールで巻き取られたコイルを鼓状とするの
を防止することができ、信頼性に優れた連続式溶融めっ
き法を実現することができる。

【００５０】特に、請求項７記載の連続式溶融めっきに
おけるワイピングガスの圧力制御方法においては、ワイ
ピングガスの吐出領域を、基準吐出圧域、及び、背圧域
等に区分することができるので、従来、ストリップの両
端部に発生していたエッジオーバーコートを積極的に防
止することができるので、更に確実に、エッジオーバー
コートを防止することができる。

【００５１】一方、請求項８、９記載の連続式溶融めっ
きにおけるワイピングガスの圧力制御方法に用いるワイ
ピングノズルにおいては、従来、ストリップエッジに発
生していたエッジオーバーコートやスプラッシュ、筋む
ら、外観むらを防止することができる。

【００５２】特に、請求項９記載の連続式溶融めっきに
おけるワイピングガスの圧力制御方法に用いるワイピン
グノズルにおいては、ワイピングガスの吐出領域を、基
準吐出圧域、背圧域、大気圧域等に区分することができ
るので、従来、ストリップエッジに発生していたエッジ
オーバーコートやスプラッシュ、筋むら、外観むらを防
止することができる。

【００５３】

【発明の実施の形態】続いて、添付した図面を参照しつ
つ、本発明を具体化した実施の形態につき説明し、本発
明の理解に供する。なお、各実施の形態において同様の
構成のものについては同一の符号を付して説明を省略す
る。また、図８、図１５〜図１９、図２５、図４０〜図
６３、図６６〜図６９中、符号ＳＥは、ストリップエッ
ジである。

【００５４】まず、本発明の第１の実施の形態に係る連
続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法
に用いるワイピングノズルについて説明する。図１〜図
７に示すように、本発明の第１の実施の形態に係る連続
式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法に
用いるワイピングノズル１０は、ストリップ１６との対
向部に主スリット１１ｂが形成された主ノズル１１と、
主ノズル１１内で、主スリット１１ｂの長手方向に沿っ
て、移動可能に支持された補助ノズル１２と、補助ノズ
ル１２の補助スリット１２ｂの一部又は全部を閉塞する
ための補助スリット用盲板１４ａとを有するものであ
る。以下、これらについて詳しく説明する。

【００５５】まず、主ノズル１１について説明する。こ
の主ノズル１１は、側面視してホームベース状に形成さ
れると共に、その尖頭部１１ａをストリップ１６に向け
て配置されている（図５〜図７参照）。また、尖頭部１
１ａには、主ノズル１１の長手方向に沿って、正面視し
てほぼ矩形状のスリット（以下主スリットという）１１
ｂが形成されている（図１参照）。すなわち、主スリッ
ト１１ｂは、主ノズル１１の長手方向に沿って、同じ開
口幅（ｔ₁ ）を持って形成されている。そして、主ノズ
ル１１は、ストリップ１６の板幅（Ｌ₁ ：図４６、図４
７参照））より長尺な長さを持って形成されることによ
り、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出す
ことができるようになっている。

【００５６】また、図５〜図７に示すように、主ノズル
１１内の尖頭部１１ａ側には、主スリット１１ｂに連通
すると共に、主ノズル１１の長手方向に沿って、側面視
してほぼホームベース状のガス吐出圧調整室１１ｃが形
成されている。更に、ガス吐出圧調整室１１ｃの上部後
方には、このガス吐出圧調整室１１ｃに連通すると共
に、主ノズル１１の長手方向に沿って、側面視してほぼ
矩形状の補助ノズル支持案内室１１ｄが形成されてい
る。また、補助ノズル支持案内室１１ｄの上面には、主
ノズル１１の長手方向に沿って、側面視してほぼ逆凹字
状のスライドレール１１ｈが取付けられ、さらに、この
スライドレール１１ｈには、側面視してほぼ鉤状のスラ
イダ１１ｉが、スライドレール１１ｈの長手方向に沿っ
て（又は主ノズル１１の長手方向に沿って）、摺動可能
に取付けられている。また、スライダ１１ｉの上部近傍
には、雌ねじ部１１ｊが形成され、この雌ねじ部１１ｊ
には、主ノズル１１の長手方向両端の内壁に、それぞれ
両端部が、軸支された送りねじ（又はボールねじとい
う）１１ｋが螺合されている。また、送りねじ１１ｋの
一端部には、この送りねじ１１ｋを所定方向に所定角度
回転させるための回転駆動手段（図示せず）が連結され
ている。

【００５７】一方、ガス吐出圧調整室１１ｃの後方で、
かつ、補助ノズル支持案内室１１ｄの下方には、ガス吐
出圧調整室１１ｃ、及び、補助ノズル支持案内室１１ｄ
に、それぞれ連通して、主ノズル１１の長手方向に沿っ
て、側面視してほぼ矩形状の、ガス供給圧調整室（又は
ヘッダー機構という）１１ｅが形成されている。また、
ガス供給圧調整室１１ｅの、補助ノズル支持案内室１１
ｄと連通する上部には、蓋板１１ｍがボルト等の締結具
（図示せず）で取付けられている。これにより、ガス供
給装置（図示せず）から、ガス供給管１７を通って、ガ
ス吐出圧調整室１１ｃに供給されるガスの圧力を、主ノ
ズル１１の長手方向に沿って、均一にすることができ
る。なお、図５〜図７中、符号１１ｆは、ガス供給装置
のガス供給管１７と、ガス供給圧調整室１１ｅを連通す
る上流側供給路であり、符号１１ｇは、ガス供給圧調整
室１１ｅとガス吐出圧調整室１１ｃを連通する下流側供
給路である。

【００５８】続いて、補助ノズル１２について説明す
る。この補助ノズル１２は、側面視して、主ノズル１１
のガス吐出圧調整室１１ｃより小さな、ほぼホームベー
ス状に形成されている。また、補助ノズル１２は、主ノ
ズル１１の長手方向の長さより、短尺に形成されてい
る。また、補助ノズル１２の、主スリット１１ｂと対向
する尖頭部１２ａには、補助ノズル１２の長手方向に沿
って（又は主スリット１１ｂの長手方向に沿って）、正
面視してほぼ矩形状のスリット（以下補助スリットとい
う）１２ｂが形成されている（図２、図６、図７参
照）。すなわち、補助スリット１２ｂは、補助ノズル１
２の長手方向に沿って、同じ開口幅（ｔ₂ ）を持って形
成されている。更に、補助ノズル１２内には、補助スリ
ット１２ｂに連通して、ガス供給室１２ｃがほぼ中空状
に形成されている。また、補助ノズル１２の長手方向の
一側壁には、ガス供給用配管１３が連通され、補助ノズ
ル１２内にガスを供給することができるようになってい
る（図１、図２、図４参照）。

【００５９】そして、補助ノズル１２は、スライダ１１
ｉの下端前方に取付けられることにより、主ノズル１１
のガス吐出圧調整室１１ｃ内に、このガス吐出圧調整室
１１ｃと、図６、図７中、符号Ｗで示す、すきまを持っ
て、主ノズル１１の長手方向に沿って、移動可能に支持
されている。これにより、上流側供給路１１ｆ、ガス供
給圧調整室１１ｅ、及び、下流側供給路１１ｇを、順次
通って供給されたワイピングガスの吐出圧を、前記すき
まＷで、調整できるようになっている。

【００６０】そして、補助ノズル１２の補助スリット１
２ｂには、ほぼ平板状の補助スリット用盲板１４ａが、
取付けられるようになっている。

【００６１】なお、本発明の第１の実施の形態に係る連
続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法
に用いるワイピングノズル１０を適用した連続式溶融め
っき法は、従来の連続式溶融めっき法と同様なものなの
で、説明を省略し、ここでは、本発明の第１の実施の形
態に係る連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧
力制御方法について説明する。

【００６２】なお、溶融金属浴（図示せず）の上方に
は、ストリップ１６の位置を監視するための光センサー
等のセンサー（図示せず）が、ストリップ１６の板幅方
向に沿って配置され、各センサーからの出力値が制御部
（図示せず）に入力されるようになっている。そして、
制御部は、センサーからの出力値に基づいて、前記回転
駆動手段を所定方向に所定角度回転させて、補助ノズル
１２を移動させることにより、ストリップ１６の板幅方
向の動きに応じて、所定のワイピングガスの圧力分布を
追従させるための、位置制御信号を出力できるようにな
っている。これにより、常に、ストリップ１６に対し
て、所定の圧力分布を持って、ワイピングガスを吐出で
きるようになっている。また、図４に示すように、補助
ノズル１２の補助スリット１２ｂの所定部には、補助ス
リット用盲板１４ａが挟み込まれている。

【００６３】これにより、図４中、Ａ−Ａ部では、図５
に示すように、ガス供給装置から供給されるワイピング
ガスは、ガス供給管１７、上流側供給路１１ｆを通っ
て、ガス供給圧調整室１１ｅに供給されて、調圧された
後、下流側供給路１１ｇ、ガス吐出圧調整室１１ｃ、主
スリット１１ｂを通って、ストリップ１６に、所定の吐
出圧（Ｐ₀ ）で吹き付けられる。

【００６４】また、図４中、Ｂ−Ｂ部では、図６に示す
ように、ガス供給装置から供給されるワイピングガス
は、ガス供給管１７、上流側供給路１１ｆを通って、ガ
ス供給圧調整室１１ｅに供給されて、調圧された後、下
流側供給路１１ｇ、ガス吐出圧調整室１１ｃと補助ノズ
ル１２のすきまＷ、主スリット１１ｂを通って、ストリ
ップ１６に、所定の吐出圧（Ｐ₁ ）で、吹き付けられる
（図４参照）。また一方、他のガス供給装置から、ガス
供給用配管１３を通って、補助ノズル１２のガス供給室
１２ｃに供給されたワイピングガスは、補助スリット１
２ｂ、主スリット１１ｂを通って、ストリップ１６に、
所定の吐出圧（Ｐ₀₃）で、吹き付けられる（図４参
照）。これにより、図４中、Ｂ−Ｂ部のワイピングガス
の吐出圧は、補助ノズル１２によって、ガス吐出圧調整
室１１ｃの内容積が低減されているが、補助ノズル１２
の、補助スリット１２ｂから、ワイピングガスが吹き付
けられることにより、図４中、Ａ−Ａ部の、吐出圧（Ｐ
₀ ）と同じ、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）で吹き付けられるこ
とになる。

【００６５】また、図４中、Ｃ−Ｃ部では、図７に示す
ように、ガス供給装置から供給されるワイピングガス
は、ガス供給管１７、上流側供給路１１ｆを通って、ガ
ス供給圧調整室１１ｅに供給されて、調圧された後、下
流側供給路１１ｇ、ガス吐出圧調整室１１ｃと補助ノズ
ル１２のすきまＷ、主スリット１１ｂを通って、ストリ
ップ１６に、所定の吐出圧（Ｐ₁ ）で、吹き付けられ
る。一方、他のガス供給装置から、ガス供給用配管１３
を通って、補助ノズル１２のガス供給室１２ｃに供給さ
れたワイピングガスは、補助スリット１２ｂが補助スリ
ット用盲板１４ａで閉塞されているために、吐出される
ことはない。従って、図４中、Ｃ−Ｃ部のワイピングガ
スの吐出圧は、他のガス供給装置から供給されるワイピ
ングガスの吐出がないために、図４中、Ａ−Ａ部、及
び、Ｂ−Ｂ部の、吐出圧（Ｐ₀ ）より低く、かつ大気圧
より高い、所定の吐出圧（Ｐ₁）で吹き付けられること
になる。

【００６６】これにより、図８に示すように、ストリッ
プ１６の板幅（Ｌ₁ ）の両側に、その両端からそれぞれ
１００ｍｍ未満の幅（Ｌ₂₁）を加えた幅（Ｌ₁ ＋２・Ｌ
₂₁）を持って、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガス
を吹き出し、ストリップ１６の表裏面の溶融金属膜のワ
イピングを行う基準吐出圧域と、基準吐出圧域の両側
に、その両端からそれぞれ２０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を
持って、吐出圧（Ｐ₀ ）より低くかつ大気圧を越える、
所定の吐出圧（Ｐ₁ ）でワイピングガスを吹き出す背圧
域とに区分することができる。

【００６７】以上のように本発明によれば、補助ノズル
１２の補助スリット１２ｂを閉塞するための補助スリッ
ト用盲板１４ａを備えたので、ワイピングノズル１０か
らストリップ１６に吹き付けられるワイピングガスの吐
出圧を、図８に示すように、ストリップ１６の板幅（Ｌ
₁ ）の両側に、その両端からそれぞれ１００ｍｍ未満の
幅（Ｌ₂₁）を加えた幅（Ｌ₁ ＋２・Ｌ₂₁）を持って、所
定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出し、スト
リップ１６の表裏面の溶融金属膜のワイピングを行う基
準吐出圧域と、基準吐出圧域の両側に、その両端からそ
れぞれ２０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を持って、吐出圧（Ｐ
₀ ）より低くかつ大気圧を越える、所定の吐出圧
（Ｐ₁ ）でワイピングガスを吹き出す背圧域とに区分す
ることができ、この結果、ストリップ１６のエッジのエ
ッジオーバーコートやスプラッシュを防止することがで
きる。また、ストリップ１６の表裏面におけるワイピン
グガスの吐出圧を、ストリップの板幅方向に沿って同一
とすることができるので、ストリップ１６の表裏面の筋
むらや外観むらを防止することができる。

【００６８】続いて、本発明の第２の実施の形態に係る
連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方
法について説明する。まず、本発明の第２の実施の形態
に係る連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力
制御方法に用いるワイピングノズルについて説明する。
本発明の第２の実施の形態に係る連続式溶融めっきにお
けるワイピングガスの圧力制御方法に用いるワイピング
ノズル２０が、本発明の第１の実施の形態に係る連続式
溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法に用
いるワイピングノズル１０と異なるのは、図９〜図１１
に示すように、補助ノズル２２の補助スリット２２ｂ
が、補助ノズル２２の長手方向に沿って、正面視してほ
ぼ三角形状に（換言すると、補助ノズル２２の長手方向
に沿って、開口幅（ｔ₂ ）を変化させて）形成された点
と、補助スリット２２ｂの一部、又は、全部を閉塞する
ための、正面視してほぼ台形状、又は、三角形状の補助
スリット用盲板２４ａ、２４ｂを備えた点である。

【００６９】なお、本発明の第２の実施の形態に係る連
続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法
に用いるワイピングノズル２０を適用した連続式溶融め
っき法は、本発明の第１の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法に用いる
ワイピングノズル１０を適用した連続式溶融めっき法と
同様なものなので、説明を省略し、ここでは、本発明の
第２の実施の形態に係る連続式溶融めっきにおけるワイ
ピングガスの圧力制御方法について説明する。なお、図
１２に示すように、補助ノズル２２の補助スリット２２
ｂの所定部には、補助スリット用盲板２４ａが挟み込ま
れている。

【００７０】これにより、図１２中、Ａ−Ａ部では、前
記と同様に、ガス供給装置から供給されるワイピングガ
スは、ガス供給管１７、上流側供給路１１ｆを通って、
ガス供給圧調整室１１ｅに供給されて、調圧された後、
下流側供給路１１ｇ、ガス吐出圧調整室１１ｃ、主スリ
ット１１ｂを通って、ストリップ１６に、所定の吐出圧
（Ｐ₀ ）で吹き付けられる（図５参照）。

【００７１】また、図１２中、Ｄ−Ｄ部では、図１３に
示すように、ガス供給装置から供給されるワイピングガ
スは、ガス供給管１７、上流側供給路１１ｆを通って、
ガス供給圧調整室１１ｅに供給されて、調圧された後、
下流側供給路１１ｇ、ガス吐出圧調整室１１ｃと補助ノ
ズル２２のすきまＷ、主スリット１１ｂを通って、スト
リップ１６に、所定の吐出圧（Ｐ₁ ）で、吹き付けられ
る。また一方、他のガス供給装置から、ガス供給用配管
１３を通って、補助ノズル２２のガス供給室１２ｃに供
給されたワイピングガスは、補助スリット２２ｂ、主ス
リット１１ｂを通って、ストリップ１６に、所定の吐出
圧（Ｐ₀₄）で、吹き付けられる。これにより、図１２
中、Ｄ−Ｄ部のワイピングガスの吐出圧は、補助ノズル
２２によって、ガス吐出圧調整室１１ｃの内容積が低減
されるが、補助ノズル２２の、補助スリット２２ｂか
ら、ワイピングガスが吹き付けられることにより、図１
２中、Ａ−Ａ部の、吐出圧（Ｐ₀ ）以上の高い吐出圧
（Ｐ₀₁′）で吹き付けられることになる。なお、該基準
吐出圧域の両端部の吐出圧は、ストリップエッジから離
間するに連れて高くなっている。また、図１５中、符号
（Ｐ₀₁）は、基準吐出圧域の最大吐出圧である。

【００７２】また、図１２中、Ｅ−Ｅ部では、図１４に
示すように、ガス供給装置から供給されるワイピングガ
スは、ガス供給管１７、上流側供給路１１ｆを通って、
ガス供給圧調整室１１ｅに供給されて、調圧された後、
下流側供給路１１ｇ、ガス吐出圧調整室１１ｃと補助ノ
ズル２２のすきまＷ、主スリット１１ｂを通って、スト
リップ１６に、所定の吐出圧（Ｐ₁ ）で、吹き付けられ
る。一方、他のガス供給装置から、ガス供給用配管１３
を通って、補助ノズル２２のガス供給室１２ｃに供給さ
れたワイピングガスは、補助スリット２２ｂが補助スリ
ット用盲板２４ａで閉塞されているために、吐出される
ことはない。従って、図１２中、Ｅ−Ｅ部のワイピング
ガスの吐出圧は、他のガス供給装置から供給されるワイ
ピングガスの吐出がないために、図１２中、Ａ−Ａ部の
吐出圧（Ｐ₀ ）、及び、Ｄ−Ｄ部の吐出圧（Ｐ₀₁）より
低く、かつ大気圧より高い、所定の吐出圧（Ｐ₁ ）で吹
き付けられることになる。

【００７３】これにより、図１５に示すように、ストリ
ップ１６の板幅（Ｌ₁ ）の両側に、その両端からそれぞ
れ１００ｍｍ未満の幅（Ｌ₂₁）を加えた幅（Ｌ₁ ＋２・
Ｌ₂₁）を持って、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガ
スを吹き出し、ストリップ１６の表裏面の溶融金属膜の
ワイピングを行う基準吐出圧域と、基準吐出圧域の両側
に、その両端からそれぞれ２０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を
持って、吐出圧（Ｐ₀）より低くかつ大気圧を越える、
所定の吐出圧（Ｐ₁ ）でワイピングガスを吹き出す背圧
域とに区分することができる。さらに、基準吐出圧域の
吐出圧（Ｐ₀ ）を、その両側部で高くすることができ
る。

【００７４】以上のように本発明によれば、補助ノズル
２２の補助スリット２２ｂを閉塞するための補助スリッ
ト用盲板２４ａを備えたので、ワイピングノズル２０か
らストリップ１６に吹き付けられるワイピングガスの吐
出圧を、図１５に示すように、本発明の第１の実施の形
態に係る連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧
力制御方法に用いるワイピングノズル１０と同様な圧力
分布を生じさせることができると共に、さらに、基準吐
出圧域の吐出圧（Ｐ₀ ）を、その両側部で高くすること
ができるので、この結果、本発明の第１の実施の形態に
係る連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制
御方法と同様に、スリットエッジにおけるエッジオーバ
ーコートやスプラッシュを防止することができる。さら
に、前記の如く、基準吐出圧域の両側部で吐出圧
（Ｐ₀ ）を高くすることができるので、ストリップ１６
のエッジオーバーコートを積極的に防止することができ
る。また、基準吐出圧域の両側部の吐出圧（Ｐ₀ ）を徐
々に（又は緩やかに）高くしたので、ストリップ１６の
表裏面の筋むらや外観むらを防止することができる。

【００７５】続いて、本発明の第３の実施の形態に係る
連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方
法について説明する。なお、本発明の第３の実施の形態
に係る連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力
制御方法に用いるワイピングノズル、及び、同ワイピン
グノズルを適用した連続式溶融めっき法は、本発明の第
１の実施の形態に係る連続式溶融めっきにおけるワイピ
ングガスの圧力制御方法に用いるワイピングノズル１
０、及び、同ワイピングノズル１０を適用した連続式溶
融めっき法と同様なものなので、説明を省略し、ここで
は、本発明の第３の実施の形態に係る連続式溶融めっき
におけるワイピングガスの圧力制御方法について説明す
る。

【００７６】本発明の第３の実施の形態に係る連続式溶
融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法が、本
発明の第１の実施の形態に係る連続式溶融めっきにおけ
るワイピングガスの圧力制御方法と異なるのは、図１６
に示すように、ストリップ１６の板幅（Ｌ₁ ）の両側
に、その両端からそれぞれ５０ｍｍ以上１００ｍｍ以下
の幅（Ｌ₂₁）を加えた幅（Ｌ₁ ＋２・Ｌ₂₁）を持って、
所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出し、ス
トリップ１６の表裏面の溶融金属膜のワイピングを行う
基準吐出圧域とし、基準吐出圧域の両側に、その両端か
らそれぞれ２０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を有する大気圧域
を設けた点である。

【００７７】以上のように本発明によれば、ストリップ
１６の板幅（Ｌ₁ ）の両側に、その両端からそれぞれ５
０ｍｍ以上１００ｍｍ以下の幅（Ｌ₂₁）を加えた幅（Ｌ
₁ ＋２・Ｌ₂₁）を持って、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイ
ピングガスを吹き出し、ストリップ１６の表裏面の溶融
金属膜のワイピングを行う基準吐出圧域とし、基準吐出
圧域の両側に、その両端からそれぞれ２０ｍｍ以上の幅
（Ｌ₃₁）を有する大気圧域を設けることができ、この結
果、ストリップエッジのエッジオーバーコートやスプラ
ッシュを防止することができる。また、ストリップ１６
の表裏面におけるワイピングガスの吐出圧を、ストリッ
プの板幅方向に沿って同一とすることができるので、ス
トリップ１６の表裏面の筋むらや外観むらを防止するこ
とができる。

【００７８】続いて、本発明の第４の実施の形態に係る
連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方
法について説明する。なお、本発明の第４の実施の形態
に係る連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力
制御方法に用いるワイピングノズル、及び、同ワイピン
グノズルを適用した連続式溶融めっき法は、本発明の第
２の実施の形態に係る連続式溶融めっきにおけるワイピ
ングガスの圧力制御方法に用いるワイピングノズル２
０、及び、同ワイピングノズル２０を適用した連続式溶
融めっき法と同様なものなので、説明を省略し、ここで
は、本発明の第４の実施の形態に係る連続式溶融めっき
におけるワイピングガスの圧力制御方法について説明す
る。

【００７９】本発明の第４の実施の形態に係る連続式溶
融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法が、本
発明の第２の実施の形態に係る連続式溶融めっきにおけ
るワイピングガスの圧力制御方法と異なるのは、図１７
に示すように、ストリップ１６の板幅（Ｌ₁ ）の両側
に、その両端からそれぞれ５０ｍｍ以上１００ｍｍ以下
の幅（Ｌ₂₁）を加えた幅（Ｌ₁ ＋２・Ｌ₂₁）を持って、
所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出し、ス
トリップ１６の表裏面の溶融金属膜のワイピングを行う
基準吐出圧域とし、基準吐出圧域の両側に、その両端か
らそれぞれ２０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を有する大気圧域
を設けた点と、基準吐出圧域の吐出圧（Ｐ₀ ）を、その
両側部で高くした点である。なお、図１７中、符号（Ｐ
₀₁）は、基準吐出圧域の最大吐出圧である。

【００８０】以上のように本発明によれば、ストリップ
１６の板幅（Ｌ₁ ）の両側に、その両端からそれぞれ５
０ｍｍ以上１００ｍｍ以下の幅（Ｌ₂₁）を加えた幅（Ｌ
₁ ＋２・Ｌ₂₁）を持って、ストリップ１６の主要部分
に、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出す
と共に、ストリップ１６のストリップエッジ近傍を含む
両側部で吐出圧（Ｐ₀ ）を高くして、ストリップ１６の
表裏面の溶融金属膜のワイピングを行う基準吐出圧域と
し、基準吐出圧域の両側に、その両端からそれぞれ２０
ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を有する大気圧域を設けることが
でき、この結果、ストリップ１６のエッジのエッジオー
バーコートやスプラッシュを防止することができる。さ
らに、基準吐出圧域の両側部で吐出圧（Ｐ₀ ）を高くす
ることができるので、ストリップ１６のエッジオーバー
コートを積極的に防止することができる。また、基準吐
出圧域の両側部の吐出圧（Ｐ₀ ）を徐々に（又は緩やか
に）高くしたので、ストリップ１６の表裏面の筋むらや
外観むらを防止することができる。

【００８１】続いて、本発明の第５の実施の形態に係る
連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方
法について説明する。なお、本発明の第５の実施の形態
に係る連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力
制御方法に用いるワイピングノズル、及び、同ワイピン
グノズルを適用した連続式溶融めっき法は、本発明の第
１の実施の形態に係る連続式溶融めっきにおけるワイピ
ングガスの圧力制御方法に用いるワイピングノズル１
０、及び、同ワイピングノズル１０を適用した連続式溶
融めっき法と同様なものなので、説明を省略し、ここで
は、本発明の第５の実施の形態に係る連続式溶融めっき
におけるワイピングガスの圧力制御方法について説明す
る。

【００８２】本発明の第５の実施の形態に係る連続式溶
融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法が、本
発明の第１の実施の形態に係る連続式溶融めっきにおけ
るワイピングガスの圧力制御方法と異なるのは、図１８
に示すように、ストリップ１６の板幅（Ｌ₁ ）を持っ
て、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出
し、ストリップ１６の表裏面の溶融金属膜のワイピング
を行う基準吐出圧域と、基準吐出圧域の両側に、その両
端からそれぞれ２０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を持って、
（０．１・Ｐ₀ ）≦Ｐ₂ ≦（０．８・Ｐ₀ ）の吐出圧
（Ｐ₂ ）でワイピングガスを吹き出し、ストリップ１６
の両端のガス流を整える背圧域とに区分した点である。

【００８３】以上のように本発明によれば、ストリップ
１６の板幅（Ｌ₁ ）を持って、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）で
ワイピングガスを吹き出し、ストリップ１６の表裏面の
溶融金属膜のワイピングを行う基準吐出圧域と、基準吐
出圧域の両側に、その両端からそれぞれ２０ｍｍ以上の
幅（Ｌ₃₁）を持って、（０．１・Ｐ₀ ）≦Ｐ₂ ≦（０．
８・Ｐ₀ ）の吐出圧（Ｐ₂ ）でワイピングガスを吹き出
し、ストリップ１６の両端のガス流を整える背圧域とに
区分することができ、この結果、ストリップ１６のエッ
ジのエッジオーバーコートやスプラッシュを防止するこ
とができる。また、ストリップ１６の表裏面におけるワ
イピングガスの吐出圧を、ストリップの板幅方向に沿っ
て同一とすることができるので、ストリップ１６の表裏
面の筋むらや外観むらを防止することができる。

【００８４】続いて、本発明の第６の実施の形態に係る
連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方
法について説明する。なお、本発明の第６の実施の形態
に係る連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力
制御方法に用いるワイピングノズル、及び、同ワイピン
グノズルを適用した連続式溶融めっき法は、本発明の第
２の実施の形態に係る連続式溶融めっきにおけるワイピ
ングガスの圧力制御方法に用いるワイピングノズル２
０、及び、同ワイピングノズル２０を適用した連続式溶
融めっき法と同様なものなので、説明を省略し、ここで
は、本発明の第６の実施の形態に係る連続式溶融めっき
におけるワイピングガスの圧力制御方法について説明す
る。

【００８５】本発明の第６の実施の形態に係る連続式溶
融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法が、本
発明の第２の実施の形態に係る連続式溶融めっきにおけ
るワイピングガスの圧力制御方法と異なるのは、図１９
に示すように、ストリップ１６の板幅（Ｌ₁ ）を持っ
て、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出
し、ストリップ１６の表裏面の溶融金属膜のワイピング
を行う基準吐出圧域と、基準吐出圧域の両側に、その両
端からそれぞれ２０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を持って、
（０．１・Ｐ₀ ）≦Ｐ₂ ≦（０．８・Ｐ₀ ）の吐出圧
（Ｐ₂ ）でワイピングガスを吹き出し、ストリップ１６
の両端のガス流を整える背圧域とに区分した点と、基準
吐出圧域の吐出圧（Ｐ₀ ）を、その両側部で高くした点
である。なお、図１９中、符号（Ｐ₀₂）は、基準吐出圧
域の最大吐出圧である。

【００８６】以上のように本発明によれば、ストリップ
１６の板幅（Ｌ₁ ）を持って、ストリップ１６の主要部
分に、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出
すと共に、ストリップ１６の両側部で吐出圧（Ｐ₀ ）を
高くして、ストリップ１６の表裏面の溶融金属膜のワイ
ピングを行う基準吐出圧域と、基準吐出圧域の両側に、
その両端からそれぞれ２０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を持っ
て、（０．１・Ｐ₀ ）≦Ｐ₂ ≦（０．８・Ｐ₀ ）の吐出
圧（Ｐ₂ ）でワイピングガスを吹き出し、ストリップ１
６の両端のガス流を整える背圧域とに区分することがで
き、この結果、ストリップ１６のエッジのエッジオーバ
ーコートやスプラッシュを防止することができる。さら
に、基準吐出圧域の両側部で吐出圧（Ｐ₀ ）を高くして
いるので、ストリップ１６のエッジオーバーコートを積
極的に防止することができる。また、基準吐出圧域の両
側部の吐出圧（Ｐ₀ ）を徐々に（又は緩やかに）高くし
たので、ストリップ１６の表裏面の筋むらや外観むらを
防止することができる。

【００８７】続いて、本発明の第７の実施の形態に係る
連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方
法について説明する。まず、本発明の第７の実施の形態
に係る連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力
制御方法に用いるワイピングノズル７０について説明す
る。本発明の第７の実施の形態に係る連続式溶融めっき
におけるワイピングガスの圧力制御方法に用いるワイピ
ングノズル７０が、本発明の第１の実施の形態に係る連
続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法
に用いるワイピングノズル１０と異なるのは、図２０に
示すように、主ノズル１１の主スリット１１ｂの一部、
及び、補助ノズル１２の補助スリット１２ｂの一部を、
閉塞するための、ほぼ平板状の主補スリット用盲板７４
ａを備えた点である。なお、補助スリット用盲板１４
ａ、及び、主補スリット用盲板７４ａの代わりに、図２
１に示すように、長尺な補助スリット用盲板１４ｂと、
主スリット用盲板７４ｂを備えてもよいし、また、図２
２に示すように、平面視してほぼＬ字状の主補スリット
用盲板７４ｃを備えてもよい。

【００８８】なお、本発明の第７の実施の形態に係る連
続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法
に用いるワイピングノズル７０を適用した連続式溶融め
っき法は、本発明の第１の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法に用いる
ワイピングノズル１０を適用した連続式溶融めっき法と
同様なものなので、説明を省略し、ここでは、本発明の
第７の実施の形態に係る連続式溶融めっきにおけるワイ
ピングガスの圧力制御方法について説明する。なお、図
２３に示すように、補助ノズル１２の補助スリット１２
ｂの所定部には、補助スリット用盲板１４ａ、及び、主
補スリット用盲板７４ａが、挟み込まれている。

【００８９】これにより、図２３中、Ａ−Ａ部では、前
記と同様に、ガス供給装置から供給されるワイピングガ
スは、ガス供給管１７、上流側供給路１１ｆを通って、
ガス供給圧調整室１１ｅに供給されて、調圧された後、
下流側供給路１１ｇ、ガス吐出圧調整室１１ｃ、主スリ
ット１１ｂを通って、ストリップ１６に、所定の吐出圧
（Ｐ₀ ）で吹き付けられる（図５参照）。

【００９０】また、図２３中、Ｂ−Ｂ部では、前記と同
様に、ガス供給装置から供給されるワイピングガスは、
ガス供給管１７、上流側供給路１１ｆを通って、ガス供
給圧調整室１１ｅに供給されて、調圧された後、下流側
供給路１１ｇ、ガス吐出圧調整室１１ｃと補助ノズル１
２のすきまＷ、主スリット１１ｂを通って、ストリップ
１６に、所定の吐出圧（Ｐ₁ ）で、吹き付けられると共
に、他のガス供給装置から、ガス供給用配管１３を通っ
て、補助ノズル１２のガス供給室１２ｃに供給されたワ
イピングガスは、補助スリット１２ｂ、主スリット１１
ｂを通って、ストリップ１６に、所定の吐出圧（Ｐ₀₃）
で、吹き付けられる（図６参照）。これにより、図２３
中、Ｂ−Ｂ部のワイピングガスの吐出圧は、前記と同様
に、補助ノズル１２によって、ガス吐出圧調整室１１ｃ
の内容積が低減されているが、補助ノズル１２の、補助
スリット１２ｂから、ワイピングガスが吹き付けられる
ことにより、図４中、Ａ−Ａ部の、吐出圧（Ｐ₀ ）と同
じ、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）で吹き付けられることにな
る。

【００９１】また、図２３中、Ｃ−Ｃ部では、前記と同
様に、ガス供給装置から供給されるワイピングガスは、
ガス供給管１７、上流側供給路１１ｆを通って、ガス供
給圧調整室１１ｅに供給されて、調圧された後、下流側
供給路１１ｇ、ガス吐出圧調整室１１ｃと補助ノズル１
２のすきまＷ、主スリット１１ｂを通って、ストリップ
１６に、吐出圧（Ｐ₁ ）で吹き付けられる（図７参
照）。

【００９２】更に、図２３中、Ｆ−Ｆ部では、図２４に
示すように、ガス供給装置から供給されるワイピングガ
ス、及び、他のガス供給装置から供給されるワイピング
ガス、いずれも、補助スリット１２ｂ、及び主スリット
１１ｂが閉塞されているために、この部位の吐出圧は大
気圧とされる。

【００９３】これにより、図２５に示すように、ストリ
ップ１６の板幅（Ｌ₁ ）の両側に、その両端からそれぞ
れ２００ｍｍ未満の幅（Ｌ₂₂）を加えた幅（Ｌ₁ ＋２・
Ｌ₂₂）を持って、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガ
スを吹き出し、ストリップ１６の表裏面の溶融金属膜の
ワイピングを行う基準吐出圧域と、基準吐出圧域の両側
に、その両端からそれぞれ２０ｍｍ以上１００ｍｍ以下
の幅（Ｌ₄₁）を持って、吐出圧（Ｐ₀ ）より低く大気圧
を越える吐出圧（Ｐ₁ ）でワイピングガスを吹き出す背
圧域とに区分し、背圧域の両側に、その両端からそれぞ
れ２０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を有する大気圧域を設ける
ことができる。

【００９４】以上のように本発明によれば、補助スリッ
ト用盲板１４ａ、及び、主補スリット用盲板７４ａを備
えたので、ストリップ１６の板幅（Ｌ₁ ）の両側に、そ
の両端からそれぞれ２００ｍｍ未満の幅（Ｌ₂₂）を加え
た幅（Ｌ₁ ＋２・Ｌ₂₂）を持って、所定の吐出圧
（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出し、ストリップ１６
の表裏面の溶融金属膜のワイピングを行う基準吐出圧域
と、基準吐出圧域の両側に、その両端からそれぞれ２０
ｍｍ以上１００ｍｍ以下の幅（Ｌ₄₁）を持って、吐出圧
（Ｐ₀ ）より低く大気圧を越える吐出圧（Ｐ₁ ）でワイ
ピングガスを吹き出す背圧域とに区分し、背圧域の両側
に、その両端からそれぞれ２０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を
有する大気圧域を設けることができ、この結果、ストリ
ップ１６のエッジのエッジオーバーコートやスプラッシ
ュを防止することができる。また、ストリップ１６の表
裏面におけるワイピングガスの吐出圧を、ストリップの
板幅方向に沿って同一とすることができるので、ストリ
ップ１６の表裏面の筋むらや外観むらを防止することが
できる。

【００９５】続いて、本発明の第８の実施の形態に係る
連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方
法について説明する。まず、本発明の第８の実施の形態
に係る連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力
制御方法に用いるワイピングノズル８０について説明す
る。本発明の第８の実施の形態に係る連続式溶融めっき
におけるワイピングガスの圧力制御方法に用いるワイピ
ングノズル８０が、本発明の第２の実施の形態に係る連
続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法
に用いるワイピングノズル２０と異なるのは、図２６、
図２７に示すように、主ノズル１１の主スリット１１ｂ
の一部、及び、補助ノズル２２の補助スリット２２ｂの
一部を、閉塞するための、主補スリット用盲板８４ａ、
８４ｂを備えた点である。なお、補助スリット用盲板２
４ａ、２４ｂ、及び、主補スリット用盲板８４ａ、８４
ｂの代わりに、図２８、図２９に示すように、主補スリ
ット用盲板８４ｃ、８４ｄを備えてもよいし、また、図
３０、図３１に示すように、主補スリット用盲板８４
ａ、８４ｂの代わりに、主スリット用盲板８５ａ、８５
ｂを備えてもよい。また、補助ノズル２２の補助スリッ
ト２２ｂによっては、図３２〜図３７に示すような、補
助スリット用盲板２４ａ′、２４ｂ′、主補スリット用
盲板８４ａ′、８４ｂ′、８４ｃ′、８４ｄ′を備えて
もよい。更に、補助ノズル２２の補助スリット２２ｂに
よっては、補助スリット用盲板２４ａ、２４ｂ、２４
ａ′、２４ｂ′、主補スリット用盲板８４ａ、８４ｂ、
８４ｃ、８４ｄ、８４ａ′、８４ｂ′、８４ｃ′、８４
ｄ′、主スリット用盲板８５ａ、８５ｂの、上面、及
び、下面を湾曲面としてもよい。

【００９６】なお、本発明の第８の実施の形態に係る連
続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法
に用いるワイピングノズル８０を適用した連続式溶融め
っき法は、本発明の第２の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法に用いる
ワイピングノズル２０を適用した連続式溶融めっき法と
同様なものなので、説明を省略し、ここでは、本発明の
第８の実施の形態に係る連続式溶融めっきにおけるワイ
ピングガスの圧力制御方法について説明する。なお、図
３８に示すように、補助ノズル２２の補助スリット２２
ｂの所定部には、補助スリット用盲板２４ａ、及び、主
補スリット用盲板８４ａが、挟み込まれいる。

【００９７】これにより、図３８中、Ａ−Ａ部では、前
記と同様に、ガス供給装置から供給されるワイピングガ
スは、ガス供給管１７、上流側供給路１１ｆを通って、
ガス供給圧調整室１１ｅに供給されて、調圧された後、
下流側供給路１１ｇ、ガス吐出圧調整室１１ｃ、主スリ
ット１１ｂを通って、ストリップ１６に、所定の吐出圧
（Ｐ₀ ）で吹き付けられる（図５参照）。

【００９８】また、図３８中、Ｄ−Ｄ部では、前記と同
様に、ガス供給装置から供給されるワイピングガスは、
ガス供給管１７、上流側供給路１１ｆを通って、ガス供
給圧調整室１１ｅに供給されて、調圧された後、下流側
供給路１１ｇ、ガス吐出圧調整室１１ｃと補助ノズル２
２のすきまＷ、主スリット１１ｂを通って、ストリップ
１６に所定の吐出圧（Ｐ₁ ）で、吹き付けられると共
に、他のガス供給装置から、ガス供給用配管１３を通っ
て、補助ノズル２２のガス供給室１２ｃに供給されたワ
イピングガスは、補助スリット２２ｂ、主スリット１１
ｂを通って、ストリップ１６に、所定の吐出圧（Ｐ₀₄）
で、吹き付けられる（図１３参照）。これにより、図３
８中、Ｄ−Ｄ部のワイピングガスの吐出圧は、前記と同
様に、補助ノズル２２によって、ガス吐出圧調整室１１
ｃの内容積が低減されるが、補助ノズル２２の、補助ス
リット２２ｂから、ワイピングガスが吹き付けられるこ
とにより、図３８中、Ａ−Ａ部の、吐出圧（Ｐ₀ ）以上
の高い吐出圧（Ｐ₀₁′）で吹き付けられることになる。
なお、図４０中、符号（Ｐ₀₁）は、基準吐出圧域の最大
吐出圧である。

【００９９】また、図３８中、Ｅ−Ｅ部では、前記と同
様に、ガス供給装置から供給されるワイピングガスは、
ガス供給管１７、上流側供給路１１ｆを通って、ガス供
給圧調整室１１ｅに供給されて、調圧された後、下流側
供給路１１ｇ、ガス吐出圧調整室１１ｃと補助ノズル２
２のすきまＷ、主スリット１１ｂを通って、ストリップ
１６に、所定の吐出圧（Ｐ₁ ）で、吹き付けられると共
に、他のガス供給装置から、ガス供給用配管１３を通っ
て、補助ノズル２２のガス供給室１２ｃに供給されたワ
イピングガスは、補助スリット２２ｂが補助スリット用
盲板２４ａで閉塞されているために、吐出されることは
ない（図１４参照）。従って、図３８中、Ｅ−Ｅ部のワ
イピングガスの吐出圧は、他のガス供給装置から供給さ
れるワイピングガスの吐出がないために、図３８中、Ａ
−Ａ部の吐出圧（Ｐ₀ ）、及び、Ｄ−Ｄ部の吐出圧（Ｐ
₀₁）より低く、かつ大気圧より高い、所定の吐出圧（Ｐ
₁ ）で吹き付けられることになる。

【０１００】更に、図３８中、Ｇ−Ｇ部では、図３９に
示すように、ガス供給装置から供給されるワイピングガ
ス、及び、他のガス供給装置から供給されるワイピング
ガス、いずれも、補助スリット２２ｂ、及び主スリット
１１ｂが閉塞されているために、この部位の吐出圧は大
気圧とされる。

【０１０１】これにより、図４０に示すように、ストリ
ップ１６の板幅（Ｌ₁ ）の両側に、その両端からそれぞ
れ２００ｍｍ未満の幅（Ｌ₂₂）を加えた幅（Ｌ₁ ＋２・
Ｌ₂₂）を持って、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガ
スを吹き出し、ストリップ１６の表裏面の溶融金属膜の
ワイピングを行う基準吐出圧域と、基準吐出圧域の両側
に、その両端からそれぞれ２０ｍｍ以上１００ｍｍ以下
の幅（Ｌ₄₁）を持って、吐出圧（Ｐ₀ ）より低く大気圧
を越える吐出圧（Ｐ₁ ）でワイピングガスを吹き出す背
圧域とに区分し、背圧域の両側に、その両端からそれぞ
れ２０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を有する大気圧域を設ける
ことができる。

【０１０２】以上のように本発明によれば、補助スリッ
ト用盲板２４ａ、及び、主補スリット用盲板８４ａを備
えたので、ストリップ１６の板幅（Ｌ₁ ）の両側に、そ
の両端からそれぞれ２００ｍｍ未満の幅（Ｌ₂₂）を加え
た幅（Ｌ₁ ＋２・Ｌ₂₂）を持って、ストリップ１６の主
要部分に、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹
き出すと共に、ストリップ１６のストリップエッジ近傍
を含む両側部で吐出圧（Ｐ₀ ）を高くして、ストリップ
１６の表裏面の溶融金属膜のワイピングを行う基準吐出
圧域と、基準吐出圧域の両側に、その両端からそれぞれ
２０ｍｍ以上１００ｍｍ以下の幅（Ｌ₄₁）を持って、吐
出圧（Ｐ₀ ）より低く大気圧を越える吐出圧（Ｐ₁ ）で
ワイピングガスを吹き出す背圧域とに区分し、背圧域の
両側に、その両端からそれぞれ２０ｍｍ以上の幅
（Ｌ₃₁）を有する大気圧域を設けることができ、この結
果、ストリップ１６のエッジのエッジオーバーコートや
スプラッシュを防止することができる。さらに、基準吐
出圧域の両側部で吐出圧（Ｐ₀ ）を高くすることができ
るので、ストリップ１６のエッジオーバーコートを積極
的に防止することができる。また、基準吐出圧域の両側
部の吐出圧（Ｐ₀ ）を徐々に（又は緩やかに）高くした
ので、ストリップ１６の表裏面の筋むらや外観むらを防
止することができる。

【０１０３】続いて、本発明の第９の実施の形態に係る
連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方
法について説明する。なお、本発明の第９の実施の形態
に係る連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力
制御方法に用いるワイピングノズル、及び、同ワイピン
グノズルを適用した連続式溶融めっき法は、本発明の第
７の実施の形態に係る連続式溶融めっきにおけるワイピ
ングガスの圧力制御方法に用いるワイピングノズル７
０、及び、同ワイピングノズル７０を適用した連続式溶
融めっき法と同様なものなので、説明を省略し、ここで
は、本発明の第９の実施の形態に係る連続式溶融めっき
におけるワイピングガスの圧力制御方法について説明す
る。

【０１０４】本発明の第９の実施の形態に係る連続式溶
融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法が、本
発明の第７の実施の形態に係る連続式溶融めっきにおけ
るワイピングガスの圧力制御方法と異なるのは、図４１
に示すように、ストリップ１６の板幅（Ｌ₁ ）の両側
に、その両端からそれぞれ１００ｍｍ以上２００ｍｍ以
下の幅（Ｌ₄₂）を加えた幅（Ｌ₁ ＋２・Ｌ₄₂）を持っ
て、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出
し、ストリップ１６の表裏面の溶融金属膜のワイピング
を行う基準吐出圧域とし、基準吐出圧域の両側に、その
両端からそれぞれ４０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₂）を有する大
気圧域を設けた点である。

【０１０５】以上のように本発明によれば、ストリップ
１６の板幅（Ｌ₁ ）の両側に、その両端からそれぞれ１
００ｍｍ以上２００ｍｍ以下の幅（Ｌ₄₂）を加えた幅
（Ｌ₁＋２・Ｌ₄₂）を持って、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）で
ワイピングガスを吹き出し、ストリップ１６の表裏面の
溶融金属膜のワイピングを行う基準吐出圧域とし、基準
吐出圧域の両側に、その両端からそれぞれ４０ｍｍ以上
の幅（Ｌ₃₂）を有する大気圧域を設けることができ、こ
の結果、ストリップ１６のエッジのエッジオーバーコー
トやスプラッシュを防止することができる。また、スト
リップ１６の表裏面におけるワイピングガスの吐出圧
を、ストリップの板幅方向に沿って同一とすることがで
きるので、ストリップ１６の表裏面の筋むらや外観むら
を防止することができる。

【０１０６】続いて、本発明の第１０の実施の形態に係
る連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御
方法について説明する。なお、本発明の第１０の実施の
形態に係る連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの
圧力制御方法に用いるワイピングノズル、及び、同ワイ
ピングノズルを適用した連続式溶融めっき法は、本発明
の第８の実施の形態に係る連続式溶融めっきにおけるワ
イピングガスの圧力制御方法に用いるワイピングノズル
８０、及び、同ワイピングノズル８０を適用した連続式
溶融めっき法と同様なものなので、説明を省略し、ここ
では、本発明の第１０の実施の形態に係る連続式溶融め
っきにおけるワイピングガスの圧力制御方法について説
明する。

【０１０７】本発明の第１０の実施の形態に係る連続式
溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法が、
本発明の第８の実施の形態に係る連続式溶融めっきにお
けるワイピングガスの圧力制御方法と異なるのは、図４
２に示すように、ストリップ１６の板幅（Ｌ₁ ）の両側
に、その両端からそれぞれ１００ｍｍ以上２００ｍｍ以
下の幅（Ｌ₄₂）を加えた幅（Ｌ₁ ＋２・Ｌ₄₂）を持っ
て、所定の吐出圧（Ｐ₀）でワイピングガスを吹き出
し、ストリップ１６の表裏面の溶融金属膜のワイピング
を行う基準吐出圧域とし、基準吐出圧域の両側に、その
両端からそれぞれ４０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₂）を有する大
気圧域を設けた点と、基準吐出圧域の吐出圧（Ｐ₀ ）
を、その両側部で高くした点である。なお、図４２中、
符号（Ｐ₀₁）は、基準吐出圧域の最大吐出圧である。

【０１０８】以上のように本発明によれば、ストリップ
１６の板幅（Ｌ₁ ）の両側に、その両端からそれぞれ１
００ｍｍ以上２００ｍｍ以下の幅（Ｌ₄₂）を加えた幅
（Ｌ₁＋２・Ｌ₄₂）を持って、ストリップ１６の主要部
分に、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出
すと共に、ストリップ１６のストリップエッジ近傍を含
む両側部で吐出圧（Ｐ₀ ）を高くして、ストリップ１６
の表裏面の溶融金属膜のワイピングを行う基準吐出圧域
とし、基準吐出圧域の両側に、その両端からそれぞれ４
０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₂）を有する大気圧域を設けること
ができ、この結果、ストリップ１６のエッジのエッジオ
ーバーコートやスプラッシュを防止することができる。
さらに、基準吐出圧域の両側部で吐出圧（Ｐ₀ ）を高く
することができるので、ストリップ１６のエッジのエッ
ジオーバーコートを積極的に防止することができる。ま
た、基準吐出圧域の両側部の吐出圧（Ｐ₀ ）を徐々に
（又は緩やかに）高くしたので、ストリップ１６の表裏
面の筋むらや外観むらを防止することができる。

【０１０９】続いて、本発明の第１１の実施の形態に係
る連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御
方法について説明する。なお、本発明の第１１の実施の
形態に係る連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの
圧力制御方法に用いるワイピングノズル、及び、同ワイ
ピングノズルを適用した連続式溶融めっき法は、本発明
の第７の実施の形態に係る連続式溶融めっきにおけるワ
イピングガスの圧力制御方法に用いるワイピングノズル
７０、及び、同ワイピングノズル７０を適用した連続式
溶融めっき法と同様なものなので、説明を省略し、ここ
では、本発明の第１１の実施の形態に係る連続式溶融め
っきにおけるワイピングガスの圧力制御方法について説
明する。

【０１１０】本発明の第１１の実施の形態に係る連続式
溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法が、
本発明の第９の実施の形態に係る連続式溶融めっきにお
けるワイピングガスの圧力制御方法と異なるのは、図４
３に示すように、ストリップ１６の板幅（Ｌ₁ ）を持っ
て、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出
し、ストリップ１６の表裏面の溶融金属膜のワイピング
を行う基準吐出圧域と、基準吐出圧域の両側に、その両
端からそれぞれ２０ｍｍ以上１００ｍｍ以下の幅
（Ｌ₄₁）を持って、（０．２・Ｐ₀ ）以上の吐出圧（Ｐ
₃ ）でワイピングガスを吹き出し、ストリップ１６の両
端のガス流を整える背圧域とに区分し、背圧域の両側
に、その両端からそれぞれ２０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を
有する大気圧域を設けた点である。

【０１１１】以上のように本発明によれば、ストリップ
１６の板幅（Ｌ₁ ）を持って、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）で
ワイピングガスを吹き出し、ストリップ１６の表裏面の
溶融金属膜のワイピングを行う基準吐出圧域と、基準吐
出圧域の両側に、その両端からそれぞれ２０ｍｍ以上１
００ｍｍ以下の幅（Ｌ₄₁）を持って、（０．２・Ｐ₀）
以上の吐出圧（Ｐ₃ ）でワイピングガスを吹き出し、ス
トリップ１６の両端のガス流を整える背圧域とに区分
し、背圧域の両側に、その両端からそれぞれ２０ｍｍ以
上の幅（Ｌ₃₁）を有する大気圧域を設けることができ、
この結果、ストリップ１６のエッジのエッジオーバーコ
ートやスプラッシュを防止することができる。また、ス
トリップ１６の表裏面におけるワイピングガスの吐出圧
を、ストリップの板幅方向に沿って同一とすることがで
きるので、ストリップ１６の表裏面の筋むらや外観むら
を防止することができる。

【０１１２】続いて、本発明の第１２の実施の形態に係
る連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御
方法について説明する。なお、本発明の第１２の実施の
形態に係る連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの
圧力制御方法に用いるワイピングノズル、及び、同ワイ
ピングノズルを適用した連続式溶融めっき法は、本発明
の第８の実施の形態に係る連続式溶融めっきにおけるワ
イピングガスの圧力制御方法に用いるワイピングノズル
８０、及び、同ワイピングノズル８０を適用した連続式
溶融めっき法と同様なものなので、説明を省略し、ここ
では、本発明の第１２の実施の形態に係る連続式溶融め
っきにおけるワイピングガスの圧力制御方法について説
明する。

【０１１３】本発明の第１２の実施の形態に係る連続式
溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法が、
本発明の第８の実施の形態に係る連続式溶融めっきにお
けるワイピングガスの圧力制御方法と異なるのは、図４
４に示すように、ストリップ１６の板幅（Ｌ₁ ）を持っ
て、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出
し、ストリップ１６の表裏面の溶融金属膜のワイピング
を行う基準吐出圧域と、基準吐出圧域の両側に、その両
端からそれぞれ２０ｍｍ以上１００ｍｍ以下の幅
（Ｌ₄₁）を持って、（０．２・Ｐ₀ ）以上の吐出圧（Ｐ
₃ ）でワイピングガスを吹き出し、ストリップ１６の両
端のガス流を整える背圧域とに区分し、背圧域の両側
に、その両端からそれぞれ２０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を
有する大気圧域を設けた点と、基準吐出圧域の吐出圧
（Ｐ₀ ）を、その両側部で高くした点である。なお、図
４４中、符号（Ｐ₀₂）は、基準吐出圧域の最大吐出圧で
ある。

【０１１４】以上のように本発明によれば、ストリップ
１６の板幅（Ｌ₁ ）を持って、ストリップ１６の主要部
分に、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出
すと共に、ストリップ１６の両側部で吐出圧（Ｐ₀ ）を
高くして、ストリップ１６の表裏面の溶融金属膜のワイ
ピングを行う基準吐出圧域と、基準吐出圧域の両側に、
その両端からそれぞれ２０ｍｍ以上１００ｍｍ以下の幅
（Ｌ₄₁）を持って、（０．２・Ｐ₀ ）以上の吐出圧（Ｐ
₃ ）でワイピングガスを吹き出し、ストリップ１６の両
端のガス流を整える背圧域とに区分し、背圧域の両側
に、その両端からそれぞれ２０ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を
有する大気圧域を設けることができ、この結果、ストリ
ップ１６のエッジのエッジオーバーコートやスプラッシ
ュを防止することができる。さらに、基準吐出圧域の両
側部で吐出圧（Ｐ₀ ）を高くすることができるので、ス
トリップ１６のエッジのエッジオーバーコートを積極的
に防止することができる。また、基準吐出圧域の両側部
の吐出圧（Ｐ₀ ）を徐々に（又は緩やかに）高くしたの
で、ストリップ１６の表裏面の筋むらや外観むらを防止
することができる。

【０１１５】

【実施例】

（実施例１）本発明の第８の実施の形態における連続式
溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法、及
び、その方法に用いるワイピングノズル８０を適用し
て、図４５に示すように、溶融アルミニウムの連続式溶
融めっきを行った。なお、（Ｌ₂₂）＝７０ｍｍ、
（Ｌ₄₁）＝４０ｍｍ、（Ｌ₃₁）＝４０ｍｍとした。ま
た、基準吐出圧域の、吐出圧（Ｐ₀ ）＝０．０５ｋｇ／
ｃｍ² 、基準吐出圧域の、最大吐出圧（Ｐ₀₁）＝（３・
Ｐ₀ ）＝０．１５ｋｇ／ｃｍ² 、背圧域の、吐出圧（Ｐ
₁ ）≦（２／３・Ｐ₀ ：約０．０３ｋｇ／ｃｍ² ）とし
た。これにより、ストリップ１６の板幅方向に沿って、
均一な厚さの溶融金属膜を形成することができ、この結
果、従来のように、コイルが鼓状になるのを防止するこ
とができた。

【０１１６】以上、本発明の実施の形態を説明したが、
本発明はこれらの実施の形態に限定されるものではな
く、要旨を逸脱しない条件の変更等は全て本発明の適用
範囲である。

【０１１７】例えば、各実施の形態では、補助スリット
用盲板１４ａ等を、補助ノズル１２の補助スリット１２
ｂ等に嵌め込んだが、補助ノズル１２を、半割可能に形
成することで、嵌め込んでもよい。

【０１１８】また、図４６、図４７に示すように、スト
リップ１６の板幅は、ワイピングノズル１０の長さにか
かわらず、どのような板幅にしてもよい。

【０１１９】更に、図４８〜図５９に示すように、スト
リップエッジの溶融金属膜の厚さを調整する場合に、主
ノズル１１の、主スリット１１ｂから吐出される、ワイ
ピングガスの吐出圧をゼロにしてもよい。なお、図４８
は、本発明の第１の実施の形態において、主スリット１
１ｂから吐出される、ワイピングガスの吐出圧をゼロに
した場合で、図４９は、本発明の第２の実施の形態にお
いて、主スリット１１ｂからのワイピングガスの吐出圧
をゼロにした場合である。

【０１２０】また、図５０は、本発明の第３の実施の形
態において、主スリット１１ｂからのワイピングガスの
吐出圧をゼロにした場合、図５１は、本発明の第４の実
施の形態において、主スリット１１ｂからのワイピング
ガスの吐出圧をゼロにした場合、図５２は、本発明の第
５の実施の形態において、主スリット１１ｂからのワイ
ピングガスの吐出圧をゼロにした場合、図５３は、本発
明の第６の実施の形態において、主スリット１１ｂから
のワイピングガスの吐出圧をゼロにした場合である。

【０１２１】また、図５４は、本発明の第７の実施の形
態において、主スリット１１ｂからのワイピングガスの
吐出圧をゼロにした場合、図５５は、本発明の第８の実
施の形態において、主スリット１１ｂからのワイピング
ガスの吐出圧をゼロにした場合、図５６は、本発明の第
９の実施の形態において、主スリット１１ｂからのワイ
ピングガスの吐出圧をゼロにした場合、図５７は、本発
明の第１０の実施の形態において、主スリット１１ｂか
らのワイピングガスの吐出圧をゼロにした場合である。

【０１２２】さらに、図５８は、本発明の第１１の実施
の形態において、主スリット１１ｂからのワイピングガ
スの吐出圧をゼロにした場合、図５９は、本発明の第１
２の実施の形態において、主スリット１１ｂからのワイ
ピングガスの吐出圧をゼロにした場合である。なお、図
５３中、符号（Ｐ₀₂′）は、基準吐出圧域の最大吐出
圧、図５５中、符号（Ｐ₀₁″）は、基準吐出圧域の最大
吐出圧、図５７中、符号（Ｐ₀₁″）は、基準吐出圧域の
最大吐出圧、図５９中、符号（Ｐ₀₂″）は、基準吐出圧
域の最大吐出圧である。

【０１２３】更に、図６０、図６２に示すように、他の
ガス供給装置から、ガス供給用配管１３、補助ノズル１
２のガス供給室１２ｃ、補助スリット１２ｂを、順次、
通って、吐出されるワイピングガスの圧力（換言する
と、他のガス供給装置から供給される、ワイピングガス
の供給量）を、高くすることで、背圧域の吐出圧（Ｐ）
を、基準吐出圧域の吐出圧（Ｐ₀ ）より高くしてもよ
い。更に、図６１、図６３に示すように、基準吐出圧域
の両側部の吐出圧（Ｐ₀ ）を背圧域の吐出圧（Ｐ）より
高くしてもよい。

【０１２４】更に、図６４に示すように、本発明の第
７、第８、第１１、第１２の実施の形態において、補助
ノズル７２′（８２′）において、ガス供給室１２ｃ′
を、３つのガス供給室７２ｃ（８２ｃ）〜７２ｅ（８２
ｅ）に分室化すると共に、各ガス供給室７２ｃ（８２
ｃ）〜７２ｅ（８２ｅ）に、ワイピングガスを供給する
ための、ガス供給用配管７３ａ（８３ａ）〜７３ｃ（８
３ｃ）を連通する。

【０１２５】これにより、各ガス供給用配管７３ａ（８
３ａ）〜７３ｃ（８３ｃ）から供給されるワイピングガ
スの圧力を容易に調整することができるので、図６６〜
図６９に示すように、基準吐出圧域、又は、背圧域等
の、ワイピングガスの吐出圧を高くしてもよい。

【０１２６】また、前記と同様に、図６５に示す如く、
本発明の第１の実施の形態において、補助ノズル１２′
（２２′）において、ガス供給室１２ｃ″を、２つのガ
ス供給室１２ｄ（２２ｄ）、１２ｅ（２２ｅ）に分室化
すると共に、各ガス供給室１２ｄ（２２ｄ）、１２ｅ
（２２ｅ）に、ワイピングガスを供給するための、ガス
供給用配管１３ａ（２３ａ）、１３ｂ（２３ｂ）を連通
してもよい。

【０１２７】更に、本発明の第１〜第１２の実施の形態
に係る連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力
制御方法では、ワイピングノズルにおける、背圧域、又
は、大気圧域の外側では、ワイピングガスの吐出圧を、
基準吐出圧域の、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）と同じ吐出圧
（Ｐ₀ ）としたが、この領域の吐出圧は特に規定される
ものではなく、種々の吐出圧としてよい。

【０１２８】更に、本発明の第１〜第１２の実施の形態
に係る連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力
制御方法では、図４６、図４７に示すように、ストリッ
プ１６の中心線にほぼ線対称（又は左右対称）の圧力分
布としたが、例えば、基準吐出圧域の吐出圧（Ｐ₀ ）
を、その片側部で高くする等、左右対称とせず、種々の
組み合せとしてもよい。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態に係る連続式溶融め
っきにおけるワイピングガスの圧力制御方法に用いるワ
イピングノズルの説明図である。

【図２】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワイ
ピングノズルの補助ノズルの説明図である。

【図３】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワイ
ピングノズルの補助スリット用盲板の斜視図である。

【図４】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワイ
ピングノズルの使用状態及びワイピングガスの吐出圧の
説明図である。

【図５】図４の矢視Ａ−Ａ線要部断面図である。

【図６】図４の矢視Ｂ−Ｂ線要部断面図である。

【図７】図４の矢視Ｃ−Ｃ線要部断面図である。

【図８】同ワイピングガスの圧力制御方法で制御された
ワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図９】本発明の第２の実施の形態に係る連続式溶融め
っきにおけるワイピングガスの圧力制御方法に用いるワ
イピングノズルの補助ノズルの説明図である。

【図１０】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワ
イピングノズルの補助スリット用盲板の斜視図である。

【図１１】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワ
イピングノズルの他の補助スリット用盲板の斜視図であ
る。

【図１２】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワ
イピングノズルの使用状態及びワイピングガスの吐出圧
の説明図である。

【図１３】図１２の矢視Ｄ−Ｄ線要部断面図である。

【図１４】図１２の矢視Ｅ−Ｅ線要部断面図である。

【図１５】同ワイピングガスの圧力制御方法で制御され
たワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図１６】本発明の第３の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御さ
れたワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図１７】本発明の第４の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御さ
れたワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図１８】本発明の第５の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御さ
れたワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図１９】本発明の第６の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御さ
れたワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図２０】本発明の第７の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法に用いる
ワイピングノズルの補助スリット用盲板及び主補スリッ
ト用盲板の斜視図である。

【図２１】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワ
イピングノズルの補助スリット用盲板及び主スリット用
盲板の斜視図である。

【図２２】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワ
イピングノズルの主補スリット用盲板の斜視図である。

【図２３】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワ
イピングノズルの使用状態及びワイピングガスの吐出圧
の説明図である。

【図２４】図２３の矢視Ｆ−Ｆ線要部断面図である。

【図２５】同ワイピングガスの圧力制御方法で制御され
たワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図２６】本発明の第８の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法に用いる
ワイピングノズルの補助スリット用盲板及び主補スリッ
ト用盲板の斜視図である。

【図２７】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワ
イピングノズルの他の補助スリット用盲板及び主補スリ
ット用盲板の斜視図である。

【図２８】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワ
イピングノズルの他の主補スリット用盲板の斜視図であ
る。

【図２９】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワ
イピングノズルの更に他の主補スリット用盲板の斜視図
である。

【図３０】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワ
イピングノズルの補助スリット用盲板及び主スリット用
盲板の斜視図である。

【図３１】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワ
イピングノズルの他の補助スリット用盲板及び他の主ス
リット用盲板の斜視図である。

【図３２】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワ
イピングノズルの更に他の補助スリット用盲板及び更に
他の主補スリット用盲板の斜視図である。

【図３３】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワ
イピングノズルの更に他の補助スリット用盲板及び更に
他の主補スリット用盲板の斜視図である。

【図３４】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワ
イピングノズルの更に他の主補スリット用盲板の斜視図
である。

【図３５】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワ
イピングノズルの更に他の主補スリット用盲板の斜視図
である。

【図３６】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワ
イピングノズルの更に他の補助スリット用盲板及び更に
他の主スリット用盲板の斜視図である。

【図３７】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワ
イピングノズルの更に他の補助スリット用盲板及び更に
他の主スリット用盲板の斜視図である。

【図３８】同ワイピングガスの圧力制御方法に用いるワ
イピングノズルの使用状態及びワイピングガスの吐出圧
の説明図である。

【図３９】図３８の矢視Ｇ−Ｇ線要部断面図である。

【図４０】同ワイピングガスの圧力制御方法で制御され
たワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図４１】本発明の第９の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御さ
れたワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図４２】本発明の第１０の実施の形態に係る連続式溶
融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法の説明
図である。

【図４３】本発明の第１１の実施の形態に係る連続式溶
融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御
されたワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図４４】本発明の第１２の実施の形態に係る連続式溶
融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法の説明
図である。

【図４５】本発明の一実施の形態に係る連続式溶融めっ
きにおけるワイピングガスの圧力制御方法における実施
例１の説明図である。

【図４６】本発明の一実施の形態に係る連続式溶融めっ
きにおけるワイピングガスの圧力制御方法の説明図であ
る。

【図４７】本発明の一実施の形態に係る連続式溶融めっ
きにおけるワイピングガスの圧力制御方法の説明図であ
る。

【図４８】本発明の第１の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御さ
れた他のワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図４９】本発明の第２の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御さ
れた他のワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図５０】本発明の第３の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御さ
れた他のワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図５１】本発明の第４の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御さ
れた他のワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図５２】本発明の第５の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御さ
れた他のワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図５３】本発明の第６の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御さ
れた他のワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図５４】本発明の第７の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御さ
れた他のワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図５５】本発明の第８の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御さ
れた他のワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図５６】本発明の第９の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御さ
れた他のワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図５７】本発明の第１０の実施の形態に係る連続式溶
融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御
された他のワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図５８】本発明の第１１の実施の形態に係る連続式溶
融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御
された他のワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図５９】本発明の第１２の実施の形態に係る連続式溶
融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御
された他のワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図６０】本発明の第７の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御さ
れた更に他のワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図６１】本発明の第８の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御さ
れた更に他のワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図６２】本発明の第１１の実施の形態に係る連続式溶
融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御
された更に他のワイピングガスの吐出圧の説明図であ
る。

【図６３】本発明の第１２の実施の形態に係る連続式溶
融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御
された更に他のワイピングガスの吐出圧の説明図であ
る。

【図６４】本発明の第７、第８、第１１、第１２の実施
の形態に係る連続式溶融めっきにおけるワイピングガス
の圧力制御方法に用いるワイピングノズルの他の補助ノ
ズルの説明図である。

【図６５】本発明の第１の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法に用いる
他のワイピングノズルの説明図である。

【図６６】本発明の第７の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御さ
れた更に他のワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図６７】本発明の第８の実施の形態に係る連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御さ
れた更に他のワイピングガスの吐出圧の説明図である。

【図６８】本発明の第１１の実施の形態に係る連続式溶
融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御
された更に他のワイピングガスの吐出圧の説明図であ
る。

【図６９】本発明の第１２の実施の形態に係る連続式溶
融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法で制御
された更に他のワイピングガスの吐出圧の説明図であ
る。

【図７０】従来の連続式溶融めっき法におけるワイピン
グガスの吹き出し圧の説明図である。

【図７１】従来の他の連続式溶融めっき法におけるワイ
ピングガスの吹き出し圧の説明図である。

【図７２】従来の連続式溶融めっき法におけるワイピン
グガスの衝突圧の測定状態の説明図である。

【図７３】従来の連続式溶融めっき法におけるワイピン
グガスの衝突圧の測定状態の説明図である。

【図７４】従来の連続式溶融めっき法におけるワイピン
グガスの衝突圧の測定方法の説明図である。

【図７５】本発明の一実施の形態に係る連続式溶融めっ
きにおけるワイピングガスの圧力制御方法における基準
吐出圧域の幅と背圧域の吐出圧の関係を示す特性図であ
る。

【図７６】本発明の一実施の形態に係る他の連続式溶融
めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法における
基準吐出圧域の幅と背圧域の吐出圧の関係を示す特性図
である。

【図７７】従来の連続式溶融めっき法の説明図である。

【図７８】同連続式溶融めっき法のエッジオーバーコー
トの発生状態の説明図である。

【図７９】（ａ）同連続式溶融めっき法に用いるワイピ
ングノズル及びワイピングガスの吹き出し圧の分布状態
の説明図である。 （ｂ）同連続式溶融めっき法に用いるワイピングノズル
の説明図である。

【図８０】同連続式溶融めっき法のワイピングガスの衝
突圧の分布状態の説明図である。

【図８１】（ａ）同連続式溶融めっき法に用いる他のワ
イピングノズル及びワイピングガスの吹き出し圧の分布
状態の説明図である。 （ｂ）同連続式溶融めっき法に用いる他のワイピングノ
ズルの説明図である。

【図８２】同連続式溶融めっき法に用いるダミープレー
ト及びワイピングガスの衝突圧の分布状態の説明図であ
る。

【図８３】同連続式溶融めっき法のワイピングガスの吹
き出し圧及びワイピングガスの衝突圧の分布状態の説明
図である。

【図８４】同連続式溶融めっき法のワイピングガスの流
れの説明図である。

【符号の説明】

１０ ワイピングノズル １１ 主ノズル １１ａ 尖頭部 １１ｂ 主スリ
ット １１ｃ ガス吐出圧調整室 １１ｄ 補助ノ
ズル支持案内室 １１ｅ ガス供給圧調整室 １１ｆ 上流側
供給路 １１ｇ 下流側供給路 １１ｈ スライ
ドレール １１ｉ スライダ １１ｊ 雌ねじ
部 １１ｋ 送りねじ（ボールねじ） １１ｍ 蓋板 １２ 補助ノズル １２′ 補助ノ
ズル １２ａ 尖頭部 １２ｂ 補助ス
リット １２ｃ ガス供給室 １２ｃ′ガス供
給室 １２ｃ″ ガス供給室 １２ｄ ガス供
給室 １２ｅ ガス供給室 １３ ガス供給
用配管 １３ａ ガス供給用配管 １３ｂ ガス供
給用配管 １４ａ 補助スリット用盲板 １４ｂ 補助ス
リット用盲板 １６ ストリップ １７ ガス供給
管 ２０ ワイピングノズル ２２ 補助ノズ
ル ２２′ 補助ノズル ２２ｂ 補助ス
リット ２２ｄ ガス供給室 ２２ｅ ガス供
給室 ２３ａ ガス供給用配管 ２３ｂ ガス供
給用配管 ２４ａ 補助スリット用盲板 ２４ａ′ 補助
スリット用盲板 ２４ｂ 補助スリット用盲板 ２４ｂ′ 補助
スリット用盲板 ７０ ワイピングノズル ７２′ 補助ノ
ズル ７２ｃ ガス供給室 ７２ｄ ガス供
給室 ７２ｅ ガス供給室 ７３ａ ガス供
給用配管 ７３ｂ ガス供給用配管 ７３ｃ ガス供
給用配管 ７４ａ 主補スリット用盲板 ７４ｂ 主スリ
ット用盲板 ７４ｃ 主補スリット用盲板 ８０ ワイピン
グノズル ８２′ 補助ノズル ８２ｃ ガス供
給室 ８２ｄ ガス供給室 ８２ｅ ガス供
給室 ８３ａ ガス供給用配管 ８３ｂ ガス供
給用配管 ８３ｃ ガス供給用配管 ８４ａ 主補ス
リット用盲板 ８４ａ′ 主補スリット用盲板 ８４ｂ 主補ス
リット用盲板 ８４ｂ′ 主補スリット用盲板 ８４ｃ 主補ス
リット用盲板 ８４ｃ′ 主補スリット用盲板 ８４ｄ 主補ス
リット用盲板 ８４ｄ′ 主補スリット用盲板 ８５ａ 主スリ
ット用盲板 ８５ｂ 主スリット用盲板 Ｗ すきま

フロントページの続き (72)発明者 山本 雅章 福岡県北九州市戸畑区飛幡町１番１号 新 日本製鐵株式会社八幡製鐵所内 (72)発明者 小浦 克彦 福岡県北九州市戸畑区飛幡町１番１号 新 日本製鐵株式会社八幡製鐵所内 (72)発明者 正地 貴博 福岡県北九州市戸畑区飛幡町１番１号 新 日本製鐵株式会社八幡製鐵所内

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 溶融金属浴を通過したストリップを、該
   ストリップの板幅（Ｌ₁ ）より長尺に形成され、かつ、
   前記溶融金属浴の上方で対峙された一対のワイピングノ
   ズルの間を通過させながら、該ワイピングノズルから前
   記ストリップの表裏面にワイピングガスを吹き付けて、
   前記ストリップのエッジオーバーコート及びスプラッシ
   ュを防止しながら、前記ストリップの表裏面の溶融金属
   膜の厚さを調整する連続式溶融めっきにおけるワイピン
   グガスの圧力制御方法であって、 前記ワイピングガスの吐出領域を、 前記ストリップの板幅（Ｌ₁ ）の両側に、その両端から
   それぞれ１００ｍｍ未満の幅（Ｌ₂₁）を加えた幅（Ｌ₁
   ＋２・Ｌ₂₁）を持って、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピ
   ングガスを吹き出し、前記ストリップの表裏面の溶融金
   属膜のワイピングを行う基準吐出圧域と、 前記基準吐出圧域の両側に、その両端からそれぞれ２０
   ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を持って、前記吐出圧（Ｐ₀ ）よ
   り低くかつ大気圧を越える吐出圧（Ｐ₁ ）でワイピング
   ガスを吹き出す背圧域とに区分したことを特徴とする連
   続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方
   法。
2. 【請求項２】 溶融金属浴を通過したストリップを、該
   ストリップの板幅（Ｌ₁ ）より長尺に形成され、かつ、
   前記溶融金属浴の上方で対峙された一対のワイピングノ
   ズルの間を通過させながら、該ワイピングノズルから前
   記ストリップの表裏面にワイピングガスを吹き付けて、
   前記ストリップのエッジオーバーコート及びスプラッシ
   ュを防止しながら、前記ストリップの表裏面の溶融金属
   膜の厚さを調整する連続式溶融めっきにおけるワイピン
   グガスの圧力制御方法であって、 前記ワイピングガスの吐出領域を、 前記ストリップの板幅（Ｌ₁ ）の両側に、その両端から
   それぞれ５０ｍｍ以上１００ｍｍ以下の幅（Ｌ₂₁）を加
   えた幅（Ｌ₁ ＋２・Ｌ₂₁）を持って、所定の吐出圧（Ｐ
   ₀ ）でワイピングガスを吹き出し、前記ストリップの表
   裏面の溶融金属膜のワイピングを行う基準吐出圧域と
   し、 前記基準吐出圧域の両側に、その両端からそれぞれ２０
   ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を有する大気圧域を設けたことを
   特徴とするワイピングガスの圧力制御方法。
3. 【請求項３】 溶融金属浴を通過したストリップを、該
   ストリップの板幅（Ｌ₁ ）より長尺に形成され、かつ、
   前記溶融金属浴の上方で対峙された一対のワイピングノ
   ズルの間を通過させながら、該ワイピングノズルから前
   記ストリップの表裏面にワイピングガスを吹き付けて、
   前記ストリップのエッジオーバーコート及びスプラッシ
   ュを防止しながら、前記ストリップの表裏面の溶融金属
   膜の厚さを調整する連続式溶融めっきにおけるワイピン
   グガスの圧力制御方法であって、 前記ワイピングガスの吐出領域を、 前記ストリップの板幅（Ｌ₁ ）を持って、所定の吐出圧
   （Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出し、前記ストリップ
   の表裏面の溶融金属膜のワイピングを行う基準吐出圧域
   と、 前記基準吐出圧域の両側に、その両端からそれぞれ２０
   ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₁）を持って、（０．１・Ｐ₀ ）≦
   （Ｐ₂ ）≦（０．８・Ｐ₀ ）の吐出圧（Ｐ₂ ）でワイピ
   ングガスを吹き出し、前記ストリップの両端のガス流を
   整える背圧域とに区分したことを特徴とする連続式溶融
   めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法。
4. 【請求項４】 溶融金属浴を通過したストリップを、該
   ストリップの板幅（Ｌ₁ ）より長尺に形成され、かつ、
   前記溶融金属浴の上方で対峙された一対のワイピングノ
   ズルの間を通過させながら、該ワイピングノズルから前
   記ストリップの表裏面にワイピングガスを吹き付けて、
   前記ストリップのエッジオーバーコート及びスプラッシ
   ュを防止しながら、前記ストリップの表裏面の溶融金属
   膜の厚さを調整する連続式溶融めっきにおけるワイピン
   グガスの圧力制御方法であって、 前記ワイピングガスの吐出領域を、 前記ストリップの板幅（Ｌ₁ ）の両側に、その両端から
   それぞれ２００ｍｍ未満の幅（Ｌ₂₂）を加えた幅（Ｌ₁
   ＋２・Ｌ₂₂）を持って、所定の吐出圧（Ｐ₀ ）でワイピ
   ングガスを吹き出し、前記ストリップの表裏面の溶融金
   属膜のワイピングを行う基準吐出圧域と、 前記基準吐出圧域の両側に、その両端からそれぞれ２０
   ｍｍ以上１００ｍｍ以下の幅（Ｌ₄₁）を持って、前記吐
   出圧（Ｐ₀ ）より低く大気圧を越える吐出圧（Ｐ₁ ）で
   ワイピングガスを吹き出す背圧域とに区分し、 前記背圧域の両側に、その両端からそれぞれ２０ｍｍ以
   上の幅（Ｌ₃₁）を有する大気圧域を設けたことを特徴と
   する連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制
   御方法。
5. 【請求項５】 溶融金属浴を通過したストリップを、該
   ストリップの板幅（Ｌ₁ ）より長尺に形成され、かつ、
   前記溶融金属浴の上方で対峙された一対のワイピングノ
   ズルの間を通過させながら、該ワイピングノズルから前
   記ストリップの表裏面にワイピングガスを吹き付けて、
   前記ストリップのエッジオーバーコート及びスプラッシ
   ュを防止しながら、前記ストリップの表裏面の溶融金属
   膜の厚さを調整する連続式溶融めっきにおけるワイピン
   グガスの圧力制御方法であって、 前記ワイピングガスの吐出領域を、 前記ストリップの板幅（Ｌ₁ ）の両側に、その両端から
   それぞれ１００ｍｍ以上２００ｍｍ以下の幅（Ｌ₄₂）を
   加えた幅（Ｌ₁ ＋２・Ｌ₄₂）を持って、所定の吐出圧
   （Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出し、前記ストリップ
   の表裏面の溶融金属膜のワイピングを行う基準吐出圧域
   とし、 前記基準吐出圧域の両側に、その両端からそれぞれ４０
   ｍｍ以上の幅（Ｌ₃₂）を有する大気圧域を設けたことを
   特徴とするワイピングガスの圧力制御方法。
6. 【請求項６】 溶融金属浴を通過したストリップを、該
   ストリップの板幅（Ｌ₁ ）より長尺に形成され、かつ、
   前記溶融金属浴の上方で対峙された一対のワイピングノ
   ズルの間を通過させながら、該ワイピングノズルから前
   記ストリップの表裏面にワイピングガスを吹き付けて、
   前記ストリップのエッジオーバーコート及びスプラッシ
   ュを防止しながら、前記ストリップの表裏面の溶融金属
   膜の厚さを調整する連続式溶融めっきにおけるワイピン
   グガスの圧力制御方法であって、 前記ワイピングガスの吐出領域を、 前記ストリップの板幅（Ｌ₁ ）を持って、所定の吐出圧
   （Ｐ₀ ）でワイピングガスを吹き出し、前記ストリップ
   の表裏面の溶融金属膜のワイピングを行う基準吐出圧域
   と、 前記基準吐出圧域の両側に、その両端からそれぞれ２０
   ｍｍ以上１００ｍｍ以下の幅（Ｌ₄₁）を持って、（０．
   ２・Ｐ₀ ）以上の吐出圧（Ｐ₃ ）でワイピングガスを吹
   き出し、前記ストリップの両端のガス流を整える背圧域
   とに区分し、 前記背圧域の両側に、その両端からそれぞれ２０ｍｍ以
   上の幅（Ｌ₃₁）を有する大気圧域を設けたことを特徴と
   する連続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制
   御方法。
7. 【請求項７】 前記基準吐出圧域の吐出圧（Ｐ₀ ）を、
   その両側部で高くして、エッジオーバーコートを積極的
   に防止したことを特徴とする請求項１、２、４、５のい
   ずれか１項に記載の連続式溶融めっきにおけるワイピン
   グガスの圧力制御方法。
8. 【請求項８】 溶融金属浴を通過したストリップとの対
   向部に、前記ストリップの板幅方向に沿って、所定の間
   隙を持って形成された主スリットを備えた主ノズルと、 該主ノズル内に、隙間を有して移動可能に配置され、前
   記主スリットに方向を合わせた補助スリットを備えた補
   助ノズルと、 取付け取り外し可能に装着され、前記補助ノズルの補助
   スリットの一部、又は、全部を閉塞する補助スリット用
   盲板とを有することを特徴とする連続式溶融めっきにお
   けるワイピングガスの圧力制御方法に用いるワイピング
   ノズル。
9. 【請求項９】 前記主ノズルの主スリット、及び、前記
   補助ノズルの補助スリットを閉塞する主補スリット用盲
   板が設けられていることを特徴とする請求項８記載の連
   続式溶融めっきにおけるワイピングガスの圧力制御方法
   に用いるワイピングノズル。