JP3934720B2 - 流動層装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、2つの互いに接合しかつ互いに取り外し可能な壁部分を備えた壁を有する容器と、容器内に配置された濾過底と、両壁部分を互いに密接に結合しかつ濾過底を壁と密接に結合するためのシール部材とを有する流動層装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
公知の流動層装置は、旋回可能な濾過底を有する容器を有している。容器の壁は、複数の壁部分からなる。複数の壁部分は、接合箇所で対になって互いに接合し、かつ解離可能に結合している。複数の壁部分は、接合箇所において、環状の、横断面において完全なかつ矩形の平形シールによりシールされている。各平形シールは、壁部分の環状溝内で保持されている。壁は、2つの壁部分の接合箇所の付近で、濾過底を取り囲んでいるリングを有している。リングは、濾過底に向かって開いてる、4角形の横断面を有する環状溝を有している。環状溝内に、環状で中空の、膨張可能な、ほぼ4角形の横断面を有するシールが配置されている。シールは、その、濾過底に面した側に通常の形式のリブまたはエッジを備えた舌片を有している。濾過底は、その水平な作業位置に位置する場合、中空のシールは、圧縮空気で膨張して、濾過底を壁に密着せしめる。
【0003】
この公知の流動層装置はしかしながら、濾過底付近で互いに接合している、2つの壁部分のシールのためかつ濾過底と、壁との密着のために、2つの分離したシールが必要であるという欠点がある。更に、壁部分間に配置された平らなシールと、四角形の横断面を有する、膨張可能なシールとが、これらのシールによって、互いにシールされた部分と一緒に、喉部及び/または隙間及び/または、横断面において角部を有する間隙を規定している。この場合、特に、環状溝内にも、横断面において角部を有する隙間及びその他の、シールによって充填されない中間室及び/または中空室が存在する。これらの喉部、隙間、間隙、その他の中間室及び/または中空室は、作動の際、原料が渦動の際の容器を通流するガスのために、塵埃粒子やその他の不純物が集まりやすい死室を形成する。渦動する原料の粒子が、例えば凝集のためまたは被覆部を形成するために、液体を噴霧されると、この液体は、同様に環状溝やその他の死室内へ達して、この液体に塵埃粒子が粘着する。
【0004】
公知の流動層装置は、浄化液を、容器の壁の内面と濾過底とに噴霧するための湿式浄化装置を部分的に備えている。上記死室は、しかしながらこの種の浄化液による浄化を妨害する。この場合、不純物と浄化液が、シールを有する環状溝に達して、環状溝内に滞留することがしばしば生じる。容器の内室は、従って公知の流動層装置の場合、浄化液により不十分にしか浄化されない。これにより、特に死室内に、微生物の培養が生じる恐れがある。
【0005】
流動層装置の容器内で処理される粒子状の原料に、高い浄化性が要求される場合には、従って、度々、特に処理原料の交換の際には、作業員が、容器を開けて、分解し、シール及び濾過底を浄化のために一時的に取り外す必要がある。有毒なあるいはその他健康に有害な原料を処理する場合、容器を開けること及び構成部分の取り外しは、しかしながら大気の汚染および、容器を開けて、浄化する作業員を危険に曝すことになる。
【0006】
米国特許4073521号明細書とフランス国特許736209号明細書から、円形横断面の外面を有する膨張可能なシールが公知である。これらのシールは、しかし、流動層装置の構成部分の密接な結合には役立たず、別の装置の2つの構成部分の結合にしか役立たない。その上、これらの構成部分とシールとは一緒に同様に、塵埃やその他の不純物が集まる、角部を有する中空室及び/または隙間を規定する。これらのような不純物の集合を避ける問題は、上記両特許において全く触れられていない。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、公知の流動層装置の欠点を取り除いた流動層装置を提供することにある。この場合、特に、シール部材及びシール部材によって互いに密接に結合された、固定の構成部分の箇所で、不純物の集合を出来るだけ少なくし、シール部材とシール部材によって互いに密接に結合された、固定の構成部分とが、容器を開けることなくかつ分解することなく、僅かな作業と時間で、清潔に浄化することが出来てかつシール部材並びに容器を経済的に製作して組み立てることを可能にすることができる。
【0008】
【課題を解決するための手段】
この課題を解決するために、本発明の構成では、両壁部分のそれぞれが、環状の溝を有しており、環状の溝は、横断面において、少なくとも部分的に、凹面状に湾曲した溝面によって規定されており、両溝は、壁部分が互いに接合した際に一緒に、濾過底に向かって開口する溝部を形成し、シール部材は、環状のシールを有しており、シールは、流体を収容する中空室と、横断面において少なくとも部分的に凸面状に湾曲しかつ横断面においてシールの周囲全体を連続的にかつ平らに延びる外面と横断面区分とを有しており、横断面区分は、壁部分が互いに接合した際には、両溝内に位置しており、濾過底とシールとは、シールが、シールの中空室に供給される加圧された流体により、両壁部分と濾過底に接するように変形可能に構成されていることによる。
【0009】
【発明の実施の形態】
本発明の流動層装置の有利な実施の形態は、実施態様項から明らかである。本発明において、シールの外面は、横断面において少なくとも部分的に凸面形状に湾曲していてかつシール全体の周りを常にかつ滑らかに取り囲んでいる。「常にかつ滑らか」とは、シールの外面が、横断面において、角部や、リブや舌状片やその他の突起及び条溝やその他の凹所を有していないことを意味する。
【0010】
2つの壁部分の一方の壁部分内に存在する溝はそれぞれ、横断面において、本発明の場合、少なくとも部分的に、有利には、少なくとも大部分、例えばほぼ完全に、凹面状に湾曲した溝面によって規定されている。溝は、しかしながらそれらの内側の縁部において、幅の狭い、横断面において凹面状に湾曲した移行面及び/または場合によっては平らな面を有することが出来る。シールの中空室が、加圧された流体を有していてかつシールが、壁部分を互いに密接に結合している場合に、シールは、有利には、ほぼ、溝を完全に規定する面及び特に、完全に、横断面において凹面状に湾曲した溝面に接触しているので、シールは、溝をほぼ完全に充填している。
【0011】
凹面状に湾曲した溝面は、横断面において有利には、溝底から溝縁部への溝の高さ全体に渡って拡大している。その他、場合によっては存在する、凹面状に湾曲されていない、溝を制限する面は、溝が、凹面状に湾曲されていない面の高さ方向での範囲において、溝底から幅が拡大されるかあるいは少なくとも一定の幅を有するように構成することが出来る。この処置は、シールを簡単にかつ変形なしに溝内に挿入して、必要な場合、例えばシールの交換のために、簡単に溝から取り外すことを可能にする。
【0012】
各溝の凹面状に湾曲した溝面は、横断面において有利には、円弧を形成している。円弧は、横断面において、有利には最高180°、有利には180°以下で少なくとも120°、例えば130°から175°までの中心角に渡って延びている。
【0013】
シールの外面は、有利には、少なくともある一定の状態、例えばシールの非変形状態、即ち、シールの中空室及びシールの外側に同一の圧力が支配するとき、及び/または例えば、シールの中空室が、シールの周囲に存在する圧力より大きな圧力が支配する流体を有するとき、及び固定の構成部分が、外側でシールに作用しない場合に、横断面において、シールの全周を凸面状に湾曲しかつ例えば横断面において円形になる。シールの外面は、しかし、横断面において、上記のある一定の状態、特に非緊張状態において、場合によっては卵形または楕円形にあるかあるいは、凸面状に湾曲した区分により互いに結合された真っ直ぐな区分を有している。シールの外面は、しかしながら横断面においてどこも凹面状になっていない。
【0014】
流動層装置は、有利には、浄化液を容器内で噴霧しかつ壁部分の内面と、濾過底と、シールの、容器の内室に接するかまたは内室内にある区分を浄化または洗浄するために、少なくとも一つの噴霧機構を有する湿式浄化装置を有している。壁部分の内面と、前記シール区分と濾過底とは、従って、容器を開いて、濾過底を取り外すことなく、良好にかつきれいに浄化することが出来る。容器内室内の浄化液の噴霧は、例えば、薬品の形成に役立つかあるいは有毒である製品の製造の際に、容器内で製造された製品を洗浄する場合に、十分な洗浄を可能にする。浄化は、この場合、十分あるいは完全に機械的及び自動的に、即ち実際には作業員の協力なしにおこなうことができる。これにより、例えば、浄化作業の実施の際の作業員の不十分な注意といった、人的影響が、製造された製品の浄化と品質を損なうことが避けられる。更に、浄化の際、健康に有害及び/またはその他環境を損なう物質が、容器から周囲に達して、周囲の汚染の原因となりかつ作業員を危険に曝すことが避けられる。その他、浄化の自動化により、製造費を節約することが出来る。
【0015】
【実施例】
次に本発明を図示の実施例に基づいて詳細に説明する。図1に示した流動層装置1は、機枠2を有している。機枠2は、2つの垂直な支柱と、その他の構成部分を有していてかつ、両支柱間に配置された流動層ー容器3を保持している。容器3は、垂直に延びる容器軸線4を有していてかつ容器軸線4に対してほぼ回転対称な壁5を有している。壁5は、複数の上下に配置された、解離可能及び/または調整可能に並びに図示の位置に互いに密接に結合された壁部部分を有している。即ち、下から上に向かって、壁5は、底部壁部分6と、垂直に移動可能な壁部分7と、ほぼ円筒形の接続部壁部分8と、円錐形の原料室壁部分9と、円錐形の膨脹室壁部分10、円筒形のフィルタ室壁部分11とその大部分がアーチ形のカバー壁部分12とを有している。流動層装置は、更に、壁部分6乃至12を調整しかつ解離可能に互いに結合するために、結合手段を備えている。これら結合手段に、2つの油圧式の調整装置15と、ヒンジ部材17、18並びにねじ等が所属している。
【0016】
ガス透過性の濾過底21は、容器3内に配置されている。濾過底21は、支承兼旋回手段22により、水平な旋回軸線を中心に旋回可能に接続部壁部分8に支承されていてかつ異なる旋回位置に固定可能である。濾過底21は、特に水平方向の作業位置と、ほぼ垂直方向の排出位置とに固定することが出来る。更に詳説するように、作業位置における濾過底21は、2つの壁部分8、9が接合する接合位置の高さに、ほぼ位置している。容器3は、更にもう1つ隔壁を形成している内側の壁部分25を有している。内側の壁部分25は、フィルタ室壁部分11の上側半部内に配置され、フィルタ室壁部分11により取り囲まれかつこれと密接に結合されている。内側の壁部分25は、少なくとも1つの、内側の壁部分25に解離可能に固定されたフィルタ27を保持していている。この場合、フィルタ27は、有利には少なくとも2つであって、各フィルタ27は、非変形の、ガス透過性の金属被覆を有している。
【0017】
壁部分6乃至12は、それぞれ互いに密接に結合されていて、大気に対して閉鎖された容器内室28を一緒に取り囲んでいる。正常な、水平方向の作業位置に位置している濾過底21と、内側の壁部分25と、内側の壁部分25に固定されたフィルタ27とは、容器内室28を、濾過底21の下方に位置するガス分配室28aと、濾過底21と内側の壁部分25との間に位置する流動プロセス室28bと、内側の壁部分25の上方に位置する純ガス室28cに分割している。
【0018】
底部壁部分6は、ガス入口29を有している。フィルタ室壁部分11には、内側の壁部分25の上方にガス出口30が配置されている。流動層装置1は、その他に、プロセスガス、例えば空気を、ガス入口29から容器3を通して上方でガス出口30へ案内しているガス案内部材を有している。容器3は、更に、流動プロセス室28bに開口する原料入口33と、底部壁部分6の下側端部に配置された原料出口34とを有している。原料入口33と原料出口34とは、選択的に閉鎖可能で開放可能な複数の通路を有している。更に、噴霧装置35が設けられている。噴霧装置35は、少なくとも部分的に液状の材料を、粒子状の原料の、流動層容器3内で流動する粒子に噴霧するために、少なくとも1つのノズルを有する、少なくとも1つの流動プロセス室28b内に配置された噴霧機構37を有している。
【0019】
少なくとも1つの湿式浄化装置兼洗浄装置41は、ケーシング42を有する、濾過底21の下側で、底部壁部分6に固定された保持部と、少なくとも1つのノズルを有する、少なくとも1つの噴霧機構43とを有している。少なくとも1つの湿式浄化装置兼洗浄装置45は、ケーシング46を有する、濾過底21の上側でかつ噴霧装置35の上側に、膨脹室壁部分10に固定された保持部と、少なくとも1つのノズルを有する、少なくとも1つの噴霧機構47とを有している。ケーシング42、46は、ほぼ壁5の外側に配置されていてかつ、大気に対して閉鎖されたケーシング内室を有している。噴霧機構43、47は、ケーシング42、46内で水平方向に移動可能に案内されていてかつ選択的に、休止位置または、図1に示した浄化位置に移動可能である。休止位置では、噴霧機構43、47は、容器3の、ほぼ容器内室28の外側でケーシング42、46内に位置している。ケーシング42、46の内室は、例えば、噴霧機構43、47及び/または付加的な閉鎖部材によって、壁5の内面とほぼ同一平面で、容器内室28に対して閉鎖している。浄化位置においては、各噴霧機構43、47は、少なくとも部分的にガス分配室28aまたはプロセス室28b内に位置している。噴霧機構43、47の噴霧ノズルは、例えばほぼ容器軸線4のそばに位置している。下側の噴霧機構43の噴霧ノズルは、この場合上方に向いている。上側の噴霧機構47の少なくとも1つのノズルは、この場合下方に向いている。
【0020】
内側の壁部分25は、更に少なくとも1つの湿式浄化装置兼洗浄装置を有している、この場合例えば、複数の、容器軸線4の周りを取り囲む第1の湿式浄化装置兼洗浄装置51と、容器軸線4と同軸的なより大型な第2の湿式浄化装置兼洗浄装置55設けられている。各湿式浄化装置兼洗浄装置51、55は、容器3の内側の壁部分25のほぼ上側に位置するケーシング52、56と噴霧機構53、57とを有している。各噴霧機構53、57は、所属のケーシング52、56内で調整可能でかつ移動可能に案内されていて、所属のケーシングのほぼ内側に位置して、内側の壁部分25の内面と同一平面上にある休止位置から、少なくとも一部がプロセス室28b内で、フィルタ27の上側の終端区分のほぼ高さに位置している、図1に示した浄化位置に移動可能である。
【0021】
種々の湿式浄化装置兼洗浄装置41、45、51、55のケーシング42、46、52、56は、浄化液のための入口を有している。各湿式浄化装置兼洗浄装置は、更に、例えばばねを有していて、噴霧機構が、その休止位置から、圧力下にある浄化液を供給の際に、ばねによって生じる復帰力に抗して、浄化位置に移動するように構成されている。噴霧機構は、浄化位置に、洗浄液の供給が終了するまで留まっていて、噴霧機構は、ばねにより休止位置に戻される。
【0022】
次に、容器3の壁5と濾過壁21の詳細を図2、図3、図4に基づいて説明する。
【0023】
接続部壁部分8は、内側被覆部63と、外側被覆部64と、接続部壁部分8の両端には環状フランジ65、66を有している。両被覆部63、64は円筒状に構成されかつ両端において両環状フランジ65、66に密封溶接されている。原料室壁部分9は、ほぼ円錐形の被覆部67を有している。被覆部67は、その両端において環状フランジ68、69に密封溶接されている。膨脹室壁部分10は、ほぼ円錐形の被覆部70を有している。被覆部70は、その両端において環状フランジ71、72に密封溶接されている。フィルタ室壁部分11は、円筒状の被覆部73を有している。被覆部73は、その下側端部において、環状フランジ74に溶接されている。更に、環状フランジ68の外側縁部を、被覆部67の区分と結合する中空円筒状の補強部75が設けられている。補強部75は、被覆部67と、環状フランジ68と、ヒンジ部材17のスリーブ状部とに溶接され、被覆部67の外側縁部と、環状フランジ68の上側の水平方向の平面との間の喉部を汚染に対して保護している。
【0024】
各環状フランジ66、68は、容器軸線4に対して同軸的な中央孔を有している。これらの中央孔は、部分的に、円筒状の、互いに整合する内面66a、66aによって規定されている。両環状フランジ66、68は、それらの互いに面した端面側に、平らな、容器軸線4に対して直角にかつ半径方向においてほぼ環状の載置面66b,68bとを有している。各環状フランジ66、68は、その端面に、環状、しかも円形状の溝66c,68cを有している。各溝66c,68cは、横断面、即ち、容器軸線4を通る断面で、少なくとも大部分、凹面状に湾曲、即ち円弧状の溝面によって規定される。環状フランジ66、68が、図1乃至図4に示された形式で、それらの載置面66b,68bにより載置されていると、凹面の円弧状の溝面は、横断面で、理想形式では、その中心が互いに載られた載置面66b,68bによって規定された平面が位置している同一の円から円弧を形成している。溝66c,68cの外側の溝縁部は、載置面66b,68bによって規定された平面内に位置している。溝66c,68cの内側の溝縁部は、少なくともほぼ円筒状の内面66a、68aの所で、載置面66b,68bによって規定された平面の下側及び上側に位置している。壁部分8、9が互いに結合されかつ載置面66b,68bが互いに載せられると、溝66c,68cの内側の溝縁部と、環状フランジ66、68の、容器軸線に対して平行な視線方向において、溝66c,68cの内側にある区分と、壁部分8、9とは、軸線方向で互いに間隔をおいて位置しかつ、中間室、即ち環状間隙によって互いに分離されている。両溝66c,68cは、一緒に、環状の溝部を形成している。環状の溝部は、横断面、即ち、容器軸線を通って延びる断面において、容器軸線と容器内室28に向かって開放されている。溝66c,68cの外側の縁部は、例えば、エッジによって形成されている。各溝66c,68cの内側縁部は、例えば、幅の狭い、横断面において凸面状に湾曲された移行面からなる。この移行面は、凹面状に湾曲された溝面を、円筒状の内面66a,68aに常に接続している。これら移行面の曲率半径は、横断面、即ち容器軸線を通る断面において、凹面状に湾曲された溝面の曲率半径よりも著しく小さく、有利には凹面状に湾曲された溝面の曲率半径の5%以下である。壁部分8の内面の一区分を形成する内面66aは、溝66cの内側縁部から離れて下方に、従って壁部分9から離れる方向に延びている。溝66cの内側縁部は、従って、壁部分8の内面から、壁部分8の、軸方向の投影において溝66cによって取り囲まれた区分の最高位置を形成する。壁部分9の内面の一区分を形成する内面68aは、溝68cの内側縁部から離れて上方に、従って壁部分8から離れる方向に延びている。溝68cの内側縁部は、壁部分9の、軸方向の投影において溝68cによって取り囲まれた区分の最低位置を形成する。両壁部分8、9は、既に述べた結合部材に属するねじ79により、解離可能に結合されている。ねじ79の1つが、図2、図3、図4に示されている。
【0025】
環状の、中空のシール81が、2つの壁部分8、9の環状フランジ66、68の間に配置されている。シール81は、例えば、ホース片から形成されており、ホース片の両端部は、例えば、接着により、互いに結合されている。シール81は、外面81aと内面81bとを有する外套部を有している。シール81の外套部は、均一な厚さを有しているので、両面81a、81bは、横断面でみて互いに平行でかつ同心的である。シール81は、その大気に対して閉鎖された中空室82を有している。シール81は、その円周の箇所に、略示しされた接続部84を有している。接続部84は、複数の部分からなる接続片からなりかつ中空室82に開口する通路を有している。シール81は、弾性ゴム、例えばシリコンゴムからなり、中空室82に供給された、加圧された流体、例えば圧縮空気により、変形かつ伸張可能である。シール81が、非緊張で、非変形の状態にあって、シール81がその所定の形状を有している場合に、シール81の外面81aは、円弧状の横断面を有しているので、横断面でみてシール81全体を、凸面状に湾曲して取り囲んでいる。その他、シール81の外面81aの、横断面における半径は、溝66c,68cの円弧状の凹面の溝面の横断面において生じる曲率半径と少なくともほぼ同じであり。両壁部分8、9が結合された場合、各溝66c,68cは、シール81の横断面区分を有している。接続部83は、例えば、容器軸線4に対して半径方向で、シール81から環状フランジ66,68の間を通って外方へ突出している。平らな載置面66b,68bは、従って、接続部83の所で、半径方向の溝によって中断されている。平らな載置面66b,68bは、一緒に、接続部83の例えば円筒状の区分を受容している。平らな載置面66b,68bは、溝66c,68cとシール81を、容器軸線4に対して平行な投影において、ほぼ、即ち、接続部83の所での中断を除いて、完全に取り囲んでいる。
【0026】
シール81の中空室82内には、有利には、弾性的なコア84が配置されている。コア84の横断面は、中空室82の横断面より著しく小さいので、中空室82の大部分は、自由、即ち中空になっている。コア84は、例えば長方形の横断面を有しており、この場合、長方形の長辺は、容器軸線4に対してほぼ平行である。コア84は、少なくとも中空室82のほぼ全周に沿って延びていてかつ例えば円周箇所において開放されているかあるいは閉鎖されているリングを形成している。コア84は、弾性的に変形可能な材料から形成されており、その弾性係数は、シール81を形成する材料の弾性係数よりも著しく大きい。コア84は、例えば、鋼のような金属材料あるいは場合によっては弾性的であるが、ゴム弾性的ではないプラスチックからなっている。コア84は弾性的でありかつ、シール81を予め環状の溝66c内に挿入する前に、シール81が出来るだけ正確に円形に形成されて、迅速かつ問題なく溝66c内に挿入できるように緊張せしめるための緊張部材として役立つ。コア84は、しかし、分離して提供されたシールが、輸送の際、スペースを節約できる、長い平たいリングに圧縮可能であるように変形可能である。
【0027】
環状フランジ69、71、72、74は、それらの互いに対になって面している端面において、環状の、容器軸線4に対して直角に延びる平らな載置面を有している。載置面は、壁部分9、10、11を互いに結合した際に、互いに載置される。各環状フランジ69、71、72、74は、その端面に、環状、即ち、円形の溝を有している。これらの溝は、横断面において、即ち、容器軸線4を通って延びる断面のおいて、少なくとも大部分、凹面に湾曲している、即ち円弧状の溝面によって規定されている。両壁部分9、10、11が、互いに結合されて、環状フランジ69、71、72、74により、互いに接合されると、環状フランジ69、71、72、74の溝は、一緒に対になって流動兼プロセス室28bに対して開放された溝部を規定している。これらの溝部は、接続部89、94を有する環状の中空のシール87、93を有している。シール87、93は、シール81と同様に構成されている。接続部96を有する環状の中空のシール95は、底部壁部分6と、垂直方向に移動可能な壁部分7のほぼ円筒形の面の間に配置されている。
【0028】
図2、図3、図4に同様に示されている濾過底21は、形状の安定した、円形状のリング101と、リング101によって取り囲まれかつリング101に固定された、上側のリング縁部101aの下側に配置された、ガス透過性のふるい102を有している。濾過底21が、図1乃至図4に示された作業位置に位置するとき、リング101とふるい102は、容器軸線4に対して水平方向に位置し、リング101は、更に容器軸線4と同軸的に位置している。リング101は、円筒形の外面を有している。リング101の内面は、上側のリング縁部101aから下方に向かってふるいまで円錐形に内方に傾斜した内面区分101bと、ふるいからリングの下側の縁部まで延びる円筒状の区分とを有している。円筒状の外面は、上側のリング縁部101aの所で、幅の狭い、横断面において凸面に湾曲された移行面によって、円錐形の内面区分101bと常に結合されている。ふるい102は、例えば、真っ直ぐな互いに平行に延びる、幅の狭い成形棒103からなっている。各成形棒103は、作業位置において上方に位置している、平らな水平方向のカバー面を有しており、横断面において、カバー面から下方に先細りなっておりかつ横断面において、鋭角的な、二等辺三角形の形状をほぼ有している。互いに対になって隣接している成形棒103間に、長さ全体に沿って、これらの成形棒103が互いに狭い間隔で配置されている。ふるい102の成形棒103は、下側において、成形棒103を直角に交差している、若干数の支持棒104によって支持されている。成形棒103と支持棒104とは、端部において、リング101と固定的に溶接するか、あるいは場合によってはろう付けされ、交差箇所において、互いに溶接するか、あるいは場合によってはろう付けされるか焼結されている。支承兼旋回部材22は、2つの、図2に示した旋回ピン105を有している。2つの旋回ピン105は、リング101の、2つの直径方向で対向している円周箇所の所で、剛性ではあるが、解離可能にリング101の下側に固定されていてかつ、壁部分8によって保持された支承部106に支承されている。両旋回ピン105の一方は、容器3の外側に配置された旋回装置により、手動及び/または電動または空圧または油圧で旋回可能でありかつ種々の旋回位置に固定可能である。
【0029】
流動層装置1は、更に異なる部分と作業工程を制御するための制御手段121を有している。制御手段121は、特に、シール81、87、93、95の中空室に、加圧された、有利にはガス状の流体、即ち圧縮空気を供給しかつ再び中空室から排出するために、流体制御部材122を有している。流体制御部材122は、図示されていない圧縮空気源、例えば、圧縮空気導管系の接続部と結合された圧縮空気入口123を有している。圧縮空気入口123は、例えば、導管と、少なくともフィルタ124と、多方向制御弁125と、圧力センサ126と、絞り127及び急速換気弁128とを介して、中空のシールの接続部83、89、94、96と結合されている。多方向制御弁125と急速換気弁128とは、大気に開口する出口を有している。更に、流動層装置1を監視しかつ作業員により及び/または自動的に制御するために、小さいランプ、発光ダイオード、表示器、場合によっては受像面、手動操作のスイッチ及びその他の操作部材を有する、電子式及び空圧式の構成要素を有する表示兼制御装置131が設けられている。
【0030】
以下に、流動層装置1の作動を説明する。
【0031】
通常の作動の場合、容器3の壁部分6乃至12は互いに固定結合されている。更に、濾過底21は、その、図1乃至図4に示された水平方向の作動位置に位置していて、かつ支承兼旋回手段22によってこの位置に固着されている。濾過底21の上側のリング縁部101aは、2つの溝66c,68cの内側縁部間の高さ方向範囲内で、環状フランジ66、68の上下に位置する載置面66b,68cの高さとほぼ同じか全く同じ位置に位置している。リング101と、壁5の内面、特に環状フランジ66の内面66aとの間に、環状隙間がある。ここで、シール81の中空室82と、例えばその他の中空のシール87、93、95の中空室も、予め換気されかつ、その圧力が容器3の周囲の圧縮空気と同じでかつ容器内室28内の圧力と同じ空気を含んでいると仮定する。シール81の外面は、図2と図3に示すように、円形の横断面を有している。シール81の、溝66c,68cの内側縁部間に位置する区分は、例えば、僅かに内方、即ち、容器軸線4に向かって、円筒形の内面66a、68aを超えて突出しているが、内面66a、68aとほぼあるいは正確に整合することもできる。更に、濾過底21のリング101とシール81との間に、環状間隙が存在する。
【0032】
図示されていない圧縮空気源は、圧縮空気入口123に圧縮空気を供給する。圧縮空気の圧力は、例えば約600kPa乃至1000kPaの絶対圧力値を有しており、従って大気圧よりも約500kPa乃至900kPa大きい。多方向制御弁125は、電気的に制御可能な制御機構を有していてかつ、中空のシールの中空室に供給された圧縮空気の圧力を、圧力センサ126と電子制御回路と協働して、所定の目標値に減少しかつ制御することが出来る。シール81と結合された多方向制御弁115は、シール81の中空室82に、その圧力が選択的に第1の圧力値あるいは第2の圧力値、第1の圧力値より小さい圧力値をもつ圧縮空気を供給することができる。第1の圧力値は、例えば約500kPa乃至700kPa、従って、大気圧よりも約400kPa乃至600kPa大きい。第2の圧力値は、第1の圧力値よりも例えば約200kPa小さい、従って、、約300kPa乃至500kPa、即ち大気圧よりも約200kPa乃至400kPa大きい絶対圧力値になる。他の中空のシール87、93、96に圧縮空気が供給されると、その圧力は、常に同じ、例えば、200kPa乃至400kPaの範囲にある絶対圧力値を持つことが出来る。
【0033】
シール81、87、93、95の中空室内にある空気の圧力を、流体制御手段121により、必要な時間、少なくともほぼ所定の目標値に保持することが出来る。多方向制御弁125により、中空のシールの中空室からの空気も、大気に排出することが出来る。急速排気弁128は、急速排気弁128が、絞りを介して、多方向制御弁125と結合されている接続部における圧力が降下すると、急速排気弁128と接続するシールの中空室を、大気と接続しかつシールの急速な換気をおこうなうように構成されている。中空なシールは、空気を大気に排出する際に、完全に、即ち、シールの中空室の圧力が、大気圧に降下するように排気される。シール81の中空室82内に存在する空気の圧力が第1の圧力値と同じ場合、しかしながら、中空室82内の圧力が第1の圧力値から第2の圧力値へ降下する部分排気しか行うことができない。
【0034】
容器内室28内の圧力は、種々の作動過程において、大気圧と同じかあるいは大気圧よりも小さい。中空のシール81、87、93、95の中空室に、大気圧よりも大きな圧力の空気が供給されると、この圧縮空気はシールを変形する。この場合、シールは、特に横断面において伸張せしめられる。シール81、87、93の非変形状態で、円形の横断面を有する外面は、溝66c,68cまたは環状フランジ69、71、72、74の溝の凹面形状の円弧を形成する溝面に圧着される。シール81、87、93は、凹面形状に湾曲された溝面全体に圧接されかつ溝面に隣接している環状フランジを互いに密接に結合している。シール95は、底部壁部分6を壁部分7と密接に結合する。中空の、膨張可能な81、87、93、95は従って、膨張状態で、流動層容器3の内室を、壁部分の種々の結合箇所において、容器3を大気に対してシールしている。
【0035】
シール81の中空室82内に存在する空気の圧力が、第1の大きな圧力値を有している場合、シール81は、既に記載された形式で溝66c,68cの溝面に圧着される。更に、シール81は、図4に示すように、溝66c,68cの内側縁部間で、内方、即ち、容器軸線4に向かって湾曲するので、シール81は、最早、円形の横断面を持つことなく、リング101の上側の縁部の付近において、上側の縁部に密接している。シール81の中空室82が、その圧力が第1の圧力値と同じ圧縮空気を有している場合、シール81は、従って、壁部分8、9の2つの環状フランジ66、68を互いに密接に結合しかつ同時に2つの環状フランジ66、68を濾過底21のリング101と密接に結合している。
【0036】
シール81の中空室82内に存在する空気の圧力が、第2の小さな圧力値と同じ場合、シール81は、僅かしか容器軸線4に向かって湾曲しない。シール81の外面の、最も内部の、容器軸線4に最も近い箇所は、内面66a、68aによって規定された円筒面の内部に僅かに存在する。濾過底21とシール81との間に、図3に示した完全に排気されたシールと同じように、自由な環状間隙が存在する。シール81は、しかしながら環状フランジ66、68を依然として密接に結合している。
【0037】
粒子状の、例えば薬品を形成するために役立つ原料が、容器3内で運動しかつ処理される場合、図4に示した濾過底21が、シール81によりシールされる、即ち、容器3の壁と密接に結合する。それから、粒子状の原料が、一時的に開放された原料入口33により、流動プロセス室28bに装入される。更に、空気からなるプロセスガスがガス入口29により、ガス分配室28a内に、ガス分配室28aから、上方へ、濾過底21、流動プロセス室28c並びにフィルタ27を通って、純ガス室28c内へ、更にその後ガス出口29を通って容器3から吸引される。プロセスガスは、粒子状の原料を渦動するので、粒子状の原料は、流動兼プロセス室28bの下側の部分内で、渦層を形成する。原料の渦動の際、場合によっては、噴霧機構27により、少なくとも一時的に、少なくとも部分的に液状の噴霧材料を、原料の粒子に噴霧して、粒子を凝集及び/または被覆を有するようにする。更に、粒子は渦動の際に乾燥させる。湿式浄化装置兼洗浄装置45、53の噴霧機構43、47は、原料が渦動する際に、ほぼ完全に、容器内室28の外側のケーシング42、46内に配置されている。湿式浄化装置兼洗浄装置51、55の噴霧機構53、57は、流動兼プロセス室28bの上側にほぼ完全に配置されている。流動兼プロセス室28bとガス分配室28aとは、従って、原料の処理の際及び容器3が空になっても、湿式浄化に役立つ噴霧機構を有していない。
【0038】
粒子状原料の処理が終了すると、プロセスガスの容器3の通流も終了する。更に、シール81内に存在する圧縮空気の圧力が、第1の圧力値から第2の圧力値へ降下するので、シール81と濾過底21との間に、自由な環状間隙が生じる。濾過底が支承兼旋回手段22の旋回装置により、約90度、ほぼ垂直な排出位置へ旋回する。粒子状の原料は、濾過底及び一時的に開放する原料出口34を通って、容器3から出てゆく。その後、例えば、粒子状の原料が再び新しく装入される。
【0039】
壁5の内面と、容器3内に位置する部分の内面の1部が、時々、特に処理された粒子状の原料及びこの原料から製造された製品の交換する際に、容器を空にして、浄化液により浄化、即ち洗浄される。流動層容器の種々の壁部分は、この場合、互いに密接して結合されている。湿式浄化のために、湿式浄化装置41、45、51、55に交互にあるいは同時に、例えば400kPa乃至1000kPaの圧力(及び0°C及び100°Cの間の温度あるいは場合によっては150°Cの温度)の浄化液が供給される。浄化液は、例えば、ある一定の浄化位相のために、浄化薬あるいはその他の浄化混和物が添加された水からなっている。予め、休止位置に位置している噴霧機構43、47は、容器内室28内の浄化液により、図1に示した浄化位置へ移動する。同様に、浄化液は、予め、休止位置に位置している噴霧機構53、57を、下方の、図1に示した浄化位置へ移動する。湿式浄化装置41、45、51、55の噴霧機構は、浄化液を、フィルタ27の外面と、内側の壁部材25の下側面と、壁部分8乃至11及び場合によっては壁部分6、7の内面と、シール81、87、93の、内室28に隣接する区分と、その他容器内の内側の壁部分25の下側に位置する部分に噴霧する。シール81の中空室82内に存在する圧縮空気の圧力は、湿式浄化中あるいは少なくとも湿式浄化の一部の間において、第2の小さい圧力値と同じなので、濾過底21は、隙間によってシール81から分離されている。濾過底21は、湿式浄化中に、種々の位置に旋回されかつ場合によっては完全に回転する。浄化液は、例えば、容器3から原料出口34を通って外へ導かれる。
【0040】
シール81の中空室82内に存在する圧縮空気の圧力は、第2の小さい圧力値を有している場合、シール81は、図2と図3と類似して、環状フランジ66、68の円筒状の内面66a、68a間に比較的平らな移行部を形成している。シール81が、第1の大きな圧力値を有する圧縮空気を有しかつ図4に示すように、濾過底21のリング101を容器の壁と密接に結合していると、シール81は、上側のリング縁部101aにおいては、環状フランジ68の内面68aと、リング101の、円錐形の、上側のリング縁部101aから内方へ傾斜した内面区分101bとの間に比較的平らな移行部を形成している。シール87、93が、圧縮空気を有している場合、シール87、93は、これらシール87、93によって密接に結合された環状フランジの内面間に同様に比較的平らな移行部を形成している。シール81、87、93が、これらシールの横断面区分を含んでいる溝の、全体として凹面に湾曲した溝面に接触している事実と、既に記載された、シールによって形成された実際に平らな移行部とは、粒子状の原料が渦動の際及び容器3から原料を排出する際に、シール81、87、93によりシールされた結合部において、ほこりあるいはその他の原料が僅かしか留まらずかつ壁部分とシールの、流動プロセス室28bに接した面を、湿式浄化の際に良好に浄化することに寄与する。湿式浄化の場合、浄化液が、溝66c,68cと環状フランジ69、71、72、74の対応する溝内に到達しない利点がある。更に、シール81、87、93及び壁部分の、これらシール81、87、93に接している区分に達した浄化液は、どこでも良好に下方へ排出することが出来るので、いかなる浄化液も留まっていない。濾過底21の構成は、通常の作動の場合、原料の粒子あるいはほこり微粒子は、ふるい102内に留まらずかつ濾過底が、湿式浄化の際良好に浄化することに寄与する。
【0041】
容器内室28は、例えば点検作業のために接近する場合には、まず、中空のシール81、87、93、95を一時的に排気する。その後、幾つかあるいは全ての解離可能な互いに結合された壁部分を互いに分離する。濾過底21は、壁部分8の上側の端部に近くにあるので、2つの壁部分8、9が互いに分離したとき、問題なく濾過底21は、壁部分8に組み込まれかつ壁部分8から取り外される。中空の膨張可能なシールは、場合によってはある製作誤差に拘わらず、良好なシール作用を保証する。
【0042】
装置は、種々の形式で変更可能である。溝66c,68cの内側の縁部と、上側のリング縁部101aとで湾曲した移行面は、例えばエッジに取り替えることが出来る。更に、円筒形の内面68aと場合によっては円筒形の内面66a並びにリング101の円筒状の外面を、適当な円錐形の面によって交換することが出来る。この形式の変形において、通常の作業で、不純物と、湿式浄化の場合、浄化液とが集まる死室及び喉部あるいは溝が形成されないことが保証される。濾過底21は、成形棒103から形成されたふるい102の代わりに、従来の互いに交差した針金からなるふるいを有することも出来る。場合によっては、中空のシールの中空室に、圧縮空気の代わりに、大気圧を超える圧力を有する別のガスあるいは液体を供給することも出来る。
【0043】
装置の他の部分、特に湿式浄化装置51、55、フィルタ並びにガス浄化装置、容器の窓に関しては、同時に提出された関連のスイス特許出願3706/95、3707/95、3708/95の優先権主張に基づいた特許出願に記載されている。
【0044】
【発明の効果】
本発明の流動層装置の構成により、シール及び、シールによって互いに密接に結合された壁部材と濾過底とのシールに接する区分において、実際に喉部、隙間、間隙、その他の中間室及び/または中空室を生ぜず、死室を形成しなくなる。これにより、シールにおける望まない原料堆積が少なくとも十分に防げて、シールと、壁部分と濾過底の浄化性が著しく改善される。本発明の流動層装置は、従って、高い純度を持たねばならない薬品やその他の製品の製造に特に適している。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、流動層装置の容器の概略図である。
【図2】図2は、容器の、2つの中空のシールを有する範囲の拡大垂直断面図である。
【図3】図3は、容器と図2に示したシールの区分を拡大して示された断面図、この場合シールは、非変形状態で示されている。
【図4】図4は、図3と同様のシールを有する容器の断面図、この場合、シールは、膨張しかつ変形している。
【符号の説明】
1 流動層装置
2 機枠
3 容器
4 タンク軸線
5 壁
6 底部壁部分
7 壁部分
8 接続部壁部分
9 原料室壁部分
10 膨脹室壁部分
11 フィルタ室壁部分
12 カバー壁部分
15 調整装置
17、18 ヒンジ部材
21 濾過底
22 支承兼旋回手段
25 内側の壁部分
27 フィルタ
28 容器内室
28a ガス分配室
28b 流動プロセス室
28c 純ガス室
29 ガス入口
30 ガス出口
33 原料入口
34 原料出口
35 噴霧装置
37 噴霧機構
41 湿式浄化装置兼洗浄装置
43 噴霧機構
45 湿式浄化装置兼洗浄装置
46 ケーシング
47 噴霧機構
51 第1の湿式浄化装置兼洗浄装置
55 第2の湿式浄化装置兼洗浄装置
52、56 ケーシング
53、57 噴霧機構、
63 内側被覆部
64 外側被覆部
65、66 環状フランジ
67 被覆部
68、69 環状フランジ
70 被覆部
71、72 環状フランジ
73 被覆部
74 環状フランジ
75 補強部
79 ねじ
81 シール
81a 外面
81b 内面
82 中空室
83 接続部
87、93 シール
89、94 接続部
95 シール
96 接続部
101 リング
101a リング縁部
101b 内面区分
102 ふるい
103 成形棒
104 支持棒
105 旋回ピン
106 支承部
121 制御手段
122 流体制御部材
122、123 圧縮空気入口
124 フィルタ
125 多方向制御弁
126 圧力センサ
127 絞り
128 急速換気弁
128、131 表示兼制御装置

Claims (12)

  1. 2つの互いに接合しかつ互いに取り外し可能な壁部分(8、9)を備えた壁(5)を有する容器(3)と、容器(3)内に配置された濾過底(21)と、両壁部分(8、9)を互いに密接に結合しかつ濾過底(21)を壁(5)と密接に結合するためのシール部材とを有する形式の流動層装置において、両壁部分(8、9)のそれぞれが、環状の溝(66c,68c)を有しており、環状の溝(66c,68c)は、横断面において、少なくとも部分的に、凹面状に湾曲した溝面によって規定されており、両溝(66c,68c)は、壁部分(8、9)が互いに接合した際に一緒に、濾過底(21)に向かって開口する溝部を形成し、シール部材は、環状のシール(81)を有しており、シール(81)は、流体を収容する中空室(82)と、横断面において少なくとも部分的に凸面状に湾曲しかつ横断面においてシール(81)の周囲全体を連続的にかつ平らに延びる外面(81a)と横断面区分とを有しており、横断面区分は、壁部分(8、9)が互いに接合した際には、両溝(66c,68c)内に位置しており、濾過底(21)とシール(81)とは、シール(81)が、シール(81)の中空室(82)に供給される加圧された流体により、両壁部分(8、9)と濾過底(21)に接するように変形可能に構成されていることを特徴とする流動層装置。
  2. 容器(3)は、容器軸線(4)を規定し、濾過底(21)は、容器軸線(4)に対して直角な旋回軸線を中心に旋回可能であり、濾過底(21)とシール(81)とは、シール(81)が、圧力が第1の圧力値を有している場合、両壁部分(8、9)と濾過底(21)に密接に接するように構成されており、シール(81)が、圧力が第2の圧力値を有している場合、両壁部分(8、91)に接触するが、中間室によって、濾過底(21)から分離されるように構成されている請求項1記載の流動層装置。
  3. 選択的に、加圧された流体を中空室(82、88)に導入しかつ再び中空室(82、88)から導出するために、及びシール(81)の中空室(82)内にある流体の圧力を選択的にほぼ第1の圧力値あるいはほぼ第2の、第1の圧力値より小さい圧力値に保持するするために、流体制御手段(122)が設けられている請求項2記載の流動層装置。
  4. 壁部分(8、9)の1つにある溝(66c,68c)のそれぞれが、濾過底(21)の反対側に、外側の溝縁部を有していて、両壁部分(8、9)が、互いに接合した状態で、直接外側の溝縁部に接続した載置面(66b,68b)により互いに載置されている請求項1から3までのいずれか1項記載の流動層装置。
  5. 壁部分(8、9)の1つにある溝(66c,68c)のそれぞれが、1つの溝底部と2つの溝縁部とを有していてかつ横断面において、その深さに渡って、溝底部から溝縁部へ向かって拡大している請求項1から4までのいずれか1項記載の流動層装置。
  6. シール(81)の外面(81a)は、少なくともシール(81)のある一定の状態では、横断面においてシール(81)全体の周りに凸面状に湾曲されていて、壁部分(8、9)の1つにある溝(66c,68c)のそれぞれが、少なくとも大部分において、凹面状に湾曲した溝面によって規定されている請求項1から5までのいずれか1項記載の流動層装置。
  7. シール(81)の外面(81a)は、少なくともシール(81)のある一定の状態では、横断面において円形であり、壁部分(8、9)の1つにある溝(66c,68c)のそれぞれの凹面状に湾曲されている溝面は、横断面において、円弧の一部を形成している請求項1から6までのいずれか1項記載の流動層装置。
  8. シール(81)は、シール(81)が両壁部分(8、9)を互いに密接に結合する場合、各溝(66c,68c)の凹面状に湾曲されている溝面全体に接してかつ溝面をほぼ充填している請求項1から7までのいずれか1項記載の流動層装置。
  9. シール(81)の中空室(82)内に、中空室(82)の少なくともほぼ円周全体に沿って延びる弾性的なコア(84)が配置されており、コア(84)は、中空室(82)を横断面において一部だけ充填していてかつ、その弾性係数が、シール(81)を形成する材料の弾性係数よりも大きな材料からなっている請求項1から7までのいずれか1項記載の流動層装置。
  10. 濾過底(21)は、上側のリング縁部を有するリング(101)と、リング(101)によって取り囲まれている、上側のリング縁部の下側にあるふるい(102)とを有しており、リング(101)は、上側のリング縁部からふるい(102)へ向かって内方へ傾斜した内面区分を有していて、シール(81)は、上側のリング縁部の近くでリング(101)に接するように構成されている請求項1から9までのいずれか1項記載の流動層装置。
  11. 容器(3)は、大気に対して閉鎖された内室(28)を有しており、壁部分(8、9)とシール(81)とは、内室(28)に接しており、内室内の浄化液を、壁部分(8、9)と、濾過底(21)とシール(81)へ噴霧するために、少なくとも1つの噴霧機構(43、47、53、57)が設けられている請求項1から10までのいずれか1項記載の流動層装置。
  12. 容器(3)を大気に対して閉鎖されたケーシング内室を有する、容器(3)の外に配置された少なくとも1つのケーシング(42、46)が設けられており、少なくとも1つの噴霧機構(43、47、53、57)が調整可能であり、噴霧機構(43、47、53、57)がケーシング(42、46)の内側にある休止位置から、噴霧機構(43、47、53、57)が容器(3)の自由な内室(28)内でかつ少なくとも部分的にケーシング(42、46)の外側にある浄化位置に調整可能である請求項1から11までのいずれか1項記載の流動層装置。
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