JPH09185310A - 電子写真装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 メンテナンスカバーが閉状態にあって遮光シ
ャッターが開いているときに、メンテナンスカバーに衝
撃が加わっても、その衝撃に伴う振動を遮光シャッター
が受けることなく従ってその振動を光学走査装置が受け
ることなく、良好な画質を得る。 【解決手段】 メンテナンスカバー４４を閉じるときに
は、それに伴い、メンテナンスカバー４４の作動突起７
２が遮光シャッター５４の開用レバー５８と当接係合
し、遮光シャッター５４が閉位置から開位置へ向けて押
されて移動する。遮光シャッター５４が中立位置を越え
てそれより開方向側に到るとコイルスプリング６８の付
勢力が遮光シャッター５４を開位置へ付勢すべく作用す
る。遮光シャッター５４の開位置では、作動突起７２が
開用レバー５８、閉用レバー６０と離れる。反射ミラー
部シャッター７４も同様である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザビーム等の
光ビームを画像情報に応じて被走査体上に走査露光する
ことにより、画像を記録するレーザプリンタやデジタル
複写機等の電子写真装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の電子写真装置としては、次に説明
する装置が知られている。すなわち、図１５に示すよう
に、本体フレーム１００内に、光学走査装置１０２と被
走査体１０４とが設けられている。光学走査装置１０２
は、光学走査部１０６と反射ミラー部１０８とで構成さ
れる。光学走査部１０２は、情報を含むレーザ光（その
光路をＢで示す）を出射する光源と、その出射されたレ
ーザ光を所定の方向へ偏向走査する（主走査する）ポリ
ゴンモータと、結像レンズ系（いずれも図示を省略）と
を備え、それらは光学フレーム１１０内に収容配置され
る。光学フレーム１１０は、スクリューボルト１１２を
用いて本体フレーム１００に固定される。反射ミラー部
１０８は、レーザ光を被走査体１０４に導く反射ミラー
１１４を備え、反射ミラー１１４は反射ミラーフレーム
１１６を介して本体フレーム１００に固定される。被走
査体１０４は帯電手段（図示を省略）によって均一に帯
電されており、レーザ光が主走査されることにより露光
されて、上記情報に基づく静電潜像が形成される。その
後、被走査体１０４には現像手段１１８によってトナー
像が形成され、トナー像の形成と同期して、記録紙が紙
送り手段によって搬送される。記録紙の搬送路１２０が
複数対の搬送ローラ１２２間に形成され、記録紙は、矢
印Ａの向きに図１５において左方へ搬送される。記録紙
は定着手段１２４を通って排出される。被走査体１０
４、現像手段１１８は、プロセスカートリッジ１２６に
収容され、プロセスカートリッジ１２６は、プロセスカ
ートリッジ位置決め部材１２８に支持される。

【０００３】また、プロセスカートリッジ１２６の着脱
等を含む電子写真装置内部のメンテナンスを行うため
に、メンテナンスカバー１３０が本体フレーム１００上
部に設けられている。メンテナンスカバー１３０は、カ
バー軸１３１の軸線回りに上下方向に回動して開閉自在
とされる。図１６に示すように、メンテナンスカバー１
３０の開状態では、光学走査部１０６と、反射ミラー部
１１６との間をメンテナンス開口１３０として、そのメ
ンテナンス開口１３０を通して、例えば、プロセスカー
トリッジ１２６を着脱することができる。図１６には、
矢印ＯＵＴの向きに取り出されたプロセスカートリッジ
１２６が鎖線で示されている。メンテナンスカバー１３
０は閉状態では、図示しないラッチ機構を介してロック
される。

【０００４】ここで、光学走査部１０６のメンテナンス
開口１３２側には遮光シャッター１３４が設けられてい
る。メンテナンスカバー１３０内面には、遮光シャッタ
ー１３４に対応して作動脚１３６が設けられている。遮
光シャッター１３４は、シャッター軸１３５の軸線回り
に回動して開閉自在とされ、シャッター閉動作スプリン
グ１３６によって常時、閉方向に付勢されている。メン
テナンスカバー１３０が閉状態にあるときには、図１５
に示すように、作動脚１３６Ａがシャッター閉動作スプ
リング１３６に抗して遮光シャッター１３４を押して開
き、レーザ光を通過させることができる。メンテナンス
カバー１３０が閉状態から上方へ開けられると、図１６
に示すように、上記作動脚１３６Ａが遮光シャッター１
３４から離れ、遮光シャッター１３４がシャッター閉動
作スプリング１３６の付勢力によって閉じられてレーザ
光を遮断することができる。このような構造は、例え
ば、実開平１−１１３２５０号公報に示されている。

【０００５】また、そのような遮光シャッターを備えた
電子写真装置として、次に説明する装置が、特開平４−
２９１６８号公報で挙げられている。

【０００６】図１８乃至図２０に示すように、その電子
写真装置では、反射ミラー部が光学走査部と一体化され
て光学ハウジング２００内に組み付けられ、上記光学走
査手段１０２に対応する光学走査手段２０２が構成され
ている。その光学走査手段２０２は、上記メンテナンス
カバー１３０に対応するメンテナンスカバー２０４と一
体に移動する取付部材２０６にスクリューボルト２２４
を用いて取り付けられている。図１９に示すように、メ
ンテナンスカバー２０４は、カバー軸２０５の軸線回り
に回動し、開状態では、記録紙の搬入口２０６の上側を
開放してそこをメンテナンス開口２０８とするような形
態とされ、メンテナンス開口２０８を通って、例えば、
プロセスカートリッジ１２６の着脱を行うことができ
る。図１９には、矢印ＯＵＴの向きに取り出されたプロ
セスカートリッジ１２６が鎖線で示されている。

【０００７】上記遮光シャッター１３６に対応する遮光
シャッター２１０は、光源近傍に位置してレーザ光を整
形するスリット部２１２と一体に設けられており、光学
ハウジング２００に設けられたガイド２１４にガイドさ
れて上下にスライドでき、コイルスプリング２１６によ
って常時、下方へ押し下げ付勢されている。メンテナン
スカバー２０４が閉状態にあるときには、図１８に示す
ように、コイルスプリング２１６の付勢力に抗し、遮光
シャッター２１０に突設された凸２１１が本体フレーム
１００に設けられたストッパ２１８に当接し、上記スリ
ット部２１２が所定のレーザ光の高さ位置に保持され、
レーザ光が通過できる。メンテナンスカバー２０４が閉
状態から上方へ開けられると、図１９に示すように、遮
光シャッター２１０の凸２１１が本体フレーム１００の
ストッパ２１８から離れ、遮光シャッター２１０がコイ
ルスプリング２１６の付勢力によって下方に押し下げら
れ、上記スリット部２１２がレーザ光の高さ位置から外
れてレーザ光が遮断される。

【０００８】なお、図２０には、光源２２０、ポリゴン
モータ２２２が示されている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ところで、図１５及び
図１６に示す前者の電子写真装置では、メンテナンスカ
バー１３０の閉状態のとき、図１７に示すように、メン
テナンスカバー１３０に衝撃Ｐが加わると（衝撃による
メンテナンスカバー１３０の変形を鎖線で図示する）、
その衝撃に伴う振動が作動脚１３６から遮光シャッター
１３４を介して光学走査部１０６に伝達され、レーザ光
が正規の光路から外れて（図１７に、正規の光路を一点
鎖線で示し、正規の光路から外れた光路を二点鎖線で示
す）画質が悪化することがある。また、メンテナンスカ
バー１３０の開状態では、図１６に示すように、光学走
査部１０６と反射ミラー部１０８との間のメンテナンス
開口１３２に反射ミラー部１０８の反射ミラー１１４の
反射面が露出し、そのメンテナンス開口１３２を通して
メンテナンス作業を行うときに、作業者が反射ミラー１
１４の反射面に触れてしまう恐れがある。

【００１０】図１８乃至図２０に示す後者の電子写真装
置では、メンテナンスカバー２０４の閉状態のとき、上
記衝撃Ｐと同様にメンテナンスカバー２０４に衝撃が加
わると、その衝撃に伴う振動が光学走査装置２０２に直
接的に伝達され、レーザ光が正規の光路から外れて画質
が悪化する。

【００１１】また、遮光シャッター２１０が光源の近傍
に位置して遮光シャッター２１０の凸２１１と本体フレ
ーム１００のストッパ２１８とが光源の近傍に位置する
ので、メンテナンスカバー２０４を開状態から閉めて遮
光シャッター２１０を開けるときにメンテナンスカバー
２０４の閉時の衝撃が凸２１１を介して光源に伝達され
易く、精密なデバイスである光源が破損する恐れがあ
る。

【００１２】本発明は上記事実を考慮して、メンテナン
スカバーが閉状態にあって遮光シャッターが開いている
ときに、メンテナンスカバーに衝撃が加わっても、その
衝撃に伴う振動を遮光シャッターが受けることなく従っ
てその振動を光学走査装置が受けることなく、良好な画
質を得る電子写真装置を提供することを目的とする。

【００１３】また、本発明は、上記目的に加え、光学走
査装置を光学走査部と反射ミラー部シャッターとで分割
構成して例えば、両者間にメンテナンス開口を形成する
ような電子写真装置において、メンテナンスカバーを開
けたときに反射ミラー部シャッターを閉鎖してメンテナ
ンス時に反射ミラーに触れてしまうようなことを防止す
るとともに、メンテナンスカバーが閉状態にあって反射
ミラー部シャッターが開いているときにメンテナンスカ
バーに衝撃が加わっても、その衝撃に伴う振動を反射ミ
ラー部シャッターが受けることなく従ってその振動を光
学走査手段が受けることなく、良好な画質を得ることに
寄与する電子写真装置を提供することを目的とする。

【００１４】更に、本発明は、上記各目的に加え、メン
テナンスカバーを閉じて遮光シャッターを開け、又は、
メンテナンスカバーを閉じて遮光シャッター、反射ミラ
ー部シャッターを共に開けるときに、メンテナンスカバ
ーの閉時の衝撃に伴う振動の光源や同期光検出手段への
伝達を抑制し、光源、同期光検出手段の破損を防止する
電子写真装置を提供することを目的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１に係る電子写真装置は、光学走査装置を有
する電子写真装置であって、光学走査装置は、被走査体
上に静電潜像を形成するために光ビームを光源から発し
て発せられた光ビームを走査する前記電子写真装置にお
いて、前記電子写真装置の内部をメンテナンスするため
に設けられ、開閉自在なメンテナンスカバーと、前記光
学走査装置に設けられ、開閉自在とされ、開位置では光
路を開放し、閉位置では遮光するように光路を閉鎖する
遮光シャッターと、前記遮光シャッターがこの開閉中間
位置に中立位置を有してその中立位置を介し、遮光シャ
ッターが開方向側に位置するときは遮光シャッターを開
方向側へ付勢し、遮光シャッターが閉方向側に位置する
ときは遮光シャッターを閉方向へ付勢する遮光シャッタ
ー開閉用付勢手段と、前記メンテナンスカバーに設けら
れる係合部と、この係合部に対応して遮光シャッターに
設けられる対応係合部とを有し、メンテナンスカバーの
開動作に伴い係合部と対応係合部とが当接係合し、遮光
シャッターを開位置から押して移動させて遮光シャッタ
ー中立位置より遮光シャッター閉方向側へ位置させると
ともに、メンテナンスカバーの閉動作に伴い係合部と対
応係合部とが当接係合し、遮光シャッターを閉位置から
押して移動させて遮光シャッター中立位置より遮光シャ
ッター開方向側へ位置させ、メンテナンスカバーの閉状
態では、係合部と対応係合部とが離間する遮光シャッタ
ー開閉用係合手段と、を備えたことを特徴とする。

【００１６】請求項２に係る電子写真装置は、請求項１
の構成において、前記遮光シャッター開閉用係合手段
が、光学走査中央線を介して光源とは反対側に配置され
ることを特徴とする。

【００１７】請求項３に係る電子写真装置は、請求項１
の構成において、前記光学走査装置が、前記光源と光源
から発せられる光ビームを偏向走査する光偏向器と偏向
走査された光ビームを透過させて被走査体上に結像させ
る結像レンズ系とを有する光学走査部と、結像レンズ系
を透過した光ビームを被走査体に向けて反射させる反射
ミラーを有する反射ミラー部とに分割されて構成され、
前記遮光シャッターが光学走査部に設けられ、かつ、前
記反射ミラー部に設けられ、開閉自在とされ、開位置で
は光路を開放し、閉位置では反射ミラー部を覆うように
光路を閉鎖するシャッターと、前記反射ミラー部シャッ
ターが開閉中間位置に中立位置を有してその中立位置を
介し、反射ミラー部シャッターが開方向側に位置すると
きは反射ミラー部シャッターを開方向へ付勢し、反射ミ
ラー部シャッターが閉方向側に位置するときは反射ミラ
ー部シャッターを閉方向へ付勢する反射ミラー部シャッ
ター開閉用付勢手段と、前記メンテナンスカバーに設け
られる係合部と、この係合部に対応して反射ミラー部シ
ャッターに設けられる対応係合部とを有し、メンテナン
スカバーの開動作に伴い係合部と対応係合部とが当接係
合し、反射ミラー部シャッターを開位置から押して移動
させて反射ミラー部シャッター中立位置より反射ミラー
部シャッター閉方向側へ位置させるとともに、メンテナ
ンスカバーの閉動作に伴い係合部と対応係合部とが当接
係合し、反射ミラー部シャッターを閉位置から押して移
動させて反射ミラー部シャッター中立位置より反射ミラ
ー部シャッター開方向側へ位置させ、メンテナンスカバ
ーの閉状態では係合部と対応係合部とが離間する反射ミ
ラー部シャッター開閉用係合手段と、を備えたことを特
徴とする。

【００１８】請求項４に係る電子写真装置は、請求項３
の構成において、前記反射ミラー部シャッター開閉用係
合手段が、遮光シャッター開閉用係合手段と同じく、光
学走査中央線を介して光源とは反対側に配置されること
を特徴とする。

【００１９】請求項５に係る電子写真装置は、請求項１
の構成において、前記光学走査装置が、光源から発せら
れる光ビームに含まれる同期光を検出する同期光検出手
段を備えることを特徴とする。

【００２０】請求項６に係る電子写真装置は、請求項２
の構成において、前記光学走査装置が、光源から発せら
れる光ビームに含まれる同期光を検出する同期光検出手
段を備え、同期光検出手段が、光学走査中央線を介して
光源と同じ側に配置されることを特徴とする。

【００２１】請求項７に係る電子写真装置は、請求項３
の構成において、前記光学走査装置の反射ミラー部が、
光源から発せられる光ビームに含まれる同期光を検出す
る同期光検出手段を備えることを特徴とする。

【００２２】請求項８に係る電子写真装置は、請求項４
の構成において、前記光学走査装置の反射ミラー部が、
光源から発せられる光ビームに含まれる同期光を検出す
る同期光検出手段を備え、同期光検出手段が、光学走査
中央線を介して光源と同じ側に配置されることを特徴と
する。

【００２３】上記構成によれば、例えば、請求項３にあ
るように、光源から発せられた光ビームがポリゴンモー
タで偏向走査され、その走査された光ビームが結像レン
ズ系を通り、反射ミラーを経て、被走査体上に結像さ
れ、被走査体上には静電潜像が形成される。

【００２４】メンテナンスカバーは、通常は閉じられ、
メンテナンスカバーの閉状態では、遮光シャッターが開
放されて、光源からの光が通過可能である。

【００２５】メンテナンス時には、メンテナンスカバー
を開ける。これにより、例えば、被走査体を着脱するこ
とが可能となる。メンテナンスカバーの開状態では、遮
光シャッターが閉じられ、遮光がなされる。光源からの
光ビームは遮光シャッターで遮られ、遮光シャッター以
降に漏れ出ることがない。

【００２６】ここで、メンテナンスカバーの開時には、
それに伴い、メンテナンスカバーと遮光シャッターとの
間で遮光シャッター開閉用係合手段の係合部と対応係合
部とが当接係合し、遮光シャッターが開位置から閉位置
へ向けて押されて移動する。遮光シャッターがこの中間
位置にある中立位置を越えてそれより開方向側に到ると
遮光シャッター開閉用付勢手段の付勢力が遮光シャッタ
ーを閉方向へ付勢すべく作用して、それ以降はメンテナ
ンスカバーの開動作を要せずに遮光シャッター開閉用付
勢手段の付勢力によって遮光シャッターが閉位置まで移
動することができる。

【００２７】メンテナンスカバーの閉時には、それに伴
い、遮光シャッター開閉用係合手段の係合部と対応係合
部とが当接係合し、遮光シャッターが閉位置から開位置
へ向けて押されて移動する。遮光シャッターが上記中立
位置を越えてそれより開方向側に到ると遮光シャッター
開閉用付勢手段の付勢力が遮光シャッターを開位置へ付
勢すべく作用して、それ以降はメンテナンスカバーの閉
動作を要することなく遮光シャッター開閉用付勢手段の
付勢力によって遮光シャッターが開位置まで移動するこ
とができる。遮光シャッターの開位置では、係合部と対
応係合部とが離れる。

【００２８】これにより、遮光シャッターの開位置で
は、メンテナンスカバーと光学走査装置との間におい
て、遮光シャッター開閉用係合手段の係合部と係合部と
が接触せず、メンテナンスカバーの閉状態においてメン
テナンスカバーに衝撃が加わってもその衝撃に伴う振動
が遮光シャッターには伝達されず従ってその振動が光学
走査装置には伝達されず、良好な画質が得られる。

【００２９】請求項２にあるように、遮光シャッター開
閉用係合手段を、光学走査中央線を介して光源とは反対
側に配置する構成によれば、遮光シャッター開閉用係合
手段が光源から遠方となり、その遠方となる分、メンテ
ナンスカバーを閉じて遮光シャッターを開けるときにメ
ンテナンスカバーの閉時の衝撃に伴い遮光シャッター開
閉用係合手段の係合部と対応係合部との当接係合を介し
て生ずる振動の光源への伝達が抑制され、振動に起因す
る光源の破損が防止される。

【００３０】請求項３の構成では、光学走査装置が光学
走査部と反射ミラー部とに分割されて構成されて、例え
ば、両者間にメンテナンス開口を形成して、メンテナン
ス時には、メンテナンスカバーを開けて上記メンテナン
ス開口を通して、被走査体を着脱することができる。

【００３１】メンテナンスカバーの開状態では、遮光シ
ャッターが閉じられるとともに、反射ミラー部シャッタ
ーも閉じられ、メンテナンスカバーの閉状態では、遮光
シャッターが開けられるとともに、反射ミラー部シャッ
ターも開けられる。

【００３２】従って、上述のメンテナンス開口を通して
被走査体を着脱する際にも、そのメンテナン開口には、
反射ミラー部の反射ミラーの反射面は露出せず、メンテ
ナンス作業を行うときに作業者が反射ミラーに触れてし
まうようなことが防止される。

【００３３】そして、遮光シャッターは、請求項１につ
いて説明した如く開閉し、反射ミラー部シャッターも、
その遮光シャッターと同様に開閉する。

【００３４】すなわち、メンテナンスカバーの開時に
は、それに伴い、メンテナンスカバーと反射ミラー部シ
ャッターとの間で反射ミラー部シャッター開閉用係合手
段の係合部と対応係合部とが当接係合し、反射ミラー部
シャッターが開位置から閉位置へ向けて押されて移動す
る。反射ミラー部シャッターがこの中間位置にある中立
位置を越えてそれより開方向側に到ると反射ミラー部シ
ャッター開閉用付勢手段の付勢力が反射ミラー部シャッ
ターを閉方向へ付勢すべく作用して、それ以降はメンテ
ナンスカバーの開動作を要せずに反射ミラー部シャッタ
ー開閉用付勢手段の付勢力によって反射ミラー部シャッ
ターが閉位置まで移動することができる。

【００３５】メンテナンスカバーの閉時には、それに伴
い、反射ミラー部シャッター開閉用係合手段の係合部と
対応係合部とが当接係合し、反射ミラー部シャッターが
閉位置から開位置へ向けて押されて移動する。反射ミラ
ー部シャッターが上記中立位置を越えてそれより開方向
側に到ると反射ミラー部シャッター開閉用付勢手段の付
勢力が反射ミラー部シャッターを開位置へ付勢すべく作
用して、それ以降はメンテナンスカバーの閉動作を要す
ることなく反射ミラー部シャッター開閉用付勢手段の付
勢力によって反射ミラー部シャッターが開位置まで移動
することができる。反射ミラー部シャッターの開位置で
は、反射ミラー部シャッター開閉用係合手段の係合部と
対応係合部とが離れる。

【００３６】これにより、遮光シャッター、反射ミラー
部シャッターの両開位置では、メンテナンスカバーと光
学走査装置との間において、遮光シャッター開閉用係合
手段の係合部と対応係合部とが接触せず、反射ミラー部
シャッター開閉用係合手段の係合部と対応係合部とが接
触せず、メンテナンスカバーの閉状態においてメンテナ
ンスカバーに衝撃が加わってもその衝撃に伴う振動が遮
光シャッター、反射ミラー部シャッターのいずれにも伝
達されず従ってその振動が光学走査装置には伝達され
ず、良好な画質が得られる。

【００３７】請求項４にあるように、遮光シャッター開
閉用係合手段と反射ミラー部シャッターとを、光学走査
中央線を介して光源とは反対側に配置する構成によれ
ば、遮光シャッター開閉用係合手段、反射ミラー部シャ
ッターのいずれも光源から遠方となり、その遠方となる
分、メンテナンスカバーを閉じて遮光シャッター、反射
ミラー部シャッターを開けたるきにメンテナンスカバー
の閉時の衝撃に伴い遮光シャッター開閉用係合手段の係
合部と対応係合部との当接係合、反射ミラー部シャッタ
ー開閉用係合手段の係合部と対応係合部との当接係合を
介して生ずる振動の光源への伝達が抑制され、振動に起
因する光源の破損が防止される。

【００３８】請求項５乃至８の構成によれば、光源から
発せられる光ビームに含まれる同期光が同期光検出手段
で検出される。検出された同期光は、画像信号に対する
同期信号として用いられる。

【００３９】そして、請求項６では、光源の破損の防止
に加え、遮光シャッター開閉用係合手段が同期光検出手
段からも遠方となってその遠方となる分、メンテナンス
カバーを閉じて遮光シャッターを開けるときにメンテナ
ンスカバーの閉時の衝撃に伴い遮光シャッター開閉用係
合手段の係合部と対応係合部との当接係合を介して生ず
る振動の同期光検出手段への伝達が抑制され、振動に起
因する同期光検出手段の劣化も防止される。

【００４０】また、請求項８では、光源の劣化の防止に
加え、遮光シャッター開閉用係合手段、反射ミラー部シ
ャッター開閉用係合手段が共に同期光検出手段からも遠
方となってその遠方となる分、メンテナンスカバーを閉
じて遮光シャッター、反射ミラー部シャッターを開ける
ときにメンテナンスカバーの閉時の衝撃に伴い遮光シャ
ッター開閉用係合手段の係合部と対応係合部との当接係
合、反射ミラー部シャッター開閉用係合手段の係合部と
対応係合部との当接係合を介して生ずる振動の同期光検
出手段への伝達が抑制され、振動に起因する同期光検出
手段の劣化も防止される。

【００４１】

【発明の実施の形態】本発明に係る電子写真装置の第１
の実施の形態を、図１乃至図８に基づき説明する。

【００４２】図１及ぶ図３に示すように、電子写真装置
は、本体フレーム１０内に、光学走査装置１２を備え
る。光学走査装置１２は、光学走査部１４と、反射ミラ
ー部１６とに分割されて構成されている。光学走査部１
４は、光学フレーム１８内に、光源２０、ポリゴンモー
タ２２、結像レンズ系２４を備え、光学フレーム１８
は、上方が開放された光学箱とされ、光学フレーム１８
の開放上部は、図示を省略する光学箱カバーで閉成され
ている。また、光学フレーム１８は、本体フレーム１０
に、５か所でスクリューボルト２６止めされて固定され
ている。

【００４３】反射ミラー部１６では、反射ミラーフレー
ム２８に、反射ミラー３０と、同期光検出装置（同期光
検出手段）３２とが取り付けられる。反射ミラーフレー
ム２８は、本体フレーム１０にスクリューボルト９２を
用いて固定され、反射ミラー３０は、反射ミラーフレー
ム２８にボルト９６止めされた押さえプレート９４で押
さえ付けられて所定位置に保持される。

【００４４】光源２０から発せられたレーザ光（光ビー
ム）が情報を含んで、ポリゴンモータ２２によって偏向
されて主走査され、走査されたレーザ光が、結像レンズ
系２４を透過し、反射ミラー３０で反射されて感光ドラ
ム３４上に到り、結像される。図１には、レーザ光が光
路Ｂで示されている。

【００４５】感光ドラム３４は、光学走査装置１２の下
側に配置されている。感光ドラム３４には、帯電手段に
よって均一に帯電されており、レーザ光の走査によって
感光ドラム３４に露光がなされて静電潜像が形成され
る。その後、感光ドラム３４に、現像手段３６によって
トナー像が形成される。感光ドラム３４、現像手段３６
は、プロセスカートリッジ４８に収容され、プロセスカ
ートリッジ４８は、プロセスカートリッジ位置決め部材
５０に支持される。

【００４６】一方、トナー像と同期して、記録紙が紙送
り手段によって搬送され、記録紙は、定着手段３８を経
て定着がなされ、排出される。記録紙の搬送路４０が複
数対の搬送ローラ４２間に形成され、記録紙は、矢印Ａ
の向きに図１において左方へ搬送される。

【００４７】また、反射ミラー部１６にある同期光検出
装置３２は、感光ドラム３４への走査に先行してレーザ
光に含まれる同期光を検出し、それに基づき、感光ドラ
ム３４への画像書き込みタイミングの基準信号を出力す
る。

【００４８】なお、光学フレーム１８の本体フレーム１
０への固定にあたっては、光源２０近傍では、光源２０
から発せられるレーザ光に対して左右略均等に、結像レ
ンズ系２４近傍では、結像レンズ系の中心に対して左右
略均等にそれぞれスクリューボルト２６止めすることに
より、ポリゴンミラー２２や外部からの振動に対する光
源２０、結像レンズ系２４の耐振化が果たされる。

【００４９】ここで、光学走査装置１２を構成する光学
走査部１４と反射ミラー部１６とは離間されて、その間
がメンテナンス開口５２とされ、メンテナンス開口５２
に対向して、本体フレーム１０の上部には、メンテナン
スカバー４４が設けられている。メンテナンスカバー４
４は、この一端部が支軸４６で本体フレーム１０に支持
されて、支軸４６の軸線回りに上下方向に回動して開閉
自在とされる。メンテナンスカバー４４の他端部は、本
体フレーム１０との間に図示を省略するラッチ機構を備
え、ラッチ機構は、メンテナンスカバー４４の閉状態を
保持すべくロックする。

【００５０】図２に示すように、メンテナンスカバー４
４を上方へ開ければ、メンテナンス開口５２が外部と連
通され、電子写真装置内部のメンテナンスを行うことが
できる。図２には、メンテナンス開口５２を通して矢印
ＯＵＴの向きに取り出されたプロセスカートリッジ４８
が鎖線で示されている。

【００５１】さて、光学走査部１４のメンテナンス開口
５２側には、遮光シャッター５４が設けられている。遮
光シャッター５４は、シャッター軸５６で光学フレーム
１８に支持され、シャッター軸５６の軸線回りに回動し
て開閉自在とされる。図１に示す遮光シャッター５４の
開位置では、光路Ｂが開放され、図２に示す遮光シャッ
ター５４の閉位置では、光路Ｂが閉鎖されて光源２０側
が遮蔽される。光学フレーム１８外において、シャッタ
ー軸５６にはこの半径方向に、遮光シャッター５４と一
体に回動する開用レバー５８と閉用レバー６０と（開用
レバー５８と閉用レバー６０とは、後述の作動突起７２
に対応する対応係合部を構成する）が延設され、開用レ
バー５８と閉用レバー６０とは直交する。

【００５２】光学フレーム１８の内底には、ストッパ６
２が突設されている。遮光シャッター５４が開位置から
閉方向へ回動して遮光シャッター５４の先端部がストッ
パと当接すると、遮光シャッター５４の同方向へのそれ
以上の回動が阻止され、遮光シャッター５４は閉位置を
得る。

【００５３】シャッター軸５６を介して閉用レバー６０
と反対側には、遮光シャッター５４と一体に回動する係
止部６４が設けられ、係止部６４に対応して光学フレー
ム１８には、対応係止部６６が設けられ、係止部６４と
対応係止部６６との間には、コイルスプリング（遮光シ
ャッター開閉用付勢手段）６８が介在される。遮光シャ
ッター５４は開閉中間位置において、図４（Ｃ）に示す
ように、係止部６４と対応係止部６６とがシャッター軸
５６を介して一直線上に位置する中立位置（遮光シャッ
ター中立位置）を有し、コイルスプリング６８は、その
中立位置を介し、遮光シャッター５４が開方向側へ位置
すると遮光シャッター５４を開方向側へ付勢し、遮光シ
ャッター５４が閉方向側へ位置すると遮光シャッター５
４を閉方向側へ付勢する。

【００５４】一方、開用レバー５８、閉用レバー６０に
対応してメンテナンスカバー４４には内面に、作動脚７
０が突設されている。作動脚７０は、突設先端がＬ字型
に屈曲されて、そこが、作動突起（係合部）７２とされ
る。

【００５５】上記の開用レバー５８、閉用レバー６０
と、作動突起７２とは、遮光シャッター開閉用係合手段
を構成し、それらは、以下に説明する関係を有する。

【００５６】すなわち、図１及び図４（Ａ）に示すよう
に、メンテナンスカバー４４の閉状態では、遮光シャッ
ター５４がコイルスプリング６８の付勢力によって開位
置に付勢保持されて、メンテナンスカバー４４の作動脚
７０の作動突起７２は、遮光シャッター５４の開用レバ
ー５８、閉用レバー６０と離れている。メンテナンスカ
バーを閉状態から開く場合には、図４（Ｂ）に示すよう
に、メンテナンスカバー４４の矢印ＭＯＰの向きの開動
作に伴い、作動突起７２が上昇して閉用レバー６０と当
接し、閉用レバー６０を押し上げる。これにより、遮光
シャッター５４が、開位置から、コイルスプリング６８
の付勢力に抗して矢印ＳＣＬの向きへシャッター閉方向
側へ回動を開始する。遮光シャッター５４が遮光シャッ
ター中立位置（図４（Ｃ）の位置）を越えて遮光シャッ
ター閉方向側へ到ると、コイルスプリング６８の付勢力
は、遮光シャッター５４を閉方向側に付勢する。

【００５７】それ以降は、遮光シャッター５４は、コイ
ルスプリング６８の付勢力によって遮光シャッター閉方
向側へ回動し、図２及び図４（Ｄ）に示す閉位置を得
る。作動突起７２は閉用レバー５８と離れ、メンテナン
スカバー４４は開限界位置まで回動を続ける。

【００５８】逆に、メンテナンスカバー開状態から閉じ
る場合には、図５（Ａ）に示すように、メンテナンスカ
バー４４の矢印ＭＣＬの向きへの閉動作に伴い、作動突
起７２が閉用レバー６０と当接して、閉用レバー６０を
押し下げる。これにより、遮光シャッター５４がコイル
スプリング６８の付勢力に抗して矢印ＳＯＰの向きへ遮
光シャッター開方向側に回動を開始する。遮光シャッタ
ー５４が遮光シャッター中立位置（図５（Ｂ）の位置）
を越えて遮光シャッター開方向側へ到ると、コイルスプ
リング６８の付勢力は、遮光シャッター５４を開方向側
に付勢する。

【００５９】それ以降は、遮光シャッター５４はコイル
スプリング６８の付勢力によって開方向側へ回動し、開
位置を得る。メンテナンスカバー４４は、作動突起７２
が閉用レバー６０と離れ、また、開用レバー５８とも離
れて閉状態に復帰する。

【００６０】一方、反射ミラー部１６のメンテナンス開
口５２側に、反射ミラー部シャッター７４が設けられて
いる。反射ミラー部シャッター７４は、シャッター軸７
６を介して反射ミラーフレーム２８に支持され、シャッ
ター軸７６の軸線回りに回動して、開閉自在とされる。
反射ミラー部シャッター７４の開位置では、反射ミラー
３０、同期光検出手段３２への光路を開放し、反射ミラ
ー部シャッター７４の閉位置では、反射ミラー３０、同
期光検出手段３２への光路を閉鎖する。

【００６１】反射ミラー部シャッター７４についても、
上記遮光シャッター開閉用係合手段に対応する反射ミラ
ー部シャッター開閉用係合手段と、上記遮光シャッター
開閉用付勢手段に対応する反射ミラー部シャッター開閉
用付勢手段とがそれぞれ設けられている。

【００６２】すなわち、反射ミラーフレーム２８外にお
いて、シャッター軸７６にはこの半径方向に、反射ミラ
ー部シャッター７４と一体に回動する開用レバー７８と
閉用レバー８０と（開用レバー７８と閉用レバー８０と
は対応係合部を構成する）が延設され、開用レバー７８
と閉用レバー８０とは直交する。

【００６３】反射ミラーフレーム２８の内底には、スト
ッパ８３が設けられている。反射ミラー部シャッター７
４が開位置から閉方向へ回動して反射ミラー部シャッタ
ー７４の先端部がストッパ８３と当接すると、反射ミラ
ー部シャッター７４の同方向へのそれ以上の回動が阻止
され、反射ミラー部シャッター７４は閉位置を得る。

【００６４】シャッター軸７６を介して開用レバー７８
と反対側には、反射ミラー部シャッター７４と一体に回
動する係止部８２が設けられ、係止部８２に対応して反
射ミラーフレーム２８には、対応係止部８４が設けら
れ、係止部８２と対応係止部８４との間には、コイルス
プリング（反射ミラー部シャッター開閉用付勢手段）８
６が介在される。反射ミラー部シャッター７４は開閉中
間位置において、図６（Ｃ）に示すように、係止部８２
と対応係止部８４とがシャッター軸７６を介して一直線
上に位置する中立位置（反射ミラー部シャッター中立位
置）を有し、コイルスプリング８６は、その中立位置を
介し、反射ミラー部シャッター７４が開方向側へ位置す
ると反射ミラー部シャッター７４を開方向側へ付勢し、
反射ミラー部シャッター７４が閉方向側へ位置すると反
射ミラー部シャッター７４を閉方向側へ付勢する。

【００６５】一方、開用レバー７８、閉用レバー８０に
対応して、メンテナンスカバー４４には内面に、作動脚
８８が突設されている。作動脚８８は、突設先端がＬ字
型に屈曲されて、そこが、作動突起（係合部）９０とさ
れる。

【００６６】開用レバー７８、閉用レバー８０と、作動
突起９０とが、反射ミラー部シャッター開閉用係合手段
を構成し、それらは、上記遮光シャッター開閉用係合手
段と同様な以下の関係を有する。

【００６７】すなわち、図１及び図６（Ａ）に示すよう
に、メンテナンスカバー４４の閉状態では、反射ミラー
部シャッター７４がコイルスプリング８６の付勢力によ
って開位置に付勢保持されて、メンテナンスカバー４４
の作動脚８８の作動突起９０は、反射ミラー部シャッタ
ー７４の開用レバー７８、閉用レバー８０とは離れてい
る。メンテナンスカバー４４を閉状態から開く場合に
は、図６（Ｂ）に示すように、メンテナンスカバー４４
の矢印ＭＯＰの向きへの開動作に伴い、作動突起９０が
上昇して閉用レバー８０と当接し、閉用レバー８０を押
し上げる。これにより、反射ミラー部シャッター７４
が、コイルスプリング８６の付勢力に抗して矢印ＳＣＬ
の向きへ閉方向側に回動を開始する。反射ミラー部シャ
ッター７４が反射ミラー部シャッター中立位置（図６
（Ｃ）の位置）を越えて反射ミラー部シャッター閉方向
側へ到ると、コイルスプリング８６の付勢力は、反射ミ
ラー部シャッター７４を閉方向側に付勢する。

【００６８】それ以降は、反射ミラー部シャッター７４
は、コイルスプリング８６の付勢力によって反射ミラー
部シャッター閉方向側へ回動し、図２及び図６（Ｄ）に
示す閉位置を得る。作動突起９０は閉用レバー８０と離
れ、メンテナンスカバー４４は開状態まで回動を続け
る。

【００６９】逆に、メンテナンスカバー開状態から閉じ
る場合には、図７（Ａ）に示すように、メンテナンスカ
バー４４の矢印ＭＣＬの向きへの閉動作に伴い、作動突
起９０が開用レバー７８と当接して、開用レバー７８を
押し下げる。これにより、反射ミラー部シャッター７４
がコイルスプリング８６の付勢力に抗して矢印ＳＯＰの
向きへ開方向側に回動を開始する。反射ミラー部シャッ
ター７４が反射ミラー部シャッター中立位置（図７
（Ｂ）の位置）を越えて反射ミラー部シャッター開方向
側へ到ると、コイルスプリング８６の付勢力は、反射ミ
ラー部シャッター７４を開方向側に付勢する。それ以降
は、反射ミラー部シャッター７４はコイルスプリング８
６の付勢力によって開方向側へ回動し、開位置を得て、
メンテナンスカバー４４は、作動突起８０が開用レバー
７８と離れ、また、閉用レバー８０とも離れて閉状態に
復帰する。

【００７０】なお、上記遮光シャッター５４について、
ストッパ６２と遮光シャッター５４との間に、また、上
記反射ミラー部シャッター７４について、ストッパ８３
と反射ミラー部シャッター７４との間にそれぞれ、図示
は省略するが、緩衝部材、例えば、ゴム材等を設けるこ
とにより、それらシャッター５４、７４の閉時の衝撃を
緩和することができる。

【００７１】図３に示すように、遮光シャッター開閉用
係合手段を構成する開用レバー５８、閉用レバー６０
と、作動突起７２とは、並びに、反射ミラー部シャッタ
ー開閉用係合手段を構成する開用レバー７８、閉用レバ
ー８０と、作動突起９０とはそれぞれ、光源２０、同期
光検出手段３２と、光学走査中央線Ｓを介して反対側に
配置されている。

【００７２】上記構成によれば、光源２０から発せられ
たレーザ光がポリゴンモータ２２で偏向走査され、その
走査された光が結像レンズ系２４を通り、反射ミラー３
０を経て、感光ドラム３４上に結像され、感光ドラム３
４上には静電潜像が形成される。

【００７３】メンテナンスカバー４４は、通常は閉じら
れ、メンテナンスカバー４４の閉状態では、遮光シャッ
ター５４が開放されて、光源２０からのレーザ光が通過
可能である。

【００７４】メンテナンス時には、メンテナンスカバー
４４を開ける。これにより、例えば、感光ドラム３４を
着脱することが可能となる。メンテナンスカバー４４の
開状態では、遮光シャッター５４が閉じられ、遮光がな
される。光源２０からのレーザ光が遮光シャッター５４
で遮られ、遮光シャッター５４以降に漏れ出ることがな
い。光学走査部１４と反射ミラー部１６との間に形成さ
れるメンテナンス開口５２を通して、例えば、感光ドラ
ム３４を含むプロセスカートリッジ４８を着脱すること
ができる。

【００７５】ここで、メンテナンスカバー４４の開時に
は、それに伴い、メンテナンスカバー４４の作動突起７
２が遮光シャッター５４の閉用レバー６０と当接係合
し、遮光シャッター５４が開位置から閉位置へ向けて押
されて移動する。遮光シャッター５４がこの中間位置に
ある中立位置を越えてそれより開方向側に到るとコイル
スプリング６８の付勢力が遮光シャッター５４を閉方向
へ付勢すべく作用して、それ以降はメンテナンスカバー
４４の開動作を要せずにコイルスプリング６８の付勢力
によって遮光シャッター５４が閉位置まで移動すること
ができる。

【００７６】メンテナンスカバー４４の閉時には、それ
に伴い、メンテナンスカバー４４の作動突起７２が遮光
シャッター５４の開用レバー５８と当接係合し、遮光シ
ャッター５４が閉位置から開位置へ向けて押されて移動
する。遮光シャッター５４が上記中立位置を越えてそれ
より開方向側に到るとコイルスプリング６８の付勢力が
遮光シャッター５４を開位置へ付勢すべく作用して、そ
れ以降はメンテナンスカバー４４の閉動作を要せずにコ
イルスプリング６８の付勢力によって遮光シャッター５
４が開位置まで移動することができる。遮光シャッター
５４の開位置では、メンテナンスカバー４４の作動突起
７２が遮光シャッター５４の開用レバー５８、閉用レバ
ー６０と離れる。

【００７７】一方、メンテナンスカバー４４の開状態で
は、遮光シャッター５４が閉じられるとともに、反射ミ
ラー部シャッター７４も閉じられ、メンテナンスカバー
４４の閉状態では、遮光シャッター５４が開けられると
ともに、反射ミラー部シャッター７４も開けられる。

【００７８】従って、メンテナンス時にメンテナンスカ
バー４４を開けて、メンテナンス開口５２を通してプロ
セスカートリッジ４８を着脱する際にも、そのメンテナ
ンス開口５２には、反射ミラー部５４の反射ミラー３０
の反射面、同期光検出手段３２の検出面は露出せず、メ
ンテナンス作業を行うときに作業者が反射ミラーの反射
面、同期光検出手段３２の検出面に触れてしまうような
ことが防止される。

【００７９】反射ミラー部シャッター７４は、遮光シャ
ッター５４と同様に開閉する。すなわち、メンテナンス
カバー４４の開時には、それに伴い、メンテナンスカバ
ー４４の作動突起９０と、反射ミラー部シャッター７４
の開用レバー７８、閉用レバー８０とが当接係合し、反
射ミラー部シャッター７４が開位置から閉位置へ向けて
押されて移動する。反射ミラー部シャッター７４がこの
中間位置にある中立位置を越えてそれより開方向側に到
るとコイルスプリング８６が反射ミラー部シャッター７
４を閉方向へ付勢すべく作用して、それ以降はメンテナ
ンスカバー４４の開動を要せずにコイルスプリング８６
の付勢力によって反射ミラー部シャッター７４が閉位置
まで移動することができる。

【００８０】メンテナンスカバー４４の閉時には、それ
に伴い、作動突起９０と開用レバー７８、閉用レバー８
０とが当接係合し、反射ミラー部シャッター７４が閉位
置から開位置へ向けて押されて移動する。反射ミラー部
シャッター７４が上記中立位置を越えてそれより開方向
側に到るとコイルスプリング８６の付勢力が反射ミラー
部シャッター７４を開位置へ付勢すべく作用して、それ
以降はメンテナンスカバー４４の開動を要せずにコイル
スプリング８６の付勢力によって反射ミラー部シャッタ
ー７４が開位置まで移動することができる。反射ミラー
部シャッター７４の開位置では、メンテナンスカバー４
４の作動突起９０が、反射ミラー部シャッター７４の開
用レバー７８、閉用レバー８０と離れる。

【００８１】これにより、遮光シャッター５４の開位置
では、メンテナンスカバー４４と光学走査装置との間に
おいて、遮光シャッター５４に係り、作動突起７２と開
用レバー５８、閉用レバー６０とが接触せず、また、反
射ミラー部シャッター７４に係り、作動突起９０と開用
レバー７８、閉用レバー８０とが接触せず、図８に示す
ように、メンテナンスカバー４４の閉状態においてメン
テナンスカバー４４に衝撃Ｐが加わってもその衝撃に伴
う振動が遮光シャッター５４、反射ミラー部シャッター
７４には伝達されず従ってその振動が光学走査装置１２
（光学走査部１４、反射ミラー部１６）には伝達され
ず、良好な画質が得られる。図８には、衝撃Ｐを受けて
変形するメンテナンスカバー４４、その作動脚７０の作
動突起７２、作動脚８８の作動突起９０が鎖線で示され
ている。

【００８２】また、遮光シャッター開閉用係合手段を構
成するメンテナンスカバー４４の作動突起７２と、遮光
シャッター５４の開用レバー５８、閉用レバー６０と
を、また、反射ミラー部シャッター開閉用係合手段を構
成するメンテナンスカバー４４の作動突起９０と、遮光
シャッター７４の開用レバー７８、閉用レバー８０と
を、光学走査中央線Ｓを介して光源２０、同期光検出装
置３２とは反対側に配置することにより、作動突起７２
と、開用レバー５８、閉用レバー６０とが光源２０から
遠方となり、また、作動突起９０と、開用レバー７８、
閉用レバー８０とが光源２０から遠方となり、その遠方
となる分、メンテナンスカバー４４を閉じて遮光シャッ
ター５４を開け、また、反射ミラー部シャッター７４を
開けるときにメンテナンスカバー４４の閉時の衝撃に伴
い作動突起７２と開用レバー５８との当接係合、作動突
起９０と開用レバー７８との当接係合を介して生ずる振
動の光源２０、同期光検出装置３２への伝達が抑制さ
れ、振動に起因する光源２０、同期光検出装置３２の破
損が防止される。

【００８３】次に、第２の実施の形態に係る電子写真装
置を図９乃至図１４に基づき説明する。

【００８４】本実施の形態では、図９及び図１１に示す
ように、光学走査部と反射ミラー部とが一体化されて、
光学走査装置３１４（第１の実施の形態の光学走査装置
１２に対応する）が光学フレーム３００に組み込まれて
いる。光学フレーム３００は、本体フレーム１０にスク
リューボルト３０２を用いて固定される。

【００８５】また、メンテナンスカバー３０４（第１の
実施の形態のメンテナンスカバー４４に対応する）は、
Ｌ字型に屈曲された形状とされ、カバー軸３０５の軸線
回りに上方へ回動して得られるメンテナンスカバー３０
４の開状態では、図１０に示すように、記録紙の搬入口
３０６の上方が開放されてそこがメンテナンス開口３０
８とされる。

【００８６】光学フレーム３００の底には、レーザ光通
過孔３１０が形成され、反射ミラー３０から反射された
レーザ光がレーザ光通過孔３１０を通って、感光ドラム
３４上に到達する。

【００８７】本実施の形態の遮光シャッター３１２は、
その閉位置では、レーザ光通過孔３１０を外側から覆う
ようにされ、シャッター軸３１６で光学フレーム３００
に支持されて、シャッター軸３１６の軸線回りに回動し
て、開閉自在とされる。

【００８８】シャッター軸３１６にはこの半径方向に、
光学フレーム３００外において、遮光シャッター３１２
と一体に回動する開用レバー３１８と閉用レバー３２０
と（開用レバー３１８と閉用レバー３２０とが対応係合
部を構成する）が延設され、開用レバー３１８と閉用レ
バー３２０とは直交する。

【００８９】遮光シャッター３１２が開位置から閉方向
へ回動して遮光シャッター３１２が光学フレーム３００
の底外面においてレーザ光通過孔３１０の周部と当接す
ると、遮光シャッター３１２の同方向へのそれ以上の回
動が阻止され、遮光シャッター３１２は閉位置を得る。

【００９０】シャッター軸３１６を介して閉用レバー３
２０と反対側には、遮光シャッター３１２と一体に回動
する係止部３２２が設けられ、係止部３２２に対応して
光学フレーム３００には、対応係止部３２４が設けら
れ、係止部３２２と対応係止部３２４との間には、コイ
ルスプリング（遮光シャッター開閉用付勢手段）３２６
が介在される。遮光シャッター３１２は開閉中間位置に
おいて、図１２（Ｂ）に示すように、係止部３２２と対
応係止部３２４とがシャッター軸３１６を介して一直線
上に位置する中立位置（遮光シャッター中立位置）を有
し、コイルスプリング３２６は、その中立位置を介し、
遮光シャッター３１２が開方向側へ位置すると遮光シャ
ッター３１２を開方向側へ付勢し、遮光シャッター３１
２が閉方向側へ位置すると遮光シャッター３１２を閉方
向側へ付勢する。

【００９１】一方、開用レバー３１８、閉用レバー３２
０に対応して、メンテナンスカバー３０４には内面に、
作動脚３２８が突設されている。作動脚３２８は、突設
先端がＬ字型に屈曲されて、そこが、作動突起（係合
部）３３０とされる。

【００９２】遮光シャッター３１２の開用レバー３１
８、閉用レバー３２０と、メンテナンスカバー３０４の
作動脚３２８の作動突起３３０とは、遮光シャッター開
閉用係合手段を構成し、それらは、以下に説明する関係
を有する。

【００９３】すなわち、図９に示すように、メンテナン
スカバー３０４の閉状態では、遮光シャッター３１２が
コイルスプリング３２６の付勢力によって開位置に付勢
保持されて、メンテナンスカバー３０４の作動脚３２８
の作動突起３３０は、遮光シャッター３１２の開レバー
３１８、閉レバー３２０とは離れている。メンテナンス
カバー３０４を閉状態から開く場合には、図１２（Ａ）
に示すように、メンテナンスカバー３０４の矢印ＭＯＰ
の向きへの開動作に伴い、作動突起３３０が上昇して閉
用レバー３２０と当接し、閉用レバー３２０を押し上げ
る。これにより、遮光シャッター３１２が、コイルスプ
リング３２６の付勢力に抗して矢印ＳＣＬの向きへ閉方
向側に回動を開始する。遮光シャッター３１２が遮光シ
ャッター中立位置（図１２（Ｂ）の位置）を越えて遮光
シャッター閉方向側へ到ると、コイルスプリング３２６
の付勢力は、遮光シャッター３１２を閉方向側に付勢す
る。

【００９４】それ以降は、メンテナンスカバー３０４の
開動作を要せずに遮光シャッター３１２は、コイルスプ
リング３２６の付勢力によって遮光シャッター閉方向側
へ回動し、図１０に示す閉位置を得る。作動突起３３０
は閉用レバー３２０と離れ、メンテナンスカバー３０４
は開限度位置まで回動を続ける。

【００９５】逆に、メンテナンスカバー３０４を開状態
から閉じる場合には、図１３（Ａ）に示すように、メン
テナンスカバー３０４の矢印ＭＣＬの向きの閉動作に伴
い、作動突起３３０が開レバー３１８と当接して、開レ
バー３１８を押し下げる。これにより、遮光シャッター
３１２がコイルスプリング３２６の付勢力に抗して矢印
ＳＯＰの向きへ開方向側に回動を開始する。遮光シャッ
ター３１２が遮光シャッター中立位置（図１３（Ｂ）の
位置）を越えて遮光シャッター開方向側へ到ると、コイ
ルスプリング３２６の付勢力は、遮光シャッター３１２
を開方向側に付勢する。

【００９６】それ以降は、メンテナンスカバー３０４の
閉動作を要せずに遮光シャッター３１２はコイルスプリ
ング３２６の付勢力によって開方向側へ回動し、図９に
示す開位置を得て、メンテナンスカバー３０４は、作動
突起３３０が閉用レバー３１８と離れ、また、閉用レバ
ー３２０とも離れて図９に示す開状態に復帰する。

【００９７】上記構成によれば、遮光シャッター３１２
の開位置では、メンテナンスカバー４４と光学走査装置
との間において、作動突起３３０と開用レバー３１８、
閉用レバー３２０とが接触せず、図１４に示すように、
メンテナンスカバー３０４の閉状態においてメンテナン
スカバー３０４に衝撃Ｐが加わってもその衝撃に伴う振
動が遮光シャッター３１２には伝達されず従ってその振
動が光学走査装置には伝達されず、良好な画質が得られ
る。図１４には、衝撃Ｐを受けて変形するメンテナンス
カバー３０４、その作動脚３２８の作動突起３３０が鎖
線で示されている。

【００９８】また、図１１に示すように、遮光シャッタ
ー開閉用係合手段を構成するメンテナンスカバー３０４
の作動突起３３０と、遮光シャッター３１２の開用レバ
ー３１８、閉用レバー３２０とは、光学走査中央線Ｓを
介して光源２０、同期光検出装置３２とは反対側に配置
されている。これにより、作動突起３３０と、開用レバ
ー３１８、閉用レバー３２０とが光源２０から遠方とな
り、その遠方となる分、メンテナンスカバー３０４を閉
じて遮光シャッター３１２を開けるときにメンテナンス
カバー３０４の閉時の衝撃に伴い作動突起３３０と開用
レバー３１８との当接係合を介して生ずる振動の光源２
０、同期光検出装置３２への伝達が抑制され、振動に起
因する光源２０、同期光検出装置３２の破損がそれぞれ
防止される。

【００９９】なお、本実施の形態では、メンテナンスカ
バー３０４の開状態では、反射ミラー３０から感光ドラ
ム３４へ向かう反射光が通過するレーザ光通過孔３１０
が、光学フレーム３００の外側から遮光シャッター３１
２によって覆うようにされるので、遮光シャッター３１
２はメンテナンス時の遮光機能に加えて、メンテナンス
時に反射ミラー３０の反射面、同期光検出手段３２の検
出面をメンテナンス開口３０８へは露出させず、メンテ
ナンス作業中に作業者が反射ミラー３０の反射面、同期
光検出手段３２の検出面に触れてしまうようなことを防
止する機能も共に果たす。

【０１００】他の構成、作用効果は第１の実施の形態と
同様である。

【０１０１】

【発明の効果】請求項１乃至８の本発明の電子写真装置
によれば、遮光シャッターの開位置では、メンテナンス
カバーと光学走査装置との間において、遮光シャッター
開閉用係合手段が接触せず、メンテナンスカバーの閉状
態においてメンテナンスカバーに衝撃が加わってもその
衝撃に伴う振動が遮光シャッターには伝達されず従って
その振動が光学走査装置には伝達されず、良好な画質が
得られる。

【０１０２】また、請求項２によれば、遮光シャッター
開閉用係合手段が光源から遠方となり、その遠方となる
分、メンテナンスカバーを閉じて遮光シャッターを開け
るときにメンテナンスカバーの閉時の衝撃に伴う振動の
光源への伝達が抑制され、振動に起因する光源の劣化が
防止される。

【０１０３】請求項３によれば、メンテナンス時にメン
テナンスカバーを開けて、メンテナンス開口を通して、
例えば、被走査体を着脱する際にも、そのメンテナン開
口には、反射ミラー部の反射ミラーの反射面は露出せ
ず、メンテナンス作業を行うときに作業者が反射ミラー
に触れてしまうようなことが防止される。

【０１０４】また、遮光シャッター、反射ミラー部シャ
ッターの両開位置では、メンテナンスカバーと光学走査
装置との間において、遮光シャッター開閉用係合手段の
係合部と対応係合部とが接触せず、反射ミラー部シャッ
ター開閉用係合手段の係合部と対応係合部とが接触せ
ず、メンテナンスカバーの閉状態においてメンテナンス
カバーに衝撃が加わってもその衝撃に伴う振動が遮光シ
ャッター、反射ミラー部シャッターのいずれにも伝達さ
れず従ってその振動が光学走査装置には伝達されず、良
好な画質が得られる。

【０１０５】請求項４によれば、遮光シャッター開閉用
係合手段、反射ミラー部シャッターのいずれも光源から
遠方となり、その遠方となる分、メンテナンスカバーを
閉じて遮光シャッター、反射ミラー部シャッターを開け
るときにメンテナンスカバー閉時の衝撃に伴う振動の光
源への伝達が抑制され、振動に起因する光源の劣化が防
止される。

【０１０６】請求項６によれば、光源の劣化の防止に加
え、遮光シャッター開閉用係合手段が同期光検出手段か
らも遠方となってその遠方となる分、メンテナンスカバ
ーを閉じて遮光シャッターを開けるときにメンテナンス
カバーの閉時の衝撃に伴う振動の同期光検出手段への伝
達が抑制され、振動に起因する同期光検出手段の劣化が
防止される。

【０１０７】請求項８によれば、光源の劣化の防止に加
え、遮光シャッター開閉用係合手段、反射ミラー部シャ
ッター開閉用係合手段が共に同期光検出手段からも遠方
となってその遠方となる分、メンテナンスカバーを閉じ
て遮光シャッター、反射ミラー部シャッターを開けると
きにメンテナンスカバーの閉時の衝撃に伴う振動の同期
光検出手段への伝達が抑制され、振動に起因する同期光
検出手段の劣化が防止される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態に係る電子写真装置
について、メンテナンスカバーの閉状態を示す縦断面図
である。

【図２】メンテナンスカバーの開状態を示し、図１に対
応する図である。

【図３】第１の実施の形態に係る電子写真装置につい
て、メンテナンスカバーの開状態を示し、メンテナンス
カバーを省略した平面図である。

【図４】メンテナンスカバーと遮光シャッターとの間の
関係を示す縦断面図であり、（Ａ）は、メンテナンスカ
バーの閉状態における上記関係を示し、（Ｂ）乃至
（Ｄ）は、メンテナンスカバーの開動作の過程における
上記関係を示す。

【図５】メンテナンスカバーと遮光シャッターとの間の
関係を示す縦断面図であり、（Ａ）及び（Ｂ）は、メン
テナンスカバーの閉動作の過程における上記関係を示
す。

【図６】メンテナンスカバーと反射ミラー部シャッター
との関係を示す縦断面図であり、（Ａ）は、メンテナン
スカバーの閉状態における上記関係を示し、（Ｂ）乃至
（Ｄ）は、メンテナンスカバーの開動作の過程における
上記関係を示す。

【図７】メンテナンスカバーと反射ミラー部シャッター
との間の関係を示す縦断面図であり、（Ａ）及び（Ｂ）
は、メンテナンスカバーの閉動作の過程における上記関
係を示す。

【図８】メンテナンスカバーに衝撃が加わった状態を示
し、図１に対応する図である。

【図９】第２の実施の形態に係る電子写真装置につい
て、メンテナンスカバーの閉状態を示す縦断面図であ
る。

【図１０】第２の実施の形態に係る電子写真装置につい
て、メンテナンスカバーの開状態を示す縦断面図であ
る。

【図１１】第２の実施の形態に係る電子写真装置につい
て、メンテナンスカバーの閉状態を示し、メンテナンス
カバーを省略した平面図である。

【図１２】メンテナンスカバーと遮光シャッターとの間
の関係を示す縦断面図であり、（Ａ）及び（Ｂ）は、メ
ンテナンスカバーの開動作の過程における上記関係を示
す。

【図１３】メンテナンスカバーと遮光シャッターとの間
の関係を示す縦断面図であり、（Ａ）及び（Ｂ）は、メ
ンテナンスカバーの閉動作の過程における上記関係を示
す。

【図１４】メンテナンスカバーに衝撃が加わった状態を
示し、図９に対応する図である。

【図１５】従来の電子写真装置について、メンテナンス
カバーの閉状態を示す縦断面図である。

【図１６】メンテナンスカバーの開状態を示し、図１５
に対応する図である。

【図１７】メンテナンスカバーに衝撃が加わった状態を
示し、図１５に対応する図である。

【図１８】他の従来の電子写真装置について、メンテナ
ンスカバーの閉状態を示す縦断面図である。

【図１９】メンテナンスカバーの開状態を示し、図１８
に対応する図である。

【図２０】図１８の電子写真装置の光学走査装置の内部
を示す平面図である。

【符号の説明】

１２ 光学走査装置 １４ 光学走査部 １６ 反射ミラー部 ２０ 光源（光学走査部（光学走査装置）） ２２ ポリゴンモータ（光学走査部（光学走査装置）） ２４ 結像レンズ系（光学走査部（光学走査装置）） ３０ 反射ミラー（反射ミラー部（光学走査装置）） ３２ 同期光検出手段（反射ミラー部（光学走査装
置）） ３４ 感光ドラム（被走査体） ４４ メンテナンスカバー ５４ 遮光シャッター ５８ 開用レバー（対応係合部（遮光シャッター開閉用
係合手段）） ６０ 閉用レバー（対応係合部（遮光シャッター開閉用
係合手段）） ６８ コイルスプリング（遮光シャッター開閉用付勢手
段） ７２ 作動突起（係合部（遮光シャッター開閉用係合手
段）） ７４ 反射ミラー部シャッター ７８ 開用レバー（対応係合部（反射ミラー部シャッタ
ー開閉用係合手段）） ８０ 閉用レバー（対応係合部（反射ミラー部シャッタ
ー開閉用係合手段）） ８６ コイルスプリング（反射ミラー部シャッター開閉
用付勢手段） ９０ 作動突起（係合部（反射ミラー部シャッター開閉
用係合手段）） Ｂ 光路 ３０４ メンテナンスカバー ３１４ 光学走査装置 ３１８ 開用レバー（対応係合部（遮光シャッター開閉
用係合手段）） ３２０ 閉用レバー（対応係合部（遮光シャッター開閉
用係合手段）） ３２６ コイルスプリング（遮光シャッター開閉用付勢
手段） ３３０ 作動突起（係合部（遮光シャッター開閉用係合
手段））

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光学走査装置を有する電子写真装置であ
   って、光学走査装置は、被走査体上に静電潜像を形成す
   るために光ビームを光源から発して発せられた光ビーム
   を走査する前記電子写真装置において、 前記電子写真装置の内部をメンテナンスするために設け
   られ、開閉自在なメンテナンスカバーと、 前記光学走査装置に設けられ、開閉自在とされ、開位置
   では光路を開放し、閉位置では遮光するように光路を閉
   鎖する遮光シャッターと、 前記遮光シャッターがこの開閉中間位置に中立位置を有
   してその中立位置を介し、遮光シャッターが開方向側に
   位置するときは遮光シャッターを開方向側へ付勢し、遮
   光シャッターが閉方向側に位置するときは遮光シャッタ
   ーを閉方向へ付勢する遮光シャッター開閉用付勢手段
   と、 前記メンテナンスカバーに設けられる係合部と、この係
   合部に対応して遮光シャッターに設けられる対応係合部
   とを有し、メンテナンスカバーの開動作に伴い係合部と
   対応係合部とが当接係合し、遮光シャッターを開位置か
   ら押して移動させて遮光シャッター中立位置より遮光シ
   ャッター閉方向側へ位置させるとともに、メンテナンス
   カバーの閉動作に伴い係合部と対応係合部とが当接係合
   し、遮光シャッターを閉位置から押して移動させて遮光
   シャッター中立位置より遮光シャッター開方向側へ位置
   させ、メンテナンスカバーの閉状態では、係合部と対応
   係合部とが離間する遮光シャッター開閉用係合手段と、 を備えたことを特徴とする電子写真装置。
2. 【請求項２】 前記遮光シャッター開閉用係合手段が、
   光学走査中央線を介して光源とは反対側に配置されるこ
   とを特徴とする請求項１に記載の電子写真装置。
3. 【請求項３】 前記光学走査装置が、前記光源と光源か
   ら発せられる光ビームを偏向走査する光偏向器と偏向走
   査された光ビームを透過させて被走査体上に結像させる
   結像レンズ系とを有する光学走査部と、結像レンズ系を
   透過した光ビームを被走査体に向けて反射させる反射ミ
   ラーを有する反射ミラー部とに分割されて構成され、 前記遮光シャッターが光学走査部に設けられ、 かつ、 前記反射ミラー部に設けられ、開閉自在とされ、開位置
   では光路を開放し、閉位置では反射ミラー部を覆うよう
   に光路を閉鎖するシャッターと、 前記反射ミラー部シャッターが開閉中間位置に中立位置
   を有してその中立位置を介し、反射ミラー部シャッター
   が開方向側に位置するときは反射ミラー部シャッターを
   開方向へ付勢し、反射ミラー部シャッターが閉方向側に
   位置するときは反射ミラー部シャッターを閉方向へ付勢
   する反射ミラー部シャッター開閉用付勢手段と、 前記メンテナンスカバーに設けられる係合部と、この係
   合部に対応して反射ミラー部シャッターに設けられる対
   応係合部とを有し、メンテナンスカバーの開動作に伴い
   係合部と対応係合部とが当接係合し、反射ミラー部シャ
   ッターを開位置から押して移動させて反射ミラー部シャ
   ッター中立位置より反射ミラー部シャッター閉方向側へ
   位置させるとともに、メンテナンスカバーの閉動作に伴
   い係合部と対応係合部とが当接係合し、反射ミラー部シ
   ャッターを閉位置から押して移動させて反射ミラー部シ
   ャッター中立位置より反射ミラー部シャッター開方向側
   へ位置させ、メンテナンスカバーの閉状態では係合部と
   対応係合部とが離間する反射ミラー部シャッター開閉用
   係合手段と、 を備えたことを特徴とする請求項１に記載の電子写真装
   置。
4. 【請求項４】 前記反射ミラー部シャッター開閉用係合
   手段が、遮光シャッター開閉用係合手段と同じく、光学
   走査中央線を介して光源とは反対側に配置されることを
   特徴とする請求項３に記載の電子写真装置。
5. 【請求項５】 前記光学走査装置が、光源から発せられ
   る光ビームに含まれる同期光を検出する同期光検出手段
   を備えることを特徴とする請求項１に記載の電子写真装
   置。
6. 【請求項６】 前記光学走査装置が、光源から発せられ
   る光ビームに含まれる同期光を検出する同期光検出手段
   を備え、同期光検出手段が、光学走査中央線を介して光
   源と同じ側に配置されることを特徴とする請求項２に記
   載の電子写真装置。
7. 【請求項７】 前記光学走査装置の反射ミラー部が、光
   源から発せられる光ビームに含まれる同期光を検出する
   同期光検出手段を備えることを特徴とする請求項３に記
   載の電子写真装置。
8. 【請求項８】 前記光学走査装置の反射ミラー部が、光
   源から発せられる光ビームに含まれる同期光を検出する
   同期光検出手段を備え、同期光検出手段が、光学走査中
   央線を介して光源と同じ側に配置されることを特徴とす
   る請求項４に記載の電子写真装置。