JPH09202787A - ヘテロ原子を含有するシクロペンタノピリジル−オキサゾリジノン類 - Google Patents
ヘテロ原子を含有するシクロペンタノピリジル−オキサゾリジノン類Info
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 抗バクテリア剤として有用なヘテロ原子を含
有するシクロペンタノピリジル−オキサゾリジノン類を
提供すること。 【解決手段】 純粋な立体異性体としてのまたは立体異
性体混合物としての、一般式(I)の化合物。 〔式中、Aは式(II)の基または式(III)の基を:R1
はN3,OR8,O−SO2R9,NR10R11を;DはO,
S,NR5を;E,G,L,Mのうち少くとも一つはN
を,他のものはCR4を;TはO,Sを;R2,R5は水
素,C2〜C8シクロアルキル等を;R3はC1〜C2アル
キル等を;R4は水素,ハロゲン,メチルを;R8は水
素,C8までのアシルまたはヒドロキシル保護基を;R9
はC1〜C4アルキル,C1〜C4アルキルで置換されてい
てもよいフェニルを;R10,R11はC3〜C6シクロアル
キル,水素,C1〜C8アルキル,フェニル等を;表す〕
有するシクロペンタノピリジル−オキサゾリジノン類を
提供すること。 【解決手段】 純粋な立体異性体としてのまたは立体異
性体混合物としての、一般式(I)の化合物。 〔式中、Aは式(II)の基または式(III)の基を:R1
はN3,OR8,O−SO2R9,NR10R11を;DはO,
S,NR5を;E,G,L,Mのうち少くとも一つはN
を,他のものはCR4を;TはO,Sを;R2,R5は水
素,C2〜C8シクロアルキル等を;R3はC1〜C2アル
キル等を;R4は水素,ハロゲン,メチルを;R8は水
素,C8までのアシルまたはヒドロキシル保護基を;R9
はC1〜C4アルキル,C1〜C4アルキルで置換されてい
てもよいフェニルを;R10,R11はC3〜C6シクロアル
キル,水素,C1〜C8アルキル,フェニル等を;表す〕
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】本発明はヘテロ原子を含有するシクロペン
タノピリジル−オキサゾリジノン類、それらの製造方法
および薬剤としての、特に抗バクテリア薬剤としてのそ
れらの使用に関する。
タノピリジル−オキサゾリジノン類、それらの製造方法
および薬剤としての、特に抗バクテリア薬剤としてのそ
れらの使用に関する。
【0002】抗バクテリア活性を有する3−(窒素−置
換された)フェニル−5−ベータ−アミドメチルオキサ
ゾリジン−2−オン類はEP 609 905に開示され
ている。
換された)フェニル−5−ベータ−アミドメチルオキサ
ゾリジン−2−オン類はEP 609 905に開示され
ている。
【0003】さらに、モノアミノキシダーゼ抑制活性を
有するオキサゾリジノン誘導体はWO 93 08 17
9 AおよびEP 657 440に公告されておりそし
て付着受容器拮抗物質としての活性を有するオキサゾリ
ジノン誘導体はEP 645 376に公表されている。
有するオキサゾリジノン誘導体はWO 93 08 17
9 AおよびEP 657 440に公告されておりそし
て付着受容器拮抗物質としての活性を有するオキサゾリ
ジノン誘導体はEP 645 376に公表されている。
【0004】本発明は一般式(I)
【0005】
【化13】
【0006】[式中、Aは式
【0007】
【化14】
【0008】の基を表し、ここでE、G、LおよびMは
同一もしくは相異なりそして置換基の少なくとも1つは
窒素原子を表しそして他のものは式−CR4の基を表
し、ここでR4は水素、メチルまたはハロゲンを表し、
R2は水素、各々炭素数が3〜8のシクロアルキルもし
くはシクロアルキルカルボニル、または炭素数8までの
直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを表し、それは場合
によりヒドロキシル、ハロゲンにより、各々炭素数が6
までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキシ、アルコキ
シカルボニルもしくはアルキルチオによりまたは式−N
R6R7の基により置換されていてもよく、ここでR6お
よびR7は同一もしくは相異なりそして水素、シクロア
ルキル、フェニルまたは炭素数4までの直鎖状もしくは
分枝鎖状のアルキルを示し、R3は各々炭素数が8まで
の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルまたはチオアルキ
ルを示し、Dは酸素もしくは硫黄原子または式−NR5
の基を示し、ここでR5は上記のR2の意味を有し且つこ
れと同一もしくは相異なり、Tは酸素または硫黄原子を
示し、R1はアジド、ヒドロキシルまたは式−OR8、O
−SO2R9もしくは−NR10R11の基を表し、ここでR
8は炭素数8までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアシルま
たはヒドロキシル保護基を示し、R9は炭素数4までの
直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルまたは場合により炭
素数4までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルにより
置換されていてもよいフェニルを示し、R10およびR11
は同一もしくは相異なりそして炭素数3〜6のシクロア
ルキル、水素、フェニルまたは各々炭素数が8までの直
鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルもしくはアルコキシま
たはアミノ保護基を示すか、或いはR10またはR11は式
−CO−R12、−CS−R12′、P(O)(OR13)(OR
14)または−SO2−R15の基を示し、ここでR12および
R12′は同一もしくは相異なりそして水素、炭素数3〜
6のシクロアルキル、トリフルオロメチル、炭素数8ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキシ、フェニル、
ベンジルオキシまたは水素を示すか、或いは炭素数8ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを示し、それは
場合によりシアノ、ハロゲンまたはトリフルオロメチル
により置換されていてもよく、或いは各々炭素数が6ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のチオアルキルまたはアシ
ルを示すか、或いは式−NR16R17の基を示し、ここで
R16およびR17は同一もしくは相異なりそして水素、フ
ェニルまたは炭素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状の
アルキルを示すか、或いは群S、Nおよび/またはOか
らの3個までのヘテロ原子を有する5−員の芳香族複素
環を示し、R13およびR14は同一もしくは相異なりそし
て水素または炭素数4までの直鎖状もしくは分枝鎖状の
アルキルを示し、R15は炭素数4までの直鎖状もしくは
分枝鎖状のアルキルまたはフェニルを示す]のヘテロ原
子を含有するシクロペンタノピリジル−オキサゾリジノ
ン類、およびそれらの塩に関する。
同一もしくは相異なりそして置換基の少なくとも1つは
窒素原子を表しそして他のものは式−CR4の基を表
し、ここでR4は水素、メチルまたはハロゲンを表し、
R2は水素、各々炭素数が3〜8のシクロアルキルもし
くはシクロアルキルカルボニル、または炭素数8までの
直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを表し、それは場合
によりヒドロキシル、ハロゲンにより、各々炭素数が6
までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキシ、アルコキ
シカルボニルもしくはアルキルチオによりまたは式−N
R6R7の基により置換されていてもよく、ここでR6お
よびR7は同一もしくは相異なりそして水素、シクロア
ルキル、フェニルまたは炭素数4までの直鎖状もしくは
分枝鎖状のアルキルを示し、R3は各々炭素数が8まで
の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルまたはチオアルキ
ルを示し、Dは酸素もしくは硫黄原子または式−NR5
の基を示し、ここでR5は上記のR2の意味を有し且つこ
れと同一もしくは相異なり、Tは酸素または硫黄原子を
示し、R1はアジド、ヒドロキシルまたは式−OR8、O
−SO2R9もしくは−NR10R11の基を表し、ここでR
8は炭素数8までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアシルま
たはヒドロキシル保護基を示し、R9は炭素数4までの
直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルまたは場合により炭
素数4までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルにより
置換されていてもよいフェニルを示し、R10およびR11
は同一もしくは相異なりそして炭素数3〜6のシクロア
ルキル、水素、フェニルまたは各々炭素数が8までの直
鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルもしくはアルコキシま
たはアミノ保護基を示すか、或いはR10またはR11は式
−CO−R12、−CS−R12′、P(O)(OR13)(OR
14)または−SO2−R15の基を示し、ここでR12および
R12′は同一もしくは相異なりそして水素、炭素数3〜
6のシクロアルキル、トリフルオロメチル、炭素数8ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキシ、フェニル、
ベンジルオキシまたは水素を示すか、或いは炭素数8ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを示し、それは
場合によりシアノ、ハロゲンまたはトリフルオロメチル
により置換されていてもよく、或いは各々炭素数が6ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のチオアルキルまたはアシ
ルを示すか、或いは式−NR16R17の基を示し、ここで
R16およびR17は同一もしくは相異なりそして水素、フ
ェニルまたは炭素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状の
アルキルを示すか、或いは群S、Nおよび/またはOか
らの3個までのヘテロ原子を有する5−員の芳香族複素
環を示し、R13およびR14は同一もしくは相異なりそし
て水素または炭素数4までの直鎖状もしくは分枝鎖状の
アルキルを示し、R15は炭素数4までの直鎖状もしくは
分枝鎖状のアルキルまたはフェニルを示す]のヘテロ原
子を含有するシクロペンタノピリジル−オキサゾリジノ
ン類、およびそれらの塩に関する。
【0009】ヘテロ原子を含有するシクロペンタノピリ
ジル−オキサゾリジノン類の生理学的に許容可能な塩は
本発明に従う物質と鉱酸、カルボン酸またはスルホン酸
との塩であることができる。特に好適な塩は、例えば、
塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸、メタンスルホン酸、エ
タンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、ナフタレンジスルホン酸、酢酸、プロピオン酸、
乳酸、酒石酸、クエン酸、フマル酸、マレイン酸または
安息香酸とのものである。
ジル−オキサゾリジノン類の生理学的に許容可能な塩は
本発明に従う物質と鉱酸、カルボン酸またはスルホン酸
との塩であることができる。特に好適な塩は、例えば、
塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸、メタンスルホン酸、エ
タンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、ナフタレンジスルホン酸、酢酸、プロピオン酸、
乳酸、酒石酸、クエン酸、フマル酸、マレイン酸または
安息香酸とのものである。
【0010】挙げられる塩は一般的な塩基との塩、例え
ば、アルカリ金属塩(例えばナトリウムもしくはカリウ
ム塩)、アルカリ土類金属塩(例えばカルシウムもしく
はマグネシウム塩)或いはアンモニアまたは有機アミ
ン、例えばジエチルアミン、トリエチルアミン、エチル
ジイソプロピルアミン、プロカイン、ジベンジルアミ
ン、N−メチルモルホリン、ジヒドロアビエチルアミ
ン、1−エフェナミンもしくはメチル−ピペリジン、か
ら誘導されるアンモニウム塩である。
ば、アルカリ金属塩(例えばナトリウムもしくはカリウ
ム塩)、アルカリ土類金属塩(例えばカルシウムもしく
はマグネシウム塩)或いはアンモニアまたは有機アミ
ン、例えばジエチルアミン、トリエチルアミン、エチル
ジイソプロピルアミン、プロカイン、ジベンジルアミ
ン、N−メチルモルホリン、ジヒドロアビエチルアミ
ン、1−エフェナミンもしくはメチル−ピペリジン、か
ら誘導されるアンモニウム塩である。
【0011】C1−C4-アルキルハライド、特にC1−C
4-アルキルアイオダイド、との反応生成物もさらに塩と
して機能することができる。
4-アルキルアイオダイド、との反応生成物もさらに塩と
して機能することができる。
【0012】複素環は一般的にはヘテロ原子として3個
までの酸素、硫黄および/または窒素原子を含有できる
5−〜6−員の飽和もしくは不飽和環を表す。下記のも
のが好適である:チエニル、フリル、ピロリル、ピラゾ
リル、ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニ
ル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、ピロリ
ジニル、ピペリジニルまたはピペラジニル。
までの酸素、硫黄および/または窒素原子を含有できる
5−〜6−員の飽和もしくは不飽和環を表す。下記のも
のが好適である:チエニル、フリル、ピロリル、ピラゾ
リル、ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニ
ル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、ピロリ
ジニル、ピペリジニルまたはピペラジニル。
【0013】上記の定義の概念でのヒドロキシル保護基
は一般的には下記の系からの保護基を表す:トリメチル
シリル、トリイソプロピルシリル、tert−ブチル−
ジメチルシリル、ベンジル、ベンジルオキシカルボニ
ル、2−ニトロベンジル、4−ニトロベンジル、ter
t−ブトキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、4
−メトキシベンジル、4−メトキシベンジルオキシカル
ボニル、テトラヒドロピラニル、ホルミル、アセチル、
トリクロロアセチル、2,2,2−トリクロロエトキシカ
ルボニル、メトキシエトキシメチル、[2−(トリメチル
シリル)エトキシ]メチル、ベンゾイル、4−メチルベン
ゾイル、4−ニトロベンゾイル、4−フルオロベンゾイ
ル、4−クロロベンゾイルまたは4−メトキシベンゾイ
ル。アセチル、tert−ブチルジメチルシリルまたは
テトラヒドロピラニルが好適である。
は一般的には下記の系からの保護基を表す:トリメチル
シリル、トリイソプロピルシリル、tert−ブチル−
ジメチルシリル、ベンジル、ベンジルオキシカルボニ
ル、2−ニトロベンジル、4−ニトロベンジル、ter
t−ブトキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、4
−メトキシベンジル、4−メトキシベンジルオキシカル
ボニル、テトラヒドロピラニル、ホルミル、アセチル、
トリクロロアセチル、2,2,2−トリクロロエトキシカ
ルボニル、メトキシエトキシメチル、[2−(トリメチル
シリル)エトキシ]メチル、ベンゾイル、4−メチルベン
ゾイル、4−ニトロベンゾイル、4−フルオロベンゾイ
ル、4−クロロベンゾイルまたは4−メトキシベンゾイ
ル。アセチル、tert−ブチルジメチルシリルまたは
テトラヒドロピラニルが好適である。
【0014】本発明の概念でのアミノ保護基はペプチド
化学において使用される一般的なアミノ保護基である。
化学において使用される一般的なアミノ保護基である。
【0015】これらには好適には下記のものが包含され
る:ベンジルオキシカルボニル、2,4−ジメトキシベ
ンジルオキシカルボニル、4−メトキシベンジルオキシ
カルボニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、tert−ブトキシカルボニル、アリルオキシカル
ボニル、フタロイル、2,2,2−トリクロロエトキシカ
ルボニル、フルオレニル−9−メトキシカルボニル、ホ
ルミル、アセチル、2−クロロアセチル、2,2,2−ト
リフルオロアセチル、2,2,2−トリクロロアセチル、
ベンゾイル、4−クロロベンゾイル、4−ブロモベンゾ
イル、4−ニトロベンゾイル、フタルイミド、イソバレ
ロイルまたはベンジルオキシメチレン、4−ニトロベン
ジル、2,4−ジニトロベンジル、4−ニトロフェニ
ル、4−メトキシフェニルまたはトリフェニルメチル。
る:ベンジルオキシカルボニル、2,4−ジメトキシベ
ンジルオキシカルボニル、4−メトキシベンジルオキシ
カルボニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、tert−ブトキシカルボニル、アリルオキシカル
ボニル、フタロイル、2,2,2−トリクロロエトキシカ
ルボニル、フルオレニル−9−メトキシカルボニル、ホ
ルミル、アセチル、2−クロロアセチル、2,2,2−ト
リフルオロアセチル、2,2,2−トリクロロアセチル、
ベンゾイル、4−クロロベンゾイル、4−ブロモベンゾ
イル、4−ニトロベンゾイル、フタルイミド、イソバレ
ロイルまたはベンジルオキシメチレン、4−ニトロベン
ジル、2,4−ジニトロベンジル、4−ニトロフェニ
ル、4−メトキシフェニルまたはトリフェニルメチル。
【0016】本発明に従う化合物は像および鏡像として
行動する(鏡像異性体)または像および鏡像として行動
しない(ジアステレオマー)立体異性体形で存在するこ
とができる。本発明は鏡像異性体もしくはジアステレオ
マーまたはそれらの各々の混合物の両者に関する。ジア
ステレオマーと同様に、ラセミ形を既知の方法で立体異
性体的に均一な成分に分離することができる。
行動する(鏡像異性体)または像および鏡像として行動
しない(ジアステレオマー)立体異性体形で存在するこ
とができる。本発明は鏡像異性体もしくはジアステレオ
マーまたはそれらの各々の混合物の両者に関する。ジア
ステレオマーと同様に、ラセミ形を既知の方法で立体異
性体的に均一な成分に分離することができる。
【0017】一般式(I)の好適な化合物は、Aが式
【0018】
【化15】
【0019】の基を表し、ここでE、G、LおよびMが
同一もしくは相異なりそして置換基の少なくとも1つは
窒素原子を表しそして他のものは式−CR4の基を表
し、ここでR4が水素、弗素、塩素または臭素を示し、
R2が水素、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシルまたはシクロヘプチルを示す
か、或いは炭素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状のア
ルキルを示し、それは場合によりヒドロキシル、弗素、
塩素、臭素により、各々炭素数が4までのアルコキシ、
アルコキシカルボニルもしくはアルキルチオによりまた
は式−NR6R7の基により置換されていてもよく、ここ
でR6およびR7が同一もしくは相異なりそして水素、シ
クロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル、フェニルまたは炭素数3までの直鎖状もしく
は分枝鎖状のアルキルを示し、R3が各々炭素数が6ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルまたはチオアル
キルを示し、Dが酸素もしくは硫黄原子または式−NR
5の基を示し、ここでR5が上記のR2の意味を有し且つ
これと同一もしくは相異なり、Tが酸素または硫黄原子
を示し、R1がアジド、ヒドロキシルまたは式−OR8、
O−SO2R9もしくは−NR10R11の基を表し、ここで
R8が炭素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアシル
またはベンジルを示し、R9が炭素数3までの直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキル、フェニルまたはトリルを示
し、R10およびR11が同一もしくは相異なりそしてシク
ロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、水素、
フェニルまたは各々炭素数が6までの直鎖状もしくは分
枝鎖状のアルキルもしくはアルコキシ、tert−ブト
キシカルボニルまたはベンジルオキシカルボニルを示す
か、或いはR10またはR11が式−CO−R12、−CS−
R12′、P(O)(OR13)(OR14)または−SO2−R15
の基を示し、ここでR12およびR12′が同一もしくは相
異なりそして水素、シクロプロピル、シクロブチル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル、トリフルオロメチルま
たは炭素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキ
シ、フェニル、ベンジルオキシまたは水素を示すか、或
いは炭素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル
を示し、それは場合によりシアノ、弗素、塩素、臭素ま
たはトリフルオロメチルにより置換されていてもよく、
或いは各々炭素数が5までの直鎖状もしくは分枝鎖状の
チオアルキルまたはアシルを示すか、或いは式−NR16
R17の基を示し、ここでR16およびR17が同一もしくは
相異なりそして水素、フェニルまたは炭素数4までの直
鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを示すか、或いはイソ
キサゾリル、フリル、チエニル、ピリル、オキサゾリル
またはイミダゾリルを示し、R13およびR14が同一もし
くは相異なりそして水素または炭素数3までの直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキルを示し、R15が炭素数3まで
の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルまたはフェニルを
示す、ものおよびそれらの塩である。
同一もしくは相異なりそして置換基の少なくとも1つは
窒素原子を表しそして他のものは式−CR4の基を表
し、ここでR4が水素、弗素、塩素または臭素を示し、
R2が水素、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシルまたはシクロヘプチルを示す
か、或いは炭素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状のア
ルキルを示し、それは場合によりヒドロキシル、弗素、
塩素、臭素により、各々炭素数が4までのアルコキシ、
アルコキシカルボニルもしくはアルキルチオによりまた
は式−NR6R7の基により置換されていてもよく、ここ
でR6およびR7が同一もしくは相異なりそして水素、シ
クロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル、フェニルまたは炭素数3までの直鎖状もしく
は分枝鎖状のアルキルを示し、R3が各々炭素数が6ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルまたはチオアル
キルを示し、Dが酸素もしくは硫黄原子または式−NR
5の基を示し、ここでR5が上記のR2の意味を有し且つ
これと同一もしくは相異なり、Tが酸素または硫黄原子
を示し、R1がアジド、ヒドロキシルまたは式−OR8、
O−SO2R9もしくは−NR10R11の基を表し、ここで
R8が炭素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアシル
またはベンジルを示し、R9が炭素数3までの直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキル、フェニルまたはトリルを示
し、R10およびR11が同一もしくは相異なりそしてシク
ロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、水素、
フェニルまたは各々炭素数が6までの直鎖状もしくは分
枝鎖状のアルキルもしくはアルコキシ、tert−ブト
キシカルボニルまたはベンジルオキシカルボニルを示す
か、或いはR10またはR11が式−CO−R12、−CS−
R12′、P(O)(OR13)(OR14)または−SO2−R15
の基を示し、ここでR12およびR12′が同一もしくは相
異なりそして水素、シクロプロピル、シクロブチル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル、トリフルオロメチルま
たは炭素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキ
シ、フェニル、ベンジルオキシまたは水素を示すか、或
いは炭素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル
を示し、それは場合によりシアノ、弗素、塩素、臭素ま
たはトリフルオロメチルにより置換されていてもよく、
或いは各々炭素数が5までの直鎖状もしくは分枝鎖状の
チオアルキルまたはアシルを示すか、或いは式−NR16
R17の基を示し、ここでR16およびR17が同一もしくは
相異なりそして水素、フェニルまたは炭素数4までの直
鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを示すか、或いはイソ
キサゾリル、フリル、チエニル、ピリル、オキサゾリル
またはイミダゾリルを示し、R13およびR14が同一もし
くは相異なりそして水素または炭素数3までの直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキルを示し、R15が炭素数3まで
の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルまたはフェニルを
示す、ものおよびそれらの塩である。
【0020】一般式(I)の特に好適な化合物は、Aが
式
式
【0021】
【化16】
【0022】の基を表し、ここでE、G、LおよびMが
同一もしくは相異なりそして置換基の少なくとも1つは
窒素原子を表しそして他のものは式−CR4の基を表
し、ここでR4が水素または弗素を示し、R2が水素、シ
クロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルまたはシ
クロヘキシルを示すか、或いは炭素数5までの直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキルを示し、それは場合によりヒ
ドロキシル、弗素、塩素、臭素により、各々炭素数が3
までのアルコキシ、アルコキシカルボニルもしくはアル
キルチオによりまたは式−NR6R7の基により置換され
ていてもよく、ここでR6およびR7が同一もしくは相異
なりそして水素、シクロプロピル、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、フェニルまたは炭素数3までの直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキルを示し、R3が各々炭素数が
5までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルまたはチオ
アルキルを示し、Dが酸素または硫黄原子を示し、Tが
酸素原子を示し、R1がアジド、ヒドロキシルまたは式
−OR8、O−SO2R9もしくは−NR10R11の基を表
し、ここでR8が炭素数5までの直鎖状もしくは分枝鎖
状のアシルまたはベンジルを示し、R9がメチル、エチ
ル、フェニルまたはトリルを示し、R10およびR11が同
一もしくは相異なりそしてシクロプロピル、シクロペン
チル、シクロヘキシル、水素、フェニルまたは各々炭素
数が5までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルもしく
はアルコキシ、tert−ブトキシカルボニルまたはベ
ンジルオキシカルボニルを示すか、或いはR10またはR
11が式−CO−R12、−CS−R12′、P(O)(OR13)
(OR14)または−SO2−R15の基を示し、ここでR12
およびR12′が同一もしくは相異なりそして水素、シク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、トリフル
オロメチルまたは炭素数5までの直鎖状もしくは分枝鎖
状のアルコキシ、フェニル、ベンジルオキシまたは水素
を示すか、炭素数5までの直鎖状もしくは分枝鎖状のア
ルキルを示し、それは場合によりシアノ、弗素、塩素、
臭素またはトリフルオロメチルにより置換されていても
よく、或いは各々炭素数が4までの直鎖状もしくは分枝
鎖状のチオアルキルまたはアシルを示すか、或いは式−
NR16R17の基を示し、ここでR16およびR17が同一も
しくは相異なりそして水素、フェニルまたは炭素数3ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを示すか、或い
はイソキサゾリル、フリル、オキサゾリルまたはイミダ
ゾリルを示し、R13およびR14が同一もしくは相異なり
そして水素、メチルまたはエチルを示し、R15がメチル
またはフェニルを示す、ものおよびそれらの塩である。
同一もしくは相異なりそして置換基の少なくとも1つは
窒素原子を表しそして他のものは式−CR4の基を表
し、ここでR4が水素または弗素を示し、R2が水素、シ
クロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルまたはシ
クロヘキシルを示すか、或いは炭素数5までの直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキルを示し、それは場合によりヒ
ドロキシル、弗素、塩素、臭素により、各々炭素数が3
までのアルコキシ、アルコキシカルボニルもしくはアル
キルチオによりまたは式−NR6R7の基により置換され
ていてもよく、ここでR6およびR7が同一もしくは相異
なりそして水素、シクロプロピル、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、フェニルまたは炭素数3までの直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキルを示し、R3が各々炭素数が
5までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルまたはチオ
アルキルを示し、Dが酸素または硫黄原子を示し、Tが
酸素原子を示し、R1がアジド、ヒドロキシルまたは式
−OR8、O−SO2R9もしくは−NR10R11の基を表
し、ここでR8が炭素数5までの直鎖状もしくは分枝鎖
状のアシルまたはベンジルを示し、R9がメチル、エチ
ル、フェニルまたはトリルを示し、R10およびR11が同
一もしくは相異なりそしてシクロプロピル、シクロペン
チル、シクロヘキシル、水素、フェニルまたは各々炭素
数が5までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルもしく
はアルコキシ、tert−ブトキシカルボニルまたはベ
ンジルオキシカルボニルを示すか、或いはR10またはR
11が式−CO−R12、−CS−R12′、P(O)(OR13)
(OR14)または−SO2−R15の基を示し、ここでR12
およびR12′が同一もしくは相異なりそして水素、シク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、トリフル
オロメチルまたは炭素数5までの直鎖状もしくは分枝鎖
状のアルコキシ、フェニル、ベンジルオキシまたは水素
を示すか、炭素数5までの直鎖状もしくは分枝鎖状のア
ルキルを示し、それは場合によりシアノ、弗素、塩素、
臭素またはトリフルオロメチルにより置換されていても
よく、或いは各々炭素数が4までの直鎖状もしくは分枝
鎖状のチオアルキルまたはアシルを示すか、或いは式−
NR16R17の基を示し、ここでR16およびR17が同一も
しくは相異なりそして水素、フェニルまたは炭素数3ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを示すか、或い
はイソキサゾリル、フリル、オキサゾリルまたはイミダ
ゾリルを示し、R13およびR14が同一もしくは相異なり
そして水素、メチルまたはエチルを示し、R15がメチル
またはフェニルを示す、ものおよびそれらの塩である。
【0023】一般式(I)の非常に特に好適な化合物
は、オキサゾリジノン基が窒素を含有する環と位置5ま
たは6で結合されているものである。
は、オキサゾリジノン基が窒素を含有する環と位置5ま
たは6で結合されているものである。
【0024】[A]一般式(II)または(III) A−N=C=O (II) または A−CO−N3 (III) [式中、Aは上記の意味を有する]の化合物を不活性溶
媒中で、適宜塩基の存在下に、臭化リチウム/(C4H9)
3P(O)および一般式(IV)
媒中で、適宜塩基の存在下に、臭化リチウム/(C4H9)
3P(O)および一般式(IV)
【0025】
【化17】
【0026】[式中、QはC1−C6-アシルオキシを表
す]のエポキシド類と反応させ、そしてR1=OHの場
合、ヒドロキシル官能基を典型的なエステル加水分解に
よりまたは典型的なエステル交換により遊離させるか、
或いは[B]一般式(V) A−NH−CO2−X (V) [式中、Aは上記の意味を有し、そしてXは典型的な保
護基を表す]の化合物を不活性溶媒中でそして塩基の存
在下で一般式(IV)のエポキシド類と反応させるか、或
いは[C]R1=OHの場合、一般式(III)の化合物を
最初にアルコール中で窒素の除去により一般式(Va) A−NH−CO2−Y (Va) [式中、Aは上記の意味を有し、そしてYは直鎖状もし
くは分枝鎖状のC1−C6-アルキル、好適にはn−ブチ
ルを表す]の化合物に転化し、そしてこれらを第二段階
で不活性溶媒中でそして塩基の存在下に[A]に記載さ
れた通りにして一般式(IV)のエポキシド類と反応させ
るか、或いは[D]一般式(V)の化合物を最初に不活
性溶媒中でそして塩基の存在下に臭化アリルとの反応に
より一般式(VI)
す]のエポキシド類と反応させ、そしてR1=OHの場
合、ヒドロキシル官能基を典型的なエステル加水分解に
よりまたは典型的なエステル交換により遊離させるか、
或いは[B]一般式(V) A−NH−CO2−X (V) [式中、Aは上記の意味を有し、そしてXは典型的な保
護基を表す]の化合物を不活性溶媒中でそして塩基の存
在下で一般式(IV)のエポキシド類と反応させるか、或
いは[C]R1=OHの場合、一般式(III)の化合物を
最初にアルコール中で窒素の除去により一般式(Va) A−NH−CO2−Y (Va) [式中、Aは上記の意味を有し、そしてYは直鎖状もし
くは分枝鎖状のC1−C6-アルキル、好適にはn−ブチ
ルを表す]の化合物に転化し、そしてこれらを第二段階
で不活性溶媒中でそして塩基の存在下に[A]に記載さ
れた通りにして一般式(IV)のエポキシド類と反応させ
るか、或いは[D]一般式(V)の化合物を最初に不活
性溶媒中でそして塩基の存在下に臭化アリルとの反応に
より一般式(VI)
【0027】
【化18】
【0028】[式中、AおよびXは上記の意味を有す
る]の化合物に転化し、次に四酸化オスミウム/N−メ
チルモルホリンN−オキシドを用いて一般式(VII)
る]の化合物に転化し、次に四酸化オスミウム/N−メ
チルモルホリンN−オキシドを用いて一般式(VII)
【0029】
【化19】
【0030】[式中、AおよびXは上記の意味を有す
る]の化合物を製造しそして最後の段階でアセトニトリ
ル中で塩基を用いて、好適には炭酸カリウムを用いて環
化を行うか、或いは[E]一般式(VIII)
る]の化合物を製造しそして最後の段階でアセトニトリ
ル中で塩基を用いて、好適には炭酸カリウムを用いて環
化を行うか、或いは[E]一般式(VIII)
【0031】
【化20】
【0032】[式中、Aは上記の意味を有する]の化合
物を酸および炭酸ジエチルと直接反応させるか、または
一般式(VIII)の化合物と酸との反応により一般式(I
X)
物を酸および炭酸ジエチルと直接反応させるか、または
一般式(VIII)の化合物と酸との反応により一般式(I
X)
【0033】
【化21】
【0034】[式中、Aは上記の意味を有する]の化合
物を最初に製造し、そしてこれらを次に助剤および/ま
たは酸の存在下に不活性溶媒中で環化するか、或いは
[F]最初に複素環式アミン類(A−NH2)を一般式
(IV)の化合物と反応させて一般式(IX)の化合物を与
えそしてこれを次にカルボニルジイミダゾール/塩化メ
チレン、(Et2O)2COまたはホスゲン、ジホスゲンも
しくはトリホスゲンと[E]に記載されている通りにし
て環化するか、或いは[G]最初に一般式(Ia)
物を最初に製造し、そしてこれらを次に助剤および/ま
たは酸の存在下に不活性溶媒中で環化するか、或いは
[F]最初に複素環式アミン類(A−NH2)を一般式
(IV)の化合物と反応させて一般式(IX)の化合物を与
えそしてこれを次にカルボニルジイミダゾール/塩化メ
チレン、(Et2O)2COまたはホスゲン、ジホスゲンも
しくはトリホスゲンと[E]に記載されている通りにし
て環化するか、或いは[G]最初に一般式(Ia)
【0035】
【化22】
【0036】[式中、Aは上記の意味を有する]の化合
物を、不活性溶媒中でそして塩基の存在下に、塩化(C1
−C4)−アルキル−またはフェニルスルホニルとの反応
により対応する一般式(Ib)
物を、不活性溶媒中でそして塩基の存在下に、塩化(C1
−C4)−アルキル−またはフェニルスルホニルとの反応
により対応する一般式(Ib)
【0037】
【化23】
【0038】[式中、AおよびR9は上記の意味を有す
る]の化合物に転化し、次に不活性溶媒中でナトリウム
アジドを使用して一般式(Ic)
る]の化合物に転化し、次に不活性溶媒中でナトリウム
アジドを使用して一般式(Ic)
【0039】
【化24】
【0040】[式中、Aは上記の意味を有する]のアジ
ド類を製造し、これらを別の段階で不活性溶媒中の(C1
−C4−O)3−PまたはPPh3および酸との反応により
一般式(Id)
ド類を製造し、これらを別の段階で不活性溶媒中の(C1
−C4−O)3−PまたはPPh3および酸との反応により
一般式(Id)
【0041】
【化25】
【0042】[式中、Aは上記の意味を有する]のアミ
ン類に転化し、そして不活性溶媒中で無水酢酸または一
般式(X) R18−CO−R12 (X) [式中、R12は上記の意味を有し、そしてR18はハロゲ
ンまたは基−OCOR12を表す]の他のアシル化剤との
反応により一般式(Ie)
ン類に転化し、そして不活性溶媒中で無水酢酸または一
般式(X) R18−CO−R12 (X) [式中、R12は上記の意味を有し、そしてR18はハロゲ
ンまたは基−OCOR12を表す]の他のアシル化剤との
反応により一般式(Ie)
【0043】
【化26】
【0044】[式中、AおよびR12は上記の意味を有す
る]の化合物を製造し、そしてR1=NR10−CS
R12′の場合、一般式(Id)の化合物をジチオカルボ
ン酸エチル類およびトリエチルアミンと反応させ、そし
てR1=NR12−CS−NR16R17の場合、チオイソシ
アナート類と反応させ、化合物を場合によりそれらの塩
に転化し、そして適宜、立体異性体をそれ自体は既知の
方法で分離することを特徴とする、本発明に従う一般式
(I)の化合物の製造方法も見いだされた。
る]の化合物を製造し、そしてR1=NR10−CS
R12′の場合、一般式(Id)の化合物をジチオカルボ
ン酸エチル類およびトリエチルアミンと反応させ、そし
てR1=NR12−CS−NR16R17の場合、チオイソシ
アナート類と反応させ、化合物を場合によりそれらの塩
に転化し、そして適宜、立体異性体をそれ自体は既知の
方法で分離することを特徴とする、本発明に従う一般式
(I)の化合物の製造方法も見いだされた。
【0045】本発明に従う方法の変法は以下の反応式に
より例えば説明することができる。
より例えば説明することができる。
【0046】
【化27】
【0047】
【化28】
【0048】
【化29】
【0049】
【化30】
【0050】
【化31】
【0051】適当な溶媒は、個々の工程段階によるが、
反応条件下で変化しない一般的な溶媒である。これらに
は好適にはアルコール類、例えばメタノール、エタノー
ル、プロパノールもしくはイソプロパノール、またはエ
ーテル類、例えばジエチルエーテル、ジオキサン、1,
2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、グリコー
ルジメチルエーテルもしくはtert−ブチルメチルエ
ーテル、またはケトン類、例えばアセトンもしくはブタ
ノン、またはアミド類、例えばジメチルホルムアミドも
しくはヘキサメチル−ホスホルアミド、または炭化水素
類、例えばヘキサン、ベンゼン、ジクロロベンゼン、キ
シレンもしくはトルエン、またはジメチルスルホキシ
ド、アセトニトリル、酢酸エチル、またはハロゲノ炭化
水素類、例えば塩化メチレン、クロロホルムもしくは四
塩化炭素、またはピリジン、ピコリンもしくはN−メチ
ルピペリジンが包含される。上記の溶媒の混合物を使用
することもできる。
反応条件下で変化しない一般的な溶媒である。これらに
は好適にはアルコール類、例えばメタノール、エタノー
ル、プロパノールもしくはイソプロパノール、またはエ
ーテル類、例えばジエチルエーテル、ジオキサン、1,
2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、グリコー
ルジメチルエーテルもしくはtert−ブチルメチルエ
ーテル、またはケトン類、例えばアセトンもしくはブタ
ノン、またはアミド類、例えばジメチルホルムアミドも
しくはヘキサメチル−ホスホルアミド、または炭化水素
類、例えばヘキサン、ベンゼン、ジクロロベンゼン、キ
シレンもしくはトルエン、またはジメチルスルホキシ
ド、アセトニトリル、酢酸エチル、またはハロゲノ炭化
水素類、例えば塩化メチレン、クロロホルムもしくは四
塩化炭素、またはピリジン、ピコリンもしくはN−メチ
ルピペリジンが包含される。上記の溶媒の混合物を使用
することもできる。
【0052】適当な塩基は、個々の工程段階によるが、
一般的な無機または有機塩基である。これらには好適に
はアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウムもし
くはカリウム、またはアルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸
ナトリウムもしくはカリウム、またはアルカリ金属アル
コキシド類、例えばナトリウムもしくはカリウムメトキ
シド、またはナトリウムもしくはカリウムエトキシド、
または有機アミン類、例えばエチルジイソプロピルアミ
ン、トリエチルアミン、ピコリン、ピリジン類もしくは
N−メチルピペリジン、またはアミド類、例えばナトリ
ウムアミドもしくはリチウムジイソプロピルアミド、ま
たはリチウムN−シリルアルキルアミド類、例えば、リ
チウムN−(ビス)トリフェニルシリルアミドまたはリチ
ウムアルキル類、例えばn−ブチルリチウムが包含され
る。
一般的な無機または有機塩基である。これらには好適に
はアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウムもし
くはカリウム、またはアルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸
ナトリウムもしくはカリウム、またはアルカリ金属アル
コキシド類、例えばナトリウムもしくはカリウムメトキ
シド、またはナトリウムもしくはカリウムエトキシド、
または有機アミン類、例えばエチルジイソプロピルアミ
ン、トリエチルアミン、ピコリン、ピリジン類もしくは
N−メチルピペリジン、またはアミド類、例えばナトリ
ウムアミドもしくはリチウムジイソプロピルアミド、ま
たはリチウムN−シリルアルキルアミド類、例えば、リ
チウムN−(ビス)トリフェニルシリルアミドまたはリチ
ウムアルキル類、例えばn−ブチルリチウムが包含され
る。
【0053】塩基は、1モルの一般式(II)、(II
I)、(IV)および(Va)の化合物に関して、1モル
〜10モル、好適には1モル〜3モルの量で使用され
る。
I)、(IV)および(Va)の化合物に関して、1モル
〜10モル、好適には1モル〜3モルの量で使用され
る。
【0054】全ての反応は一般的には常圧、高められた
または減じられた圧力(例えば0.5〜5バール)で実
施される。一般的には、反応は常圧で実施される。
または減じられた圧力(例えば0.5〜5バール)で実
施される。一般的には、反応は常圧で実施される。
【0055】方法[A]は好適にはキシレンまたはジク
ロロベンゼン中で、適宜トリエチルアミンの存在下で、
還流下で実施される。
ロロベンゼン中で、適宜トリエチルアミンの存在下で、
還流下で実施される。
【0056】塩基で触媒作用を受けるエステル交換は上
記のアルコール類の1種、好適にはメタノールを使用し
て、−10℃〜+40℃の温度範囲で、好適には室温
で、実施される。
記のアルコール類の1種、好適にはメタノールを使用し
て、−10℃〜+40℃の温度範囲で、好適には室温
で、実施される。
【0057】適当な塩基は一般的には炭酸水素ナトリウ
ム、ナトリウムメトキシド、ヒドラジン水和物、炭酸カ
リウムまたは炭酸セシウムである。炭酸セシウムが好適
である。
ム、ナトリウムメトキシド、ヒドラジン水和物、炭酸カ
リウムまたは炭酸セシウムである。炭酸セシウムが好適
である。
【0058】方法[B]は上記のエーテル類の1種中
で、リチウムアルキル化合物またはリチウムN−シリル
アミド類、例えば、n−ブチルリチウム、リチウムジイ
ソプロピルアミドまたはリチウムビストリメチルシリル
アミドを使用して、好適にはテトラヒドロフランおよび
リチウムビス−トリメチルシリルアミドまたはn−ブチ
ルリチウム中で、−100℃〜+20℃の、好適には−
75℃〜−40℃の温度範囲で実施される。
で、リチウムアルキル化合物またはリチウムN−シリル
アミド類、例えば、n−ブチルリチウム、リチウムジイ
ソプロピルアミドまたはリチウムビストリメチルシリル
アミドを使用して、好適にはテトラヒドロフランおよび
リチウムビス−トリメチルシリルアミドまたはn−ブチ
ルリチウム中で、−100℃〜+20℃の、好適には−
75℃〜−40℃の温度範囲で実施される。
【0059】方法[C]に関しては、その後の環化がテ
トラヒドロフランである場合には上記のアルコール類が
第1段階用に適する。
トラヒドロフランである場合には上記のアルコール類が
第1段階用に適する。
【0060】環化に適する塩基は好適には上記のリチウ
ムN−シリルアルキル化合物またはn−ブチルリチウム
である。n−ブチルリチウムが特に好適である。
ムN−シリルアルキル化合物またはn−ブチルリチウム
である。n−ブチルリチウムが特に好適である。
【0061】第1反応段階は適当なアルコールの沸点に
おいて実施されそして環化は−70℃〜室温の温度範囲
で実施される。
おいて実施されそして環化は−70℃〜室温の温度範囲
で実施される。
【0062】方法[D]の第1段階に適する塩基は一般
的にはリチウムアルキル類、リチウムN−アルキル類ま
たはアルカリ金属水素化物、例えば、ブチルリチウムま
たは水素化ナトリウム、である。水素化ナトリウムが好
適である。
的にはリチウムアルキル類、リチウムN−アルキル類ま
たはアルカリ金属水素化物、例えば、ブチルリチウムま
たは水素化ナトリウム、である。水素化ナトリウムが好
適である。
【0063】塩基は一般的には、1モルの一般式(VI)
の化合物に関して、1モル〜5モル、好適には1モル〜
1.5モルの量で使用される。
の化合物に関して、1モル〜5モル、好適には1モル〜
1.5モルの量で使用される。
【0064】環化は上記の溶媒および助剤の1種中で行
われ、炭酸カリウムおよびアセトニトリルが好適であ
る。
われ、炭酸カリウムおよびアセトニトリルが好適であ
る。
【0065】塩基は、1モルの一般式(II)、(II
I)、(IV)および(Va)の化合物に関して、1モル
〜10モル、好適には1モル〜3モルの量で使用され
る。
I)、(IV)および(Va)の化合物に関して、1モル
〜10モル、好適には1モル〜3モルの量で使用され
る。
【0066】全ての反応は一般的には常圧、高められた
または減じられた圧力(例えば0.5〜5バール)で実
施される。一般的には、反応は常圧で実施される。
または減じられた圧力(例えば0.5〜5バール)で実
施される。一般的には、反応は常圧で実施される。
【0067】反応段階は一般的には−78℃〜100℃
の、好適には−20℃〜50℃の温度範囲で実施され
る。
の、好適には−20℃〜50℃の温度範囲で実施され
る。
【0068】環化[E]は助剤の存在下でおよび/また
は酸の存在下で実施される。
は酸の存在下で実施される。
【0069】適当な酸は一般的には無機酸、例えば、塩
酸もしくは硫酸、または炭素数1−6の適宜弗素、塩素
および/もしくは臭素により置換されていてもよい有機
カルボン酸、例えば酢酸、トリフルオロ酢酸、トリクロ
ロ酢酸もしくはプロピオン酸、またはC1−C4-アルキ
ル基もしくはアリール基を有するスルホン酸、例えばメ
タンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸もしくはトルエンスルホン酸である。塩酸が特に好適
である。
酸もしくは硫酸、または炭素数1−6の適宜弗素、塩素
および/もしくは臭素により置換されていてもよい有機
カルボン酸、例えば酢酸、トリフルオロ酢酸、トリクロ
ロ酢酸もしくはプロピオン酸、またはC1−C4-アルキ
ル基もしくはアリール基を有するスルホン酸、例えばメ
タンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸もしくはトルエンスルホン酸である。塩酸が特に好適
である。
【0070】酸は1モルの一般式(VIII)の化合物に関
して1モル〜10モル、好適には1モル〜2モルの量で
使用される。
して1モル〜10モル、好適には1モル〜2モルの量で
使用される。
【0071】適当な助剤は一般的な試薬、例えばホスゲ
ン、カルボニルジイミダゾールまたは炭酸ジエチルもし
くはクロロ蟻酸トリクロロメチルである。カルボニルジ
イミダゾール、炭酸ジエチルおよびクロロ蟻酸トリクロ
ロメチルが好適である。
ン、カルボニルジイミダゾールまたは炭酸ジエチルもし
くはクロロ蟻酸トリクロロメチルである。カルボニルジ
イミダゾール、炭酸ジエチルおよびクロロ蟻酸トリクロ
ロメチルが好適である。
【0072】適当な溶媒は上記のハロゲノ炭化水素類で
ある。塩化メチレンが好適である。
ある。塩化メチレンが好適である。
【0073】環化は一般的には−20℃〜100℃の温
度範囲で、好適には−20℃〜室温において実施され
る。
度範囲で、好適には−20℃〜室温において実施され
る。
【0074】方法[F]は[E]で挙げられた条件と同
様にして実施される。
様にして実施される。
【0075】アシル化[G]は一般的には上記のエーテ
ル類またはハロゲノ炭化水素類の1種中で、好適にはテ
トラヒドロフランまたは塩化メチレン中で、−30℃〜
50℃の、好適には−10℃〜室温の、温度範囲で実施
される。
ル類またはハロゲノ炭化水素類の1種中で、好適にはテ
トラヒドロフランまたは塩化メチレン中で、−30℃〜
50℃の、好適には−10℃〜室温の、温度範囲で実施
される。
【0076】還元は一般的には水素化物を使用して不活
性溶媒中でまたはボラン類、ジボラン類もしくはそれら
の複合化合物を使用して実施される。
性溶媒中でまたはボラン類、ジボラン類もしくはそれら
の複合化合物を使用して実施される。
【0077】還元は一般的には水素により水中でまたは
不活性有機溶媒、例えばアルコール類、エーテル類もし
くはハロゲノ炭化水素類、またはそれらの混合物の中
で、触媒、例えばラネーニッケル、パラジウム、獣炭上
のパラジウムもしくは白金を用いて、或いは水素化物ま
たはボラン類を使用して不活性溶媒中で、適宜触媒の存
在下で、実施することができる。
不活性有機溶媒、例えばアルコール類、エーテル類もし
くはハロゲノ炭化水素類、またはそれらの混合物の中
で、触媒、例えばラネーニッケル、パラジウム、獣炭上
のパラジウムもしくは白金を用いて、或いは水素化物ま
たはボラン類を使用して不活性溶媒中で、適宜触媒の存
在下で、実施することができる。
【0078】好適には、還元は水素化物、例えば複合ホ
ウ水素化物または水素化アルミニウム類、およびボラン
類を使用して実施される。ホウ水素化ナトリウム、ホウ
水素化リチウム、シアノホウ水素化ナトリウム、水素化
アルミニウムリチウム、水素化ビス−(2−メトキシエ
トキシ)−アルミニウムナトリウムまたはボラン−テト
ラヒドロフランがここでは特に好適に使用される。
ウ水素化物または水素化アルミニウム類、およびボラン
類を使用して実施される。ホウ水素化ナトリウム、ホウ
水素化リチウム、シアノホウ水素化ナトリウム、水素化
アルミニウムリチウム、水素化ビス−(2−メトキシエ
トキシ)−アルミニウムナトリウムまたはボラン−テト
ラヒドロフランがここでは特に好適に使用される。
【0079】アジドの還元すなわち水素化[G]は(C
H3O)3Pおよび塩酸を使用して実施される。
H3O)3Pおよび塩酸を使用して実施される。
【0080】還元は一般的には−50℃〜溶媒の各々の
沸点、好適には−20℃〜+90℃の温度範囲で実施さ
れる。
沸点、好適には−20℃〜+90℃の温度範囲で実施さ
れる。
【0081】この概念で適する溶媒は反応条件下で変化
しない全ての不活性有機溶媒である。これらには好適に
はアルコール類、例えばメタノール、エタノール、プロ
パノールもしくはイソプロパノール、またはエーテル
類、例えばジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、グリコールジメチルエーテルもしくはジエチ
レングリコールジメチルエーテル、またはアミド類、例
えばヘキサメチルホスホルアミドもしくはジメチルホル
ムアミド、または酢酸が包含される。上記の溶媒の混合
物を使用することもできる。
しない全ての不活性有機溶媒である。これらには好適に
はアルコール類、例えばメタノール、エタノール、プロ
パノールもしくはイソプロパノール、またはエーテル
類、例えばジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、グリコールジメチルエーテルもしくはジエチ
レングリコールジメチルエーテル、またはアミド類、例
えばヘキサメチルホスホルアミドもしくはジメチルホル
ムアミド、または酢酸が包含される。上記の溶媒の混合
物を使用することもできる。
【0082】ヒドロキシル保護基は一般的には普遍的な
方法に従い、例えば上記の不活性溶媒中での触媒の存在
下における水素気体を使用するベンジルエーテル類の水
素化分解により除去される。
方法に従い、例えば上記の不活性溶媒中での触媒の存在
下における水素気体を使用するベンジルエーテル類の水
素化分解により除去される。
【0083】アミノ保護基も一般的には普遍的な方法に
より除去され、特にBocは好適には塩酸を使用してジ
オキサン中で、Fmocはピペリジンを使用してそして
ZはHBr/HOAcを使用してまたは水素化分解によ
り除去される。
より除去され、特にBocは好適には塩酸を使用してジ
オキサン中で、Fmocはピペリジンを使用してそして
ZはHBr/HOAcを使用してまたは水素化分解によ
り除去される。
【0084】好適な誘導化はレドックス反応、還元的ア
ミノ化、エステル交換およびN−ブロモスクシンイミド
(NBS)またはN−クロロスクシンイミド(NCS)
を使用するメチル基のハロゲン化であり、それらは以下
で例として説明される。
ミノ化、エステル交換およびN−ブロモスクシンイミド
(NBS)またはN−クロロスクシンイミド(NCS)
を使用するメチル基のハロゲン化であり、それらは以下
で例として説明される。
【0085】アルキル化用に適する溶媒は反応条件下で
変化しない一般的な有機溶媒である。これらには好適に
はエーテル類、例えばジエチルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフラン、グリコールジメチルエーテル、ま
たは炭化水素類、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ヘキサン、シクロヘキサンもしくは石油画分、また
はハロゲノ炭化水素類、例えばジクロロメタン、トリク
ロロメタン、テトラクロロメタン、ジクロロエチレン、
トリクロロエチレンもしくはクロロベンゼン、または酢
酸エチル、またはトリエチルアミン、ピリジン、ジメチ
ルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、アセトニトリ
ル、アセトンまたはニトロメタンが包含される。上記の
溶媒の混合物を使用することもできる。ジクロロメタ
ン、ジメチルスルホキシドおよびジメチルホルムアミド
が好適である。
変化しない一般的な有機溶媒である。これらには好適に
はエーテル類、例えばジエチルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフラン、グリコールジメチルエーテル、ま
たは炭化水素類、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ヘキサン、シクロヘキサンもしくは石油画分、また
はハロゲノ炭化水素類、例えばジクロロメタン、トリク
ロロメタン、テトラクロロメタン、ジクロロエチレン、
トリクロロエチレンもしくはクロロベンゼン、または酢
酸エチル、またはトリエチルアミン、ピリジン、ジメチ
ルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、アセトニトリ
ル、アセトンまたはニトロメタンが包含される。上記の
溶媒の混合物を使用することもできる。ジクロロメタ
ン、ジメチルスルホキシドおよびジメチルホルムアミド
が好適である。
【0086】アルキル化は上記の溶媒中で0℃〜+15
0℃の温度において、好適には室温〜+100℃におい
て、常圧で除去される。
0℃の温度において、好適には室温〜+100℃におい
て、常圧で除去される。
【0087】アミド化およびスルホアミド化は一般的に
は不活性溶媒中で塩基および脱水剤の存在下で実施され
る。
は不活性溶媒中で塩基および脱水剤の存在下で実施され
る。
【0088】この概念で適する溶媒は反応条件下で変化
しない不活性有機溶媒である。これらにはハロゲノ炭化
水素類、例えばジクロロメタン、トリクロロメタン、テ
トラクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、トリクロ
ロエタン、テトラクロロエタン、1,2−ジクロロエチ
レンもしくはトリクロロエチレン、炭化水素類、例えば
ベンゼン、キシレン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキ
サンもしくは石油画分、ニトロメタン、ジメチルホルム
アミド、アセトニトリルまたはテトラヒドロフランが包
含される。溶媒の混合物を使用することもできる。ジク
ロロメタンおよびテトラヒドロフランが特に好適であ
る。
しない不活性有機溶媒である。これらにはハロゲノ炭化
水素類、例えばジクロロメタン、トリクロロメタン、テ
トラクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、トリクロ
ロエタン、テトラクロロエタン、1,2−ジクロロエチ
レンもしくはトリクロロエチレン、炭化水素類、例えば
ベンゼン、キシレン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキ
サンもしくは石油画分、ニトロメタン、ジメチルホルム
アミド、アセトニトリルまたはテトラヒドロフランが包
含される。溶媒の混合物を使用することもできる。ジク
ロロメタンおよびテトラヒドロフランが特に好適であ
る。
【0089】アミド化およびスルホアミド化用に適する
塩基は一般的な塩基性化合物である。これらには好適に
はアルカリ金属およびアルカリ土類金属水酸化物、例え
ば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
もしくは水酸化バリウム、アルカリ金属水素化物、例え
ば水素化ナトリウム、アルカリ金属もしくはアルカリ土
類金属炭酸塩、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
またはアルカリ金属アルコキシド類、例えば、ナトリウ
ムメトキシドもしくはエトキシド、カリウムメトキシド
もしくはエトキシドまたはカリウムtert−ブトキシ
ド、或いは有機アミン類、例えば水酸化ベンジルトリメ
チルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、
ピリジン、トリエチルアミンまたはN−メチルピペリジ
ンが包含される。
塩基は一般的な塩基性化合物である。これらには好適に
はアルカリ金属およびアルカリ土類金属水酸化物、例え
ば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
もしくは水酸化バリウム、アルカリ金属水素化物、例え
ば水素化ナトリウム、アルカリ金属もしくはアルカリ土
類金属炭酸塩、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
またはアルカリ金属アルコキシド類、例えば、ナトリウ
ムメトキシドもしくはエトキシド、カリウムメトキシド
もしくはエトキシドまたはカリウムtert−ブトキシ
ド、或いは有機アミン類、例えば水酸化ベンジルトリメ
チルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、
ピリジン、トリエチルアミンまたはN−メチルピペリジ
ンが包含される。
【0090】アミド化およびスルホアミド化は一般的に
は0℃〜150℃、好適には25℃〜40℃の温度範囲
で実施される。
は0℃〜150℃、好適には25℃〜40℃の温度範囲
で実施される。
【0091】アミド化およびスルホアミド化は一般的に
は常圧で実施される。しかしながら、この工程を減じら
れた圧力および高められた圧力(例えば0.5〜5バー
ルの範囲内)で実施することもできる。
は常圧で実施される。しかしながら、この工程を減じら
れた圧力および高められた圧力(例えば0.5〜5バー
ルの範囲内)で実施することもできる。
【0092】アミド化およびスルホアミド化を実施する
時には、塩基は一般的には1モルの各々のカルボン酸に
関して1〜3モル、好適には1〜1.5モルの量で使用
される。
時には、塩基は一般的には1モルの各々のカルボン酸に
関して1〜3モル、好適には1〜1.5モルの量で使用
される。
【0093】適当な脱水試薬はカルボジイミド類、例え
ば、ジイソプロピルカルボジイミド、ジシクロヘキシル
カルボジイミドもしくはN−(3−ジメチルアミノプロ
ピル)−N′−エチルカルボジイミド塩酸塩またはカル
ボニル化合物、例えばカルボニルジイミダゾールまたは
1,2−オキサゾリウム化合物、例えば2−エチル−5
−フェニル−1,2−オキサゾリウム−3−スルホネー
トまたは無水プロパンホスホン酸またはクロロ蟻酸イソ
ブチルまたはヘキサフルオロ燐酸ベンゾトリアゾリルオ
キシ−トリス−(ジメチルアミノ)ホスホニウムまたはア
ミドリン酸ジフェニルまたは塩化メタンスルホニルであ
り、適宜例えばトリエチルアミンまたはN−エチルモル
ホリンまたはN−メチルピペリジンまたは4−ジメチル
アミノピリジンの如き塩基の存在下であってもよい。
ば、ジイソプロピルカルボジイミド、ジシクロヘキシル
カルボジイミドもしくはN−(3−ジメチルアミノプロ
ピル)−N′−エチルカルボジイミド塩酸塩またはカル
ボニル化合物、例えばカルボニルジイミダゾールまたは
1,2−オキサゾリウム化合物、例えば2−エチル−5
−フェニル−1,2−オキサゾリウム−3−スルホネー
トまたは無水プロパンホスホン酸またはクロロ蟻酸イソ
ブチルまたはヘキサフルオロ燐酸ベンゾトリアゾリルオ
キシ−トリス−(ジメチルアミノ)ホスホニウムまたはア
ミドリン酸ジフェニルまたは塩化メタンスルホニルであ
り、適宜例えばトリエチルアミンまたはN−エチルモル
ホリンまたはN−メチルピペリジンまたは4−ジメチル
アミノピリジンの如き塩基の存在下であってもよい。
【0094】加水分解に適する塩基は一般的な無機塩基
である。これらには好適にはアルカリ金属水酸化物また
はアルカリ土類金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムもしくは水酸化バリウム、またはア
ルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸ナトリウムもしくはカリ
ウムまたは炭酸水素ナトリウムが包含される。水酸化ナ
トリウムまたは水酸化カリウムが特に好適に使用され
る。
である。これらには好適にはアルカリ金属水酸化物また
はアルカリ土類金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムもしくは水酸化バリウム、またはア
ルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸ナトリウムもしくはカリ
ウムまたは炭酸水素ナトリウムが包含される。水酸化ナ
トリウムまたは水酸化カリウムが特に好適に使用され
る。
【0095】加水分解に適する溶媒は水または加水分解
用に一般的な有機溶媒である。これらには好適にはアル
コール類、例えばメタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノールもしくはブタノール、またはエー
テル類、例えばテトラヒドロフランもしくはジオキサ
ン、またはジメチルホルムアミドもしくはジメチルスル
ホキシドが包含される。アルコール類、例えばメタノー
ル、エタノール、プロパノールおよびイソプロパノール
が特に好適に使用される。上記の溶媒の混合物を使用す
ることもできる。
用に一般的な有機溶媒である。これらには好適にはアル
コール類、例えばメタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノールもしくはブタノール、またはエー
テル類、例えばテトラヒドロフランもしくはジオキサ
ン、またはジメチルホルムアミドもしくはジメチルスル
ホキシドが包含される。アルコール類、例えばメタノー
ル、エタノール、プロパノールおよびイソプロパノール
が特に好適に使用される。上記の溶媒の混合物を使用す
ることもできる。
【0096】加水分解は一般的には0℃〜+100℃
の、好適には+20℃〜+80℃の、温度範囲で実施さ
れる。
の、好適には+20℃〜+80℃の、温度範囲で実施さ
れる。
【0097】一般的には、加水分解は常圧で実施され
る。しかしながら、減じられた圧力または高められた圧
力(例えば0.5〜5バール)で行うこともできる。
る。しかしながら、減じられた圧力または高められた圧
力(例えば0.5〜5バール)で行うこともできる。
【0098】加水分解を実施する時には、塩基は一般的
には1モルのエステルに関して1〜3モル、好適には1
〜1.5モルの量で使用される。モル量の反応物が特に
好適に使用される。
には1モルのエステルに関して1〜3モル、好適には1
〜1.5モルの量で使用される。モル量の反応物が特に
好適に使用される。
【0099】エステル化は一般的には適当なアルコール
類を使用して酸、好適には硫酸、の存在下で、0℃〜1
50℃の、好適には50℃〜100℃の温度範囲で、そ
して常圧で実施される。
類を使用して酸、好適には硫酸、の存在下で、0℃〜1
50℃の、好適には50℃〜100℃の温度範囲で、そ
して常圧で実施される。
【0100】一般式(IV)および(X)の化合物は既知
であるかまたは一般的な方法により製造することができ
る。
であるかまたは一般的な方法により製造することができ
る。
【0101】一般式(IX)の化合物は主として新規であ
りそして例えば上記の如くして製造することができる。
りそして例えば上記の如くして製造することができる。
【0102】一般式(II)の化合物はある場合には既知
であるかまたは新規でありそして、例えば、適当なアミ
ン類を上記の溶媒の1種、好適にはキシレン、中で還流
温度で反応させることにより製造することができる。
であるかまたは新規でありそして、例えば、適当なアミ
ン類を上記の溶媒の1種、好適にはキシレン、中で還流
温度で反応させることにより製造することができる。
【0103】一般式(III)の化合物はある場合には既
知であるかまたは新規でありそして、例えば、適当なカ
ルボン酸から出発し、クロロ蟻酸イソブチル/アセト
ン、ナトリウムアジド/水またはジフェニルホスホリル
アジド/テトラヒドロフランとまたはキシレンもしくは
塩化メチレンと、上記の塩基の1種、好適にはトリエチ
ルアミンの存在下で、−10℃〜室温において反応させ
ることにより製造することができる。
知であるかまたは新規でありそして、例えば、適当なカ
ルボン酸から出発し、クロロ蟻酸イソブチル/アセト
ン、ナトリウムアジド/水またはジフェニルホスホリル
アジド/テトラヒドロフランとまたはキシレンもしくは
塩化メチレンと、上記の塩基の1種、好適にはトリエチ
ルアミンの存在下で、−10℃〜室温において反応させ
ることにより製造することができる。
【0104】一般式(V)および(Va)の化合物はあ
る場合には既知であるかまたは新規でありそしてその時
には対応するカルボニルアジド類からの窒素の除去およ
び適当なアルコール類との反応によりまたは上記の溶媒
の1種、好適にはテトラヒドロフランもしくはジオキサ
ン中での−10℃〜200℃の、好適には0℃〜150
℃の温度範囲での対応するアミド類とクロロ蟻酸エステ
ル類、好適にはクロロ蟻酸ベンジルとの反応により製造
することができる。
る場合には既知であるかまたは新規でありそしてその時
には対応するカルボニルアジド類からの窒素の除去およ
び適当なアルコール類との反応によりまたは上記の溶媒
の1種、好適にはテトラヒドロフランもしくはジオキサ
ン中での−10℃〜200℃の、好適には0℃〜150
℃の温度範囲での対応するアミド類とクロロ蟻酸エステ
ル類、好適にはクロロ蟻酸ベンジルとの反応により製造
することができる。
【0105】一般式(VI)および(VII)の化合物は上
記の方法により製造することができる。
記の方法により製造することができる。
【0106】一般式(Ia)の化合物は新規でありそし
て、例えば、[A]、[B]、[C]、[D]、[E]
または[F]に記載されている通りにして製造すること
ができる。
て、例えば、[A]、[B]、[C]、[D]、[E]
または[F]に記載されている通りにして製造すること
ができる。
【0107】一般式(Ib)、(Ic)、(Id)およ
び(Ie)の化合物は新規でありそして上記の通りにし
て製造することができる。
び(Ie)の化合物は新規でありそして上記の通りにし
て製造することができる。
【0108】一般式(VIII)の化合物は主として既知で
あるかまたは新規でありそして、例えば、遊離アミン類
(Ia)から出発し、メタノール中でそして酢酸ナトリ
ウム/シアノホウ水素化ナトリウムまたはホウ水素化ナ
トリウムおよびメタノールの存在下で−20℃〜+40
℃の、好適には−10℃〜20℃の温度範囲で且つ常圧
でグリセルアルデヒドのアセトニド(acetonide)と反応
させることにより製造することができる。
あるかまたは新規でありそして、例えば、遊離アミン類
(Ia)から出発し、メタノール中でそして酢酸ナトリ
ウム/シアノホウ水素化ナトリウムまたはホウ水素化ナ
トリウムおよびメタノールの存在下で−20℃〜+40
℃の、好適には−10℃〜20℃の温度範囲で且つ常圧
でグリセルアルデヒドのアセトニド(acetonide)と反応
させることにより製造することができる。
【0109】最少抑制濃度(MIC)はイソ−センシテ
スト(Iso-Sensitest)寒天(オキソイド(Oxoid))上での
連続的希釈法により測定された。各々の試験物質に関し
て、低下する濃度の活性化合物を含有する多数の寒天板
を製造した。寒天板にマルチポイント・イノキュレータ
ー(デンレイ(Denley))を用いて接種した。接種のため
には、各々の接種点が約104個のコロニー−形成粒子
を含有するように予め希釈された病原性有機体の一夜培
養物を使用した。接種した寒天板を37℃で培養し、そ
して約20時間後に微生物生育を読み取った。MIC
(μg/ml)は肉眼で生育を検出できなかった最低活
性濃度を示す。
スト(Iso-Sensitest)寒天(オキソイド(Oxoid))上での
連続的希釈法により測定された。各々の試験物質に関し
て、低下する濃度の活性化合物を含有する多数の寒天板
を製造した。寒天板にマルチポイント・イノキュレータ
ー(デンレイ(Denley))を用いて接種した。接種のため
には、各々の接種点が約104個のコロニー−形成粒子
を含有するように予め希釈された病原性有機体の一夜培
養物を使用した。接種した寒天板を37℃で培養し、そ
して約20時間後に微生物生育を読み取った。MIC
(μg/ml)は肉眼で生育を検出できなかった最低活
性濃度を示す。
【0110】
【表1】
【0111】急速に生育するマイコバクテリアのために
は、MIC測定をスウェソン(Sweson)により記載された
ブロス微量希釈法に従い行った[J.M. Swnson, C. Thorn
berry, U.A. Silcox, Rapidly growing mycobacteria.
Testing of susceptibilityto 34 antimicrobial agent
s by broth microdilution. Antimicrobial Agentsand
Chemotherapy Vol. 22, 186-192 (1982) 参照]。これ
との差は0.1容量%のツィーン(Tween)80で処理した
脳−心臓抽出物培地であった。
は、MIC測定をスウェソン(Sweson)により記載された
ブロス微量希釈法に従い行った[J.M. Swnson, C. Thorn
berry, U.A. Silcox, Rapidly growing mycobacteria.
Testing of susceptibilityto 34 antimicrobial agent
s by broth microdilution. Antimicrobial Agentsand
Chemotherapy Vol. 22, 186-192 (1982) 参照]。これ
との差は0.1容量%のツィーン(Tween)80で処理した
脳−心臓抽出物培地であった。
【0112】使用したマイコバクテリア菌株はDSM
(German Collection of Microorganism, Braunschwei
g)から入手した。それらを37℃において湿った室内で
培養した。
(German Collection of Microorganism, Braunschwei
g)から入手した。それらを37℃において湿った室内で
培養した。
【0113】調合物を含まない対照が生育の結果として
曇った時である2−4日後にMICを読み取った。MI
Cは肉眼で見える生育を完全に抑制する最低調合物濃度
であると定義される。
曇った時である2−4日後にMICを読み取った。MI
Cは肉眼で見える生育を完全に抑制する最低調合物濃度
であると定義される。
【0114】
【表2】
【0115】本発明に従う一般式(I)、(Ia)、
(Ib)、(Ic)、(Id)および(Ie)の化合物
は、低い毒性と組み合わされた、特にグラム−陽性バク
テリア、インフルエンザ菌(Haemophilus influenzae)、
嫌気性微生物および急速に生育するマイコバクテリアに
対する広い抗バクテリアスペクトルを有する。これらの
性質により、それらをヒトおよび動物薬品において化学
療法活性化合物として使用することができる。
(Ib)、(Ic)、(Id)および(Ie)の化合物
は、低い毒性と組み合わされた、特にグラム−陽性バク
テリア、インフルエンザ菌(Haemophilus influenzae)、
嫌気性微生物および急速に生育するマイコバクテリアに
対する広い抗バクテリアスペクトルを有する。これらの
性質により、それらをヒトおよび動物薬品において化学
療法活性化合物として使用することができる。
【0116】本発明に従う化合物はバクテリアおよびバ
クテリア様微生物、例えばマイコプラズマに対して特に
有効である。それらは従ってそのような病原性有機体に
より引き起こされる局部的および全身的感染症の予防お
よび化学療法のためのヒトおよび動物薬品において特に
非常に適する。
クテリア様微生物、例えばマイコプラズマに対して特に
有効である。それらは従ってそのような病原性有機体に
より引き起こされる局部的および全身的感染症の予防お
よび化学療法のためのヒトおよび動物薬品において特に
非常に適する。
【0117】本発明は、無毒の不活性な製薬学的に適す
る賦形剤の他に、1種もしくはそれ以上の本発明に従う
化合物を含有するかまたは1種もしくはそれ以上の本発
明に従う活性化合物からなる製薬学的調合物、およびこ
れらの調合物の製造方法を含む。
る賦形剤の他に、1種もしくはそれ以上の本発明に従う
化合物を含有するかまたは1種もしくはそれ以上の本発
明に従う活性化合物からなる製薬学的調合物、およびこ
れらの調合物の製造方法を含む。
【0118】1種もしくは複数の活性化合物は場合によ
り1種もしくはそれ以上の上記の賦形剤中でマイクロカ
プセル化された形態で存在することもできる。
り1種もしくはそれ以上の上記の賦形剤中でマイクロカ
プセル化された形態で存在することもできる。
【0119】治療的に活性な化合物は製薬学的調合物中
に合計混合物の約0.1〜99.5、好適には約0.5〜
95重量%の濃度で存在すべきである。
に合計混合物の約0.1〜99.5、好適には約0.5〜
95重量%の濃度で存在すべきである。
【0120】本発明に従う化合物とは別に、上記の製薬
学的調合物は他の製薬学的に活性な化合物を含有するこ
ともできる。
学的調合物は他の製薬学的に活性な化合物を含有するこ
ともできる。
【0121】一般的には、ヒトおよび動物薬品の両者に
おいて、所望する結果を得るためには本発明に従う1種
もしくは複数の活性化合物を24時間毎に約0.5〜約
500、好適には5〜100、mg/kgの体重の合計
量で、適宜5、6回の個々の薬用量の形態で、投与する
ことが有利であることが判明した。個々の薬用量は本発
明に従う1種もしくは複数の活性化合物を好適には約1
〜約80、特に3〜30mg/kgの体重の量で含有す
る。
おいて、所望する結果を得るためには本発明に従う1種
もしくは複数の活性化合物を24時間毎に約0.5〜約
500、好適には5〜100、mg/kgの体重の合計
量で、適宜5、6回の個々の薬用量の形態で、投与する
ことが有利であることが判明した。個々の薬用量は本発
明に従う1種もしくは複数の活性化合物を好適には約1
〜約80、特に3〜30mg/kgの体重の量で含有す
る。
【0122】活性スペクトルを広げる目的のためおよび
活性増加を得るために、本発明に従う化合物を他の抗生
物質と組み合わせることもできる。
活性増加を得るために、本発明に従う化合物を他の抗生
物質と組み合わせることもできる。
【0123】使用される溶離剤混合物 I ジクロロメタン:メタノール
【0124】
【実施例】出発化合物 実施例I 2−メチル−6−ニトロオキサゾロ[4,5−b]ピリジ
ン−2(3H)−オン
ン−2(3H)−オン
【0125】
【化32】
【0126】800mlのDMF中の25g(138ミ
リモル)の6−ニトロオキサゾロ[4,5−b]ピリジン
−2(3H)−オン(Helv. Chim. Acta 1976, 59, 159
3)および31ml(207ミリモル)のジアザビシク
ロウンデセン(DBU)を50℃で1時間撹拌する。8
6.7ml(1.38ミリモル)のヨードメタンを次に滴
下しそして反応混合物を100℃で16時間撹拌する。
処理のために、DMFを真空中でストリッピングし、残
渣をジクロロメタンで処理し、不溶性生成物を吸引濾過
しそして乾燥する。
リモル)の6−ニトロオキサゾロ[4,5−b]ピリジン
−2(3H)−オン(Helv. Chim. Acta 1976, 59, 159
3)および31ml(207ミリモル)のジアザビシク
ロウンデセン(DBU)を50℃で1時間撹拌する。8
6.7ml(1.38ミリモル)のヨードメタンを次に滴
下しそして反応混合物を100℃で16時間撹拌する。
処理のために、DMFを真空中でストリッピングし、残
渣をジクロロメタンで処理し、不溶性生成物を吸引濾過
しそして乾燥する。
【0127】収量:21.4g(理論値の79%)1 H−NMR(200MHz,[D6]DMSO):δ=9.
0(d,1H);8.54(d,1H);3.40(s,3
H)。
0(d,1H);8.54(d,1H);3.40(s,3
H)。
【0128】実施例II 6−アミノ−3−メチルオキサゾロ[4,5−b]ピリジ
ン−2(3H)−オン
ン−2(3H)−オン
【0129】
【化33】
【0130】100mlのメタノール中の1.56g
(8ミリモル)の実施例Iからの化合物および450m
gのPd−C(10%)を水素(1気圧)下で6時間撹
拌する。触媒を濾別し、溶媒をストリッピングしそして
残渣を乾燥する。
(8ミリモル)の実施例Iからの化合物および450m
gのPd−C(10%)を水素(1気圧)下で6時間撹
拌する。触媒を濾別し、溶媒をストリッピングしそして
残渣を乾燥する。
【0131】収量:1.2g(理論値の91%)1 H−NMR(200MHz,[D6]DMSO):δ=7.
50(d,1H);6.98(d,1H);5.20(b
s,1H);3.3(s,3H)。
50(d,1H);6.98(d,1H);5.20(b
s,1H);3.3(s,3H)。
【0132】実施例III 6−ベンジルオキシカルボニルアミノ−3−メチルオキ
サゾロ[4,5−b]ピリジン−2(3H)−オン
サゾロ[4,5−b]ピリジン−2(3H)−オン
【0133】
【化34】
【0134】300mlのTHF中の7.1g(42.9
ミリモル)の実施例IIからの化合物および40mlの飽
和NaHCO3溶液を0℃において6.7ml(47.1
9ミリモル)のクロロ蟻酸ベンジルで滴々処理する。1
時間後に、1リットルの水を加え、沈澱を吸引濾別し、
水および石油エーテルで洗浄しそして乾燥する。
ミリモル)の実施例IIからの化合物および40mlの飽
和NaHCO3溶液を0℃において6.7ml(47.1
9ミリモル)のクロロ蟻酸ベンジルで滴々処理する。1
時間後に、1リットルの水を加え、沈澱を吸引濾別し、
水および石油エーテルで洗浄しそして乾燥する。
【0135】収量:12.4g(理論値の96%) Rf(I,10:1)=0.661 H−NMR(200MHz,[D6]DMSO):δ=9.
95(bs,1H);8.10(d,1H);7.80
(d,1H);7.30−7.50(m,5H);5.18
(s,2H);3.28(s,3H)。
95(bs,1H);8.10(d,1H);7.80
(d,1H);7.30−7.50(m,5H);5.18
(s,2H);3.28(s,3H)。
【0136】実施例IV 6−(N−アリル−N−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ)−3−メチルオキサゾロ[4,5−b]ピリジン−2
(3H)−オン
ノ)−3−メチルオキサゾロ[4,5−b]ピリジン−2
(3H)−オン
【0137】
【化35】
【0138】0.7g(29ミリモル)の水素化ナトリ
ウム(パラフィン中80%)を8g(26.7ミリモ
ル)の実施例IIIからの化合物の300mlのDMF中
溶液に加えそして反応混合物を室温で1時間撹拌する。
それを次に2.5ml(29ミリモル)の臭化アリルで
処理しそして室温でさらに2時間撹拌する。混合物を8
00mlの水に加え、そして水相をジエチルエーテルで
抽出し、乾燥し(Na2SO4)、そして溶媒を真空中で
ストリッピングする。粗製生成物をtert−ブチルエ
チルエーテルから再結晶化させる。
ウム(パラフィン中80%)を8g(26.7ミリモ
ル)の実施例IIIからの化合物の300mlのDMF中
溶液に加えそして反応混合物を室温で1時間撹拌する。
それを次に2.5ml(29ミリモル)の臭化アリルで
処理しそして室温でさらに2時間撹拌する。混合物を8
00mlの水に加え、そして水相をジエチルエーテルで
抽出し、乾燥し(Na2SO4)、そして溶媒を真空中で
ストリッピングする。粗製生成物をtert−ブチルエ
チルエーテルから再結晶化させる。
【0139】収量:7.42g(理論値の82%) Rf(I,10:1)=0.301 H−NMR(200MHz,[D6]DMSO):δ=8.
10(d,1H);7.80(d,1H);7.20−7.
45(m,5H);5.70−5.95(m,1H);5.
00−5.20(m,4H);4.28(d,2H);3.
30(s,3H)。
10(d,1H);7.80(d,1H);7.20−7.
45(m,5H);5.70−5.95(m,1H);5.
00−5.20(m,4H);4.28(d,2H);3.
30(s,3H)。
【0140】実施例V 6−(N−ベンジルオキシカルボニル−N−(2,3−ジ
ヒドロキシプロピ−1−イル)アミノ)−3−メチルオキ
サゾロ[4,5−b]ピリジン−2(3H)−オン
ヒドロキシプロピ−1−イル)アミノ)−3−メチルオキ
サゾロ[4,5−b]ピリジン−2(3H)−オン
【0141】
【化36】
【0142】7.27g(21.4ミリモル)の実施例IV
からの化合物および14.9g(128.2ミリモル)の
N−メチルモルホリンN−オキシドの400mlのアセ
トンおよび100mlの水中溶液を23.6mlの四酸
化オスミウムの(水中2.5%)溶液で処理し、そして
反応混合物を室温で16時間撹拌する。溶液を0℃に冷
却し、240mlのNaHSO3溶液(39%強度)で
処理しそして室温でさらに2時間撹拌する。反応混合物
を水および飽和NaCl溶液(1:1)で処理し、水相
を酢酸エチルで抽出しそして一緒にした有機相を乾燥す
る(Na2SO4)。真空中で溶媒をストリッピングした
後に、標記化合物が黄色の固体状で得られる。
からの化合物および14.9g(128.2ミリモル)の
N−メチルモルホリンN−オキシドの400mlのアセ
トンおよび100mlの水中溶液を23.6mlの四酸
化オスミウムの(水中2.5%)溶液で処理し、そして
反応混合物を室温で16時間撹拌する。溶液を0℃に冷
却し、240mlのNaHSO3溶液(39%強度)で
処理しそして室温でさらに2時間撹拌する。反応混合物
を水および飽和NaCl溶液(1:1)で処理し、水相
を酢酸エチルで抽出しそして一緒にした有機相を乾燥す
る(Na2SO4)。真空中で溶媒をストリッピングした
後に、標記化合物が黄色の固体状で得られる。
【0143】収量:8.1g(定量) Rf(I,10:1)=0.321 H−NMR(200MHz,[D6]DMSO):δ=8.
14(d,1H);7.80(d,1H);7.10−7.
45(m,5H);5.10(bs,2H);4.90
(d,1H);4.54(t,1H);3.40−3.80
(m,3H);3.28(s,3H)。
14(d,1H);7.80(d,1H);7.10−7.
45(m,5H);5.10(bs,2H);4.90
(d,1H);4.54(t,1H);3.40−3.80
(m,3H);3.28(s,3H)。
【0144】実施例VI 6−アセチルアミノ−2−メチルチアゾロ[5,4−b]
ピリジン
ピリジン
【0145】
【化37】
【0146】4.3mlの無水酢酸中の2.85g(2
0.2ミリモル)の2,6−ジアミノチアゾロ[5,4−
b]ピリジン(J. Org. Chem 1973, 38, 4383)を還流下
で2時間にわたり加熱する。反応混合物を濃縮し、そし
て残渣を1M NaOH溶液を使用してアルカリ性とす
る。混合物を酢酸エチルで抽出し、乾燥し(MgS
O4)、そして溶媒を真空中でストリッピングする。
0.2ミリモル)の2,6−ジアミノチアゾロ[5,4−
b]ピリジン(J. Org. Chem 1973, 38, 4383)を還流下
で2時間にわたり加熱する。反応混合物を濃縮し、そし
て残渣を1M NaOH溶液を使用してアルカリ性とす
る。混合物を酢酸エチルで抽出し、乾燥し(MgS
O4)、そして溶媒を真空中でストリッピングする。
【0147】収量:2.71g(理論値の65%) Rf(I,10:1)=0.53実施例VII 6−アミノ−2−メチルチアゾロ[5,4−b]ピリジン
【0148】
【化38】
【0149】17.3mlの濃塩酸中の1.33g(5.
96ミリモル)の実施例VIからの化合物を還流下で1時
間加熱する。処理するために、反応混合物を真空中で濃
縮し、1M NaOH溶液を用いてpH=9にしそして
酢酸エチルで抽出する。一緒にした有機相を乾燥し(M
gSO4)そして溶媒を真空中でストリッピングする。
96ミリモル)の実施例VIからの化合物を還流下で1時
間加熱する。処理するために、反応混合物を真空中で濃
縮し、1M NaOH溶液を用いてpH=9にしそして
酢酸エチルで抽出する。一緒にした有機相を乾燥し(M
gSO4)そして溶媒を真空中でストリッピングする。
【0150】収量:0.8g(理論値の81%) Rf(I,10:1)=0.58実施例VIII 6−イソシアナト−2−メチルチアゾロ[5,4−b]ピ
リジン塩酸塩
リジン塩酸塩
【0151】
【化39】
【0152】10mlのジクロロエタン中の1.01g
(6.1ミリモル)の実施例VIIからの化合物および81
0μl(6.71ミリモル)のクロロ蟻酸トリクロロメ
チルを還流下で16時間加熱する。混合物を室温に放冷
し、生じた沈澱を吸引濾別し、ジクロロメタンで洗浄し
そして高真空中で乾燥する。
(6.1ミリモル)の実施例VIIからの化合物および81
0μl(6.71ミリモル)のクロロ蟻酸トリクロロメ
チルを還流下で16時間加熱する。混合物を室温に放冷
し、生じた沈澱を吸引濾別し、ジクロロメタンで洗浄し
そして高真空中で乾燥する。
【0153】収量:1.07g(理論値の77%)製造実施例 実施例1 5−ヒドロキシメチル−3−(3−メチルオキサゾロ
[4,5−b]ピリジン−2(3H)−オン−6−イル)オキ
サゾリジン−2−オン
[4,5−b]ピリジン−2(3H)−オン−6−イル)オキ
サゾリジン−2−オン
【0154】
【化40】
【0155】500mlのアセトニトリル中の7.75
g(20.8ミリモル)の実施例Vからの化合物および
5.8g(42ミリモル)の炭酸カリウムを還流下で1
5時間加熱する。処理するために、反応混合物を水中に
注ぎ、水相に塩化ナトリウムを飽和しそして酢酸エチル
で抽出する。一緒にした有機相を乾燥し(Na2S
O4)、溶媒を真空中でストリッピングしそして残渣を
ジエチルエーテルを用いて結晶化させる。
g(20.8ミリモル)の実施例Vからの化合物および
5.8g(42ミリモル)の炭酸カリウムを還流下で1
5時間加熱する。処理するために、反応混合物を水中に
注ぎ、水相に塩化ナトリウムを飽和しそして酢酸エチル
で抽出する。一緒にした有機相を乾燥し(Na2S
O4)、溶媒を真空中でストリッピングしそして残渣を
ジエチルエーテルを用いて結晶化させる。
【0156】収量:3.14g(理論値の57%) Rf(I,10:1)=0.83 MS(CI):m/z=283(M+NH4 +)1 H−NMR(200MHz,[D6]DMSO):δ=8.
20(d,1H);8.02(d,1H);5.22(t,
1H,OH);4.75(m,1H);4.10(t,1
H);3.85(dd,1H);3.49−3.76(m,
2H);3.30(s,3H)。
20(d,1H);8.02(d,1H);5.22(t,
1H,OH);4.75(m,1H);4.10(t,1
H);3.85(dd,1H);3.49−3.76(m,
2H);3.30(s,3H)。
【0157】実施例2 (5R)−5−ブトキシメチル−3−(2−メチルチアゾ
ロ[5,4−b]ピリジン−2−イル)オキサゾリジン−2
−オン
ロ[5,4−b]ピリジン−2−イル)オキサゾリジン−2
−オン
【0158】
【化41】
【0159】29.0mg(0.33ミリモル)の臭化リ
チウムおよび72.0mg(0.33ミリモル)の酸化ト
リブチルホスフィンの10mlのキシレン中懸濁液を水
分離器上で還流下で1時間加熱する。776μl(5.
6ミリモル)のトリエチルアミンおよび782μl
(5.6ミリモル)の酪酸グリシジルを次に沸騰加熱点
で加え、次に1.27g(5.6ミリモル)の実施例VII
からの化合物を加え、そして混合物を還流下でさらに3
時間撹拌する。それを室温に放冷し、溶媒を真空中でス
トリッピングしそして残渣をクロマトグラフィー(シリ
カゲル、溶離剤 ジクロロメタン/メタノール 30:
1)により精製する。
チウムおよび72.0mg(0.33ミリモル)の酸化ト
リブチルホスフィンの10mlのキシレン中懸濁液を水
分離器上で還流下で1時間加熱する。776μl(5.
6ミリモル)のトリエチルアミンおよび782μl
(5.6ミリモル)の酪酸グリシジルを次に沸騰加熱点
で加え、次に1.27g(5.6ミリモル)の実施例VII
からの化合物を加え、そして混合物を還流下でさらに3
時間撹拌する。それを室温に放冷し、溶媒を真空中でス
トリッピングしそして残渣をクロマトグラフィー(シリ
カゲル、溶離剤 ジクロロメタン/メタノール 30:
1)により精製する。
【0160】収量:464mg(理論値の25%) Rf(I,10:1)=0.9 MS(CI):m/z=336(M+H)+ 1 H−NMR(200MHz,[D6]DMSO):δ=8.
33(d,1H);8.22(d,1H);4.98(m,
1H);4.35(m,3H);4.12(dd,1H);
2.80(s,3H);2.28(t,2H);1.50
(セクステット,2H);0.80(t,3H)。
33(d,1H);8.22(d,1H);4.98(m,
1H);4.35(m,3H);4.12(dd,1H);
2.80(s,3H);2.28(t,2H);1.50
(セクステット,2H);0.80(t,3H)。
【0161】実施例3 (5R)−5−ヒドロキシメチル−3−(2−メチルチア
ゾロ[5,4−b]ピリジン−2−イル)オキサゾリジン−
2−オン
ゾロ[5,4−b]ピリジン−2−イル)オキサゾリジン−
2−オン
【0162】
【化42】
【0163】30mlのメタノール中の424mg
(1.26ミリモル)の実施例2からの化合物を35m
g(0.2ミリモル)の炭酸セシウムで処理しそして室
温で3時間撹拌する。反応混合物を酢酸エチルで処理
し、飽和NH4Clおよび水で洗浄し、乾燥し(MgS
O4)そして溶媒を真空中でストリッピングする。
(1.26ミリモル)の実施例2からの化合物を35m
g(0.2ミリモル)の炭酸セシウムで処理しそして室
温で3時間撹拌する。反応混合物を酢酸エチルで処理
し、飽和NH4Clおよび水で洗浄し、乾燥し(MgS
O4)そして溶媒を真空中でストリッピングする。
【0164】収量:245mg(理論値の73%) Rf(I,30:1)=0.43 MS(CI):m/z=266(M+H)+ 1 H−NMR(200MHz,[D6]DMSO):δ=8.
33(d,1H);8.25(d,1H);5.23(t,
1H);4.75(m,1H);4.25(t,1H);
4.05(dd,1H);3.65(m,2H);2.80
(s,3H)。
33(d,1H);8.25(d,1H);5.23(t,
1H);4.75(m,1H);4.25(t,1H);
4.05(dd,1H);3.65(m,2H);2.80
(s,3H)。
【0165】実施例4 5−メタンスルホニルオキシ−3−(3−メチルチアゾ
ロ[4,5−b]ピリジン−2(3H)−オン−6−イル)オ
キサゾリジン−2−オン
ロ[4,5−b]ピリジン−2(3H)−オン−6−イル)オ
キサゾリジン−2−オン
【0166】
【化43】
【0167】3.0g(113ミリモル)の実施例1か
らの化合物および2.7ml(19.2ミリモル)のトリ
エチルアミンの120mlのTHF中混合物を0℃にお
いて1.4ml(18.1ミリモル)の塩化メタンスルホ
ニルで処理しそして0℃で1時間撹拌する。反応混合物
を1.2リットルの氷水に加え、生じた沈澱を濾別し、
水および石油エーテルで洗浄しそして高真空中でP2O5
上で乾燥する。
らの化合物および2.7ml(19.2ミリモル)のトリ
エチルアミンの120mlのTHF中混合物を0℃にお
いて1.4ml(18.1ミリモル)の塩化メタンスルホ
ニルで処理しそして0℃で1時間撹拌する。反応混合物
を1.2リットルの氷水に加え、生じた沈澱を濾別し、
水および石油エーテルで洗浄しそして高真空中でP2O5
上で乾燥する。
【0168】収量:3.1g(理論値の80%) Rf(I,10:1)=0.581 H−NMR(200MHz,[D6]DMSO):δ=8.
22(d,1H);8.02(d,1H);5.05(m,
1H);4.45−4.60(m,2H);4.23(t,
1H);3.70(dd,1H);3.30(s,3H);
3.32(s,3H)。
22(d,1H);8.02(d,1H);5.05(m,
1H);4.45−4.60(m,2H);4.23(t,
1H);3.70(dd,1H);3.30(s,3H);
3.32(s,3H)。
【0169】表1に示された化合物は化合物4の工程と
同様にして製造される。
同様にして製造される。
【0170】
【表3】
【0171】実施例6 5−アジドメチル−3−(3−メチルオキサゾロ[4,5
−b]ピリジン−2(3H)−オン−6−イル)オキサゾリ
ジン−2−オン
−b]ピリジン−2(3H)−オン−6−イル)オキサゾリ
ジン−2−オン
【0172】
【化44】
【0173】2.95g(8.6ミリモル)の実施例4か
らの化合物および0.62g(9.5ミリモル)のナトリ
ウムアジドの150mlのDMF中溶液を90℃で3時
間撹拌する。混合物を室温に放冷し、DMFを真空中で
ストリッピングし、残渣を水および酢酸エチルで処理し
そして有機相を酢酸エチルで抽出する。一緒にした有機
相を乾燥し(Na2SO4)そして溶媒を真空中でストリ
ッピングする。
らの化合物および0.62g(9.5ミリモル)のナトリ
ウムアジドの150mlのDMF中溶液を90℃で3時
間撹拌する。混合物を室温に放冷し、DMFを真空中で
ストリッピングし、残渣を水および酢酸エチルで処理し
そして有機相を酢酸エチルで抽出する。一緒にした有機
相を乾燥し(Na2SO4)そして溶媒を真空中でストリ
ッピングする。
【0174】収量:2.2g(理論値の88%) Rf(I,20:1)=0.551 H−NMR(200MHz,[D6]DMSO):δ=8.
25(d,1H);8.05(d,1H);4.92(m,
1H);4.15(t,1H);3.32(dd,1H);
3.15−3.30(m,2H);3.30(s,3H)。
25(d,1H);8.05(d,1H);4.92(m,
1H);4.15(t,1H);3.32(dd,1H);
3.15−3.30(m,2H);3.30(s,3H)。
【0175】表2に示された化合物は実施例6の工程と
同様にして製造される。
同様にして製造される。
【0176】
【表4】
【0177】実施例8 5−アミノメチル−3−(3−メチルオキサゾロ[4,5
−b]ピリジン−2(3H)−オン−6−イル)オキサゾリ
ジン−2−オン
−b]ピリジン−2(3H)−オン−6−イル)オキサゾリ
ジン−2−オン
【0178】
【化45】
【0179】2.15g(7.4ミリモル)の実施例6か
らの化合物および200mlのPd−C(10%)を水
素(1気圧)下で50mlのTHFおよび50mlのメ
タノール中で1時間撹拌する。反応が終了した後に、触
媒を濾別し、溶媒をストリッピングしそして残渣を高真
空中で乾燥する。
らの化合物および200mlのPd−C(10%)を水
素(1気圧)下で50mlのTHFおよび50mlのメ
タノール中で1時間撹拌する。反応が終了した後に、触
媒を濾別し、溶媒をストリッピングしそして残渣を高真
空中で乾燥する。
【0180】収量:1.96g(定量) Rf(I,5:1)=0.17 MS(CI):m/z=282(M+NH4 +)1 H−NMR(200MHz,[D6]DMSO):δ=8.
21(d,1H);8.06(d,1H);4.63(m,
1H);4.09(t,1H);3.90(dd,1H);
3.32(s,3H);3.30−3.45(bs,2
H)。
21(d,1H);8.06(d,1H);4.63(m,
1H);4.09(t,1H);3.90(dd,1H);
3.32(s,3H);3.30−3.45(bs,2
H)。
【0181】実施例9 (5S)−5−アミノメチル−3−(2−メチルチアゾロ
[4,5−b]ピリジン−2−オン塩酸塩
[4,5−b]ピリジン−2−オン塩酸塩
【0182】
【化46】
【0183】210mg(0.72ミリモル)の実施例
7からの化合物の5mlのジメトキシエタン(DME)
中溶液を50℃で0.1ml(0.84ミリモル)の亜燐
酸トリメチルで滴々処理しそして50℃でさらに3時間
撹拌する。0.1ml(0.84ミリモル)の亜燐酸トリ
メチルを再び加え、反応混合物をさらに0.5時間撹拌
し、0.4ml(2.5ミリモル)の6N HClで処理
しそして60℃でさらに2時間撹拌する。それを室温に
放冷し、酢酸エチルおよび飽和NaHCO3溶液で処理
し、水相を酢酸エチルで抽出し、一緒にした有機相を乾
燥し(MgSO4)そして溶媒を真空中でストリッピン
グする。残渣をジエチルエーテル中に加えそして過剰の
1Mエーテル性HClで処理する。沈澱を吸引濾別し、
ジエチルエーテルで洗浄しそして乾燥する。
7からの化合物の5mlのジメトキシエタン(DME)
中溶液を50℃で0.1ml(0.84ミリモル)の亜燐
酸トリメチルで滴々処理しそして50℃でさらに3時間
撹拌する。0.1ml(0.84ミリモル)の亜燐酸トリ
メチルを再び加え、反応混合物をさらに0.5時間撹拌
し、0.4ml(2.5ミリモル)の6N HClで処理
しそして60℃でさらに2時間撹拌する。それを室温に
放冷し、酢酸エチルおよび飽和NaHCO3溶液で処理
し、水相を酢酸エチルで抽出し、一緒にした有機相を乾
燥し(MgSO4)そして溶媒を真空中でストリッピン
グする。残渣をジエチルエーテル中に加えそして過剰の
1Mエーテル性HClで処理する。沈澱を吸引濾別し、
ジエチルエーテルで洗浄しそして乾燥する。
【0184】収量:105mg(理論値の49%)1 H−NMR(200MHz,[D6]DMSO):δ=8.
32(d,1H);8.23(d,1H);4.97(m,
1H);4.36(t,1H);4.03(dd,1H);
3.25(m,2H);2.80(s,3H)。
32(d,1H);8.23(d,1H);4.97(m,
1H);4.36(t,1H);4.03(dd,1H);
3.25(m,2H);2.80(s,3H)。
【0185】実施例10 5−アセチルアミノメチル−3−(3−メチルオキサゾ
ロ[4,5−b]ピリジン−2(3H)−オン−6−イル)オ
キサゾリジン−2−オン
ロ[4,5−b]ピリジン−2(3H)−オン−6−イル)オ
キサゾリジン−2−オン
【0186】
【化47】
【0187】6μl(0.86ミリモル)の塩化アセチ
ルを0℃において150mg(0.57ミリモル)の実
施例9からの化合物および126ml(0.91ミリモ
ル)のトリエチルアミンの10mlのジクロロメタン中
溶液に加えそして0℃でさらに1時間撹拌する。反応混
合物を110mlの氷水に加え、水相をジクロロメタン
で抽出し、一緒にした有機相を飽和NaCl溶液で洗浄
し、乾燥し(Na2SO4)、そして溶媒を真空中でスト
リッピングする。残渣を少量のジクロロメタンを用いて
結晶化させる。
ルを0℃において150mg(0.57ミリモル)の実
施例9からの化合物および126ml(0.91ミリモ
ル)のトリエチルアミンの10mlのジクロロメタン中
溶液に加えそして0℃でさらに1時間撹拌する。反応混
合物を110mlの氷水に加え、水相をジクロロメタン
で抽出し、一緒にした有機相を飽和NaCl溶液で洗浄
し、乾燥し(Na2SO4)、そして溶媒を真空中でスト
リッピングする。残渣を少量のジクロロメタンを用いて
結晶化させる。
【0188】収量:46mg(理論値の27%) Rf(I,20:1)=0.16 MS(CI):m/z=324(M+NH4 +)1 H−NMR(200MHz,[D6]DMSO):δ=8.
21(bt,1H,NH);8.15(d,1H);8.0
2(d,1H);4.74(m,1H);4.15(t,1
H);3.73(dd,1H);3.33(s,3H);
1.82(s,3H)。
21(bt,1H,NH);8.15(d,1H);8.0
2(d,1H);4.74(m,1H);4.15(t,1
H);3.73(dd,1H);3.33(s,3H);
1.82(s,3H)。
【0189】表3に示された化合物は化合物10の工程
と同様にして製造される。
と同様にして製造される。
【0190】
【表5】
【0191】本発明の主なる特徴および態様は以下のと
おりである。
おりである。
【0192】1.純粋な立体異性体としてのまたは立体
異性体混合物としての、一般式(I)
異性体混合物としての、一般式(I)
【0193】
【化48】
【0194】[式中、Aは式
【0195】
【化49】
【0196】の基を表し、ここでE、G、LおよびMは
同一もしくは相異なりそして置換基の少なくとも1つは
窒素原子を表しそして他のものは式−CR4の基を表
し、ここでR4は水素、メチルまたはハロゲンを表し、
R2は水素、各々炭素数が3〜8のシクロアルキルもし
くはシクロアルキルカルボニル、または炭素数8までの
直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを表し、それは場合
によりヒドロキシル、ハロゲンにより、各々炭素数が6
までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキシ、アルコキ
シカルボニルもしくはアルキルチオによりまたは式−N
R6R7の基により置換されていてもよく、ここでR6お
よびR7は同一もしくは相異なりそして水素、シクロア
ルキル、フェニルまたは炭素数4までの直鎖状もしくは
分枝鎖状のアルキルを示し、R3は各々炭素数が8まで
の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルまたはチオアルキ
ルを示し、Dは酸素もしくは硫黄原子または式−NR5
の基を示し、ここでR5は上記のR2の意味を有し且つこ
れと同一もしくは相異なり、Tは酸素または硫黄原子を
示し、R1はアジド、ヒドロキシルまたは式−OR8、O
−SO2R9もしくは−NR10R11の基を表し、ここでR
8は炭素数8までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアシルま
たはヒドロキシル保護基を示し、R9は炭素数4までの
直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルまたは場合により炭
素数4までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルにより
置換されていてもよいフェニルを示し、R10およびR11
は同一もしくは相異なりそして炭素数3〜6のシクロア
ルキル、水素、フェニルまたは各々炭素数が8までの直
鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルもしくはアルコキシま
たはアミノ保護基を示すか、或いはR10またはR11は式
−CO−R12、−CS−R12′、P(O)(OR13)(OR
14)または−SO2−R15の基を示し、ここでR12および
R12′は同一もしくは相異なりそして水素、炭素数3〜
6のシクロアルキル、トリフルオロメチル、炭素数8ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキシ、フェニル、
ベンジルオキシまたは水素を示すか、或いは炭素数8ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを示し、それは
場合によりシアノ、ハロゲンまたはトリフルオロメチル
により置換されていてもよく、或いは各々炭素数が6ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のチオアルキルまたはアシ
ルを示すか、或いは式−NR16R17の基を示し、ここで
R16およびR17は同一もしくは相異なりそして水素、フ
ェニルまたは炭素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状の
アルキルを示すか、或いは群S、Nおよび/またはOか
らの3個までのヘテロ原子を有する5−員の芳香族複素
環を示し、R13およびR14は同一もしくは相異なりそし
て水素または炭素数4までの直鎖状もしくは分枝鎖状の
アルキルを示し、R15は炭素数4までの直鎖状もしくは
分枝鎖状のアルキルまたはフェニルを示す]の化合物、
およびそれらの塩。
同一もしくは相異なりそして置換基の少なくとも1つは
窒素原子を表しそして他のものは式−CR4の基を表
し、ここでR4は水素、メチルまたはハロゲンを表し、
R2は水素、各々炭素数が3〜8のシクロアルキルもし
くはシクロアルキルカルボニル、または炭素数8までの
直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを表し、それは場合
によりヒドロキシル、ハロゲンにより、各々炭素数が6
までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキシ、アルコキ
シカルボニルもしくはアルキルチオによりまたは式−N
R6R7の基により置換されていてもよく、ここでR6お
よびR7は同一もしくは相異なりそして水素、シクロア
ルキル、フェニルまたは炭素数4までの直鎖状もしくは
分枝鎖状のアルキルを示し、R3は各々炭素数が8まで
の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルまたはチオアルキ
ルを示し、Dは酸素もしくは硫黄原子または式−NR5
の基を示し、ここでR5は上記のR2の意味を有し且つこ
れと同一もしくは相異なり、Tは酸素または硫黄原子を
示し、R1はアジド、ヒドロキシルまたは式−OR8、O
−SO2R9もしくは−NR10R11の基を表し、ここでR
8は炭素数8までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアシルま
たはヒドロキシル保護基を示し、R9は炭素数4までの
直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルまたは場合により炭
素数4までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルにより
置換されていてもよいフェニルを示し、R10およびR11
は同一もしくは相異なりそして炭素数3〜6のシクロア
ルキル、水素、フェニルまたは各々炭素数が8までの直
鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルもしくはアルコキシま
たはアミノ保護基を示すか、或いはR10またはR11は式
−CO−R12、−CS−R12′、P(O)(OR13)(OR
14)または−SO2−R15の基を示し、ここでR12および
R12′は同一もしくは相異なりそして水素、炭素数3〜
6のシクロアルキル、トリフルオロメチル、炭素数8ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキシ、フェニル、
ベンジルオキシまたは水素を示すか、或いは炭素数8ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを示し、それは
場合によりシアノ、ハロゲンまたはトリフルオロメチル
により置換されていてもよく、或いは各々炭素数が6ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のチオアルキルまたはアシ
ルを示すか、或いは式−NR16R17の基を示し、ここで
R16およびR17は同一もしくは相異なりそして水素、フ
ェニルまたは炭素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状の
アルキルを示すか、或いは群S、Nおよび/またはOか
らの3個までのヘテロ原子を有する5−員の芳香族複素
環を示し、R13およびR14は同一もしくは相異なりそし
て水素または炭素数4までの直鎖状もしくは分枝鎖状の
アルキルを示し、R15は炭素数4までの直鎖状もしくは
分枝鎖状のアルキルまたはフェニルを示す]の化合物、
およびそれらの塩。
【0197】2.純粋な立体異性体としてのまたは立体
異性体混合物としての、Aが式
異性体混合物としての、Aが式
【0198】
【化50】
【0199】の基を表し、ここでE、G、LおよびMが
同一もしくは相異なりそして置換基の少なくとも1つは
窒素原子を表しそして他のものは式−CR4の基を表
し、ここでR4が水素、弗素、塩素または臭素を示し、
R2が水素、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシルまたはシクロヘプチルを示す
か、或いは炭素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状のア
ルキルを示し、それは場合によりヒドロキシル、弗素、
塩素、臭素により、各々炭素数が4までのアルコキシ、
アルコキシカルボニルもしくはアルキルチオによりまた
は式−NR6R7の基により置換されていてもよく、ここ
でR6およびR7が同一もしくは相異なりそして水素、シ
クロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル、フェニルまたは炭素数3までの直鎖状もしく
は分枝鎖状のアルキルを示し、R3が各々炭素数が6ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルまたはチオアル
キルを示し、Dが酸素もしくは硫黄原子または式−NR
5の基を示し、ここでR5が上記のR2の意味を有し且つ
これと同一もしくは相異なり、Tが酸素または硫黄原子
を示し、R1がアジド、ヒドロキシルまたは式−OR8、
O−SO2R9もしくは−NR10R11の基を表し、ここで
R8が炭素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアシル
またはベンジルを示し、R9が炭素数3までの直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキル、フェニルまたはトリルを示
し、R10およびR11が同一もしくは相異なりそしてシク
ロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、水素、
フェニルまたは各々炭素数が6までの直鎖状もしくは分
枝鎖状のアルキルもしくはアルコキシ、tert−ブト
キシカルボニルまたはベンジルオキシカルボニルを示す
か、或いはR10またはR11が式−CO−R12、−CS−
R12′、P(O)(OR13)(OR14)または−SO2−R15
の基を示し、ここでR12およびR12′が同一もしくは相
異なりそして水素、シクロプロピル、シクロブチル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル、トリフルオロメチルま
たは炭素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキ
シ、フェニル、ベンジルオキシまたは水素を示すか、或
いは炭素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル
を示し、それは場合によりシアノ、弗素、塩素、臭素ま
たはトリフルオロメチルにより置換されていてもよく、
或いは各々炭素数が5までの直鎖状もしくは分枝鎖状の
チオアルキルまたはアシルを示すか、或いは式−NR16
R17の基を示し、ここでR16およびR17が同一もしくは
相異なりそして水素、フェニルまたは炭素数4までの直
鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを示すか、或いはイソ
キサゾリル、フリル、チエニル、ピリル、オキサゾリル
またはイミダゾリルを示し、R13およびR14が同一もし
くは相異なりそして水素または炭素数3までの直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキルを示し、R15が炭素数3まで
の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルまたはフェニルを
示す、上記1の一般式(I)の化合物、それらの塩。
同一もしくは相異なりそして置換基の少なくとも1つは
窒素原子を表しそして他のものは式−CR4の基を表
し、ここでR4が水素、弗素、塩素または臭素を示し、
R2が水素、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシルまたはシクロヘプチルを示す
か、或いは炭素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状のア
ルキルを示し、それは場合によりヒドロキシル、弗素、
塩素、臭素により、各々炭素数が4までのアルコキシ、
アルコキシカルボニルもしくはアルキルチオによりまた
は式−NR6R7の基により置換されていてもよく、ここ
でR6およびR7が同一もしくは相異なりそして水素、シ
クロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル、フェニルまたは炭素数3までの直鎖状もしく
は分枝鎖状のアルキルを示し、R3が各々炭素数が6ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルまたはチオアル
キルを示し、Dが酸素もしくは硫黄原子または式−NR
5の基を示し、ここでR5が上記のR2の意味を有し且つ
これと同一もしくは相異なり、Tが酸素または硫黄原子
を示し、R1がアジド、ヒドロキシルまたは式−OR8、
O−SO2R9もしくは−NR10R11の基を表し、ここで
R8が炭素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアシル
またはベンジルを示し、R9が炭素数3までの直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキル、フェニルまたはトリルを示
し、R10およびR11が同一もしくは相異なりそしてシク
ロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、水素、
フェニルまたは各々炭素数が6までの直鎖状もしくは分
枝鎖状のアルキルもしくはアルコキシ、tert−ブト
キシカルボニルまたはベンジルオキシカルボニルを示す
か、或いはR10またはR11が式−CO−R12、−CS−
R12′、P(O)(OR13)(OR14)または−SO2−R15
の基を示し、ここでR12およびR12′が同一もしくは相
異なりそして水素、シクロプロピル、シクロブチル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル、トリフルオロメチルま
たは炭素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキ
シ、フェニル、ベンジルオキシまたは水素を示すか、或
いは炭素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル
を示し、それは場合によりシアノ、弗素、塩素、臭素ま
たはトリフルオロメチルにより置換されていてもよく、
或いは各々炭素数が5までの直鎖状もしくは分枝鎖状の
チオアルキルまたはアシルを示すか、或いは式−NR16
R17の基を示し、ここでR16およびR17が同一もしくは
相異なりそして水素、フェニルまたは炭素数4までの直
鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを示すか、或いはイソ
キサゾリル、フリル、チエニル、ピリル、オキサゾリル
またはイミダゾリルを示し、R13およびR14が同一もし
くは相異なりそして水素または炭素数3までの直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキルを示し、R15が炭素数3まで
の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルまたはフェニルを
示す、上記1の一般式(I)の化合物、それらの塩。
【0200】3.純粋な立体異性体としてのまたは立体
異性体混合物としての、Aが式
異性体混合物としての、Aが式
【0201】
【化51】
【0202】の基を表し、ここでE、G、LおよびMが
同一もしくは相異なりそして置換基の少なくとも1つは
窒素原子を表しそして他のものは式−CR4の基を表
し、ここでR4が水素または弗素を示し、R2が水素、シ
クロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルまたはシ
クロヘキシルを示すか、或いは炭素数5までの直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキルを示し、それは場合によりヒ
ドロキシル、弗素、塩素、臭素により、各々炭素数が3
までのアルコキシ、アルコキシカルボニルもしくはアル
キルチオによりまたは式−NR6R7の基により置換され
ていてもよく、ここでR6およびR7が同一もしくは相異
なりそして水素、シクロプロピル、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、フェニルまたは炭素数3までの直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキルを示し、R3が各々炭素数が
5までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルまたはチオ
アルキルを示し、Dが酸素または硫黄原子を示し、Tが
酸素原子を示し、R1がアジド、ヒドロキシルまたは式
−OR8、O−SO2R9もしくは−NR10R11の基を表
し、ここでR8が炭素数5までの直鎖状もしくは分枝鎖
状のアシルまたはベンジルを示し、R9がメチル、エチ
ル、フェニルまたはトリルを示し、R10およびR11が同
一もしくは相異なりそしてシクロプロピル、シクロペン
チル、シクロヘキシル、水素、フェニルまたは各々炭素
数が5までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルもしく
はアルコキシ、tert−ブトキシカルボニルまたはベ
ンジルオキシカルボニルを示すか、或いはR10またはR
11が式−CO−R12、−CS−R12′、P(O)(OR13)
(OR14)または−SO2−R15の基を示し、ここでR12
およびR12′が同一もしくは相異なりそして水素、シク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、トリフル
オロメチルまたは炭素数5までの直鎖状もしくは分枝鎖
状のアルコキシ、フェニル、ベンジルオキシまたは水素
を示すか、炭素数5までの直鎖状もしくは分枝鎖状のア
ルキルを示し、それは場合によりシアノ、弗素、塩素、
臭素またはトリフルオロメチルにより置換されていても
よく、或いは各々炭素数が4までの直鎖状もしくは分枝
鎖状のチオアルキルまたはアシルを示すか、或いは式−
NR16R17の基を示し、ここでR16およびR17が同一も
しくは相異なりそして水素、フェニルまたは炭素数3ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを示すか、或い
はイソキサゾリル、フリル、オキサゾリルまたはイミダ
ゾリルを示し、R13およびR14が同一もしくは相異なり
そして水素、メチルまたはエチルを示し、R15がメチル
またはフェニルを示す、上記1の一般式(I)の化合
物、それらの塩。
同一もしくは相異なりそして置換基の少なくとも1つは
窒素原子を表しそして他のものは式−CR4の基を表
し、ここでR4が水素または弗素を示し、R2が水素、シ
クロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルまたはシ
クロヘキシルを示すか、或いは炭素数5までの直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキルを示し、それは場合によりヒ
ドロキシル、弗素、塩素、臭素により、各々炭素数が3
までのアルコキシ、アルコキシカルボニルもしくはアル
キルチオによりまたは式−NR6R7の基により置換され
ていてもよく、ここでR6およびR7が同一もしくは相異
なりそして水素、シクロプロピル、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、フェニルまたは炭素数3までの直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキルを示し、R3が各々炭素数が
5までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルまたはチオ
アルキルを示し、Dが酸素または硫黄原子を示し、Tが
酸素原子を示し、R1がアジド、ヒドロキシルまたは式
−OR8、O−SO2R9もしくは−NR10R11の基を表
し、ここでR8が炭素数5までの直鎖状もしくは分枝鎖
状のアシルまたはベンジルを示し、R9がメチル、エチ
ル、フェニルまたはトリルを示し、R10およびR11が同
一もしくは相異なりそしてシクロプロピル、シクロペン
チル、シクロヘキシル、水素、フェニルまたは各々炭素
数が5までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルもしく
はアルコキシ、tert−ブトキシカルボニルまたはベ
ンジルオキシカルボニルを示すか、或いはR10またはR
11が式−CO−R12、−CS−R12′、P(O)(OR13)
(OR14)または−SO2−R15の基を示し、ここでR12
およびR12′が同一もしくは相異なりそして水素、シク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、トリフル
オロメチルまたは炭素数5までの直鎖状もしくは分枝鎖
状のアルコキシ、フェニル、ベンジルオキシまたは水素
を示すか、炭素数5までの直鎖状もしくは分枝鎖状のア
ルキルを示し、それは場合によりシアノ、弗素、塩素、
臭素またはトリフルオロメチルにより置換されていても
よく、或いは各々炭素数が4までの直鎖状もしくは分枝
鎖状のチオアルキルまたはアシルを示すか、或いは式−
NR16R17の基を示し、ここでR16およびR17が同一も
しくは相異なりそして水素、フェニルまたは炭素数3ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを示すか、或い
はイソキサゾリル、フリル、オキサゾリルまたはイミダ
ゾリルを示し、R13およびR14が同一もしくは相異なり
そして水素、メチルまたはエチルを示し、R15がメチル
またはフェニルを示す、上記1の一般式(I)の化合
物、それらの塩。
【0203】4.オキサゾリジノン基が窒素を含有する
環と位置5または6で結合されている、上記1の一般式
(I)の化合物。
環と位置5または6で結合されている、上記1の一般式
(I)の化合物。
【0204】5.[A]一般式(II)または(III) A−N=C=O (II) または A−CO−N3 (III) [式中、Aは上記1に示された意味を有する]の化合物
を不活性溶媒中で、適宜塩基の存在下に、臭化リチウム
/(C4H9)3P(O)および一般式(IV)
を不活性溶媒中で、適宜塩基の存在下に、臭化リチウム
/(C4H9)3P(O)および一般式(IV)
【0205】
【化52】
【0206】[式中、QはC1−C6-アシルオキシを表
す]のエポキシド類と反応させ、そしてR1=OHの場
合、ヒドロキシル官能基を典型的なエステル加水分解に
よりまたは典型的なエステル交換により遊離させるか、
或いは[B]一般式(V) A−NH−CO2−X (V) [式中、Aは上記の意味を有し、そしてXは典型的な保
護基を表す]の化合物を不活性溶媒中でそして塩基の存
在下に一般式(IV)のエポキシド類と反応させるか、或
いは[C]R1=OHの場合、一般式(III)の化合物を
最初にアルコール中で窒素の除去により一般式(Va) A−NH−CO2−Y (Va) [式中、Aは上記の意味を有し、そしてYは直鎖状もし
くは分枝鎖状のC1−C6-アルキル、好適にはn−ブチ
ルを表す]の化合物に転化し、そしてこれらを第二段階
で不活性溶媒中でそして塩基の存在下に[A]に記載さ
れた通りにして一般式(IV)のエポキシド類と反応させ
るか、或いは[D]一般式(V)の化合物を最初に不活
性溶媒中でそして塩基の存在下に臭化アリルとの反応に
より一般式(VI)
す]のエポキシド類と反応させ、そしてR1=OHの場
合、ヒドロキシル官能基を典型的なエステル加水分解に
よりまたは典型的なエステル交換により遊離させるか、
或いは[B]一般式(V) A−NH−CO2−X (V) [式中、Aは上記の意味を有し、そしてXは典型的な保
護基を表す]の化合物を不活性溶媒中でそして塩基の存
在下に一般式(IV)のエポキシド類と反応させるか、或
いは[C]R1=OHの場合、一般式(III)の化合物を
最初にアルコール中で窒素の除去により一般式(Va) A−NH−CO2−Y (Va) [式中、Aは上記の意味を有し、そしてYは直鎖状もし
くは分枝鎖状のC1−C6-アルキル、好適にはn−ブチ
ルを表す]の化合物に転化し、そしてこれらを第二段階
で不活性溶媒中でそして塩基の存在下に[A]に記載さ
れた通りにして一般式(IV)のエポキシド類と反応させ
るか、或いは[D]一般式(V)の化合物を最初に不活
性溶媒中でそして塩基の存在下に臭化アリルとの反応に
より一般式(VI)
【0207】
【化53】
【0208】[式中、AおよびXは上記の意味を有す
る]の化合物に転化し、次に四酸化オスミウム/N−メ
チルモルホリンN−オキシドを用いて一般式(VII)
る]の化合物に転化し、次に四酸化オスミウム/N−メ
チルモルホリンN−オキシドを用いて一般式(VII)
【0209】
【化54】
【0210】[式中、AおよびXは上記の意味を有す
る]の化合物を製造しそして最後の段階でアセトニトリ
ル中で塩基を用いて、好適には炭酸カリウムを用いて環
化を行うか、或いは[E]一般式(VIII)
る]の化合物を製造しそして最後の段階でアセトニトリ
ル中で塩基を用いて、好適には炭酸カリウムを用いて環
化を行うか、或いは[E]一般式(VIII)
【0211】
【化55】
【0212】[式中、Aは上記の意味を有する]の化合
物を酸および炭酸ジエチルと直接反応させるか、または
一般式(VIII)の化合物と酸との反応により一般式(I
X)
物を酸および炭酸ジエチルと直接反応させるか、または
一般式(VIII)の化合物と酸との反応により一般式(I
X)
【0213】
【化56】
【0214】[式中、Aは上記の意味を有する]の化合
物を最初に製造し、そしてこれらを次に助剤および/ま
たは酸の存在下に不活性溶媒中で環化するか、或いは
[F]最初に複素環式アミン類(A−NH2)を一般式
(IV)の化合物と反応させて一般式(IX)の化合物を与
えそしてこれを次にカルボニルジイミダゾール/塩化メ
チレン、(Et2O)2COまたはホスゲン、ジホスゲンも
しくはトリホスゲンと[E]に記載されている通りにし
て環化するか、或いは[G]最初に一般式(Ia)
物を最初に製造し、そしてこれらを次に助剤および/ま
たは酸の存在下に不活性溶媒中で環化するか、或いは
[F]最初に複素環式アミン類(A−NH2)を一般式
(IV)の化合物と反応させて一般式(IX)の化合物を与
えそしてこれを次にカルボニルジイミダゾール/塩化メ
チレン、(Et2O)2COまたはホスゲン、ジホスゲンも
しくはトリホスゲンと[E]に記載されている通りにし
て環化するか、或いは[G]最初に一般式(Ia)
【0215】
【化57】
【0216】[式中、Aは上記の意味を有する]の化合
物を、不活性溶媒中でそして塩基の存在下に、塩化(C1
−C4)−アルキル−またはフェニルスルホニルとの反応
により対応する一般式(Ib)
物を、不活性溶媒中でそして塩基の存在下に、塩化(C1
−C4)−アルキル−またはフェニルスルホニルとの反応
により対応する一般式(Ib)
【0217】
【化58】
【0218】[式中、AおよびR9は上記1に示された
意味を有する]の化合物に転化し、次に不活性溶媒中で
ナトリウムアジドを使用して一般式(Ic)
意味を有する]の化合物に転化し、次に不活性溶媒中で
ナトリウムアジドを使用して一般式(Ic)
【0219】
【化59】
【0220】[式中、Aは上記の意味を有する]のアジ
ド類を製造し、これらを別の段階で不活性溶媒中の(C1
−C4−O)3−PまたはPPh3および酸との反応により
一般式(Id)
ド類を製造し、これらを別の段階で不活性溶媒中の(C1
−C4−O)3−PまたはPPh3および酸との反応により
一般式(Id)
【0221】
【化60】
【0222】[式中、Aは上記の意味を有する]のアミ
ン類に転化し、そして不活性溶媒中で無水酢酸または一
般式(X) R18−CO−R12 (X) [式中、R12は上記1に示された意味を有し、そしてR
18はハロゲンまたは基−OCOR12を表す]の他のアシ
ル化剤との反応により一般式(Ie)
ン類に転化し、そして不活性溶媒中で無水酢酸または一
般式(X) R18−CO−R12 (X) [式中、R12は上記1に示された意味を有し、そしてR
18はハロゲンまたは基−OCOR12を表す]の他のアシ
ル化剤との反応により一般式(Ie)
【0223】
【化61】
【0224】[式中、AおよびR12は上記の意味を有す
る]の化合物を製造し、そしてR1=NR10−CS
R12′の場合、一般式(Id)の化合物をジチオカルボ
ン酸エチル類およびトリエチルアミンと反応させ、そし
てR1=NR12−CS−NR16R17の場合、チオイソシ
アナート類と反応させ、化合物を場合によりそれらの塩
に転化し、そして適宜、立体異性体をそれ自体は既知の
方法で分離することを特徴とする、上記1の一般式
(I)の化合物の製造方法。
る]の化合物を製造し、そしてR1=NR10−CS
R12′の場合、一般式(Id)の化合物をジチオカルボ
ン酸エチル類およびトリエチルアミンと反応させ、そし
てR1=NR12−CS−NR16R17の場合、チオイソシ
アナート類と反応させ、化合物を場合によりそれらの塩
に転化し、そして適宜、立体異性体をそれ自体は既知の
方法で分離することを特徴とする、上記1の一般式
(I)の化合物の製造方法。
【0225】6.疾病の抑制における使用のための上記
1に従う一般式(I)の化合物。
1に従う一般式(I)の化合物。
【0226】7.薬剤の製造のための上記1に従う一般
式(I)の化合物の使用。
式(I)の化合物の使用。
【0227】8.上記1に従う一般式(I)の化合物を
含有する薬剤。
含有する薬剤。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 513/04 343 C07D 513/04 343 C07F 9/6539 9450−4H C07F 9/6539 (72)発明者 ベルント・リートル ドイツ42329ブツペルタール・フオン−デ ア−ゴルツ−シユトラーセ7 (72)発明者 マルテイン・ルツペルト ドイツ42115ブツペルタール・ニユツツエ ンベルガーシユトラーセ351 (72)発明者 シユテフアン・バルテル ドイツ51465ベルギツシユグラートバツ ハ・マルガレテンヘーエ7 (72)発明者 ワルテル・グアルニーリ ドイツ53909ツユルピヒ・ビーゼンシユト ラーセ3 (72)発明者 ハンノ・ビルト アメリカ合衆国コネチカツト州06477オレ ンジ・ロングメドウロード397 (72)発明者 ライナー・エンデルマン ドイツ42113ブツペルタール・インデンビ ルケン152アー (72)発明者 ハイン−ペーター・クロル ドイツ42115ブツペルタール・パールケシ ユトラーセ96
Claims (3)
- 【請求項1】 純粋な立体異性体としてのまたは立体異
性体混合物としての、一般式(I) 【化1】 [式中、Aは式 【化2】 の基を表し、ここでE、G、LおよびMは同一もしくは
相異なりそして置換基の少なくとも1つは窒素原子を表
しそして他のものは式−CR4の基を表し、ここでR4は
水素、メチルまたはハロゲンを表し、R2は水素、各々
炭素数が3〜8のシクロアルキルもしくはシクロアルキ
ルカルボニル、または炭素数8までの直鎖状もしくは分
枝鎖状のアルキルを表し、それは場合によりヒドロキシ
ル、ハロゲンにより、各々炭素数が6までの直鎖状もし
くは分枝鎖状のアルコキシ、アルコキシカルボニルもし
くはアルキルチオによりまたは式−NR6R7の基により
置換されていてもよく、ここでR6およびR7は同一もし
くは相異なりそして水素、シクロアルキル、フェニルま
たは炭素数4までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル
を示し、R3は各々炭素数が8までの直鎖状もしくは分
枝鎖状のアルキルまたはチオアルキルを示し、Dは酸素
もしくは硫黄原子または式−NR5の基を示し、ここで
R5は上記のR2の意味を有し且つこれと同一もしくは相
異なり、Tは酸素または硫黄原子を示し、R1はアジ
ド、ヒドロキシルまたは式−OR8、O−SO2R9もし
くは−NR10R11の基を表し、ここでR8は炭素数8ま
での直鎖状もしくは分枝鎖状のアシルまたはヒドロキシ
ル保護基を示し、R9は炭素数4までの直鎖状もしくは
分枝鎖状のアルキルまたは場合により炭素数4までの直
鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルにより置換されていて
もよいフェニルを示し、R10およびR11は同一もしくは
相異なりそして炭素数3〜6のシクロアルキル、水素、
フェニルまたは各々炭素数が8までの直鎖状もしくは分
枝鎖状のアルキルもしくはアルコキシまたはアミノ保護
基を示すか、或いはR10またはR11は式−CO−R12、
−CS−R12′、P(O)(OR13)(OR14)または−SO
2−R15の基を示し、ここでR12およびR12′は同一も
しくは相異なりそして水素、炭素数3〜6のシクロアル
キル、トリフルオロメチル、炭素数8までの直鎖状もし
くは分枝鎖状のアルコキシ、フェニル、ベンジルオキシ
または水素を示すか、或いは炭素数8までの直鎖状もし
くは分枝鎖状のアルキルを示し、それは場合によりシア
ノ、ハロゲンまたはトリフルオロメチルにより置換され
ていてもよく、或いは各々炭素数が6までの直鎖状もし
くは分枝鎖状のチオアルキルまたはアシルを示すか、或
いは式−NR16R17の基を示し、ここでR16およびR17
は同一もしくは相異なりそして水素、フェニルまたは炭
素数6までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを示す
か、或いは群S、Nおよび/またはOからの3個までの
ヘテロ原子を有する5−員の芳香族複素環を示し、R13
およびR14は同一もしくは相異なりそして水素または炭
素数4までの直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを示
し、R15は炭素数4までの直鎖状もしくは分枝鎖状のア
ルキルまたはフェニルを示す]の化合物、およびそれら
の塩。 - 【請求項2】 [A]一般式(II)または(III) A−N=C=O (II) または A−CO−N3 (III) [式中、Aは請求項1に示された意味を有する]の化合
物を不活性溶媒中で、適宜塩基の存在下に、臭化リチウ
ム/(C4H9)3P(O)および一般式(IV) 【化3】 [式中、QはC1−C6-アシルオキシを表す]のエポキ
シド類と反応させ、そしてR1=OHの場合、ヒドロキ
シル官能基を典型的なエステル加水分解によりまたは典
型的なエステル交換により遊離させるか、或いは[B]
一般式(V) A−NH−CO2−X (V) [式中、Aは上記の意味を有し、そしてXは典型的な保
護基を表す]の化合物を不活性溶媒中でそして塩基の存
在下に一般式(IV)のエポキシド類と反応させるか、或
いは[C]R1=OHの場合、一般式(III)の化合物を
最初にアルコール中で窒素の除去により一般式(Va) A−NH−CO2−Y (Va) [式中、Aは上記の意味を有し、そしてYは直鎖状もし
くは分枝鎖状のC1−C6-アルキル、好適にはn−ブチ
ルを表す]の化合物に転化し、そしてこれらを第二段階
で不活性溶媒中でそして塩基の存在下に[A]に記載さ
れた通りにして一般式(IV)のエポキシド類と反応させ
るか、或いは[D]一般式(V)の化合物を最初に不活
性溶媒中でそして塩基の存在下に臭化アリルとの反応に
より一般式(VI) 【化4】 [式中、AおよびXは上記の意味を有する]の化合物に
転化し、次に四酸化オスミウム/N−メチルモルホリン
N−オキシドを用いて一般式(VII) 【化5】 [式中、AおよびXは上記の意味を有する]の化合物を
製造しそして最後の段階でアセトニトリル中で塩基を用
いて、好適には炭酸カリウムを用いて環化を行うか、或
いは[E]一般式(VIII) 【化6】 [式中、Aは上記の意味を有する]の化合物を酸および
炭酸ジエチルと直接反応させるか、または一般式(VII
I)の化合物と酸との反応により一般式(IX) 【化7】 [式中、Aは上記の意味を有する]の化合物を最初に製
造し、そしてこれらを次に助剤および/または酸の存在
下に不活性溶媒中で環化するか、或いは[F]最初に複
素環式アミン類(A−NH2)を一般式(IV)の化合物
と反応させて一般式(IX)の化合物を与えそしてこれを
次にカルボニルジイミダゾール/塩化メチレン、(Et2
O)2COまたはホスゲン、ジホスゲンもしくはトリホス
ゲンと[E]に記載されている通りにして環化するか、
或いは[G]最初に一般式(Ia) 【化8】 [式中、Aは上記の意味を有する]の化合物を、不活性
溶媒中でそして塩基の存在下に、塩化(C1−C4)−アル
キル−またはフェニルスルホニルとの反応により対応す
る一般式(Ib) 【化9】 [式中、AおよびR9は請求項1に示された意味を有す
る]の化合物に転化し、次に不活性溶媒中でナトリウム
アジドを使用して一般式(Ic) 【化10】 [式中、Aは上記の意味を有する]のアジド類を製造
し、これらを別の段階で不活性溶媒中の(C1−C4−O)
3−PまたはPPh3および酸との反応により一般式(I
d) 【化11】 [式中、Aは上記の意味を有する]のアミン類に転化
し、そして不活性溶媒中で無水酢酸または一般式(X) R18−CO−R12 (X) [式中、R12は請求項1に示された意味を有し、そして
R18はハロゲンまたは基−OCOR12を表す]の他のア
シル化剤との反応により一般式(Ie) 【化12】 [式中、AおよびR12は上記の意味を有する]の化合物
を製造し、そしてR1=NR10−CSR12′の場合、一
般式(Id)の化合物をジチオカルボン酸エチル類およ
びトリエチルアミンと反応させ、そしてR1=NR12−
CS−NR16R17の場合、チオイソシアナート類と反応
させ、化合物を場合によりそれらの塩に転化し、そして
適宜、立体異性体をそれ自体は既知の方法で分離するこ
とを特徴とする、請求項1に記載の一般式(I)の化合
物の製造方法。 - 【請求項3】 請求項1に記載の一般式(I)の化合物
を含有する薬剤。
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