JPH09202782A - 光学活性ビス−メチルジオキサン誘導体 - Google Patents

光学活性ビス−メチルジオキサン誘導体

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JPH09202782A
JPH09202782A JP8338378A JP33837896A JPH09202782A JP H09202782 A JPH09202782 A JP H09202782A JP 8338378 A JP8338378 A JP 8338378A JP 33837896 A JP33837896 A JP 33837896A JP H09202782 A JPH09202782 A JP H09202782A
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ooc
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JP8338378A
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Richard Buchecker
リヒャルト・ブヘッケル
Juerg Fuenfschilling
ユルク・フェンフシリング
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Rolic AG
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高いねじり能力及び比較的高い自発分極を有
する、強誘電セルに用いることのできるキラルドーパン
トを提供すること。 【解決手段】 一般式（Ｉ）： 【化１６】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は、アルキル又はアルケニル；環
Ａ〜Ｃの１個は、１，４−フェニレン、ピリジン−２，
５−ジイルなど、他の２個の環は、１，４−フェニレン
など；Ｚ1 〜Ｚ4 は、単結合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−Ｃ
Ｈ2 Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ2)4 −など、ただし、
酸素原子は、キラルジオキサン環に直接結合しておら
ず；Ｒ* 及びＳ* は、キラル炭素立体配置を表す）で示
される化合物。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な液晶、光学
活性ビス−メチルジオキサン、そのような化合物を含有
する液晶混合物、光学装置及び電気光学装置のためのそ
のような化合物及び混合物の用途及び式〔Ｉ〕で示され
る１種又はそれ以上の化合物を含有する電気光学装置に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】液晶
は、そのような物質の光学的性質が、印加電圧によって
影響され得るので、主にディスプレイ装置中の誘電体と
して用いられている。液晶に基づく電気光学装置は、当
業者には周知であり、種々の効果に基づくことができ
る。このような装置は、例えば、動的散乱を有するセ
ル、ＤＡＰセル（整列相のひずみ）、ゲスト／ホスト形
セル、「ねじれネマチック」構造を有するＴＮセル、Ｓ
ＴＮセル（「超ねじれネマチック」）、ＳＢＥセル
（「超複屈折効果」）及びＯＭＩセル（光学モード干
渉）である。高程度の情報を有するディスプレイのため
には、アクティブ制御セル（actively controlled cel
l）、例えばＴＦＴセル（「薄膜トランジスタ」）が、
パッシブ制御（passively controlled）、多重セルに加
えて、特に最近重要になってきている。ネマチック又は
コレステリック液晶の使用に基づく上述したセル型に加
えて、キラル傾斜スメクチック相の原理に基づくセル型
が、最近知られるようになってきている。それらには、
ＳＳＦセル（表面安定化強誘電）、ＳＢＦセル（短ピッ
チ双安定強誘電）又はＤＨＦセル（ひずんだらせん強誘
電）が属する。これらのセル型のためには、特に大きな
応答速度を可能にするキラルスメクチックＣ（Ｓｃ*)相
が、傾斜スメクチック相として一般的に好ましい。
【０００３】キラル傾斜スメクチック相に基づくディス
プレイ装置の材料は、好ましくは、傾斜スメクチック
相、通常Ｓｃ相を有する材料及び１種又はそれ以上の光
学活性ドーパントからなる。強誘電液晶におけるこのよ
うなキラルドーパントの使用によって、傾斜スメクチッ
ク相のねじれを生ずるか又は変更し、そして自発分極を
誘導する。キラルドーパントは、適切な熱的か光化学的
安定性を有するべきであり、傾斜スメクチック液晶との
良好な混和性を有するべきであり、できるだけ低い粘性
を有するべきであり、そして中間相の範囲を極めて厳密
に限定すべきではない。更に、できるだけ高い自発分
極、及びそのセルの型式により、むしろ小さいねじり能
力（ＳＳＦセル）又はできるだけ高いねじり能力（ＳＢ
Ｆ、ＤＨＦセル）が望ましい。
【０００４】キラルドーパントとして、それ自身傾斜相
又は一般的には中間相を有しない化合物も原則として考
慮すべきである。このことは、非常に高いねじり能力を
有するドーパントの場合に、特にしばしば起こる。しか
しながら、このようなドーパントは、通常それらが添加
されるその場所の混合物の傾斜相範囲を厳密に狭める欠
点を有する。したがって、この欠点を有しないか、又
は、この欠点をわずかにしか有しないドーパントが求め
られている。
【０００５】高いねじり能力及び比較的高い自発分極に
よって特徴ずけられる本発明に従った化合物は、比較的
高温において、ほとんどスメクチック中間相を有し、部
分的にＳｃ* 相を有する。Ｓｃ基本混合物を有する混合
物においては、それらは、Ｓｃ* 相の低下を生じないか
又は比較的小さい低下のみを生ずる。５個の環からなる
基本構造にもかかわらず、それらは、Ｓｃ基本混合物に
おいて、驚くべき良好な溶解性を有する。これらの特性
に関して、それらは、強誘電セル、特にＤＨＦセルのた
めのドーパントとして著しく適切である。更に、それら
がコレステリック混合物、特に、コレステリックフィル
ター又は分極子として用いることができる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】これらの化合物は、一般
式（Ｉ）：
【０００７】
【化７】
【０００８】（式中、Ｒ1 及びＲ2 は、それぞれ独立し
て、アルキル又はアルケニル（これらは、場合により、
１個のメチレン基又は２個の隣接していないメチレン基
が、−Ｏ−、−ＣＯＯ−及び／又は−ＯＯＣ−によって
置き換えられていてもよく、及び／又は１個又はそれ以
上の水素原子が、フッ素、塩素若しくはシアノによって
置き換えられていてもよい）を表し；環Ａ、Ｂ及びＣの
１個は、１，４−フェニレン（これは、場合により、１
個又は２個のフッ素原子で置換されていてもよい）、ピ
リジン−２，５−ジイル又はピリミジン−２，５−ジイ
ルを表し、そして他の２個の環は、それぞれ独立して、
１，４−フェニレン（これは、場合により、１又は２個
のフッ素原子で置換されていてもよい）又はトランス−
１，４−シクロヘキシレンを表し；Ｚ1 及びＺ4 は、そ
れぞれ独立して、単結合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2
Ｏ−、−ＯＣＨ2 −、−Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ2)4 −、−
（ＣＨ2)3 Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ2)3 −、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ
Ｈ2 Ｏ−、−ＯＣＨ2 −ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−
（ＣＨ2)2 −又は−（ＣＨ2)2 ＣＨ＝ＣＨ−を表すが、
ただし、その酸素原子は、キラルジオキサン環に直接に
は結合しておらず；Ｚ2 及びＺ3 は、それぞれ独立し
て、単結合、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−Ｏ−ＣＨ2 −、−
ＣＨ2 −Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−Ｃ≡Ｃ−、
−（ＣＨ2)4−、−Ｏ（ＣＨ2)3 −、−（ＣＨ2)3 Ｏ
−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2 Ｏ−、−ＯＣＨ2 −ＣＨ＝Ｃ
Ｈ−、−（ＣＨ2)2 −ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−
（ＣＨ2)2 −を表し；そしてＲ* 及びＳ* は、キラル炭
素原子の相対的立体配置を表す）を有する。
【０００９】定義で用いられた用語は、以下に説明され
る。“アルキル又はアルケニル（これらは、場合によ
り、１個のメチレン基又は１又は２個の隣接していない
メチレン基が、場合により、−Ｏ−、−ＣＯＯ−及び／
又は−ＯＯＣ−によって置き換えられていてもよく、及
び／又は１又はそれ以上の水素原子が、フッ素、塩素又
はシアノによって置き換えられていてもよい）”という
用語は、アルキル、２−アルケニル、３−アルケニル、
４−アルケニル、末端二重結合を有するアルケニル、ア
ルコキシアルキル、アルケニルオキシアルキル、アルキ
ルカルボニルオキシアルキル、アルコキシカルボニルア
ルキル、フルオロアルキル、ジフルオロアルキル、トリ
フルオロアルキル、クロロアルキル、シアノアルキル、
１−メチルアルキル、２−メチルアルキルなどの直鎖及
び分岐（場合によりキラル）基を、それぞれの場合にお
いて、最大１６個の炭素原子、好ましくは最大１２個の
炭素原子と共に包含する。好ましい基の具体例は、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ド
デシル、１−メチルプロピル、１−メチルヘプチル、２
Ｚ−ペンテニル、２Ｚ−ヘキセニル、２Ｚ−ヘプテニ
ル、２Ｚ−オクテニル、３Ｅ−ペンテニル、３Ｅ−ヘキ
セニル、３Ｅ−ヘプテニル、３Ｅ−オクテニル、５Ｅ−
オクテニル、３−ブテニル、４−ペンテニル、５−ヘキ
セニル、６−ヘプテニル、７−オクテニル、メトキシエ
チル、メトキシプロピル、メトキシブチル、エトキシエ
チル、プロピルオキシエチル、２−フルオロプロピル、
２−フルオロペンチル、２−フルオロオクチル、２−ク
ロロヘキシル、２−クロロオクチルなどが挙げられる。
“１，４−フェニレン（これは、場合により、１個又は
２個のフッ素原子で置換されていてもよい）”という用
語は、１，４−フェニレン、２−若しくは３−フルオロ
−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−
フェニレン又は２，６−若しくは３，５−ジフルオロ−
１，４−フェニレンを表す。好ましいフッ素置換環は、
２−若しくは３−フルオロ−１，４−フェニレン又は
２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンである。
【００１０】式〔Ｉ〕で示される特に好ましい化合物
は、Ｚ1 及びＺ4 が、単結合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−Ｃ
Ｈ2 Ｏ−又は−ＯＣＨ2 −を表し；そして、Ｚ2 及びＺ
3 が、単結合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｏ−、−Ｏ
ＣＨ2 −、−ＣＯＯ−又は−ＯＯＣ−を表すが、ここ
で、基Ｚ1 〜Ｚ4 に存在する酸素原子は、芳香環に結合
しているのが好ましい、化合物である。極めて特に好ま
しい化合物では、基Ｚ1 〜Ｚ4 の最大２個が、単結合以
外である。
【００１１】環Ａ、Ｂ及びＣが、それぞれ独立して、
１，４−フェニレン、２−若しくは３−フルオロ−１，
４−フェニレン又は２，３−ジフルオロ−１，４−フェ
ニレンを表すか；又は環Ａ、Ｂ及びＣの１つが、１，４
−フェニレン、２−若しくは３−フルオロ−１，４−フ
ェニレン又は２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン
を表し、そしてその他の２個の環が、それぞれ独立し
て、１，４−トランス−シクロヘキシレン、１，４−フ
ェニレン、２−若しくは３−フルオロ−１，４−フェニ
レン又は２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンを表
す式〔Ｉ〕で示される化合物が特に好ましい。
【００１２】極めて特に好ましい化合物は、一般式〔Ｉ
−Ａ〕、〔Ｉ−Ｂ〕、〔Ｉ−Ｃ〕及び〔Ｉ−Ｄ〕：
【００１３】
【化８】
【００１４】（式中、Ｒ11及びＲ21は、それぞれ独立し
て、最大１２個の炭素原子を有する、アルキル又はアル
ケニル（これは、場合により、１個のメチレン基が、−
Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＯＣ−によって置き換えられ
ていてもよい）を表し；Ｚ11、Ｚ33及びＺ41は、それぞ
れ独立して、単結合又は−ＣＨ2 ＣＨ2 −を表し；Ｚ21
及びＺ31は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＯＯ−又
は−ＯＯＣ−を表し；Ｚ22及びＺ32は、それぞれ独立し
て、単結合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −又は−ＯＣＨ2 −を表
し；Ｚ23は、単結合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −又は−ＣＨ2 Ｏ
−を表し；そして置換基Ｘ1 〜Ｘ4 は、それぞれ独立し
て、水素又はフッ素を表す）で示される化合物である。
【００１５】式〔Ｉ〕及びそれに続く式において、（Ｓ
*)及び（Ｒ*)によって示されるキラル炭素原子の相対的
立体配置は、指摘されているように示された炭素原子
が、（Ｓ）又は（Ｒ）立体配置を有するか又はすべての
示された炭素原子が、鏡像立体配置を有することを表
す。したがって、上記式は、各々の場合において、（Ｓ
*)が（Ｓ）立体配置を表し、（Ｒ*)が（Ｒ）立体配置を
表すジアステレオ異性体、並びに、（Ｓ*)が（Ｒ）立体
配置を表し、（Ｒ*)が（Ｓ）立体配置を表すその光学対
掌体を包含する。
【００１６】特に、以下の一般式〔Ｉ−１〕〜〔Ｉ−２
０〕：
【００１７】
【化９】
【００１８】
【化１０】
【００１９】
【化１１】
【００２０】（式中、Ｒ11及びＲ21は、上述された意味
を有し；そして置換基Ｘ1 〜Ｘ4 は、水素又はフッ素を
表し；好ましくは、それぞれの場合において、置換基Ｘ
1 〜Ｘ4 の最大１個又は２個が水素とは異なる）で示さ
れる化合物が好ましい。
【００２１】一般式〔Ｉ〕で示される化合物は、それ自
体公知の方法、例えばスキーム１：
【００２２】
【化１２】
【００２３】（式中、Ｑは、−ＣＮ又は−ＣＯＯＲを表
し；Ｒは、メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、
ブチル、２−ブチル又はtert−ブチルなどのような低級
アルキルを表し；そして残りの記号は、上述された意味
を有する）に従って製造することができる。
【００２４】かくして、アルデヒドに容易に変換可能な
第２の基Ｑを含有する、一般式〔II〕で示されるアルデ
ヒドは、まず一般式〔III 〕で示されるジオールと反応
して、一般式〔IV〕で示されるモノアセタールを生ず
る。その後、一般式〔IV〕で示されるニトリル又はエス
テルは、例えばジイソブチルアルミニウムヒドリド（Ｄ
ＩＢＡＨ）を用いる還元によって、式〔Ｖ〕で示される
アルデヒドに変換され、そのアルデヒドは、一般式〔V
I〕で示されるジオールによる第２のアセタール化によ
って、一般式〔Ｉ〕で示されるジアセタールを生ずる。
【００２５】エステル基が、Ｒ1 及び／又はＲ2 に存在
するとき、好ましくはエステル化は、ジオキサン環が形
成されるまで行われない。更に、Ｒ1 及び／又はＲ2
が、エーテル基を含有するとき、所望なら、ジオキサン
環の形成後に、エーテル化を行うことができる。
【００２６】Ｚ2 及び／又はＺ3 が、エステル基を表
す、式〔Ｉ〕で示される化合物は、好ましくは、予め形
成されたジオキサン環を有する対応する部分構造をエス
テル化することによって製造される。
【００２７】更に、２個の隣接した直接結合されたフェ
ニル環を含有する一般式〔Ｉ〕で示される化合物は、パ
ラジウム触媒化カップリング、例えば、適切に置換され
た芳香族ハロゲン化物又は一般式〔VII 〕で示されるス
ルホン化物を、一般式〔VIII〕で示される適切に置換さ
れたアリールホウ酸エステルとカップリングすること
（スキーム２参照）によって製造することができる。か
くして、このようなカップリングは、しばしば、例えば
Tetrahedron Letters 35, 3277 (1994)に記載されてい
る。
【００２８】
【化１３】
【００２９】（式中、Ｙは、Ｂｒ、Ｉ又は−ＯＳＯ2 Ｃ
Ｆ3 を表し；そして残りの記号は、上記した意味を有す
る）
【００３０】式〔Ｉ〕で示される化合物の合成のために
必要な出発物質は、公知であるか、又は公知化合物の類
似物である。かくして、例えば、式（II）で示される数
多くのニトリル又はエステルが、例えばＥＰ−Ａ−０１
２２３８９に、液晶合成の中間体として記載されてい
る。式〔III 〕で示されるジオールの製造も、文献、例
えば Mol Cryst. Liq. Cryst 213, 159 (1992)から公知
である。
【００３１】通常、保護基として働く式〔VII 〕又は
〔VIII〕で示される出発物質の類似物、例えばアキラル
ジオキサン又はジオキソラン環を有する化合物も、文献
から公知である。例えば、Tetrahedron Letters, 35, 3
277 (1994)に記載されているようなエステル形成、エー
テル形成又はホウ酸を介する直接芳香族カップリングに
よる環の結合反応は、当業者に公知となるであろう。こ
れらの反応は、液晶合成の標準手法に属し、したがっ
て、当業者に非常によく知られている。
【００３２】本発明の化合物は、液晶混合物のためのキ
ラルドーパントとして適切である。したがって、本発明
は、成分の少なくとも１種が式〔Ｉ〕で示される光学活
性化合物である少なくとも２種の成分を有する液晶混合
物にも関する。
【００３３】本発明の混合物は、好ましくは担体物質と
して単一の液晶化合物又は液晶混合物、及び式〔Ｉ〕で
示される１種又はそれ以上の光学活性化合物を含有す
る。適切な担体物質は、適切な中間相と共にねじれ可能
な液晶相を有する、原則としてすべての液晶物質であ
る。前述のように、液晶担体物質は、単一化合物又は混
合物であり得、好ましくは、少なくとも約６０℃の透明
点を有する。式〔Ｉ〕で示される化合物は、特にネマチ
ック相、コレステリック相又は傾斜スメクチック相を有
する担体、特にアキラル又はキラルスメクチックＣ相を
有する担体物質のためのキラルドーパントとして適切で
ある。適切な液晶成分は、多くの文献、例えば、D. Dem
us et al., Fleussige Kristallen in Tabellen, VEB D
eutscher Verlag feur Grundstoffindustrie, Leipzig,
volumes I and II 又は Landolt-Beornstein, Liquid
Crystals, volume IV 7a-dから当業者に公知であり、更
にそれらの多くは、商業上入手可能である。
【００３４】式〔Ｉ〕で示されるキラルドーパントの含
有量は、ねじり能力、自発分極及び所望のピッチによっ
て大きく決定される。したがって、キラルドーパントの
含有量は、用途に従って広範囲に変化することができ、
例えば、約０．１〜４０重量％であり得る。一般的に、
式〔Ｉ〕で示される光学活性ドーパントの約１〜３０重
量％、特に３〜２５重量％の含有量が、傾斜スメクチッ
ク相を有する液晶に基づくディスプレイ装置には好まし
い。
【００３５】好ましくは、本発明の混合物は、式〔Ｉ〕
で示される１種又はそれ以上の化合物に加えて、一般式
〔IX〕〜〔XIX 〕：
【００３６】
【化１４】
【００３７】
【化１５】
【００３８】（式中、ｐは、０又は１を表し；ｑ及びｒ
は、それぞれ独立して、１又は２を表し、これによって
ｑ＋ｒ＝２又は３であり；Ｒ3 及びＲ4 は、それぞれ独
立して、アルキル、アルケニル、アルコキシ、アルケニ
ルオキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキ
シ、アルカノイルオキシ、アルケノイルオキシ、アルコ
キシカルボニル、アルケニルオキシカルボニルを表し；
Ｒ5 及びＲ8 は、それぞれ独立して、アルキル又はアル
ケニルを表し；Ｒ6 及びＲ7 は、それぞれ独立して、ア
ルキル、アルケニル、アルコキシ及び／又はアルケニル
オキシを表し；Ｚ5 、Ｚ6 及びＺ7 は、それぞれ独立し
て、単結合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −又は−ＣＨ2 Ｏ−を表
し、そしてＺ6 は、また、−ＯＣＨ2 −、−ＣＯＯ−又
は−ＯＯＣ−を表し；Ｅ及びＦは、それぞれ独立して、
フェニレン−１，４−ジイル又はシクロヘキシレン−
１，４−ジイルを表し；Ｘ1 及びＸ2 は、それぞれ独立
して、水素又はフッ素を表し；そして（Ｒ*)及び（Ｓ*)
は、相対的立体配置を表す）で示される化合物の群から
の１種又はそれ以上の化合物を含有する。
【００３９】式〔XV〕〜〔XIX 〕で示される化合物は、
光学活性ドーパントであり、そして、所望の効果に応じ
て、式〔Ｉ〕で示される１種又はそれ以上の化合物に加
えて、２つの鏡像体の１つでその混合物中に存在するこ
とができる。
【００４０】置換基Ｒ3 〜Ｒ8 は、それぞれの場合にお
いて、最大１８個の炭素原子、好ましくは５〜１２個の
炭素原子を有する。それらは、直鎖又は分岐したもので
あり得るが、好ましくは、直鎖である。
【００４１】式〔Ｉ〕で示される１種又はそれ以上の化
合物を含有する電気光学装置も、また、本発明の目的で
ある。液晶混合物の製造及び電気光学装置の製造は、公
知の方法で行うことができる。
【００４２】式〔Ｉ〕で示される化合物の製造及びそれ
らの化合物を含有する液晶混合物の製造は、以下の実施
例によってより詳細に説明される。式〔Ｉ〕で示される
化合物の光学対掌体は、それぞれの場合において、同一
の相転移温度を有し、そして、反対の記号であるが、自
発分極及びねじれの同じ絶対値を誘導する。相転移の特
徴のために使用される略号は、以下の意味を有する。
【００４３】 Ｃ 結晶、 Ｓ スメクチック、 ＳA 、ＳB 、ＳC など スメクチックＡ、Ｂ、Ｃなど、 ＳA *、ＳF *など キラルスメクチックＣ、Ｆなど、 Ｎ ネマチック、 Ｎ* コレステリック、そして Ｉ 等方性
【００４４】
【実施例】
実施例１ ａ）トルエン４０ml中の、４−シアノ−４′−（トラン
ス−４−ホルミルシクロヘキシル）ビフェニル（調製
は、Mol Cryst. Liq. Cryst. Vol. 131, 327 (1985) 参
照）０．８０ｇ、（２Ｒ，３Ｓ）−２−オクチル−１，
３−ブタンジオール（調製は、ＥＰ−０４５７１０５参
照）０．５８７ｇ及び２N 硫酸８滴の混合物を、磁気撹
拌器、水分離器及びコンデンサーを有する丸底フラスコ
中で窒素下に、１５時間加熱還流した。次いで、混合物
を室温まで冷却し、トリエチルアミン３０滴を添加し、
その混合物を、ジエチルエーテルと飽和炭酸水素ナトリ
ウムとの間に分配した。有機相を分離後、硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、ろ過し、次いでろ液を濃縮した。これ
によって、粗４′−｛トランス−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，
５Ｒ）−５−オクチル−４−メチル−１，３−ジオキサ
ン−２−イル〕シクロヘキシル｝−４−シアノビフェニ
ル１．４ｇを、淡黄色固体として得た。
【００４５】ｂ）４′−｛トランス−４−〔（２Ｒ，３
Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４−メチル−１，３−ジオ
キサン−２−イル〕シクロヘキシル｝−４−シアノビフ
ェニル１．４ｇを、トルエン３０mlに溶解し、０℃まで
冷却し、次いでＤＩＢＡＨ溶液（トルエン中２０％）
３．２mlを３分以内に滴下処理した。反応混合物を、室
温まで暖め、その温度で１５時間撹拌した。その後、混
合物を、ジエチルエーテルと水との間に分配し、エーテ
ル相を、水８０ml中に注ぎ、混合物を０℃まで冷却し、
激しく撹拌しながら、ｐＨが２になるまで、１N 塩酸で
滴下処理した。混合物を、分離漏斗に移し、水性相を分
離し、そして有機相を、飽和炭酸水素ナトリウム溶液で
直ちに洗浄した。エーテル相を、硫酸マグネシウム上で
乾燥し、ろ過し、次いでろ液を濃縮した。これによっ
て、粗４′−｛トランス−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）
−５−オクチル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２
−イル〕シクロヘキシル｝ビフェニル−４−カルボキサ
ルデヒド１．３７ｇを黄色固体として得た。
【００４６】ｃ）トルエン４０ml中の、４′−｛トラン
ス−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４−
メチル−１，３−ジオキサン−２−イル〕シクロヘキシ
ル｝ビフェニル−４−カルボキシアルデヒド１．３７ｇ
及び（２Ｒ，３Ｓ）−２−オクチル−１，３−ブタンジ
オール０．６１ｇの溶液を、磁気撹拌器、水分離器及び
コンデンサーを有する丸底フラスコ中で、窒素下に、２
N 硫酸８滴で処理し、次いで還流下に２．５時間撹拌し
た。次いで、混合物を、室温まで冷却し、トリエチルア
ミン３０滴を添加し、反応混合物を、ジエチルエーテル
と炭酸ナトリウム飽和溶液との間に分配した。有機相
を、硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、ろ液を濃縮
し、残渣を、トルエン／酢酸エチル（５０：１）を用い
たシリカゲルクロマトグラフ（１４０ｇ）に付した。ヘ
キサンからの３回の結晶化によって、純粋な４′−｛ト
ランス−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−
４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イル〕シクロヘ
キシル｝−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル
−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イル〕ビフェ
ニル０．９５ｇを、無色結晶として得た。融点（Ｃ／Ｓ
B)：７３．５℃、ＳB／ＳA ：７５．５℃、ＳA ／Ｎ
* ：１０６℃、透明点（Ｎ* ／Ｉ）：２１９℃、〔α〕
D(ＣＨＣｌ3)：−２３．９°。
【００４７】以下の化合物を、類似の方法で製造するこ
とができた。４′−｛トランス−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，
５Ｒ）−５−ヘプチル−４−メチル−１，３−ジオキサ
ン−２−イル〕シクロヘキシル｝−４−〔（２Ｒ，３
Ｓ，５Ｒ）−５−ヘプチル−４−メチル−１，３−ジオ
キサン−２−イル〕ビフェニル、４′−｛トランス−４
−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ヘキシル−４−メチル
−１，３−ジオキサン−２−イル〕シクロヘキシル｝−
４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ヘキシル−４−メチ
ル−１，３−ジオキサン−２−イル〕ビフェニル、４′
−｛トランス−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ノニ
ル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イル〕シク
ロヘキシル｝−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ノニ
ル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イル〕ビフ
ェニル、２′，３′−ジフルオロ−４′−｛トランス−
４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４−メチ
ル−１，３−ジオキサン−２−イル〕シクロヘキシル｝
−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４−メ
チル−１，３−ジオキサン−２−イル〕ビフェニル、
２，３−ジフルオロ−４′−｛トランス−４−〔（２
Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４−メチル−１，３
−ジオキサン−２−イル〕シクロヘキシル｝−４−
〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ヘプチル−４−メチル−
１，３−ジオキサン−２−イル〕ビフェニル、４′−
｛２−｛トランス−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−
オクチル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イ
ル〕シクロヘキシル｝エチル｝−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，
５Ｒ）−５−オクチル−４−メチル−１，３−ジオキサ
ン−２−イル〕ビフェニル、４′−｛トランス−４−
｛２−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４−メ
チル−１，３−ジオキサン−２−イル〕エチル｝シクロ
ヘキシル｝−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチ
ル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イル〕ビフ
ェニル、融点（Ｃ／ＳA)：８８℃、（ＳA ／Ｎ*)：９８
℃、透明点（Ｎ／Ｉ）：１８４．６℃、４′−｛｛トラ
ンス−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４
−メチル−１，３−ジオキサン−２−イル〕シクロヘキ
シル｝メトキシ｝−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−
オクチル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イ
ル〕ビフェニル、４′−｛２−｛トランス−４−〔（２
Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４−メチル−１，３
−ジオキサン−２−イル〕シクロヘキシル｝エチル｝−
４−｛２−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４
−メチル−１，３−ジオキサン−２−イル〕エチル｝ビ
フェニル、１，４−ビス−｛トランス−４−〔（２Ｒ，
３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４−メチル−１，３−ジ
オキサン−２−イル〕シクロヘキシル｝ベンゼン、融点
（Ｃ／Ｎ*)：１０６．１℃、透明点（Ｎ* −Ｉ）：２２
２℃、１，４−ビス−｛２−｛トランス−４−〔（２
Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４−メチル−１，３
−ジオキサン−２−イル〕シクロヘキシル｝エチル｝ベ
ンゼン及び１，４−ビス−｛トランス−４−｛２−
〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４−メチル−
１，３−ジオキサン−２−イル〕エチル｝シクロヘキシ
ル｝ベンゼン。
【００４８】実施例２ ａ）トルエン４０ml中の、４−ブロモベンズアルデヒド
０．８７１ｇ、（２Ｒ，３Ｓ）−２−オクチル−１，３
−ブタンジオール（調製は、ＥＰ−Ａ−０４５７１０５
参照）０．５８７ｇ及び２N 硫酸８滴の混合物を、磁気
撹拌器、水分離器及びコンデンサーを有する丸底フラス
コ中で、窒素下に、１５時間加熱還流した。次いで、混
合物を室温まで冷却し、トリエチルアミン３０滴を添加
し、そして混合物を、ジエチルエーテルと炭酸水素ナト
リウム飽和溶液との間に分配した。有機相を合せ、硫酸
マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、ろ液を濃縮した。残
渣を、ヘキサン中の３％酢酸エチルを用いたシリカゲル
クロマトグラフ（１４０ｇ）に付すことによって、１−
ブロモ−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−
４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イル〕ベンゼン
０．６９ｇを帯褐色油状物として得た。
【００４９】ｂ）１−ブロモ−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５
Ｒ）−５−オクチル−４−メチル−１，３−ジオキサン
−２−イル〕ベンゼン１．３３ｇ、フェニル−１，４−
ビス−ホウ酸０．３ｇ、木炭上の１０％パラジウム０．
０７７ｇ、微細に粉砕された炭酸ナトリウム０．４７７
ｇ及びエタノール２０mlの混合物を、９０℃で１００時
間撹拌した。次いで、更なるフェニル−１，４−ビス−
ホウ酸０．０５０ｇ、触媒０．０２ｇ及び炭酸ナトリウ
ム０．２ｇを添加し、混合物を、９０℃で更に１５時間
撹拌した。次いで、反応混合物を冷却し、セライト／シ
リカゲルによってろ過し、ろ液を、ジエチルエーテルと
１N 塩化アンモニウム溶液との間に分配した。その後、
有機相を合せ、硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、
ろ液を濃縮した。残渣を、ヘキサン中の３％酢酸エチル
を用いたシリカゲルクロマトグラフ（２００ｇ）に付
し、続いてヘキサンから結晶化することによって、１，
４−ビス−｛４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチ
ル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イル〕フェ
ニル｝ベンゼン０．１ｇを、無色結晶として得た。融
点：＜２５℃、ＳG ／ＳC *：１２９．８℃、ＳC *／Ｎ
* ：１９３℃、透明点（Ｎ* ／Ｉ）：２４６．３℃。
【００５０】以下の化合物を、類似の方法で製造するこ
とができた。１，４−ビス−｛４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５
Ｒ）−５−ヘプチル−４−メチル−１，３−ジオキサン
−２−イル〕フェニル｝ベンゼン、１，４−ビス−｛４
−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ヘキシル−４−メチル
−１，３−ジオキサン−２−イル〕フェニル｝ベンゼ
ン、１，４−ビス−｛４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５
−ペンチル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イ
ル〕フェニル｝ベンゼン、１，４−ビス−｛４−〔（２
Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ノニル−４−メチル−１，３−
ジオキサン−２−イル〕フェニル｝ベンゼン、１，４−
ビス−｛４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−デシル−４
−メチル−１，３−ジオキサン−２−イル〕フェニル｝
ベンゼン、１−｛４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ヘ
プチル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イル〕
フェニル｝−４−｛４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−
オクチル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イ
ル〕フェニル｝ベンゼン、１，４−ビス−｛４−〔（２
Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−（７−オクテニル）−４−メチ
ル−１，３−ジオキサン−２−イル〕フェニル｝ベンゼ
ン、１，４−ビス−｛４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５
−オクチル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イ
ル〕フェニル｝−２，３−ジフルオロベンゼン、１，４
−ビス−｛３−フルオロ−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）
−５−（７−オクテニル）−４−メチル−１，３−ジオ
キサン−２−イル〕フェニル｝ベンゼン、１，４−ビス
−｛２−フルオロ−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−
（７−オクテニル）−４−メチル−１，３−ジオキサン
−２−イル〕フェニル｝ベンゼン、１−｛２，３ジフル
オロ−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−（７−オクテ
ニル）−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イル〕
フェニル｝−４−｛４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−
（７−オクテニル）−４−メチル−１，３−ジオキサン
−２−イル〕フェニル｝ベンゼン及び１，４−ビス−
｛４−｛２−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−
４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イル〕エチル｝
フェニル｝ベンゼン、融点（Ｓ／ＡA)：１４０．２℃、
（ＳA ／Ｎ*)：１７５℃、透明点（Ｎ* ／Ｉ）：１８
１．８℃。
【００５１】実施例３ Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド１．２ｇ
を、撹拌しながら、ジクロロメタン２５０ml中の、４−
｛４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４−メ
チル−１，３−ジオキサン−２−イル〕フェニル｝安息
香酸２．０５ｇ、４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オ
クチル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イル〕
フェノール１．４ｇ及び４−（ジメチルアミノ）ピリジ
ン０．１ｇに、少しずつ１０分間で添加した。混合物
を、室温で一晩撹拌し、次いでろ過した。ろ液を、ジク
ロロメタンで希釈し、炭酸ナトリウム飽和溶液５０mlで
それぞれ２回洗浄し、次いで水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、ろ過し、ろ液を濃縮した。残渣を、ト
ルエンを用いたシリカゲルクロマトグラフに付し、ヘキ
サンから再結晶を行うことによって、４′−〔（２Ｒ，
３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４−メチル−１，３−ジ
オキサン−２−イル〕ビフェニルカルボン酸４−〔（２
Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４−メチル−１，３
−ジオキサン−２−イル〕フェニルエステルを得た。融
点（Ｃ／ＳA)：９５．６℃、（ＳA ／Ｎ＊）：１０６．
６℃、透明点（Ｎ＊ ／Ｉ）：２３４℃。
【００５２】以下の化合物を、類似の方法で製造するこ
とができた。４′−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オク
チル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イル〕−
ビフェニルカルボン酸４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５
−ノニル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イ
ル〕フェニルエステル、４′−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）
−５−ノニル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−
イル〕−ビフェニルカルボン酸４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５
Ｒ）−５−ヘプチル−４−メチル−１，３−ジオキサン
−２−イル〕フェニルエステル、４′−〔（２Ｒ，３
Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４−メチル−１，３−ジオ
キサン−２−イル〕−ビフェニルカルボン酸４−〔（２
Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−（７−オクテニル）−４−メチ
ル−１，３−ジオキサン−２−イル〕フェニルエステ
ル、４′−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−（７−オクテ
ニル）−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イル〕
ビフェニルカルボン酸４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５
−オクチル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イ
ル〕フェニルエステル、２，３−ジフルオロ−４′−
〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４−メチル−
１，３−ジオキサン−２−イル〕ビフェニルカルボン酸
４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４−メチ
ル−１，３−ジオキサン−２−イル〕フェニルエステ
ル、２′，３′−ジフルオロ−４′−〔（２Ｒ，３Ｓ，
５Ｒ）−５−オクチル−４−メチル−１，３−ジオキサ
ン−２−イル〕ビフェニルカルボン酸４−〔（２Ｒ，３
Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４−メチル−１，３−ジオ
キサン−２−イル〕フェニルエステル、４−〔（２Ｒ，
３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４−メチル−１，３−ジ
オキサン−２−イル〕安息香酸４′−〔（２Ｒ，３Ｓ，
５Ｒ）−５−オクチル−４−メチル−１，３−ジオキサ
ン−２−イル〕ビェニルエステル、融点（Ｃ／ＳA)：１
１４．１℃、（ＳA ／Ｎ*)：１２８．５℃、透明点（Ｎ
* ／Ｉ）：２３０．６℃、４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）
−５−オクチル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２
−イル〕安息香酸４−｛トランス−４−〔（２Ｒ，３
Ｓ，５Ｒ）−５−オクチル−４−メチル−１，３−ジオ
キサン−２−イル〕シクロヘキシルフェニル及び４−
｛トランス−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オクチ
ル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イル〕シク
ロヘキシル｝安息香酸４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５
−オクチル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イ
ル〕フェニルエステル。
【００５３】実施例４ 混合物中の式〔Ｉ〕で示される化合物の性質を検討する
ために、２つの基本混合物ＢＭ−Ｉ及びＢＭ−IIをそれ
ぞれ有する試験混合物を調製した。ＧＭ−Ｉは、アキラ
ル（ドープされていない）混合物であり、自発分極（Ｐ
ｓ）と同様に、相シークエンス、特にＳｃ* 相転移の程
度を決定するために用いる。ＧＭ−IIは、キラルドープ
された混合物であり、選択反射の波長（λsel)を測定す
るために用いる。これは、らせんピッチの測定であり、
即ち、λsel の測定値が小さくなればなるほど、ピッチ
は小さくなり、そしてドーパントのねじり能力が強くな
る。更に、２つの比較混合物を、比較の目的のために調
製した。この目的のために、２つの基本混合物ＧＭ−Ｉ
及びＧＭ−IIを、四核キラルビスメチルジオキサンでそ
れぞれドープした。
【００５４】測定を、以下の条件で行った：約８ mμセ
ル厚さで１０Hz、５V/μのデルタ電圧下でのＰｓ測定。
homeotroptic配向でのλsel の測定。すべての測定は、
２５℃の温度で測定した。
【００５５】基本混合物Ｉ（ＢＭ−Ｉ） ５−（５−ヘプチル−１，３−ジオキサン−２−イル）
−２−（４−オクチルオキシフェニル）ピリジン７．０
重量％；５−（５−オクチル−１，３−ジオキサン−２
−イル）−２−（４−オクチルオキシフェニル）ピリジ
ン７．０重量％；５−（５−デシル−１，３−ジオキサ
ン−２−イル）−２−（４−オクチルフェニル）ピリジ
ン６．０重量％；４−デシルオキシ安息香酸４−〔２−
（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル〕フ
ェニルエステル１５．９重量％；４−ドデシルオキシ安
息香酸４−〔２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキ
シル）エチル〕フェニルエステル７．１重量％；２，３
−ジフルオロ−４−ウンデシルオキシ安息香酸４−〔２
−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル〕
フェニルエステル７．０重量％；２−（４−ヘキシルオ
キシフェニル）−５−ノニルピリミジン１４．９重量
％；２−（４−ノニルオキシフェニル）−５−ノニルピ
リミジン１９．９重量％；２−（４−オクチルオキシフ
ェニル）−５−ヘプチルピリミジン５．０重量％；２−
（４−ヘキシルオキシフェニル）−５−オクチルピリミ
ジン１０．１重量％； 相シークエンス：Ｉ−１０３℃−Ｎ−８０℃−ＳA −７
６．５℃−ＳC −−１７．５℃Ｃ
【００５６】比較混合物Ｉ １，４−ビス−｛４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オ
クチル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イ
ル〕｝ベンゼン７．０重量％ ＢＭ−Ｉ９３．０重量％ シークエンス：Ｉ−１０４．０℃−Ｎ* −６７．４℃−
ＳC *−； Ｐｓ：１０．１nC/cm2
【００５７】試験混合物Ｉ−１ １，４−ビス−｛４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オ
クチル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イル〕
フェニル｝ベンゼン７．０重量％ ＢＭ−Ｉ９３．０重量％ シークエンス：Ｉ−１０９．４℃−Ｎ* −８０℃−ＳA
−７２．９℃−ＳC *−； Ｐｓ：１３．１nC/cm2
【００５８】試験混合物Ｉ−２ ４′−｛トランス−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−
オクチル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イ
ル〕ヘクロヘキシル｝−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−
５−オクチル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−
イル〕ビフェニル７．０重量％ ＢＭ−Ｉ９３．０重量％ シークエンス：Ｉ−１１０．１℃−Ｎ* −７２．０℃−
ＳC *−； Ｐｓ：１１．５nC/cm2
【００５９】基本混合物II（ＢＭ−II） １，４−ビス−｛４−〔（Ｓ）−２−オクチルオキシ〕
フェニル｝ベンゼン２７．０重量％；２−（４−オクチ
ルオキシフェニル）−５−〔（４Ｅ）−４−オクテノイ
ルオキシ〕−ピリミジン１５．７重量％；２−（４−オ
クタノイルオキシフェニル）−５−オクチルピリジン
５．２重量％；２−｛４−〔（２Ｅ）−２−オクテノイ
ルオキシ〕フェニル｝−５−ヘプチルピリジン５．２重
量％；２−｛４−〔（２Ｅ）−２−オクテノイルオキ
シ〕フェニル｝−５−オクチルピリジン５．２重量％；
２−（４−ヘプチルフェニル）−５−〔（２Ｅ）−２−
オクテニルオキシ〕−ピリミジン１０．４重量％；２−
（４−ヘキシルオキシフェニル）−５−ノニルピリミジ
ン１５．６重量％；２−（４−ノニルオキシフェニル）
−５−ノニルピリミジン１５．６重量％ λsel ：５０８nm
【００６０】比較混合物II １，４−ビス−｛４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オ
クチル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イ
ル〕｝ベンゼン３．０重量％ ＢＭ−Ｉ９３．０重量％ λsel ：４３７nm
【００６１】試験混合物II−１ １，４−ビス−｛４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−オ
クチル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イル〕
フェニル｝ベンゼン３．０重量％ ＢＭ−II９７．０重量％ λsel ：４０４nm
【００６２】試験混合物II−２ ４′−｛トランス−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−５−
オクチル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−イ
ル〕シクロヘキシル｝−４−〔（２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−
５−オクチル−４−メチル−１，３−ジオキサン−２−
イル〕ビフェニル３．０重量％ ＢＭ−II９７．０重量％ λsel ：４１４ｎｍ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｋ 19/34 9279−4Ｈ Ｃ０９Ｋ 19/34 Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ Ｇ０９Ｆ 9/35 Ｇ０９Ｆ 9/35 9/40 9/40 // Ｃ０７Ｍ 7:00

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式（Ｉ）： 【化１】 （式中、 Ｒ1 及びＲ2 は、それぞれ独立して、アルキル又はアル
    ケニル（これらは、場合により、１個のメチレン基又は
    ２個の隣接していないメチレン基が、−Ｏ−、−ＣＯＯ
    −及び／又は−ＯＯＣ−によって置き換えられていても
    よく、及び／又は１個又はそれ以上の水素原子が、フッ
    素、塩素若しくはシアノによって置き換えられてもよ
    い）を表し；環Ａ、Ｂ及びＣの１個は、１，４−フェニ
    レン（これは、場合により、１個又は２個のフッ素原子
    で置換されていてもよい）、ピリジン−２，５−ジイル
    又はピリミジン−２，５−ジイルを表し、そして他の２
    個の環は、それぞれ独立して、１，４−フェニレン（こ
    れは、場合により、１又は２個のフッ素原子で置換され
    ていてもよい）又はトランス−１，４−シクロヘキシレ
    ンを表し；Ｚ1 及びＺ4 は、それぞれ独立して、単結
    合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＯＣＨ2 −、
    −Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ2)4 −、−（ＣＨ2)3 Ｏ−、−Ｏ
    （ＣＨ2)3 −、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2 Ｏ−、−ＯＣＨ2
    −ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ2)2 −又は−
    （ＣＨ2)2 ＣＨ＝ＣＨ−を表すが、ただし、その酸素原
    子は、キラルジオキサン環に直接には結合しておらず；
    Ｚ2 及びＺ3 は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ2
    −ＣＨ2 −、−Ｏ−ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −Ｏ−、−ＣＯ
    Ｏ−、−ＯＯＣ−、−Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ2)4−、−Ｏ
    （ＣＨ2)3 −、−（ＣＨ2)3 Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ
    2 Ｏ−、−ＯＣＨ2 −ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2)2 −Ｃ
    Ｈ＝ＣＨ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ2) 2 −を表し；そ
    してＲ* 及びＳ* は、キラル炭素原子の相対的立体配置
    を表す）で示される化合物。
  2. 【請求項２】 Ｚ1 及びＺ4 が、単結合、−ＣＨ2 ＣＨ
    2 −、−ＣＨ2 Ｏ−又は−ＯＣＨ2 −を表し；そしてＺ
    2 及びＺ3 が、単結合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｏ
    −、−ＯＣＨ2 −、−ＣＯＯ−又は−ＯＯＣ−を表す
    が、ここで、基Ｚ1 〜Ｚ4 に存在する酸素原子は、芳香
    環に結合しているのが好ましい、請求項１記載の化合
    物。
  3. 【請求項３】 基Ｚ1 〜Ｚ4 の最大２個が、単結合以外
    である、請求項１又は２記載の化合物。
  4. 【請求項４】 一般式（Ｉ−Ａ）〜（Ｉ−Ｄ）： 【化２】 （式中、 Ｒ11及びＲ21は、それぞれ独立して、最大１２個の炭素
    原子を有する、アルキル又はアルケニル（これらは、場
    合により、１個のメチレン基が、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又
    は−ＯＯＣ−によって置き換えられていてもよい）を表
    し；Ｚ11、Ｚ33及びＺ41は、それぞれ独立して、単結合
    又は−ＣＨ2 ＣＨ2 −を表し；Ｚ21及びＺ31は、それぞ
    れ独立して、単結合、−ＣＯＯ−又は−ＯＯＣ−を表
    し；Ｚ22及びＺ32は、それぞれ独立して、単結合、−Ｃ
    Ｈ2 ＣＨ2 −又は−ＯＣＨ2 −を表し；Ｚ23は、単結
    合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −又は−ＣＨ2 Ｏ−を表し；そして
    置換基Ｘ1 〜Ｘ4 は、それぞれ独立して、水素又はフッ
    素を表す）のいずれかで示される、請求項１〜３のいず
    れか１項記載の化合物。
  5. 【請求項５】 下記式〔Ｉ−１〕〜〔Ｉ−８〕： 【化３】 （式中、 Ｒ11及びＲ21は、それぞれ独立して、最大１２個の炭素
    原子を有する、アルキル又はアルケニル（これらは、場
    合により、１個のメチレン基が、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又
    は−ＯＯＣ−によって置き換えられていてもよい）を表
    し；そして置換基Ｘ1 〜Ｘ4 は、それぞれ独立して、水
    素又はフッ素を表す）のいずれかで示される、請求項４
    記載の化合物。
  6. 【請求項６】 下記式〔Ｉ−９〕〜〔Ｉ−１４〕： 【化４】 （式中、 Ｒ11及びＲ21は、それぞれ独立して、最大１２個の炭素
    原子を有する、アルキル又はアルケニル（これらは、場
    合により、１個のメチレン基が、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又
    は−ＯＯＣ−によって置き換えられていてもよい）を表
    し；そして置換基Ｘ1 〜Ｘ4 は、それぞれ独立して、水
    素又はフッ素を表す）いずれかで示される、請求項４記
    載の化合物。
  7. 【請求項７】 下記式〔Ｉ−１５〕〜〔Ｉ−１８〕： 【化５】 （式中、 Ｒ11及びＲ21は、それぞれ独立して、最大１２個の炭素
    原子を有するアルキル又はアルケニル（これらは、場合
    により、１個のメチレン基が、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は
    −ＯＯＣ−によって置き換えられていてもよい）を表
    し；そして置換基Ｘ1 〜Ｘ4 は、それぞれ独立して、水
    素又はフッ素を表す）のいずれかで示される、請求項４
    記載の化合物。
  8. 【請求項８】 下記式〔Ｉ−１９〕又は〔Ｉ−２０〕： 【化６】 （式中、 Ｒ11及びＲ21は、それぞれ独立して、最大１２個の炭素
    原子を有する、アルキル又はアルケニル（これらは、場
    合により、１個のメチレン基が、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又
    は−ＯＯＣ−によって置き換えられていてもよい）を表
    し；そして置換基Ｘ1 〜Ｘ4 は、それぞれ独立して水素
    又はフッ素を表す）で示される、請求項４記載の化合
    物。
  9. 【請求項９】 基Ｘ1 〜Ｘ4 の最大２個が、フッ素を表
    す、請求項４〜８のいずれか１項記載の化合物。
  10. 【請求項１０】 少なくとも１種の成分が、請求項１記
    載の式〔Ｉ〕で示される光学活性化合物である、少なく
    とも２種の成分を含有する液晶混合物。
  11. 【請求項１１】 請求項１記載の式〔Ｉ〕で示される光
    学活性化合物の含有量が、１〜３０重量％である、請求
    項１０記載の液晶混合物。
  12. 【請求項１２】 電気光学的目的のための、請求項１記
    載の式〔Ｉ〕で示される化合物の用途。
  13. 【請求項１３】 電気光学的目的のための、請求項１０
    〜１２のいずれか１項記載の液晶混合物の用途。
  14. 【請求項１４】 請求項１〜９のいずれか１項記載の化
    合物を含有する電気光学装置。
  15. 【請求項１５】 請求項１０又は１１記載の混合物を含
    有する電気光学装置。
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