JPH0920519A - 高純度二酸化チタンの製造方法 - Google Patents

高純度二酸化チタンの製造方法

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JPH0920519A
JPH0920519A JP17173695A JP17173695A JPH0920519A JP H0920519 A JPH0920519 A JP H0920519A JP 17173695 A JP17173695 A JP 17173695A JP 17173695 A JP17173695 A JP 17173695A JP H0920519 A JPH0920519 A JP H0920519A
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titanium dioxide
titanyl sulfate
sulfuric acid
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Akihiro Yoshimoto
昭洋 好本
Mamoru Kubota
守 久保田
Shigeru Nagaoka
茂 長岡
Ryosuke Nakajima
良介 中島
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 硫酸チタニルの二水和物を低温で生成させる
ことにより、低コストで、純度が高い二酸化チタンを製
造する。 【解決手段】 中間的生成物として硫酸チタニルの二水
和物結晶を析出させ、これを溶解した溶液を用いて高純
度二酸化チタンを製造する方法において、硫酸チタニル
二水和物結晶を90℃以下で析出させて、最終的産物で
ある二酸化チタン中の不純物、特にNb及びZrの含有
量を低減させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、純度の高い二酸化
チタンの製造方法に関し、特に硫酸チタニル(Titanium
Sulfate)結晶を中間生成物とする、Nb及びZrの含
有量を低減させた高純度二酸化チタンの製造方法に関す
る。本発明にかかる高純度二酸化チタンは、塗料、樹
脂、繊維、ならびに製紙用等一般顔料用二酸化チタンの
分野でも使用できるが、主に電子材料分野で使用され
る。
【0002】
【従来の技術】二酸化チタン中のNb及びZrは、製品
中の白色度を低下させ、かつ電気的特性を損なう原因と
なるため、これを硫酸チタニル溶液から除去する必要が
ある。
【0003】二酸化チタン中のNbを除去する方法につ
いては、特公平2−22010号公報には、硫酸チタン
溶液には、硫酸チタニルが過飽和していることに着目し
て、これに硫酸チタニル2水塩の種結晶を添加し、減圧
濃縮により、硫酸チタニルを析出する方法が知られてい
るが、Nb共存下では、析出結晶にNbが不純物として
混入するために、純粋な硫酸チタニルを得ることは困難
である。
【0004】また、特開平5−9029号公報では、硫
酸チタン水溶液から硫酸チタニルを沈殿させるに際し
て、硫酸濃度を制御して硫酸チタニル結晶中のNb含有
量を低減させ、結果として二酸化チタン中のNb含有量
を低減させる方法について記載されているが、二酸化チ
タンに対して100〜1000ppmのレベルで十分な
ものではなく、また、不純物がNbに特定されており、
硫酸チタニル結晶析出時の硫酸濃度ならびに析出温度に
よっては、必ずしも工業的に有利な製造条件とは言い難
い。
【0005】したがって、本発明の如く、Nb及びZr
の含有量を低減させた高純度二酸化チタンを得る簡便な
方法は未だ提供されていない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高純度な二
酸化チタンを得る製造方法において、不純物量の一層の
低減化を目的とすると共に、低エネルギー、高収率で、
しかも特別な装置類を使用しない、すなわち低コストで
行う方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明による高純度二酸
化チタンの製造方法は、一旦硫酸チタニル二水和物結晶
を析出させるいわゆるTS法によるもので、硫酸チタニ
ル結晶を90℃以下の低温で析出させることからなる。
【0008】本発明者らは、最終的産物である二酸化チ
タン中における不純物の含有量をより簡便な方法にて一
層の低減化を図り、かつこれを低エネルギー、高収率の
もと、したがって、より低コストで達成せんとして鋭意
研究を重ねた結果、本発明を完成させたものである。
【0009】すなわち、本発明は硫酸チタニル二水和物
結晶の析出温度を90℃以下、なかでもより低温とする
ほど、硫酸チタニル二水和物結晶中の不純物、主にNb
及びZrの含有量が少なくなることを特徴とするもの
で、この不純物含有量が少なくなった硫酸チタニル二水
和物結晶を溶解した溶液、したがって純度が高い硫酸チ
タニル溶液を用いて、高純度の二酸化チタンを得る方法
である。
【0010】本発明者らは、水和二酸化チタンを濃硫酸
に溶解させた硫酸チタン溶液またはイルメナイト鉱石を
濃硫酸に溶解させた硫酸チタニル溶液から、硫酸チタニ
ル二水和物結晶を析出させる際に、上記の硫酸チタン溶
液または硫酸チタニル溶液の硫酸濃度によっては、工業
的収率や析出時間を考慮すると、従来の技術では、沸点
乃至沸点近くの、したがって少なくとも100〜110
℃以上の析出温度を余儀なくされた。この場合、反応タ
ンクおよび関連装置類は特殊なものになり、作業上の安
全性も好ましくないと考えた。総合的に考えると、若干
の収率の低下、析出時間の延長を要しても、より低温で
行うということが結局コスト的に有利になるとの立場よ
り研究を重ねた。
【0011】一方で、最終的産物である二酸化チタンの
品質面、すなわちより不純物含有量を少なくすることの
追求のため、硫酸チタニル結晶成長とこれに含有される
Nb及びZrを中心とする不純物含有量の関係について
鋭意研究を重ねた。その結果、硫酸チタニル二水和物結
晶を90℃以下の低温で析出させると、それに含まれる
不純物含有量が少なくなり、これにより最終的産物であ
る二酸化チタン中の不純物、主にNb及びZrの含有量
がそれぞれ10ppmのオーダーまで低減され、その傾
向は低温になる程顕著であることを見いだした。
【0012】すなわち低いエネルギーで、純度の高い二
酸化チタンを得ることと工程の省略化が可能であること
がわかり、低コストの方向と高品位の方向が一致してい
ることが明らかとなったものである。
【0013】硫酸チタニル二水和物結晶の析出を低温で
行うほど不純物含有量が少なくなる、すなわち、高温で
の反応ほど不純物含有量が多くなるというのは、高エネ
ルギーでの反応になるほど、結晶格子を組むためのエネ
ルギーに加え、不純物元素が結晶格子内に入るのに必要
なエネルギーに対しても十分なものとなることによると
考えられる。
【0014】
【発明の実施の形態】次に本発明における製造方法の詳
細な説明を行う。
【0015】出発原料である、水和二酸化チタンを濃硫
酸に溶解させた硫酸チタン溶液またはイルメナイト鉱石
を濃硫酸に溶解させた硫酸チタニル溶液の純度は特定さ
れず、最終的産物である二酸化チタンの目標純度から判
断されるものであるが、例えばTiO2として100g/
リットルの硫酸チタン溶液においてはNb23として
0.02〜0.15g/リットル、ZrO2として0.0
1〜0.05g/リットル程度の不純物含有量のもので
ある。硫酸チタニル溶液についても同様である。硫酸チ
タン溶液または硫酸チタニル溶液にさらに硫酸を添加
し、H2SO4濃度600〜1000g/リットル、好ま
しくは700〜900g/リットル、TiO2濃度55〜
150g/リットル、好ましくは88〜113g/リット
ル、H2SO4/TiO2重量比を6〜11、好ましくは8
〜10に調整する。反応時における撹拌の有無はいずれ
でも良いが、生成物の流動性を考えると、撹拌は行った
方が好ましい。結晶の析出は、硫酸チタニル二水和物の
種晶の存在下で90℃以下の低温で行うが、最初は30
〜60℃未満、好ましくは40〜60℃未満で1〜5時
間、好ましくは1〜3時間保持し、その後60〜90
℃、好ましくは60〜70℃に昇温して1〜10時間、
好ましくは1〜5時間保持した方が効果的である。これ
は、種晶の成長速度が遅いものほど、不純物含有量が少
なくなることと、種晶の急激な成長が抑制されて粒度分
布が良好となるためである。
【0016】また、硫酸チタニル二水和物の種晶は、全
体の析出時間の短縮のため必要であり、反応溶液の全T
iO2量に対して、TiO2換算にて0.2〜30重量
%、好ましくは5〜15重量%とするのがよい。種晶量
が多くなりすぎると、ある時間から急激な結晶の析出が
生じ、このような生成物中の不純物含有量は多くなると
ともに、生成物の流動性が悪くなるので好ましくない。
種晶とする硫酸チタニルの二水和物結晶の形態は針状粒
子であり、その大きさは、長軸5〜300μm、短軸
0.05〜5μmであればよく、好ましくは長軸20〜
150μm、短軸0.1〜3μmが望ましい。なお、種
晶の不純物含有量は少ない方がよいことは言うまでもな
い。
【0017】次に析出した硫酸チタニル二水和物結晶と
溶液を分離する。この際、ケーキ中にとどまっている溶
液が完全に置換されるまで、硫酸チタニル二水和物結晶
の溶解度がほとんど0に近い、アセトンもしくは無水ア
ルコールにて洗浄することもよいが、工業的には、10
〜90%硫酸を用いるのが好ましい。最も好ましいの
は、50〜80%の硫酸で結晶化していない不完全な硫
酸チタニルの置換洗浄を行った後、さらに0〜20%硫
酸水溶液で迅速に洗浄するのがよい。水もしくは希硫酸
で洗浄を行うと硫酸チタニル二水和物結晶の溶解が生じ
るが、若干の溶解を促した方が、結晶の表面および表面
近くに存在する不純物が取り除かれるので、不純物の洗
浄効果は大きい。
【0018】洗浄を終了した硫酸チタニル結晶は希硫酸
中もしくは水中に溶解し、加水分解に適切な硫酸濃度お
よびTiO2濃度に調製する。加水分解して得られた水
和二酸化チタン(メタチタン酸)をか焼することにより
高純度な二酸化チタンが得られる。
【0019】なお、必要によっては上記方法の繰り返
し、すなわち硫酸チタニル結晶を溶解した硫酸チタニル
溶液より再び硫酸チタニル結晶を析出させ、これを溶解
した硫酸チタニル溶液より高純度二酸化チタンを得るこ
ともできる。
【0020】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に
説明する。以下の実施例は単に例示のために記すもので
あり、発明の範囲がこれらによって制限されるものでは
ない。
【0021】
【実施例1】水和二酸化チタンを濃硫酸に溶解させた硫
酸チタン溶液を出発原料とした。この硫酸チタン溶液は
TiO2濃度200g/リットル、Nb25濃度0.06
g/リットル、ZrO2濃度0.08g/リットルであっ
た。これをTiO2濃度70g/リットル、硫酸濃度60
2g/リットル、H2SO4/TiO2重量比として8.6
に調整して、2リットルをガラス製セパラブルフラスコ
に入れ、新東科学製3−1モーターを用いて撹拌しなが
ら50℃まで加熱した。硫酸チタニル二水和物結晶1
7.2gを種子として添加し、50℃で1時間保持した
後、溶液温度を70℃に昇温して4時間撹拌して保持し
た。生成物を固液分離して、生成物量に対して3倍量の
80%硫酸を用いてシャワー洗浄した後、さらに等倍量
の20%硫酸にて洗浄した。生成物は針状を呈してお
り、X線回折による同定の結果、生成物のピークは、硫
酸チタニル二水和物のピークと一致した。また、収率は
TiO2換算にて92.6%であった。洗浄終了した硫
酸チタニルの二水和物結晶を水中に溶解し、所定濃度に
調整した後、加水分解して水和二酸化チタンを得た。水
和二酸化チタンを900℃で4時間の焼成を行い、ルチ
ル型二酸化チタンを得た。この二酸化チタン中に含有す
るNb量、Zr量の分析を行ったところ、Nb25、Z
rO2として、それぞれ18ppm,0.0ppmであ
った。
【0022】
【実施例2】実施例1において、溶液温度を50℃とし
て1時間保持した後、90℃に調節して3時間撹拌保持
する以外は同様にして行い、ルチル型二酸化チタンを得
た。この二酸化チタン中に含有するNb量、Zr量の分
析を行ったところ、Nb25、ZrO2として、それぞれ
35ppm,5ppmであった。
【0023】
【実施例3】実施例1において、溶液温度を一旦50℃
とすることなく、90℃に調節して3時間撹拌保持する
以外は同様にして行い、ルチル型二酸化チタンを得た。
この二酸化チタン中に含有するNb量、Zr量の分析を
行ったところ、Nb25、ZrO2として、それぞれ50
ppm,12ppmであった。
【0024】
【比較例1】実施例1と同じ硫酸チタン溶液を出発原料
とした。この硫酸チタニルの溶液を加水分解して水和二
酸化チタンを得た後、900℃で4時間の焼成を行い、
ルチル型二酸化チタンを得た。この二酸化チタン中に含
有するNb量、Zr量の分析を行ったところ、Nb
25、ZrO2として、それぞれ260ppm、350p
pmであった。
【0025】
【比較例2】実施例1において、種子としての硫酸チタ
ニル二水和物結晶を添加せず、沸点(116℃)にて析
出させる以外は同様にして行い、ルチル型二酸化チタン
を得た。この二酸化チタン中に含有するNb量、Zr量
の分析を行ったところ、Nb25、ZrO2として、それ
ぞれ120ppm、30ppmであった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中島 良介 山口県宇部市大字小串1978番地の25 チタ ン工業株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水和二酸化チタンを濃硫酸に溶解させた
    硫酸チタン溶液またはイルメナイト鉱石を濃硫酸に溶解
    させた硫酸チタニル溶液を出発原料とし、一旦硫酸チタ
    ニルの二水和物結晶を析出させ、固液分離した後、硫酸
    チタニルの二水和物結晶を溶解させた溶液を加水分解し
    て水和二酸化チタンを得て、これを焼成し二酸化チタン
    を得る方法において、硫酸チタニル二水和物の種晶の存
    在下で硫酸チタニル二水和物結晶の析出温度を90℃以
    下の低温で行うことを特徴とする、NbとZrの含有量
    がNb25として50ppm以下、ZrO2として20
    ppm以下である高純度二酸化チタンの製造方法。
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