JPH09187616A - ガスを除塵するための装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 粗ガス室を取り囲む容器を有し、粗ガス室に
隣接する壁部部分が、粗ガス室内に突入するフィルタ
と、液体をフィルタの外側面に向けて噴霧するための噴
霧機構１８５を保持している形式の、特に粒子状の例え
ば薬品を製造するために使用される原料を流通してガイ
ドされるガスを除塵するための装置を改良して、粗ガス
室を、フィルタをブリッジする接続部によってこのフィ
ルタに隣接する純ガス室に接続することなしに、各フィ
ルタを液体によって良好に浄化若しくは洗浄できるもの
を提供する。 【解決手段】 前記壁部部分が、この壁部部分によって
保持された１つの又はそれぞれの噴霧機構１８５のため
の、粗ガス室内に開口する開口部を備えた孔１１１ｃを
有しており、噴霧機構１８５が、前記孔１１１の開口部
の、粗ガス室とはほぼ反対側に位置する非作業位置か
ら、粗ガス室内に摺動可能である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガスを除塵するた
めの装置、特に粒子状の原料を流通してガイドされるガ
スを除塵するための装置に関する。

【０００２】まず以下に、本明細書で使用された「粗ガ
ス室“Rohgas-Raum”」及び「純ガス室“Reingas-Rau
m”」について説明する。粗ガス室とは、濾過及び除塵
しようとするガスを含有し、この粗ガス室からガスがフ
ィルタ内に流入するようになっている、少なくとも１つ
のフィルタに隣接する室のことである。純ガス室とは、
ガスが１つ若しくは多数のフィルタを貫流した後で流入
する、１つ若しくは少なくとも１つのフィルタに隣接す
る室のことである。

【０００３】

【従来の技術】このような装置は、粗ガス室を取り囲む
少なくとも１つの容器と、粗ガス室内に突入する少なく
とも１つのフィルタとを有している。この装置は、例え
ば１つの原料容器を有していて、ガスを粗ガス室を通し
て及びこの粗ガス室内に存在する粒子状の原料を通して
ガイドし、原料を移動させて処理するために構成されて
いる。この場合、原料は、例えばガスによって流動せし
められるか及び／又は、粗ガス室の下側を制限する、円
板を有するロータによって移動せしめられる。このよう
な装置は、例えば粒子状の原料（少なくとも薬学的なつ
まり生物学的な作用を有する作用物質を備えた薬品を製
造するために設けられている）を移動及び処理するため
に使用される。この場合、複数の若しくは少なくとも１
つの作用物質は、乾燥又は湿った固形の状態で原料容器
内にもたらされる粒子状の原料内に含有されている。し
かしながらまた、原料容器内で粒子状の原料に、可能な
限り溶融された又は拡散された液体を噴霧することも可
能である。この装置は、原料容器に対して付加的に又は
原料容器の代わりに、後置除塵装置及び／又はその他
の、容器を備えた濾過装置を有している。この容器は、
使用時にはそれ自体が粒子状の原料を収容してはいない
が、この容器に、粒子状の原料を収容した別の原料容器
から、除塵しようとするガスが供給されるようになって
いる。この装置はさらに、噴霧式乾燥装置として構成す
ることができる。

【０００４】ヨーロッパ特許公開第０５７２３５６号明
細書により公知の流動層装置は、粒子状の原料を流動さ
せるために使用される粗ガス室を収容する容器と、この
容器内に突入する、鉛直方向に延びる少なくとも１つ
の、例えば繊維の製織品より成るフィルタ部材とを有し
ている。容器は、カバーを有しており、このカバーは、
各フィルタのための１つの孔を有している。これらの各
孔は、カバーの上側に固定された円筒形のキャップによ
ってカバーされており、このキャップは、ガス導出導管
に接続された粗ガス室によって制限されている。各キャ
ップは、カバーの近くに配置されたリング状の噴霧機構
を備えた湿浄化装置若しくは洗浄装置を有しており、リ
ング状の噴霧機構は、内方に向けられた液体出口孔を有
している。

【０００５】公知の流動装置装置の通常運転時において
は、フィルタは濾過位置にあって、この濾過位置では、
フィルタの上端部が、このフィルタに配属されたカバー
の孔を覆うようになっている。次いで、粒子状の原料を
流動させるために使用されるプロセスガスが、フィルタ
を通って純ガス室内に流入する。フィルタが液体によっ
て浄化、つまり洗浄される場合には、フィルタは、装置
の通常運転終了後に、調節装置によって、容器のカバー
に設けられた孔を通って上方に向かってキャップ内に摺
動せしめられて、この摺動中にリング状の噴霧機構によ
ってフィルタに浄化液体が噴霧される。

【０００６】ヨーロッパ特許公開第０５７２３５６号明
細書により公知の装置においては、通常運転時に、容器
の粗ガス室に隣接する、フィルタの外側面が、湿式浄化
時に、キャップによって制限された純ガス室に達する。
しかも通常の運転時においては、フィルタの上端部によ
って閉鎖された、容器カバーの孔が、湿式浄化時に粗ガ
スと純ガス室との間でキャップ内に接続部を形成する。
従って、キャップの純ガス室とフィルタ内室とが、粗ガ
ス室から生ぜしられる材料によって汚染される危険性が
ある。この材料は、後で行われるプロセスガスによる装
置の運転時において、キャップから搬出され、装置の周
囲を汚染する可能性がある。これは、毒性のある原料及
び／又は薬品のための作用物質を処理する場合に非常に
不都合である。さらにまた、湿式浄化時においては逆
に、例えば前もって行われた湿式浄化時にキャップの純
ガス室内に達する原料が、純ガス室内で浄化液体によっ
て噴霧され、汚染される危険性がある。このような汚染
過程は、処理しようとする原料の純度及び品質に不都合
な影響がある。従ってこれは例えば、薬品を製造するた
めの種々異なる原料を相次いで処理しようとする場合
に、しばしば純度に対する非常に高い要求がかされるの
で、非常に不都合である。カートリッジ式フィルタは、
しばしば非常に大きく重いので、フィルタを摺動可能に
ガイドし摺動さあせるためには、大きく高価なガイド部
材及び調節装置が必要となる。しかも、容器のカバー上
に存在するキャップ及び調節装置は大きいスペースを必
要とする。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の課題
は、公知の装置における欠点を避けることができ、しか
も特に、粗ガス室を、フィルタをブリッジする接続部に
よってこのフィルタに隣接する純ガス室に接続すること
なしに、１つ若しくはそれぞれのフィルタを液体によっ
て良好に浄化若しくは洗浄することができるような、ガ
スによって除塵するための装置を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この課題を解決した本発
明によれば、壁部部分が、この壁部部分によって保持さ
れた１つの又はそれぞれの噴霧機構のための、粗ガス室
内に開口する開口部を備えた孔を有しており、噴霧機構
が、前記孔の開口部の、粗ガス室とはほぼ反対側に位置
する非作業位置から、粗ガス室内に摺動可能に構成され
ている。

【０００９】本発明の有利な実施例は、請求項２以下に
記載されている。

【００１０】

【発明の効果】本発明の構成によれば、１つ若しくそれ
ぞれのフィルタは、後述する形式で湿式浄化されるか若
しくは洗浄され、フィルタの噴霧時及び洗浄時におい
て、このフィルタをブリッジするか若しくは迂回する、
粗ガス室と、フィルタに接続された純ガス室との接続が
形成される。これによって、塵及びその他の固形物質
が、粗ガス室から純ガス室内に達し、この純ガス室から
装置の周囲に達するか及び／又は後で粗ガス室に再び戻
ることは避けられる。このことは特に、毒性の物質及び
／又は作用物質を処理する場合に大きな利点である。

【００１１】１つ若しくは各噴霧機構は、有利には１つ
の端面を有しており、この端面は、非作業位置で、粗ガ
ス室に隣接する、噴霧機構を有する壁部部分の面に対し
て、少なくともほぼ、例えば正確に同一面を成してい
る。さらにまた、１つ若しくはそれぞれの噴霧機構は、
この噴霧機構のために設けられた孔を塵が侵入しないよ
うに閉鎖する。前記壁部部分及び、この壁部部分を保持
する１つ若しくは各噴霧機構は、相応に、装置の通常運
転時に、塵粒子又はその他の原料が固着する窪み及び／
又は溝又はその他のデッドスペースを形成することはな
い。

【００１２】１つ若しくはそれぞれの噴霧機構は有利に
は、フィルタよりも著しく小さく及び軽く構成されてい
て、有利にはその浄化位置で、１つ若しくは複数のフィ
ルタよりも有利には著しくわずかに粗ガス室内に突入し
ている。１つ若しくは各フィルタ及び、噴霧機構をガイ
ド及び摺動させるために使用されるガイド並びに調節及
び／又は摺動部材は、フィルタをガイド及び摺動させる
ために公知の装置において必要とされたガイド及び摺動
部材よりも著しく小さく及び軽く構成することができ
る。

【００１３】

【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態を図示の
実施例を用いて詳しく説明する。

【００１４】図１に示した流動層装置１は、原料及び流
動層容器３を有しており、該原料及び流動層容器３は、
鉛直方向の容器軸線４に対して回転対称的に配置された
一般的なものである。容器３は、壁部５を有している。
この壁部５は、図示していないフレームで保持されてい
て、解除可能に互いに密に結合された多数の壁部分、例
えば下方から上方に向かって延びる底部壁−部部分６
と、下側の円錐形の液部部分７と、上側の円錐形の壁部
部分８と、円筒形の壁部部分９と、カバー壁部分８とを
有している。濾過容器底部１３は、底部−壁部部分６の
上端部で容器内に配置されており、水平な旋回軸線を中
心にして旋回可能であって、種々異なる旋回位置で固定
可能である。原料−容器３はさらに、円筒形の壁部部分
９の上半部内に配置され、この状半部に堅固に及び密に
結合された内側の容器部分若しくは内側の壁部部分１７
を有しており、この内側の壁部部分１７は仕切壁として
使用される。

【００１５】内側の壁部部分１７は、少なくとも１つの
フィルタ１９を有しており、図２の実施例では例えば４
つのフィルタ１７が、原料及び流動層容器３内で容器軸
線４を中心にして分配して、互いに間隔を保って設けら
れている。各フィルタ１９は、内側の壁部部分１７に解
除可能に固定されていて、この壁部部分１７から下方に
突き出ている。壁部部分１７には各フィルタ１９のため
に、図１では概略的にのみ示された１つのガス浄化装置
２０が固定されている。この浄化装置２０は閉鎖装置２
１と純ガス入口２２とを有している。さらにまた内側の
壁部部分１７は、フィルタ１９を湿式洗浄するための湿
式浄化手段を有している。湿式浄化手段は、少なくとも
１つの湿式浄化装置若しくは洗浄装置、つまり４つの第
１の湿式浄化装置２３と、第２の大きい湿式浄化装置２
５を有している。４つの第１の湿式浄化装置２３の軸線
は、容器軸線４に対してフィルタ軸線よりも大きい間隔
を有しており、４つの第１の浄化装置２３は一緒に１つ
のサークル状を形成していて、図２に示されているよう
に、容器軸線に対して及びフィルタ軸線に対して平行な
投影図で見て、それぞれの第１の湿式浄化装置が互いに
隣接する２つのフィルタ１９間に位置するように容器軸
線４を中心にして分配して配置されている。第２の湿式
浄化装置２５は、内側の壁部部分１７の中心に位置して
いる。

【００１６】壁部部分６，７，８，９，１０は一緒に、
壁部５の外壁を形成していて、容器内室２７を、周囲に
対して気密に閉鎖している。濾過器底部１３と、仕切壁
として使用される内側の壁部部分１７と、この壁部部分
１７に固定されたフィルタ１９と、装置２１，２３，２
６とは、内室２７を３つの部分に分割している。つまり
下方から上方に向かって、ガス分配室２８と流動粗ガス
室２９と浄化室３０とに分割している。

【００１７】底部壁部部分６は、ガス入口３３とガス出
口３４とを備えている。ガス出口３４は、貫通路と、こ
の貫通路を選択的に開閉するための調節可能な閉鎖部材
とを有している。少なくとも１つの湿式浄化装置若しく
は洗浄装置３５は、濾過器底部１３の下部で、底部壁部
部分６の外側に固定された、ケーシング３６を備えた保
持部と、少なくとも１つの噴霧ノズル若しくは出口開口
を備えた少なくとも１つの噴霧機構３７とを有してい
る。濾過器底部の上側に配置された少なくとも１つの湿
式浄化装置若しくは洗浄装置３９は、円錐形の壁部部分
８の外部に固定された、ケーシング４０を備えた保持部
と、少なくとも１つの噴霧ノズル若しくは吐出開口を備
えた少なくとも１つの噴霧機構４１とを有している。

【００１８】また、流動−粗ガス室２９内に配置された
少なくとも１つの噴霧機構４４を備えた噴霧装置４３を
設けてもよい。この噴霧機構４４は、結合材又は被覆材
又はこれと類似のものを含有する噴霧原料を噴霧するた
めの少なくとも１つの噴霧ノズルを有している。噴霧機
構４４は、例えば、濾過器底部１３と湿式浄化装置３９
との間で保持部によって円錐形の壁部部分８に固定され
ていて、この壁部部分８を貫通して延びる液体導管に接
続されている。壁部５は、少なくとも１つのウインドを
備えており、例えば各壁部部分７，８，９には少なくと
も１つのウインド４５若しくは４６若しくは４７が配置
されている。円筒形の壁部部分９は、内側の壁部部分１
７の上側の面の外周部箇所で、選択的に開放可能又は遮
断可能な液体出口４８と、内側の壁部部分１７の上側で
ガス出口４９とを備えている。

【００１９】装置１は、容器５３を備えた後置除塵装置
５１を有している。後置除塵装置５１の壁部５５は、一
般的に、鉛直方向に延びる容器軸線５４に対して回転対
称的であって、互いに解除可能に結合された多数の壁部
部分、つまりほぼ円錐形で下方に向かって先細りする底
部−壁部部分５６と、円筒形の壁部部分５７と、蓋−壁
部部分５８とを有している。後置除塵装置−容器５３内
には、仕切壁を形成する内側の容器部分若しくは内側の
壁部部分６１が固定されている。内側の壁部部分６１に
はフィルタ６３が解除可能に固定されており、このフィ
ルタ６３には、閉鎖装置６５及び純ガス入口６６を備え
たそれぞれ１つのガス浄化装置６４が配属されている。
また、第１の湿式浄化装置若しくは洗浄装置６７と、第
２の湿式浄化装置若しくは洗浄装置６８とは、内側の壁
部部分６１に解除可能に固定されている。フィルタ６３
と湿式浄化装置６７，６８とは、例えば壁部１７に配置
されたフィルタ１９及び湿式浄化装置２３，２５と同じ
か又は類似した状態で、内側の壁部部分６１に分配され
ている。

【００２０】壁部分５６，５７，５８は一緒に、壁部５
５の外側壁を形成していて、内室６９を外部に対して気
密に閉鎖している。仕切壁として使用される内側の壁部
部分６１と、この壁部部分６１に固定されたフィルタ６
３と、装置６４，６７，６８とは、内室６９を粗ガス室
７０と純ガス室７１とに分割しており、この場合、粗ガ
ス室７０は内側の壁部部分６１の下に位置していて、純
ガス室７１は内側の壁部部分６１の上に位置している。
容器５３は、粗ガス室７０内に開口するガス入口７３
と、底部部分５６の下端部に配置され選択的に開閉可能
な出口７４と、純ガス室７１から導出ガイドされたガス
出口７５と、少なくとも１つのウインド７７と、内側の
壁部部分６１の上側面の外周部箇所に配置され選択的に
開閉可能な液体出口７８とを有している。

【００２１】２つの容器３若しくは５３の壁部５及び５
５は、ほぼ、つまり種々異なる壁部部分間に設けられた
シール及びウインド及びこれと類似のものは度外視し
て、ステンレス鋼より成っている。各ウインドは少なく
とも１枚の窓ガラスを有している。

【００２２】流動層装置１はさらに、プロセスガスつま
り空気を容器３，５３を貫通して下から上にガイドする
ためのガスガイド手段８１を有している。ガスガイド手
段８１は、容器３，５３の周囲に対して開放して空気入
口８３を有している。この空気入口８３は、ガス導管８
４、遮断及び／又は調整装置８５、塵ガイド８６、ガス
処理装置８７を介して原料容器３のガス入口３３に接続
されている。ガス処理装置８７は、例えば加熱及び／又
は冷却装置及び／又は除湿装置を有している。流動層容
器３のガス出口４９は、ガス導管８９を介して後置除塵
容器５３のガス入口７３に接続されている。後置除塵容
器５３のガス出口７５は、ガス導管９１及び吸い込み装
置９２を介して、周囲に開口している空気出口９３に接
続されている。

【００２３】流動層装置１は、概略的に示した純ガス供
給手段９５を有しており、この純ガス供給手段９５は、
例えばフィルタ、コンプレッサ及び圧縮空気容器を有し
ている。純ガス供給手段９５はさらに、１つ又はそれぞ
れの圧縮ガス源に接続された遮断装置を備えている。こ
の遮断装置は例えば、容器３の近くに配置された、電気
的又は空圧式に操作可能な弁であって、この弁の出口
は、破線の矢印で示したガス導管を介して、純ガス入口
２２及び６４に接続されている。

【００２４】この装置はさらに、概略的に示された浄化
液体−供給手段９６を有している。この浄化液体−供給
手段９６は、例えば少なくとも１つのポンプ、少なくと
も１つの液体リザーバ及び遮断装置、例えば電気的又は
空圧式に操作可能な弁を有している。これらは、破線の
矢印で示された液体導管を介して、２つの容器３及び５
３内に配置された湿式浄化装置２３，２５，３５，３
９，６７及び６８に接続されている。

【００２５】各フィルタ１９，６３は、フィルタ軸線に
対してほぼ回転対称的に、摺動不能に内部の壁部部分１
７若しくは６１に固定されている。各フィルタ１９，６
３は、ほぼ堅固な形状を有するカートリッジ式フィルタ
として構成されていて、同様にほぼ堅固な形状を有す
る、フィルタ軸線に対して同軸的でほぼ円筒形の金属製
の、ガスを通す周壁を有している。この周壁は、空のフ
ィルタ内室の大部分を取り囲んでいて、少なくとも２つ
例えば３つの焼結された、種々異なる網目幅を有するワ
イヤ織原料を有している。周壁の最も外側つまり外周面
を形成するワイヤ織原料は、最小の網目幅を有してい
て、周壁の外側面において、濾過しようとするガスから
埃を除去するための濾過部材として使用される。周壁
は、折り畳まれていないので、その外周面はほぼ滑らか
である。

【００２６】内側の壁部部分１７は、図３，図４，図
８，図９に示されたプレート１１１を有している。これ
らのプレート１１１は、下部で粗ガス室２９に隣接する
面１１１ａを有していて、それぞれ第１の湿式浄化装置
２３のために、図３，図４に示された孔１１１ｃを備え
ていて、第２の湿式浄化装置２５のために、図８，図９
に示された孔１１１ｄを備えている。孔１１１ｃ，１１
１ｄは、貫通する孔より成っていて、面１１１ａから粗
ガス室２９内に開口する開口部を有している。

【００２７】第１の湿式浄化装置若しくは洗浄装置２３
のうちの１つは、図３，図４に別個に示されている。各
第１の浄化装置２３は、軸線１７１に対してほぼ回転対
称的に配置されている。軸線１７１は、当該の浄化装置
２３に配属された孔１１１ｃの軸線も形成している。各
浄化装置２３はケーシング１７３を有している。このケ
ーシング１７３は、壁部部分１７に固定されていて、粗
ガス室２９とは反対側で、この粗ガス室２９から離れる
方向に突き出していて、粗ガス室３０の自由な領域に対
して孔１１１ｃをシールしている。ケーシング１７３
は、金属製でリング状の下側のケーシング部分１７４を
有しており、このケーシング部分１７４は、壁部部分１
７のプレート１１１の孔１１１ｃのうちの１つ内に差し
込まれていて、下側でプレート１１１の面１１１ａと同
一面を成しており、上側でプレート１１１から突き出て
いてプレート１１１に気密に例えば溶接によって固定さ
れている。ケーシング部分１７４は、大部分が中空円筒
形であって、その上端部で外方に突き出る不乱図１７４
ａを有している。ケーシング１７３は、さらに上側のケ
ーシング部分１７５を有している。このケーシング部分
１７５は、円筒形の周壁と、この周壁の下端部で外方に
突き出るフランジ１７６ａとを有するスリーブ１７６を
有している。金属製のスリーブ１７６は、上端部で、こ
のスリーブ１７６に例えば溶接によって気密に結合され
た金属製の端部部材１７７によって閉鎖されている。こ
の端部部材１７７は、貫通するねじ山付き孔を有してお
り、このねじ山付き孔は、液体入口１７７ａとして使用
され、図３及び図４に示されていない、浄化液体−供給
手段９６の導管に解除可能に接続されている。

【００２８】堅固な形状のプラスチックより成る一体的
なガイド体１７９は、ケーシング１７３内に配置されて
いて、下側のケーシング部分１７４の下端部から上側の
ケーシング部分１７５の下側の終端区分まで延びてい
る。ガイド体１７９は、下側のケーシング部分１７４及
びスリーブ１７６の円筒形の内周面内にピッタリと合致
する、円筒形の外周面と、外方に向かって２つのフラン
ジ１７４ａと１７６ａとの間に突入するつば１７９ａと
を有している。ガイド体１７９は、軸線１７１に対して
同軸的な貫通する孔１７９ｂを備えている。この孔１７
９ｂは、円筒形の孔区分１７９ｃと、この孔区分１７９
ｃの下側で、円筒形の孔区分を備えた拡張部１７９ｄ
と、この拡張部１７９ｄからさらに下方に延びる、拡張
された円錐形の孔区分１７９ｅとを有している。ガイド
体１７９は、その下端部で、リング状で半径方向の平ら
な端面を有しており、この端面は、下側のケーシング部
分１７４の下端部に設けられた、プレート１１１の面１
１１ａの端面と、少なくともほぼ有利には正確に同一面
を成している（つまり少なくともほぼ同一面、有利には
正確に同一面を成している）。多数の部分の室又はブリ
ッジより成る接続部材１８１は、２つのフランジ１７４
ａ，１７６ａと取り囲んでいて、２つのケーシング部分
１７５を、つば１７９ａが２つのフランジ間で緊締さ
れ、２つのケーシング部分１７４，１７５を互いにシー
ルするように、互いに解除可能に接続する。シール１８
２は、ガイド体１７９の外側面の溝内に配置されてい
て、このガイド体１７９をその下端部付近で下側のケー
シング部分１７４に対してシールしている。

【００２９】プラスチックより成る円筒形のピストン１
８４は、スリーブ１７６内で摺動可能にガイドされてい
る。ピストン１８４は、軸線１７１に対して同軸的な貫
通する孔１８４ａを有している。この孔１８４ａは、雌
ねじ山１８４ｂを備えた区分を有している。

【００３０】一部が図５に示されている、多数の部分よ
り成る噴霧機構１８５は、軸線１７１に対して同軸的な
金属製のロッド１８６を有している。このロッド１８６
は、上端部で、雌ねじ山１８５ｂにねじ込まれた雄ねじ
山１８６ａを有している。このロッド１８６はさらに、
円筒形の区分１８６ｂを有しており、この区分１８６ｂ
は、ガイド体１７９の孔区分１７９ｃ内で小さい遊びを
保って摺動可能にガイドされている。ピストン１８５と
は反対側に向けられた、ガイド体１７９の円筒形の孔区
分１７９ｃから突き出る、ロッド１８６の短い円筒形の
終端区分１８６ｃ（特に図５に示されている）は、区分
１８６ｂの直径よりも小さい直径を有している。これら
２つの円筒形の区分１８６ｂと１８６ｃとの間には、半
径方向のショルダ面１８６ｄが設けられている。ロッド
１８６は、中空であって、軸線１７１に対して同軸的な
貫通する孔１８６ｅを有しており、該孔１８６ｅは、そ
のピストン１８５とは反対側の端部で雌ねじ山１８６ｆ
を備えている。またロッド１８６の終端区分１８６ｃ
は、軸方向の孔１８６ｅ内に半径方向で開口する少なく
とも１つの孔１８６ｇを有している。

【００３１】噴霧機構１８５はさらに、外側面１８７ａ
を備えたプラスチックより成る噴霧ヘッド１８７を有し
ている（図６及び図７参照）。この外側面１８７ａは、
下方に向かって拡張する円錐形の外周面を有している。
この円錐形の外周面は、軸線１７１に対して、ガイド体
１７９の孔１７９ｃの円錐形の区分１７９ｅと同じ角度
を有していて、その下端部で、円錐形の孔区分１７９ｅ
と少なくともほぼ同じ直径を有している。噴霧ヘッド
は、その下端部及び上端部でそれぞれ、平らな半径方向
の端面によって制限されている。噴霧ヘッド１８７は、
軸線１７１に対して同軸的な貫通する孔１８７ｂを有し
ている。この孔１８７ｂは、拡張部１８７ｄによって２
つの部分に仕切られている円筒形の区分１８７ｃを有し
ていて、下端部で拡張部１８７ｅを有している。

【００３２】噴霧ヘッド１８７は、軸線１７１を中心に
して回転可能に、ロッド１８６の終端区分１８６ｃに小
さい遊びを保って取り付けられていて、固定部材１８８
によってロッド１８６に解除可能に接続されている。固
定部材１８８は、ねじより成っていて、噴霧ヘッド１８
６の雌ねじ山１８６ｆ内にねじ込まれたねじ山付き部分
１８８ａと、噴霧ヘッド１８７の孔１８７ｂの拡張部１
８７ｅとを有している。ねじ山付き部分１８８ａは、そ
のヘッド１８８ｂとは反対側の端部でスリット１８８ｃ
を有しているので、固定部材１８８は、ロッド１８６の
上端部から孔１８６ｅ内に導入されるねじ回しによって
ロッド１８６内でねじ締め固定することができる。ヘッ
ド１８８ｂは、そのねじ山付き部分１８８ａに向いた側
で、半径方向の扁平な環状面が、ロッド１８６の端面に
当接し、ショルダ面１８６ｄと協働して、噴霧ヘッド１
８７を、最小の軸方向遊びを保ってロッド周囲で保持し
ている。ヘッド１８８ｂは、そのねじ山付き部分１８８
ａとは反対側で、完全に扁平な端面を有していて、噴霧
ヘッド１８７の下側の端面と同一面を成している。ロッ
ド１８６を取り囲む、拡張部１８７ｄの自由な領域は、
噴霧ヘッド１８７のリング状の中空室１８７ｆを形成し
ている。噴霧ヘッド１８７は、中空室１８７ｆから外側
面１８７ａに延びる少なくも１つ、有利には多数の液体
出口孔１８９，１９０を有している。この液体出口孔
は、真っ直ぐであって、拡張部１８７ｄの自由な領域か
ら種々異なる方向で外側面１８７ａに向かって延びてい
る。出口孔１８９は軸線１７１と交差し、この軸線１７
１に対して種々異なる角度を成している。出口孔１８９
はさらに、軸線１７１を取り囲んで互いにずらしてグル
ープ状に配置されている。例えば上端面に開口する２つ
の出口孔１８９と、円錐形の外周面に開口する４つの出
口孔と、下端部面に開口する２つの出口孔１８９とが設
けられている。出口孔はさらに、軸線１７１に対しては
すかけ(windschief）に延びる少なくとも１つの出口孔
１９０を有しており、この場合例えばこのような出口孔
１９０が２つ設けられていて、円錐形の外周面に位置
し、軸線１７１を中心にして１８０゜互いにずらして配
置された出口開口を有している。各出口孔１９０は、軸
線１７１と交差しない軸線を有していて、軸線１７１に
対して、（軸線１７１に対して及びその固有の軸線に対
して平行な面における投影図で見て）有利には少なくと
も７０゜から有利には大きくとも１１０゜の角度を成し
ている。一方の出口孔１９０は、例えば軸線１７１に対
して直角な面に対して、拡張部１８７ｄから５゜〜１０
゜だけ上方に傾けられていて、これに対して他方の出口
孔１９０は、拡張部１８７ｄから５゜〜１０゜下方に傾
けられている。

【００３３】ばね１９１は、ガイド体１７９とピストン
１８４との間に配置されていて、ロッド１８６を取り囲
んでいて、その端部が、ガイド体１７９若しくはピスト
ン１８４の孔１７９ｂ及び１８４ａの互いに向き合う拡
張部内に侵入している。ばね１９１は、粗ガス室２９か
ら離れて上方に向けれらた力をピストン１８４に、及び
このピストンに結合された噴霧機構１８５に加えて、噴
霧機構１８５を図９に示した非作業位置に押しやる。噴
霧機構１８５の噴霧ヘッド１８７は、この噴霧機構の非
作業位置において、噴霧ヘッド１８７の円錐形の外周面
が、ガイド体１７９の円錐形の孔区分１７９ｅに当接す
る。次いで噴霧ヘッド１８７は、その下端部が少なくと
もほぼ、有利には正確にガイド体１７９若しくはケーシ
ング１７１の下端部及びケーシング１７１及び下側の面
１１１ａと同一列を成している。

【００３４】ピストン１８４は、少なくともほぼ液密に
スリーブ１７６の内周面に当接し、ロッド１８６に少な
くともほぼ液密に結合されている。さらにまた、ガイド
体１７９の孔区分１７９ｃは、ロッド１８６のための少
なくともほぼ、例えば完全に液密な貫通ガイド部を形成
している。固定部材１８８は、ロッド１８６の、軸１７
１に対して同軸的な孔１８６ｅの下端部を少なくともあ
る程度気密に閉鎖している。また、噴霧ヘッド１８７の
円錐形の外周面は、この噴霧ヘッド１８７の非作業位置
で、ガイド体１７９の孔１７９ｂの円錐形の区分１７９
ｅに当接している。

【００３５】液体入口１７７ａは、ケーシング１７３内
で端部部材１７７とピストン１８４との間に設けられた
中空室１９３内に開口している。軸線１７１に対して同
軸的な孔１８６ｅ並びにロッド１８６の半径方向の孔１
８６ｅは共に、貫通孔１９４を形成している。この貫通
孔１９４は、ピストン１８４を貫通して、リング状の中
空室１８７ｆと接続されていて、この中空室１８７ｆを
介して液体出口孔１８９，１９０に接続されている。

【００３６】第２の湿式浄化装置若しくは洗浄装置２５
は、別個に図８に示されており、また部分的に図９に示
されている。第２の湿式浄化装置２５は、軸線２０１に
対してほぼ回転対称的である。この軸線２０１は、当該
の装置に配属された、壁部部分１７のプレート１１１の
孔１１１ｄを形成している。壁部部分１７は、プレート
１１１の各孔１１１ｄにおいて、プレート１１１の上側
に気密に固定された、つまり溶接された補強リング２０
２を有している。この補強リング２０２は、孔１１１ｄ
に整列された、円筒形の孔２０２ａと、この円筒形の孔
２０２ａの周囲に沿って分配された複数のねじ山付き孔
２０２ｂとを有している。

【００３７】第２の湿式浄化装置２５はケーシング２０
３を有しており、該ケーシング２０３は、壁部部分１７
に気密に固定されていて、粗ガス室２９とは反対側でこ
の粗ガス室２９から離れた方に突き出ている。ケーシン
グ２０３は、下側のケーシング部分２０４を有してい
る。このケーシング部分２０４は、その下端部でリング
フランジ２０５を有しており、このリングフランジ２０
５は、補強リング２０２の孔２０２ａを貫通して、プレ
ート１１１の孔１１１ｄ内に突入していて、下部で扁平
な端面を有している。この扁平な端面は、プレート１１
１の面１１１ａに少なくともほぼ、有利には正確に同一
列をなしている。リングフランジ２０５は、軸線２０１
に対して同軸的な孔２０５ａを有しており、この孔２０
５ａは、円筒形の区分と円錐形の区分２０５ｂとを有し
ている。円錐形の区分２０５ｂは、円筒形の区分から離
れる方向に拡張して、下端面に開口している。リングフ
ランジ２０５はさらに、その外周面に沿って分配された
孔２０５ｃを有していて、ねじ２０６によって補強リン
グ２０２に固定されていて、シール２０７によって補強
リング２０２に対してシールされている。下側のケーシ
ング２０４は、さらに、一般的に円筒形の２つのスリー
ブ２０８，２０９を有しており、これらの２つのスリー
ブのうちの下側のスリーブ２０８は、リングフランジ２
０５及び上側のスリーブ２０９に堅固にかつ気密に、例
えば溶接によって結合されている。

【００３８】ケーシング２０３は、互いに整列された２
つのスリーブ２１２，２１３を備えた上側のケーシング
部分２１１を有しており、２つのスリーブのうちの上側
のスリーブ２１３は、上端部で端部部材２１４によって
閉鎖されている。上側のスリーブ２１３は、その上端部
付近で液体入口２１５を備えており、該液体入口２１５
は、上側のスリーブから半径方向に突き出た、雌ねじ山
を備えた管片によって形成されていて、図８に図示され
ていない、浄化液体供給手段９６に接続されている。２
つのスリーブ２１２，２１３、端部部材２１４及び入口
２１５は、互いに堅固にかつ気密に接続つまり溶接され
ている。

【００３９】ガイド体２１９はプラスチックより成って
いて、一般的に円筒形の外周面を有している。このガイ
ド体２１９は、上側のケーシング部分２１１の下側のス
リーブ２１２の、軸線２０１に対して同軸的な孔内に挿
入されていて、下端部でつば２１９ａを有しており、該
つば２１９ａは、スリーブ２１２の前記孔の拡張部内に
突入している。ガイド体２１９はさらに、軸線２０１に
対して同軸的で、貫通する円筒形の孔２１９ｂを有して
いる。スリーブ２０９と２１２とは、その互いに向き合
った端部で、外側に突き出ていて互いに当接し合うフラ
ンジを有している。これらのフランジを取り囲む接続部
材２２１は、スリーブ２０９並びに２１２を接続し、ひ
いては２つのケーシング部分２０４，２１１を解除可能
に互いに接続し、これによってガイド体のつば２１９ａ
も、２つのスリーブ２０９と２１２との間に緊締され
る。シール２２１は、２つのスリーブ２０９，２１２を
互いに閉鎖する。プラスチックより成る円筒形のピスト
ン２２４は、上部のケーシング部分２１１内で摺動可能
にガイドされていて、軸線２０１に対して同軸的な、貫
通する孔２２４ａを有しており、該孔２２４ａは、雌ね
じ山を有する区分と、この区分の下で拡張部とを有して
いる。

【００４０】第２の湿式浄化装置２５は、噴霧機構２２
５を有しており、この噴霧機構２２５は、軸線２０１に
対して同軸的でほぼ円筒形の中空のロッド２２６を有し
ている。このロッド２２６は、上端部で雄ねじ山を備え
ており、該雄ねじ山が、ピストン２２４の孔２２４ａの
雌ねじ山にねじ込まれ、これによってロッド２２６はピ
ストンに液密に結合されている。ロッド２２６は、ガイ
ド体２１９の孔２１９ｂを貫通していて、この孔２１９
ｂ内で摺動可能にガイドされ、貫通する軸方向の孔２２
６ａを有している。ロッド２１９の下端部には、接続及
び支承部材２２７が固定されている。この接続及び支承
部材２２７内でロッド２２８は軸線２０１を中心にして
回転可能に支承されており、このロッド２２８の下部
は、接続及び支承部材２２７から突き出していて、貫通
する軸方向の孔２２８ａを有している。噴霧機構２２５
の噴霧ヘッド２２９は、ロッド２２８の下端部に気密に
堅固に結合された中空体２３０を有している。この中空
体２３０の外周面２３０ａは、大部分がほぼ球状である
が、ピストン２２４とは反対の側で、軸線２０１に対し
て直角で水平な面区分２３０ｂを有している。中空体２
３０は中空室２３０ｃを形成している。噴霧ヘッド２２
９はさらに、軸線２０１に対して同軸的でほぼ回転対称
的な平らなプレート２３１を有しており、このプレート
２３１は、中空体２３０の平らな面区分２２９ｃに当接
する平らな面を有している。プレート２３１は、中空体
とは反対側で、噴霧機構２２５全体の端面を形成する扁
平な面２３１ａと円錐形の円錐形の縁部面２３１ｂとを
有している。この縁部面２３１ｂは、軸線２０１に対し
て、円錐形の孔区分２０５ｂと同じ角度を形成してい
る。噴霧ヘッド２２９は、いくつかの真っ直ぐに延びる
液体出口孔２３２、２３３、２３４を有している。出口
孔２３２及び２３３の軸線は、軸線２０１と交差してお
り、この軸線２０１に対して種々異なる角度を形成して
いる。出口孔２３２は、中空室２３０ｃから外側面２３
０ａの球状の区分まで延びている。２つの出口孔２３２
は、中空室２３０ｃから平らな面区分２３０ｂまで延び
ていて、さらにプレート２３１を貫通して面２３１ａま
で延びている。１つの又は各出口孔２３４は、軸線２０
１に対してはすかけ(windschief)に延びていて、この場
合軸線２０１を中心にして互いにずらして、はすかけに
延びる、有利には２つの出口孔２３４が設けられてい
る。

【００４１】ガイド体２１９とピストン２２４との間に
配置されたばね２３５は、粗ガス室２９から上方に向け
られた力をピストン２４２に、及びこのピストン２４２
に結合された噴霧機構２２５に加え、この噴霧機構２２
５を、図８に示した非作業位置で保持するように働く。
液体入口２１５は、ケーシング２０３内で端部部材２１
４とピストン２２４との間に設けられた中空室２３５内
に開口している。この中空室２３５は、ピストン２２４
とロッド２２６，２２８と接続及び支承部材２２７とを
貫通して延びる貫通孔２３６によって中空室２３０ｃに
接続されていて、この中空室２３０ｃを介して噴霧ヘッ
ド２２９の出口孔２３２，２３３，２３４に接続されて
いる。

【００４２】プレート１１１の孔１１１ｄ内に突入する
ケーシング２０３は、この孔１１１ｄを、純ガス室３０
の自由な領域に対して気密に覆っている。噴霧機構２２
５が、図８に示した非作業位置にあると、噴霧機構２２
９のプレート２３１は、リングフランジ２０５の孔２０
５ａの円錐形の孔区分２０５ｂを閉鎖し、これによって
ケーシング２０３の内室を粗ガス室２９に対して所定の
程度だけ気密にシールする。この場合、噴霧ヘッド２２
９の中空室２３０ｃは、まだ液体出口孔２３３によって
粗ガス室２９に接続維持されている。噴霧ヘッド２２９
と噴霧機構２２５全体の端面とを形成する、プレート２
３１の面２３１ａは、噴霧機構２２５の非作業位置で、
ケーシング２０２のリングフランジ２０５の下側の端面
に対して、並びに粗ガス室２９に隣接する、プレート１
１１の面１１１ａに対して、少なくともほぼ、有利には
正確に同一面を成している。

【００４３】第２の湿式浄化装置２５は、第１の湿式浄
化装置２３よりも大きい外側寸法を有している。第２の
湿式浄化装置２５の中空体２３０の直径は、第１の湿式
浄化装置の噴霧ヘッド１８７の直径よりも、例えば少な
くとも又はほぼ５０％大きい。洗浄液体−供給手段９６
が、湿式浄化装置２３，２５に、さらに後述する浄化を
行う際に、同じ圧力を有する浄化液体を供給する場合、
第２の湿式浄化装置２５の噴霧率は、第１の湿式浄化装
置２３の噴霧率よりも、例えば２倍〜５倍大きい。

【００４４】湿式浄化装置２５若しくは３９のケーシン
グ３６，４０は、壁部５のほぼ外側に配置されていて、
外部に対して気密に閉鎖されたケーシング内室を有して
いる。噴霧機構３７及び４１は、ケーシング３６若しく
は４０内にほぼ水平方向に摺動可能にガイドされてい
て、選択的に非作業位置に又は浄化位置にもたらされ
る。非作業位置において、噴霧機構は容器内室２７のほ
ぼ外側でケーシング３６若しくは４０内に位置してい
る。ケーシング３６若しくは４０の内室は、例えば噴霧
機構３７，４１及び／又は付加的な閉鎖部材によって、
壁部５の内周面とほぼ同一面を成して容器−内室２７に
対して閉鎖されている。各噴霧機構３７，４１は非作業
位置では、少なくとも部分的にガス分配室２８内若しく
は流動−粗ガス室２９内に位置している。

【００４５】ケーシング３６，４０は、浄化液体のため
の液体入口を有している。各湿式浄化装置３５，３９
は、例えば湿式浄化装置２３，２５と同様にばねを有し
ていて、次のように構成されている。つまり、噴霧機構
３７若しくは４１がもっぱらその非作業位置から、圧力
下にある浄化液体を供給する際に、ばねによって生ぜし
められた戻し力に抗して浄化位置に摺動せしめられるよ
うに構成されている。次いで、噴霧機構３５若しくは４
７は、浄化液体の供給が終了して、噴霧機構がばねによ
って非作業位置に押し戻されるまで、浄化位置に留まっ
ている。

【００４６】噴霧機構３７及び４１の噴霧ノズル若しく
は出口開口は、この噴霧機構３７及び４１の浄化位置に
おいて例えばほぼ容器軸線４が延びる位置に配置されて
いる。噴霧機構３７，４１は、この噴霧機構に供給され
た液体を例えば、かなり大きい立体角度に亙って延びる
室内に噴霧する。下側の噴霧機構３７の複数若しくは単
数の噴霧ノズル若しくは出口開口は、上方に向けられて
いる。噴霧機構４１の、複数若しくは少なくとも１つの
噴霧ノズル若しくは下方に向けられている。

【００４７】後置除塵装置５１の湿式浄化装置６７，６
８は、例えば原料容器３内に配置された湿式浄化装置２
３，２５と同様に形成されている。

【００４８】内側の壁部部分１７及び６１は、図１で
は、簡略化のために扁平及び水平に示されているが、実
際には、有利には中央に向かって少なくとも部分的に上
方にやや湾曲されていて、さらに一般にやや傾斜されて
いるので、内側の壁部部分の縁部によって規定された面
が、水平に対して例えば約２゜又は場合によっては５゜
までの角度を形成しており、内側の壁部部分１７，６１
の最も深い位置は、液体出口４８若しくは７８に位置し
ている。内側の壁部部分１７の主要部分を形成するプレ
ート１１１と、内側の壁部部分６１の対応するプレート
とは、それに応じて少なくとも所々やや湾曲されてい
て、やや傾斜されている。それにも拘わらず、フィルタ
１９，６３のフィルタ軸線は、すべて鉛直方向で容器軸
線４若しくは５４に対して平行に延びている。湿式浄化
装置２３若しくは２５の軸線１７１及び２０１は、プレ
ート１１１のそれぞれ湿式浄化装置を支持する区分に対
して垂直である。少なくとも所々で湾曲されたプレート
１１１の曲率半径は、孔１１１ｃ，１１１ｄの、それぞ
れ面１１１ａに存在する縁部が、まだ少なくともほぼ１
つの面内に位置していて、少なくともこの面をほぼ規定
する程度の大きさである。噴霧機構１８５，２２５の非
作業位置において粗ガス室２９に向けられ、この粗ガス
室に隣接する、噴霧機構の平らな面は、孔１１１ｃ，１
１１ｄの縁部によって規定された面内に位置している。
粗ガス室３０，７１に隣接する、ガス及び湿式浄化装置
の部分の上側に位置する面は、例えば少なくとも部分的
に、外方に下方に向かってわずかに例えば約２゜円錐形
に傾斜されている。湿式浄化装置においては、フィルタ
の周壁を貫通して、前記ガス及び湿式浄化装置の部分の
上側に位置する面及び、内側の壁部部分１７，６１の上
側の面に達する浄化液体は、液体出口４８，７８を通っ
て迅速に導出される。

【００４９】以下に、流動層装置１の駆動について説明
する。

【００５０】運転開始時においては、まず、例えば薬品
を製造する際に使用される、粒子状の原料９９を例え
ば、図示していない、閉鎖可能な原料入口を通して流動
−及び粗ガス室２９内に装入する。

【００５１】以上述べた、粒子状の原料９９を処理する
ための装置の“通常”運転において、濾過器底部１３
が、図１に示した通常の水平な運転位置に位置してい
る。さらにまた、湿式浄化装置２３，２５，３５，３９
の噴霧機構３７，４１，１８５，２２５は、粗ガス室２
９の外側の非作業位置に存在している。後置除塵装置５
１の湿式浄化装置６７，６８は、同様の状態にある。流
動層装置容器３の原料出口と、後置除塵装置−容器５３
の出口７４とは閉鎖されている。

【００５２】粒子状の原料９９が容器３内に供給される
と、ガスガイド手段８１によってプロセスガスが、原料
及び流動層容器３並びに後置除塵容器５３を通じてガイ
ドされる。この際に、プロセスガスとして使用される空
気が吸い込み装置９２によって、外部からガス導管の空
気入口８３内に吸い込まれ、塵フィルタ８６によって濾
過され、ガス処理装置８７によって処理される。次いで
空気はガス入口８７を通って容器３のガス分配室２８内
に流入し、このガス分配室２８内で、濾過器底部１３及
び流動層−粗ガス室２９を通って上方に流れ、この際
に、粒子状の原料９９を流動させる。次いでこの原料９
９は流動層を形成し、処理される。この際に、例えばま
ず流動時間中の一部において噴霧装置４４によって、液
体が原料の粒子に噴霧され、これらの粒子を大きい粒子
の塊にするか及び／又は粒子に被覆が施される。次い
で、原料９９が、噴霧なしでさらに流動され乾燥され
る。また原料を前もって噴霧する必要なしに乾燥させる
こともできる。

【００５３】プロセスガスを形成する、流動層によって
上方のフィルタ１９に供給される空気は、一般的に塵、
例えば粒子状の原料の摩耗原料及び場合によっては固形
物の粒子を含有しており、これらの塵は噴霧された液体
によって取り除かれるか又は分散させることができる。
次いで空気はフィルタ１９の周壁を通ってフィルタ内室
内に流入する。

【００５４】フィルタの通常運転時において、閉鎖装置
２１は、吸い込み装置９３によって容器３を通って吸い
込まれた空気によって、次のような状態にもたらされ
る。つまり、空気が種々異なるフィルタ１９のフィルタ
内室から閉鎖装置２１の通路を通って、すべてのフィル
タ１９のために共通の純ガス室３０内に達し、この純ガ
ス室３０からガス導管８９を通って後置除塵装置５１の
粗ガス室７０内に流入することができるような状態にも
たらされる。次いで、空気はフィルタ６３の周壁を通っ
て、このフィルタ内に設けられたフィルタ内室内に流入
し、このフィルタ内室から、後置除塵装置の純ガス室７
１内に達し、この純ガス室７１から吸い込み装置９２を
介して周囲に達する。空気は、フィルタ１９の周壁を貫
流する際に濾過され、この際に空気内に含有された塵
が、周壁の外側に存在する濾過部材で分離される。

【００５５】フィルタ１９及び６３によって空気から分
離され、周壁１２１の外側面に付着した塵は、フィルタ
の貫通流過速度を低下させる。従ってフィルタ１９，６
３は、原料９９の流動中に交互に個別に又はグループ毎
に純ガスによって浄化される。このような形式の浄化作
業のために、純ガス供給手段９５が、１つ又は複数の浄
化しようとするフィルタの純ガス入口２２，６２に純ガ
スを供給する。純ガス供給手段９５は、例えば純ガスパ
ルスの連続を生ぜしめ、種々異なるフィルタに周期的に
純ガスパルス供給する。純ガスは例えば空気より成って
いて、この空気は、周囲から吸い込まれ、濾過されて純
ガス供給手段９５のコンプレッサによって圧縮され、従
って圧力は、周囲の空気圧よりも高く、また粗ガス室２
９若しくは７０内で周囲の空気圧よりも一般的にやや低
い圧力よりも高い。純ガス供給手段９５が、ガス浄化装
置２１若しくは６４の純ガス入口２２及び／又は６６
に、純ガスとして使用される圧縮空気を供給すると、こ
の圧縮空気は、当該のガス浄化装置の閉鎖装置２１若し
くは６５を次のように状態にもたらす。つまり、閉鎖装
置が、所属のフィルタのフィルタ内室を純ガス室３０若
しくは７１に対して閉鎖するような状態にもたらす。従
って純ガスをフィルタに供給する間は、粗ガス室から当
該のフィルタ内にプロセスガスがまったく流入しないか
又は少なくとも事実上殆ど流入しない。純ガスとして供
給された圧縮空気は、次いで、閉鎖装置の通路を通って
フィルタ内室内に流入し、また当該のフィルタの、ガス
を通過させる周壁を通って粗ガス室２９若しくは７０内
に流入する。この際に、純ガスとして使用される圧縮ガ
スは、フィルタの周壁に付着する塵を事実上完全にフィ
ルタから取り除いて粗ガス室内に吹き落とす。純ガスと
して使用される圧縮空気がまったく供給されないフィル
タ１９は、フィルタの浄化中にプロセスガスを濾過す
る。

【００５６】湿式浄化装置２３及び２５の噴霧機構１８
５及び２２５は、装置１の通常運転中に、前述のよう
に、図３及び図８に示した非作業位置にある。この非作
業位置において、粗ガス室２９に隣接する、純ガス装置
２３及び２５の部分は、少なくともほぼ、プレート１１
１の面１１１ａと同一面を成している。次いで、ケーシ
ング１７３及び２０３、ガイド体１７９、湿式浄化装置
２３若しくは２５の摺動可能な噴霧機構１８５，２２５
は、一緒に、プレート１１１の孔１１１ｃ及び１１１ｄ
を次のような形式で閉鎖する。つまり、壁部部分１７が
湿式浄化装置２３，２５と一緒に、粗ガス室２９に隣接
する、やや凹状及び／又は扁平でほぼ滑らかな、浄化液
体出口孔２３３以外には孔が設けられていない面を形成
するような形式で、孔１１１ｃ及び１１１ｄを閉鎖す
る。従って湿式浄化装置２３及び２５は、粗ガス室２９
内に存在するか又は粗ガス室２９に隣接する角縁部、凹
部、溝及びその他の、塵及びその他の不純物が堆積する
可能性のあるデッドスペースを形成することはない。こ
れと同様のことは、湿式浄化装置３５及び３９について
もあてはまる。ウインド４５，４６，４７，７７は、こ
れらに結合された、壁部５若しくは５５の区分が同様
に、塵又はその他の不純物が堆積する可能性のある、角
縁部、凹部又は溝及び特にギャップ又は割れ目等を形成
することはない。

【００５７】粒子状の原料９９を装入する処理が終了す
ると、吸い込み装置９２はスイッチオフされ、プロセス
ガスの供給は終了し、原料９９は流動層容器３から取り
出される。通常運転が終了し、原料容器３の排出作業が
終了すると、ガス分配室２８特に流動−及び粗ガス室２
９に隣接する、壁部５の内周面、フィルタ１９、濾過器
底部１３、原料容器３のウインド４５，４６，４７の内
周面は、湿式浄化にさらされるか若しくは洗浄される。
さらにまた、粗ガス室７０に隣接する、壁部５５の内周
面並びにウインド７７及び後置除塵装置５１のフィルタ
６３は、湿式浄化にさらされる。浄化液体供給媒体９６
は、選択的に種々異なる湿式浄化装置２３，２５，３
５，３９，６７，６８に浄化液体を供給することができ
る。この浄化液体は、圧力が例えば２００ｋＰａから６
００ｋＰａまで、温度が０℃以上例えば２０℃から１０
０℃まで場合によっては１５０℃までである。１つの湿
式浄化においては、フィルタ及び壁部が例えばまず冷た
い水で前洗浄され、次いで、洗剤又はその他の洗浄手段
を含有する熱い水で洗浄され、最後に純水化された水に
よって後洗浄される。フィルタ１９及びその他の、容器
３内に存在する部分を湿式浄化するために、例えば各浄
化段階中に、それぞれまず浄化装置２３によって、次い
で別の浄化装置２５によって、最後にさらに別の浄化装
置３９，３５によって浄化液体が噴霧される。

【００５８】第１の湿式浄化装置２３の噴霧機構１８５
が、図３に示した非作業位置に存在し、浄化液体供給手
段９６が浄化装置２３の液体入口１７７ａに浄化液体を
供給すると仮定すると、浄化液体はケーシング１７３の
中空室１９３内に流入し、ピストン１８４を、ばね１９
１によって生ぜしめられた力に抗して下方に、粗ガス室
２９に向かって、図４に示した位置に押しやる。この位
置で、ピストンはガイド体１７９に当接する。ピストン
１８４は噴霧機構１８５をその、図４に示した浄化若し
くは噴霧位置に押しやる。ロッド１８６及び噴霧ヘッド
１８７の一部は、この摺動運動によってケーシング１７
４から及びプレート１１１の孔１１１ｃから突き出され
て粗ガス室２９内に達する。噴霧装置１８５及び、噴霧
機構１８５の摺動経路は、フィルタの軸方向寸法よりも
著しく小さい。噴霧ヘッド１８７は、フィルタ１９の上
終端区分の高さ領域で浄化位置に位置している。図１０
に矢印で示されているように、湿式浄化装置２３に供給
された浄化液体は、中空ヘッド１８７の中空室１８７ｆ
内に流入し、次いで液体出口孔１８９，１９０を通って
種々異なる方向で、噴霧ヘッド１８５から、粗ガス室の
自由領域内に噴霧される。出口孔１９０を通じて噴霧さ
れた浄化液体は押しずらし力を生ぜしめる。この押しず
らし力は、軸線１７１の関連して作用する噴霧ヘッド１
８７に作用するトルクを生ぜしめるので、噴霧ヘッド１
８７は、軸線１７１及びロッド１８６を中心にして回転
せしめられ、各出口孔１８９，１９０は、円形軌道に沿
って軸線１７１を中心にして移動せしめられる。

【００５９】第２の湿式浄化装置２５の噴霧機構２２５
が、図８に示した非作業位置に位置して、この第２の湿
式浄化装置２５の液体入口２１５に、圧力下にある浄化
液体が供給されると、この浄化液体は中空室２３７内に
流入して、ピストン２２４を、ばね２３５のばね力に抗
して生ぜしめられた力に抗して、ピストンガイド体２１
９に当接する位置に押しずらす。この時にピストン２２
４は噴霧機構２２５を、図９に示した浄化位置若しくは
噴霧位置に押しやり、この際に、噴霧機構２２５の一部
特に噴霧ヘッド２２９は、ケーシング２０３から及びプ
レート１１１の孔１１１ｄから出て粗ガス室２９内に押
しやられる。次いで噴霧ヘッド２２９は、フィルタ１９
の高さ領域内で、このフィルタの上端部付近に位置す
る。

【００６０】第２の湿式浄化装置２５に供給された浄化
液体は、中空室２３７から貫通孔２３８を通って噴霧ヘ
ッド２２９の中空室２３０ｃ内に流入し、次いで液体出
口孔２３２，２３３，２３４を通って粗ガス室２９内に
噴霧される。この時に出口孔２３４から流れ出た液体
は、噴霧ヘッド２２９を回転させる押しずらし力を生ぜ
しめる。

【００６１】少なくとも１つの湿式浄化装置２３又は２
５が浄化液体を噴霧すると、この噴霧液体の一部は、当
該の浄化装置２３又は２５の近くに存在するフィルタ１
９の周面にぶつかる。フィルタを噴霧洗浄する際に、浄
化液体は、中空のフィルタ内室内にも達する。フィルタ
に外部から、浄化液体が噴霧されると、フィルタには、
ガス浄化装置を介して周期的に交互に純ガスパルスが供
給されるので、フィルタは湿式浄化中にパルス形式でガ
スによって吹き付けされる。噴霧の際にフィルタ内室内
に達する浄化液体は、次いで、純ガスを通ってフィルタ
から吹き出されるか及び／又は重力に基づいて周壁の端
部を貫流して再びフィルタから流れ出る。フィルタに浄
化液体を噴霧するために瞬間的に使用された湿式浄化装
置２３，２５は、浄化液体を上方に向かって壁部部分１
７にも噴霧し、（当該の浄化装置の長さに関連して）壁
部部分８，９にも並びに円錐形の壁部部分７及び濾過器
底部１３に向かっても噴霧する。

【００６２】湿式浄化装置２３又は２５への浄化液体の
供給が終了すると、ばね１９１若しくは２３５は、噴霧
機構１８５若しくは２２５を再び非作業位置に押し戻
す。またフィルタへの噴霧が終了すると、フィルタは、
尚所定の時間中だけ、断続的に又は連続的に純ガスによ
って吹き付けられる。

【００６３】浄化液体供給手段９６が湿式浄化装置３５
及び３９に浄化液体を供給すると、噴霧機構３７及び４
１は、容器内室２７内に摺動し、浄化液体を濾過器底部
１３に向かって、及び濾過器底部の付近に存在する、壁
部５の内周面区分例えば壁部部分６，７，８に向かって
噴霧する。装置２３，２５，３５，３９によって浄化液
体を噴霧する際に、浄化液体はウインド４５，４６，４
７の内側面及び噴霧機構４４にも噴霧される。しかも、
噴霧時にフィルタ又は壁部部分にぶつかる浄化液体は、
容器内で下方に流れるので、浄化装置２３，２５，３
５，３９は、粗ガス室２９に隣接する、フィルタの全面
と、流動−及び粗ガス室２９並びにガス分配室２８に隣
接する、壁部５の全面とを浄化することができる。フィ
ルタ１９及び濾過器底部１３を浄化する際に噴霧される
液体は、例えば原料出口３４を通って、又は付加的な出
口を通って容器３から導出され得る。フィルタ１９に噴
霧液体を噴霧する際に、場合によっては少量の浄化液体
も、フィルタの周壁を通過して純ガス室３０内に達す
る。これらの液体は、液体出口４８を前もって開放して
おくことによって、純ガス室から導出することができ
る。湿式浄化後に、フィルタを乾燥させるために、及び
その他の前もって浄化液体によって噴霧された部分に、
ガスガイド手段８１によって、熱い乾燥した空気又はそ
の他のガスが、通常運転時と同様に、プロセスガスが容
器及びフィルタを通過してガイドされる。

【００６４】後置除塵装置５１のフィルタ６３及び、こ
の後置除塵装置５１に隣接する、後置除塵装置容器５３
のウインド７７及び壁部５５の内側面は、後置除塵装置
の湿式浄化装置によって、流動層容器内のフィルタ及び
流動層容器の壁部内周面と同様に浄化される。

【００６５】フィルタ１９及び６３の周壁１２１は、波
状部又は折り畳み部を備えていない、円形横断面を有す
る円筒形の外側面を有していて、流動層装置の通常運転
時にフィルタの周壁の外側面に埃が堆積するように構成
されているので、浄化時にフィルタは、浄化液体によっ
て全体的に良好に浄化される。従ってフィルタは、湿式
浄化時に、一般的に塵及びその他のすべての、フィルタ
に付着する不純物を完全に取り除くことができる。さら
にまた、プロセスガスを除塵及び濾過するためのフィル
タを使用する際に、及びフィルタを浄化する際に、フィ
ルタ１９，６３をブリッジする接続が、粗ガス室２９若
しくは７０と純ガス室３０若しくは７１との間に生じる
ことはない。従って湿式浄化時には、粗ガス室と純ガス
室との相互の混合は事実上不可能である。それに応じ
て、流動−及び粗ガス室２９から生じる、プロセスガス
の固形物が周囲に運び出されることもない。

【００６６】湿式浄化装置２３，２５，６７は流動層装
置の通常運転時に、粗ガス室２９若しくは７０に隣接す
る、容器部分若しくは壁部部分１７若しくは６１の面と
同一面を成しているので、フィルタの近辺周囲も良好に
クリーンに維持される。通常運転時には必要であれば、
プレート２３１を貫通する２つの液体出口孔２３３を介
して、容器３及び５３内に存在する、第２の湿式浄化装
置２５若しくは６８に達する不純物は、浄化液体を噴霧
する際に、前記孔２３３を通って再び噴霧によって取り
出される。

【００６７】濾過器底部１３及びフィルタ１９若しくは
６３は、これらを有する容器内で次のような形式で良好
に浄化される。つまり、処理しようとする粒子状の原料
の交換時においても及び、製造された製品の交換時にお
いても、濾過器底部及びフィルタを取り外し、容器の外
側を浄化する必要はない。これは、濾過器底部、フィル
タ、及び粗ガス室に隣接する、容器壁部の面を完全に自
動的につまり作業員の協力なしで浄化することを可能に
する。これによって、人間的な影響（例えば浄化作業を
行う際に作業員の注意深さが不十分である場合における
ような）が、製造された製品の品質に不都合な影響を与
えることが避けられる。しかも浄化作業の自動化によっ
てコストが節約される。

【００６８】フィルタの数及び、フィルタを浄化するた
めに使用される湿式浄化装置の数は、図２に示した配置
におけるよりも少なくても多くてもよい。しかしながら
原料容器は、有利には少なくとも２つのフィルタを有し
ている。これに対して後置除塵装置容器は、可能な限り
１つのフィルタだけを有している。フィルタを浄化しよ
うとする湿式浄化装置の数及び配置は、フィルタの数及
び配置に基づいて変えることができる。この場合、有利
には各フィルタに少なくとも２つ、有利には３つの、フ
ィルタを取り囲んで配置された湿式浄化装置が設けられ
ている。図１０に示した、内側の容器部分若しくは壁部
部分２８１は、例えば７つのフィルタ２８２を有してお
り、これらのフィルタ２８２のうちの１つは、容器軸線
と合致する軸線を有していて、残りのフィルタは容器軸
線の周囲に分配して配置されている。さらに外側と内側
とにそれぞれ６つの同様の湿式浄化装置２８３がサーク
ル状に配置されている。

【００６９】図１１には、内側の容器部分若しくは壁部
部分２９１が図示されていて、１４個のフィルタ２９２
と、１９個の同様の湿式浄化装置２９３とが固定されて
いる。

【００７０】容器部分若しくは壁部部分２８１及び２９
１は、例えば、原料容器又は後置除塵装置容器の仕切壁
を形成している。湿式浄化装置２８３及び湿式浄化装置
２９３は、例えば第１の湿式浄化装置２３又は第２の湿
式浄化装置２５と同様に構成されている。

【００７１】本発明による装置及びその駆動は、別の点
を考慮して変えることができる。例えば内側の容器部分
若しくは壁部部分１７及び２５１においては、プレート
１１１が充分に厚く構成されていれば、補強リング２０
２場合によっては省くことができる。さらにまた、場合
によってはフィルタを１つだけ容器内に配置してもよ
い。

【００７２】また、１つ又は複数のフィルタ、各フィル
タに配属されたガス浄化装置、湿式浄化装置を、容器内
に存在する壁部部分の代わりに、容器の外壁に所属する
壁部分例えば容器の蓋−壁部部分に固定してもよい。

【００７３】また、プロセスガス及び又は純ガスとし
て、空気の代わりに別のガス例えば窒素を使用してもよ
い。

【００７４】本発明による装置の詳細、特にフィルタ及
びガス浄化装置の構成、濾過器底部の構成並びにシー
ル、ウインドの構成に関しては、スイス国特許出願第３
７０７／９５号明細書、同第３７０８／９５号明細書並
びに同第３７０９／９５号明細書の優先権を主張して提
出された特許出願明細書を参照されたい。

【図面の簡単な説明】

【図１】粒子状の原料を処理するための流動層装置の、
原料容器及び後置除塵容器の概略的な鉛直断面図であ
る。

【図２】図１のII−II線に沿った断面図である。

【図３】原料容器内に配置された、非作業位置にある噴
霧機構を備えた第１の湿式浄化装置の拡大した軸方向断
面図である。

【図４】浄化位置にスライドされている状態の噴霧機構
を有する第１の湿式浄化装置の軸方向断面図である。

【図５】浄化機構の一部の、図３及び図４に対して拡大
した軸方向断面図である。

【図６】図３〜図５において上側に位置する、噴霧機構
の噴霧ヘッドの端部の平面図である。

【図７】図６のVII−VII線に沿った、噴霧機構の軸方向
断面図である。

【図８】原料容器内に配置された第２の湿式浄化装置
の、図１及び図２に対して拡大した軸方向断面図であっ
て、この場合噴霧機構は非作業位置にある。

【図９】浄化位置に突き出されている噴霧機構を備えた
第２の湿式浄化装置の下部の軸方向断面図である。

【図１０】７つのフィルタを備えた、容器の内側の壁部
部分を下側から見た図である。

【図１１】１４個のフィルタを備えた壁部部分を下側か
ら見た図である。

【符号の説明】

１ 流動層装置、 ３ 製品及び流動層容器、 ４ 容
器軸線、 ５ 壁部、６ 底部−壁部部分、 ７ 下側
の円錐形の壁部部分、 ８ 上側の円錐形の壁部部分、
９ 円筒形の壁部部分、 １０ カバー壁部部分、
１３ 濾過器底部、 １７ 内側の壁部部分、 １９
フィルタ、 ２０ ガス浄化装置、２１ 閉鎖装置、
２２ 浄化ガス入口、 ２３ 湿式浄化装置、 ２５
湿式浄化装置、 ２７ 内径、 ２８ ガス分配室、
２９ 粗ガス室、 ３０ 浄化室、 ３３ ガス入口、
３４ 原料出口、 ３５，３９ 湿式浄化装置若しく
は洗浄装置、 ３６ ケーシング、 ３７ 噴霧機構、
４０ ケーシング、４１ 噴霧機構、 ４３ 噴霧装
置、 ４５，４６，４７ ウインド、 ４８液体出口、
４９ ガス出口、 ５１ 後置除塵装置、 ５３ 後
置除塵装置−容器、 ５５ 壁部、 ５６ 底部−壁部
部分、 ５７ 円筒形の壁部部分、５８ 蓋−壁部部
分、 ６１ 内側の容器部分若しくは壁部部分、 ６３
フィルタ、 ６４ ガス浄化装置、６５ 接続装置、
浄化ガス入口、 ６７ 第１の湿式浄化装置若しくは
洗浄装置、 ６８ 第２の湿式浄化装置若しくは洗浄装
置、 ６９ 内室、 ７０ 粗ガス室、 ７１ 浄化ガ
ス室、 ７３ ガス入口、 ７４ 出口、 ７５ ガス
出口、 ７７ ウインド、 ７８ 液体出口、８１ ガ
スガイド手段、 ８３ 空気入口、 ８４ ガス導管、
８５ しゃ断及び／又は調整装置、 ８６ 塵ガイ
ド、 ８７ ガス処理装置、 ８９，９１ ガス導管、
９２ 吸込み装置、 ９３ 空気出口、 ９５ 純ガ
ス−供給手段、 ９６ 浄化液体−供給手段、 ９９
原料、 １１１ プレート、 １１１ａ 面、 １１１
ｃ，１１１ｄ 孔、 １２１ 周壁、 １７１ 軸線、
１７３，１７４ ケーシング部分、 １７４ａ フラン
ジ、 １７５ 上側のケーシング部分、 １７６ スリ
ーブ、 １７６ａ フランジ、 １７７ 端部部材、
１７７ａ 液体入口、 １７９ ガイド体、 １７９ａ
つば、 １７９ｂ 孔、 １７９ｃ 孔区分、 １７
９ｄ 拡張部、 １７９ｅ 円錐形の孔区分、 １８１
接続部材、 １８２ シール、 １８４ 孔、 １８
４ｂ 雌ねじ山、 １８５ 噴霧機構、 １８５ｂ 雌
ねじ山、 １８６ ロッド、 １８６ａ 雄ねじ山、
１８６ｃ 終端区分、 １８６ｄ ショルダ面、 １８
６ｅ軸方向孔、 １８６ｆ 雌ねじ山、 １８６ｇ
孔、 １８７ 噴霧ヘッド、１８７ａ 外側面、 １８
７ｂ 同軸孔、 １８７ｃ 円筒形の区分、 １８７ｄ
拡張部、 １８７ｅ 軸方向孔、 １８７ｆ 中空
室、 １８８ 固定部材、 １８８ａ ねじ山付き部
分、 １８８ｂ ヘッド、 １８８ｃ スリット、 １
８９，１９０ 液体出口孔、 １９１ ばね、 １９３
中空室、 １９４ 貫通孔、 ２０１ 軸線、 ２０
２ 補強リング、 ２０２ａ 孔、 ２０２ｂ ねじ山
付き孔、 ２０３ ケーシング、 ２０４ ケーシング
部分、 ２０５ リングフランジ、 ２０５ｂ 円錐形
孔区分、 ２０５ｃ 補強リング、２０６ ねじ、 ２
０７ シール、 ２０８ 下側のスリーブ、 ２０９
上側のスリーブ、 ２１１ 上側のケーシング部分、
２１２，２１３ スリーブ、 ２１４ 終端区分、 ２
１５ 液体入口、 ２１９ ガイドヘッド、 ２１９ａ
つば、 ２１９ｂ 孔、 ２２１ シール、 ２２４
ピストン、 ２２４ａ 孔、 ２２５ 噴霧機構、
２２６ ロッド、 ２２７ 接続及び支承部材、 ２２
８ ロッド、 ２２９ 噴霧ヘッド、 ２３０ 中空
体、 ２３０ａ外側面、 ２３０ｂ 面区分、 ２３１
プレート、 ２３２，２３３，２３４ 出口孔、 ２
３５ ばね、 ２３６ 貫通孔、 ２８３ 湿式浄化装
置、２９１ 内側の容器若しくは壁部部分、 ２９３
湿式浄化装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マッティアス トンダー ドイツ連邦共和国 ハウゼン イム ヴィ ーゼンタール バーンホーフシュトラーセ 10

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ガスを除塵するための装置、特に例えば
   薬品を製造するために使用される粒子状の原料（９９）
   を流通してガイドされるガスを除塵するための装置であ
   って、粗ガス室（２９，７０）を取り囲む少なくとも１
   つの容器（３，５３）を有しており、粗ガス室（２９，
   ７０）に隣接する壁部部分（１７，６１，２８１，２９
   １）が、粗ガス室（２９，７０）内に突入する少なくと
   も１つのフィルタ（１９，６３，２８２，２９２）と、
   液体を少なくとも１つのフィルタ（１９，６３，２８
   ２，２９２）の外側面に向けて噴霧するための少なくと
   も１つの噴霧機構（１８５，２２５）を保持している形
   式のものにおいて、 前記壁部部分（１７，６１，２８１，２９１）が、この
   壁部部分によって保持された１つの又はそれぞれの噴霧
   機構（１８５，２２５）のための、粗ガス室（２９，７
   ０）内に開口する開口部を備えた孔（１１１ｃ，１１１
   ｄ）を有しており、噴霧機構（１８５，２２５）が、前
   記孔（１１１ｃ，１１１ｄ）の開口部の、粗ガス室（２
   ９，７０）とはほぼ反対側に位置する非作業位置から、
   粗ガス室（２９，７０）内に摺動可能であることを特徴
   とする、ガスを除塵するための装置。
2. 【請求項２】 １つ若しくはそれぞれの噴霧機構（１８
   ５，２２５）が、非作業位置で、粗ガス室（２９，７
   ０，２６９）に隣接する、壁部分（１７，６１，２８
   １，２９１）の面（１１１ａ）と少なくともほぼ同一面
   を形成している、請求項１記載の装置。
3. 【請求項３】 １つ若しくはそれぞれのフィルタ（１
   ９，６３，２８２，２９２）が、壁部部分（１７，６
   １，２８１，２９１）に摺動不能に固定されている、請
   求項１又は２記載の装置。
4. 【請求項４】 １つ若しくはそれぞれの噴霧機構（１８
   ５，２２５）のためにケーシング（１７３，２０３）が
   壁部部分（１７，６１，２８１，２９１）に固定されて
   おり、ケーシング（１７３，２０３）が、粗ガス室（２
   ９，７０）とは反対側で、壁部部分（１７，６１，２８
   １，２９１）から突き出していて、孔（１１１ｃ，１１
   １ｄ）を、壁部部分（１７，６１，２８１，２９１）
   の、粗ガス室（２９，７０）とは反対側に隣接する室
   （３０，７１）に対して閉鎖している、請求項１から３
   までのいづれか１項記載の装置。
5. 【請求項５】 ピストン（１８４，２２４）がケーシン
   グ（１７３，２０３）内で摺動可能にガイドされてい
   て、噴霧機構（１８５，２２５）に結合されており、液
   体入口（１７７ａ，２１５）がケーシング（１７３，２
   ０３）内で、ピストン（１８４，２２４）の、粗ガス室
   （２９，７０）とは反対側に設けられた中空室（１９
   ３，２３７）内に開口しており、ピストン（１８４，２
   ２４）が、中空室（１９３，２３７）を、噴霧機構（１
   ８５，２２５）の少なくとも１つの液体出口孔（１８
   ９，１９０，２３２，２３３，２３４）に接続する貫通
   孔（１９４，２３８）を有しており、粗ガス室（２９，
   ７０）とは反対方向に向けられた力をピストン（１８
   ４，２２４）に加えるばね（１９１，２３５）が設けら
   れている、請求項４記載の装置。
6. 【請求項６】 １つ若しくはそれぞれの噴霧機構（１８
   ５，２２５）が、軸線（１７１，２０１）を中心にして
   回転可能な、液体出口孔（１８９，１９０，２３２，２
   ３３，２３４）を備えた噴霧ヘッド（１８７，２２９）
   を有しており、前記液体出口孔が、軸方向の投影図で見
   て軸線（１７１，２０１）に対して種々異なる角度を形
   成しており、少なくとも１つの液体出口孔（１９０，２
   ３４）が配置されていて、噴霧ヘッド（１８７，２２
   ９）が、液体を噴霧する際に、この液体によって生ぜし
   められたスラスト力によって回転せしめられるようにな
   っている、請求項１から５までのいづれか１項記載の装
   置。
7. 【請求項７】 壁部部分（１７，６１，２８１，２９
   １）が、粗ガス室（２９，７０，３１９）に隣接する面
   （１１１ａ）を有していて、粗ガス室（２９，７０）
   を、容器（３，５３）内で壁部部分（１７，６１，２８
   １，２９１）の上側に位置する純ガス室（３０，７１）
   に対して仕切っており、多数のフィルタ（１９，６３，
   ２８２，２９２）及び噴霧機構（１８５，２２５）が、
   前記壁部部分（１７，６１，２８１，２９１）で保持さ
   れていて、これらのフィルタ及び噴霧機構は、少なくと
   も１つの噴霧機構（１８５，２２５）が液体を噴霧する
   際に多数のフィルタ（１９，６３，２８２，２９２）に
   噴霧できるように分配されており、粗ガス室（２９，７
   ０）から種々異なるフィルタ（１９，６３，２５５，２
   ８２，２９２）を貫通して粗ガス室に達するガスを、純
   ガス室（３０，７１）から導出ガイドするために、前記
   容器（３，５３）に、純ガス室（３０，７１）に接続さ
   れたガス出口（４９，７５）が設けられている、請求項
   １から５までのいづれか１項記載の装置。
8. 【請求項８】 １つ若しくはそれぞれのフィルタ（１
   ９，６３，２８２，２９２）が、フィルタ軸線に対して
   ほぼ回転対称的な、ガスを流通させる、形状の安定した
   周壁を有しており、該周壁が、ガスを粗ガス室（２９，
   ７０）から周壁を通して、ガス内に含有された塵を周壁
   の外側面で分離させるための、粗ガス室（２９，７０）
   に隣接する外側面を備えた金属性のフィルタ部材を有し
   ている、請求項１から７までのいづれか１項記載の装
   置。