JPH0920710A - 2−エチルヘキサナールの製法 - Google Patents
2−エチルヘキサナールの製法Info
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- JPH0920710A JPH0920710A JP8176920A JP17692096A JPH0920710A JP H0920710 A JPH0920710 A JP H0920710A JP 8176920 A JP8176920 A JP 8176920A JP 17692096 A JP17692096 A JP 17692096A JP H0920710 A JPH0920710 A JP H0920710A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
- C07C45/62—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by hydrogenation of carbon-to-carbon double or triple bonds
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 2−エチルヘキセ−2−エナールの触媒作用
下での水素化による2−エチルヘキサナールの製法 【解決手段】 水素化を、前後に接続された複数の環系
中で実施し、この際、2−エチルヘキセ−2−エナール
を第1反応器の水素化生成物の一部分と一緒に第1反応
器の頭頂部に導入し、第1反応器の残分を第2反応器の
水素化生成物の一部分と一緒に第2反応器の頭頂部に導
入し、第2反応器の残分を次の反応器の水素化生成物の
一部分と一緒に次の反応器の頭頂部に導入し、後続の環
系中でも同様な操作を行い、最後の反応器の水素化生成
物の残分から、2−エチルヘキサナールを取得する。
下での水素化による2−エチルヘキサナールの製法 【解決手段】 水素化を、前後に接続された複数の環系
中で実施し、この際、2−エチルヘキセ−2−エナール
を第1反応器の水素化生成物の一部分と一緒に第1反応
器の頭頂部に導入し、第1反応器の残分を第2反応器の
水素化生成物の一部分と一緒に第2反応器の頭頂部に導
入し、第2反応器の残分を次の反応器の水素化生成物の
一部分と一緒に次の反応器の頭頂部に導入し、後続の環
系中でも同様な操作を行い、最後の反応器の水素化生成
物の残分から、2−エチルヘキサナールを取得する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、2−エチルヘキセ
−2−エナールの触媒作用水素化により2−エチルヘキ
サナールを製造する方法に関する。
−2−エナールの触媒作用水素化により2−エチルヘキ
サナールを製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】2−エチルヘキサナールは、香料の合成
のために使用され、2−エチルヘキサン酸の前駆体であ
る。
のために使用され、2−エチルヘキサン酸の前駆体であ
る。
【0003】2−エチルヘキセナールの触媒作用下での
水素化により2−エチルヘキサナールを連続的に製造す
る方法は公知である:連続的水素化で殆ど完全な変換率
を達成するためには、原則的に二つの方法がある: a)これを管状反応器(充分な長さを有する反応管)中
の直線的通路中で水素化する b)水素化を2反応器中で実施する。大抵は環系(Schl
aufen)作業法で操作される第1反応器に、直線的通路
中で水素化を行う第2反応器が仕上げのために後接続さ
れている。
水素化により2−エチルヘキサナールを連続的に製造す
る方法は公知である:連続的水素化で殆ど完全な変換率
を達成するためには、原則的に二つの方法がある: a)これを管状反応器(充分な長さを有する反応管)中
の直線的通路中で水素化する b)水素化を2反応器中で実施する。大抵は環系(Schl
aufen)作業法で操作される第1反応器に、直線的通路
中で水素化を行う第2反応器が仕上げのために後接続さ
れている。
【0004】ドイツ特許公開(DE−OS)第1941
634号では、特別に製造されたPd/SiO2−触媒
を用いる水素化が請求されている。この反応は、環系作
業法で1工程で実施されている。この処理量は、0.4
〜0.6[kg/触媒l・h]である。実施例によれ
ば、変換率は99.1%で、2−エチルヘキサナールの
選択率は97.8%である。
634号では、特別に製造されたPd/SiO2−触媒
を用いる水素化が請求されている。この反応は、環系作
業法で1工程で実施されている。この処理量は、0.4
〜0.6[kg/触媒l・h]である。実施例によれ
ば、変換率は99.1%で、2−エチルヘキサナールの
選択率は97.8%である。
【0005】ドイツ特許公開(DE−OS)第2008
128号には、特別な利点として10〜50m/hの触
媒の表面効率の使用が明らかにされる1工程の環系作業
法が記載されている。0.325[l/触媒kg・h]
の処理量で、99.2%の変換率が達成されている。選
択率の記載はない。
128号には、特別な利点として10〜50m/hの触
媒の表面効率の使用が明らかにされる1工程の環系作業
法が記載されている。0.325[l/触媒kg・h]
の処理量で、99.2%の変換率が達成されている。選
択率の記載はない。
【0006】これら二つの文献中では、空時収率が経済
的観点で低すぎる。
的観点で低すぎる。
【0007】米国特許第4018831号には、ニッケ
ル−触媒を用いる液相水素化が記載されている。1.1
[kg/触媒kg・h]の処理量の際に、殆ど100%
の変換率及び97.5%の選択率に達する。ここでは、
選択率は満足しうるものではない。
ル−触媒を用いる液相水素化が記載されている。1.1
[kg/触媒kg・h]の処理量の際に、殆ど100%
の変換率及び97.5%の選択率に達する。ここでは、
選択率は満足しうるものではない。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、2
−エチルヘキセ−2−エナールの触媒作用下での水素化
により、経済的な方法で、かつ高い選択率で、2−エチ
ルヘキサナールを製造することを可能とする方法を提供
することである。
−エチルヘキセ−2−エナールの触媒作用下での水素化
により、経済的な方法で、かつ高い選択率で、2−エチ
ルヘキサナールを製造することを可能とする方法を提供
することである。
【0009】ところで、触媒作用下での水素化を、前後
に接続された複数の環系、有利に2環系作業法で(図1
参照)実施する際に、殆ど完全な変換率及び優れた選択
率が達成されることを発見した。この場合、2−エチル
ヘキセ−2−エナールを第1反応器の水素化生成物の一
部分中に供給し、この混合物を第1反応器の頭頂部に導
入するのが好適である。第1反応器の水素化受器から、
レベル調節された水素化生成物を第2反応器の環系中に
導く。この混合物を、第2反応器の頭頂部に流す。第2
反応器の水素化受器から状態調節された水素化生成物が
流出される。
に接続された複数の環系、有利に2環系作業法で(図1
参照)実施する際に、殆ど完全な変換率及び優れた選択
率が達成されることを発見した。この場合、2−エチル
ヘキセ−2−エナールを第1反応器の水素化生成物の一
部分中に供給し、この混合物を第1反応器の頭頂部に導
入するのが好適である。第1反応器の水素化受器から、
レベル調節された水素化生成物を第2反応器の環系中に
導く。この混合物を、第2反応器の頭頂部に流す。第2
反応器の水素化受器から状態調節された水素化生成物が
流出される。
【0010】例えば2環系作業法での本発明の方法は、
慣用の方法(第1工程 環系;第2工程 直線的通路)
と比べて、同じ触媒量(二つの反応器中の合計量)の際
に、生成物量を30%以上も高めることができる。9
9.9%の変換率の際に達成される選択率は、99%以
上である。
慣用の方法(第1工程 環系;第2工程 直線的通路)
と比べて、同じ触媒量(二つの反応器中の合計量)の際
に、生成物量を30%以上も高めることができる。9
9.9%の変換率の際に達成される選択率は、99%以
上である。
【0011】従って、本発明の課題は、2−エチルヘキ
セ−2−エナールの触媒作用下での水素化による2−エ
チルヘキサナールの製法であり、これは、前後に接続さ
れた複数の環系中で水素化を行い、この際に、2−エチ
ルヘキセ−2−エナールを第1反応器の水素化生成物の
一部分と一緒に第1反応器の頭頂部に導入し、第1反応
器の水素化生成物の残分を第2反応器の水素化生成物の
一部分と一緒に第2反応器の塔頂部に導入し、第2反応
器の水素化生成物の残分を次の反応器の水素化生成物の
一部分と一緒に次の反応器の頭頂部に導入し、後続の環
系中でも同様に操作し、最後の反応器の水素化生成物の
残分から、2−エチルヘキサナールを取得する。
セ−2−エナールの触媒作用下での水素化による2−エ
チルヘキサナールの製法であり、これは、前後に接続さ
れた複数の環系中で水素化を行い、この際に、2−エチ
ルヘキセ−2−エナールを第1反応器の水素化生成物の
一部分と一緒に第1反応器の頭頂部に導入し、第1反応
器の水素化生成物の残分を第2反応器の水素化生成物の
一部分と一緒に第2反応器の塔頂部に導入し、第2反応
器の水素化生成物の残分を次の反応器の水素化生成物の
一部分と一緒に次の反応器の頭頂部に導入し、後続の環
系中でも同様に操作し、最後の反応器の水素化生成物の
残分から、2−エチルヘキサナールを取得する。
【0012】本発明の方法では、前後に接続された2つ
の環系中で水素化を実施するのが有利であり、この際、
2−エチルヘキセ−2−エナールを、第1反応器の水素
化生成物の一部分と一緒に第1反応器の頭頂部に導入
し、第1反応器の水素化生成物の残分を、第2反応器の
水素化生成物の一部分と一緒に第2反応器の塔頂部に導
入し、第2反応器の水素化生成物の残分を、次の反応器
の水素化生成物の一部分と一緒に次の反応器の頭頂部に
導入し、第2反応器の水素化生成物の残分から、2−エ
チルヘキサナールを取得する。
の環系中で水素化を実施するのが有利であり、この際、
2−エチルヘキセ−2−エナールを、第1反応器の水素
化生成物の一部分と一緒に第1反応器の頭頂部に導入
し、第1反応器の水素化生成物の残分を、第2反応器の
水素化生成物の一部分と一緒に第2反応器の塔頂部に導
入し、第2反応器の水素化生成物の残分を、次の反応器
の水素化生成物の一部分と一緒に次の反応器の頭頂部に
導入し、第2反応器の水素化生成物の残分から、2−エ
チルヘキサナールを取得する。
【0013】本発明の方法での水素化は、全ての反応器
中で乱流でも又は層流でも実施することができる。この
水素化を、少なくとも第1反応器中では乱流で実施する
ことも有利である。更に、ここでは、全ての反応器中で
液相で水素化するのが有利である。
中で乱流でも又は層流でも実施することができる。この
水素化を、少なくとも第1反応器中では乱流で実施する
ことも有利である。更に、ここでは、全ての反応器中で
液相で水素化するのが有利である。
【0014】本発明の方法での水素化を40〜150℃
の温度で、特に80〜130℃で実施するのが有利であ
る。更に、これらの反応器中での水素化を、異なる温度
水準で実施することも有利であり、この際には、例え
ば、第2の又は引き続く反応器を、第1の又は先行反応
器よりも低い温度で操作する。
の温度で、特に80〜130℃で実施するのが有利であ
る。更に、これらの反応器中での水素化を、異なる温度
水準で実施することも有利であり、この際には、例え
ば、第2の又は引き続く反応器を、第1の又は先行反応
器よりも低い温度で操作する。
【0015】一般に、本発明の方法は、減圧下に操作す
る。ここで、反応器中での水素化を1〜100バール
(絶対)、特に1〜20バール(絶対)の圧力で実施す
るのが有利である。更に、本発明の方法の反応器中での
水素化を、異なる圧力水準で実施するのが有利であり、
この際には、例えば、第2の又はそれに続く反応器を、
第1の又は先行反応器よりも低い圧力で操作する。
る。ここで、反応器中での水素化を1〜100バール
(絶対)、特に1〜20バール(絶対)の圧力で実施す
るのが有利である。更に、本発明の方法の反応器中での
水素化を、異なる圧力水準で実施するのが有利であり、
この際には、例えば、第2の又はそれに続く反応器を、
第1の又は先行反応器よりも低い圧力で操作する。
【0016】反応器中の触媒装荷物としては、このため
に好適な慣用の水素化触媒、例えば0.5%Pd/Al
2O3(Fa.Engelhard)を使用することができる。
に好適な慣用の水素化触媒、例えば0.5%Pd/Al
2O3(Fa.Engelhard)を使用することができる。
【0017】本発明の方法では、反応器中での水素化
を、パラジウム触媒を用いて実施するのが有利であり、
この際には、パラジウム触媒を酸化アルミニウム製担体
上に担持させるのが特に有利である。
を、パラジウム触媒を用いて実施するのが有利であり、
この際には、パラジウム触媒を酸化アルミニウム製担体
上に担持させるのが特に有利である。
【0018】本発明の方法は、非常に良好な収率及び極
めて高い選択率で、2−エチルヘキサナールの特に経済
的な製造を可能にする。
めて高い選択率で、2−エチルヘキサナールの特に経済
的な製造を可能にする。
【0019】
【実施例】次の実施例は、本発明を詳細に説明するもの
であり、その使用範囲を限定するものではない: 例1 水素化装置(図1参照)は、次の寸法の2個の構造的に
同じ反応器を有する:φc=42mm;l=1500m
m。
であり、その使用範囲を限定するものではない: 例1 水素化装置(図1参照)は、次の寸法の2個の構造的に
同じ反応器を有する:φc=42mm;l=1500m
m。
【0020】双方の反応器には、それぞれ、触媒(0.
5%Pd/Al2O3)1.9リットルが充填されてい
る。
5%Pd/Al2O3)1.9リットルが充填されてい
る。
【0021】工業用2−エチルヘキセナール(2−エチ
ルヘキセナール96%、2−エチルヘキサノール0.0
2%)を部分水素化された使用物質(ブロア1からの)
で希釈して第1反応器の頭頂部に導入する(第1サイク
ル)。
ルヘキセナール96%、2−エチルヘキサノール0.0
2%)を部分水素化された使用物質(ブロア1からの)
で希釈して第1反応器の頭頂部に導入する(第1サイク
ル)。
【0022】ブロア(Blase)1から水素化生成物を、
レベル調節して第2反応器の環系中に導入する。ブロア
2からレベル調節下に工業用2−エチルヘキサナールが
流出される。
レベル調節して第2反応器の環系中に導入する。ブロア
2からレベル調節下に工業用2−エチルヘキサナールが
流出される。
【0023】この反応器中では、次の反応条件が存在す
る: 反応器1 反応器2 処理量 6.19kg/h 6.26kg/h 循環量 130 kg/h 65 kg/h H2−圧 15 バール 15 バール 平均温度 124 ℃ 116 ℃ 排ガス量 220 Nl/h 110 Nl/h 準定常状態の調節の後に、次の品質の水素化物が得られ
た: 2−エチルヘキセナール 0.09重量% 2−エチルヘキサナール 95.46重量% 2−エチルヘキサノール 0.46重量% このことは、変換率99.9%及び選択率99.4%に
相当する。
る: 反応器1 反応器2 処理量 6.19kg/h 6.26kg/h 循環量 130 kg/h 65 kg/h H2−圧 15 バール 15 バール 平均温度 124 ℃ 116 ℃ 排ガス量 220 Nl/h 110 Nl/h 準定常状態の調節の後に、次の品質の水素化物が得られ
た: 2−エチルヘキセナール 0.09重量% 2−エチルヘキサナール 95.46重量% 2−エチルヘキサノール 0.46重量% このことは、変換率99.9%及び選択率99.4%に
相当する。
【0024】比較例 例1とは対照的に、ここでは、第2反応器の循環を行わ
ない(循環量0)。限界条件(変換率≧99.9%及び
選択率>99%)の保持及びできるだけ大きい処理量の
保持努力下で、次の反応条件が認められた: 反応器1 反応器2 処理量 4.74kg/h ≦4.79kg/h 循環量 130 kg/h 0 kg/h H2−圧 15 バール 15 バール 平均温度 100 ℃ 90 ℃ 排ガス量 160 Nl/h 60 Nl/h 以上のことから、本発明の装置中での2環系作業実施の
使用の際に、30%より多い2−エチルヘキサナールが
得られることが明らかである。
ない(循環量0)。限界条件(変換率≧99.9%及び
選択率>99%)の保持及びできるだけ大きい処理量の
保持努力下で、次の反応条件が認められた: 反応器1 反応器2 処理量 4.74kg/h ≦4.79kg/h 循環量 130 kg/h 0 kg/h H2−圧 15 バール 15 バール 平均温度 100 ℃ 90 ℃ 排ガス量 160 Nl/h 60 Nl/h 以上のことから、本発明の装置中での2環系作業実施の
使用の際に、30%より多い2−エチルヘキサナールが
得られることが明らかである。
【図1】本発明による2環系作業法で水素化を実施する
装置を示す図
装置を示す図
Claims (13)
- 【請求項1】 2−エチルヘキセ−2−エナールの触媒
作用下での水素化により2−エチルヘキサナールを製造
する場合に、水素化を、前後に接続された複数の環系中
で実施し、この際、2−エチルヘキセ−2−エナールを
第1反応器の水素化生成物の一部分と一緒に第1反応器
の頭頂部に導入し、第1反応器の残分を第2反応器の水
素化生成物の一部分と一緒に第2反応器の頭頂部に導入
し、第2反応器の残分を次の反応器の水素化生成物の一
部分と一緒に次の反応器の頭頂部に導入し、後続の環系
中でも同様に操作し、最後の反応器の水素化生成物の残
分から、2−エチルヘキサナールを取得することを特徴
とする、2−エチルヘキサナールの製法。 - 【請求項2】 前後に接続された2つの環系中で水素化
を実施し、この際、2−エチルヘキセ−2−エナールを
第1反応器の水素化生成物の一部分と一緒に第1反応器
の頭頂部に導入し、第1反応器の残分を第2反応器の水
素化生成物の一部分と一緒に第2反応器の頭頂部に導入
し、第2反応器の水素化生成物の残分から、2−エチル
ヘキサナールを取得する、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 すべての反応器中で液相で水素化を行
う、請求項1又は2に記載の方法。 - 【請求項4】 全ての反応器中の流れは層流である、請
求項1から請求項3のいずれかに記載の方法。 - 【請求項5】 全ての反応器中の流れは乱流である、請
求項1から請求項3のいずれかに記載の方法。 - 【請求項6】 水素化を40〜150℃の温度で実施す
る、請求項1から請求項5のいずれかに記載の方法。 - 【請求項7】 水素化を80〜130℃の温度で実施す
る、請求項6に記載の方法。 - 【請求項8】 反応器中での水素化を異なる温度水準で
実施する、請求項1から請求項7のいずれかに記載の方
法。 - 【請求項9】 水素化を1〜100バール(絶対)の圧
力で実施する、請求項1から請求項8のいずれかに記載
の方法。 - 【請求項10】 水素化を5〜20バール(絶対)の圧
力で実施する、請求項9に記載の方法。 - 【請求項11】 反応器中での水素化を異なる圧力水準
で実施する、請求項1から請求項10のいずれかに記載
の方法。 - 【請求項12】 水素化をパラジウム−触媒を用いて実
施する、請求項1から請求項11のいずれかに記載の方
法。 - 【請求項13】 水素化を酸化アルミニウム製担体上に
担持されたパラジウム−触媒を用いて実施する、請求項
12に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
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