JPH09174268A - 溶接ジョイントの形成方法及び装置 - Google Patents

溶接ジョイントの形成方法及び装置

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JPH09174268A
JPH09174268A JP8223967A JP22396796A JPH09174268A JP H09174268 A JPH09174268 A JP H09174268A JP 8223967 A JP8223967 A JP 8223967A JP 22396796 A JP22396796 A JP 22396796A JP H09174268 A JPH09174268 A JP H09174268A
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Abstract

(57)【要約】 放射エネルギー源を使用することにより、第1導電部材
と第2導電部材との間に溶接ジョイントを形成する方法
で、第1部材は放射エネルギーに関して第2部材より反
射度が高く、この方法は、溶接ジョイントのために第1
および第2部材の個々の区域を事前選択するステップ
と、第1部材の選択区域の部分を完全に貫通して延びる
開口部を形成するステップとを含み、この部分は第2部
材の選択区域より小さい面積となるように選択され、さ
らに、第1部材の部分が第2部材の選択区域の周囲の内
側に配置された状態で、第2部材に重なる関係で第1部
材を配置するステップと、第1部材に放射エネルギーを
直接放出し、同時に第1部材の開口部を通して第2部材
にも放出するステップとを含む。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、概して溶接部に関
し、特に反射材をレーザ溶接してその間に溶接ジョイン
トを提供する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】定義上、金属を互いに溶接するには、各
金属は、個々の金属が流動可能な状態に達するレベルま
で加熱され、ともに流れてその間に統一を達成する必要
がある。
【0003】レーザから得たエネルギーを利用して溶接
を実行することが、大量自動生産では一般的な製造方法
になっている。しかし、一方または両方の材料が、溶接
に使用する特定のレーザ・ビームに対して反射率が高い
場合、レーザ溶接が困難な材料がある。銅、銀、金、ア
ルミおよび高度に研磨された表面を有するその他の材料
は、レーザ溶接が困難な材料の例である。
【0004】通常、吸収性コーティングを反射度の高い
材料の表面に塗布し、エネルギーの結合を改善する。コ
ーティングはエネルギーの吸収を増加させ、レーザ溶接
プロセスを効果的に実行する。様々な研究者が異なる技
術を試行し、材料の表面におけるレーザ・エネルギーの
結合を改善している。黒い塗料、化学エッチング、表面
の荒加工、化学コーティング、およびその他の技術を試
行し、様々な程度の成功を収めている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】エッチングまたは荒加
工の努力が所望の均一性を生じないという点で、塗装ま
たは化学コーティングがこのような方法で最も効果的で
あろう。しかし、反射度の問題を解決するのに、塗装お
よびコーティングの方法には様々な欠点が伴う。したが
って、溶接箇所を汚染しない適切なコーティングの選択
が問題である。コーティングは溶接箇所に作用を及ぼし
てはならない。コーティングを塗布すると、製造費が上
昇する。コーティングの一貫性は溶接の品質に影響を与
える。コーティングのプロセスは、レーザ溶接に別の望
ましくない変数を導入することになる。
【0006】吸収性コーティングの助けを受けずに直接
レーザ溶接できる技術が、製品の品質および生産性を改
善することは明白である。反射性材料の直接レーザ溶接
に、特に自動大量生産の場で利用できる単純な技術があ
れば、費用も大幅に節約することができる。
【0007】残念ながら、出願人から見ると、このよう
な技術はこれまでなかった。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、材料のコーテ
ィングまたは塗装という助けを受けずに、反射度の高い
材料の直接レーザ溶接の技術を提供することが、主な目
的である。
【0009】上記およびその他の目的を達成する上で、
本発明は放射エネルギー源を使用することにより、第1
導電部材と第2導電部材との間に溶接ジョイントを形成
する方法を提供し、ここで第1部材は放射エネルギーに
関して第2部材より反射度が高く、この方法は溶接部の
ために第1および第2部材の個々の区域を事前選択する
ステップと、第1部材の選択区域の部分を完全に貫通し
て延びる開口部を形成するステップとを含み、この部分
は第2部材の選択区域より小さい面積となるように選択
され、さらに、第1部材の部分が第2部材の選択区域の
周囲の内側に配置された状態で、第2部材に重なる関係
で第1部材を配置するステップと、第1部材に放射エネ
ルギーを直接放出し、同時に第1部材の開口部を通して
第2部材にも放出するステップとを含む。
【0010】好ましい方法では、放射エネルギーはレー
ザ・ビームから得るように選択され、第1部材は銅とな
るよう選択される。第2部材は銅となるよう選択され、
その上に放射エネルギーに対して第1部材より第2部材
の反射度が低くなるようなコーティングを有し、コーテ
ィングはたとえばニッケルである。
【0011】第1部材はおおむね平面で、第1部材の選
択区域の部分を完全に貫通して延びる開口部を形成する
ステップは、少なくとも第1部材の部分が、第1部材の
面の下方向および外方向に延びるよう実行することが望
ましい。
【0012】本発明の前記およびその他の目的および特
徴は、以下の詳細な説明および図面からさらに理解さ
れ、ここで同様の構成部品は全体として共通の参照番号
で特定される。
【0013】
【実施例】図1および2を参照し、レーザ・ビームに対
する反射性を低下させる銅のコーティングを伴う上述の
溶接方法について、ここで詳細に検討する。
【0014】フレキシブルPCB(印刷回路基板)また
はリボン(平)ケーブル10は、導電性トレースまたは
導体12と、トレース12を挟み電気的に絶縁性の材料
の対向する層14および16とから成る。望ましい溶接
部は、ここで概略する方法によって、トレース12から
接点18である。
【0015】層14および16に円形の切り抜きを作成
し、溶接目標、つまりトレースの円形の剥き出しの区域
12aを露出させる。剥き出しのトレース区域12a
に、コーティング20を塗布する。図示のように、コー
ティングを施した剥き出しのトレース区域は、下方向に
屈して接点18と接触し、これは通常、ニッケルのコー
ティング18aを被せた燐青銅から成る。レーザ・ビー
ムLBを、コーティング20の上面に向け、溶接を実行
する。
【0016】図3および4を参照すると、溶接に至る過
渡的な配置構成の形で、本発明の好ましい方法が図示さ
れている。フレキシブルPCB(印刷回路基板)または
リボン(平)ケーブル22は、導電性トレースまたは導
体12と、トレース12を挟み電気的に絶縁性の材料の
対向する層14および16とから成る。この場合も図1
および2と同様に、望ましい溶接部はトレース12から
接点18である。
【0017】この場合も、層14および16に円形の切
り抜きを作成し、トレース12の円形の剥き出しの区域
12aを露出させるが、コーティングは施さない。開口
部12bは剥き出しの区域12aを完全に貫通して延
び、おおむねその中央で、同様に円形の形状で、ドリル
加工、打ち抜き、穿孔、エッチングなどによって形成す
ることができる。図3で最もよく分かるように、剥き出
しの区域12はトレース12の面の下方向および外方向
に延びて、縁またはリム12a−1で終了し、これはお
おむね接点18と同一平面上で、これと接触する関係に
ある。レーザ・ビームLBは、剥き出しの区域12aに
直接放出され、開口部12bを通して同時に接点18に
も放出される。ビームはレーザLから得られ、反射板R
を通り、レーザはレーザ・スタンドLSと特定される支
持手段によって支持される。
【0018】出願人は、本明細書に記載するコーティン
グのない溶接方法の有効性の理論的根拠として、開口部
12bがレーザ・ビームをトラップし、プラズマ形成を
開始してその後の放射エネルギーの吸収を助けると断定
する。開口部は、レーザ・ビームが下の材料、つまり接
点18と直接に相互作用して、レーザ・ビームの結合を
助けることも可能にする。有効な結合が達成されると、
小さいプラズマ・ボールが生成され、ビームのさらなる
吸収を助ける。次に、プラズマ・ボールが剥き出しの区
域12aの反射性材料を溶解し、溶接プロセスを実行す
る。
【0019】図3および4の実施例では、剥き出しの区
域12aが凸状に変形して接点18と係合するが、代替
方法が図5および6に図示されている。フレキシブルP
CB(印刷回路基板)またはリボン(平)ケーブル24
が構造22の場合と同様に構成されるが、剥き出しの区
域12aは凹状に変形して、接点18と係合する。開口
部18の境界となる剥き出しの区域12aのリムは、接
点18と接触する平坦な範囲を含み、リムの縁12a−
2は構造24の面におおむね直角の開いた円筒形を形成
する。
【0020】図7を参照すると、放射エネルギーによっ
て第1部材を第2部材に溶接することを説明する本発明
の方法が、その一般的な側面で示され、ここで第1部材
は放射エネルギーに関して第2部材より反射度が高い。
【0021】この方法は、ステップS1、つまり「溶接
ジョイントのために第1および第2部材の個々の区域を
事前選択する」ステップを含む。このステップは、剥き
出しの区域12aおよび接点18の中心の区域を選択す
ることによって、図3ないし6で実現される。
【0022】ステップS2、つまり「第1部材の選択区
域の部分を通して延びる開口部を形成する」ステップが
続く。このステップは、開口部12bおよび12cを形
成することによって、図3ないし6で実現される。
【0023】同様に図3ないし6に図示されるように、
ステップS3、つまり「第1部材の部分が第2部材の選
択区域の周囲の中心に配置された状態で、第2部材に重
なる関係で第1部材を配置する」ステップが続く。
【0024】ステップS4、つまり「第1部材に放射エ
ネルギーを直接放出し、同時に第1部材の開口部を通し
て第2部材にも放出する」ステップでは、開口部12b
または12が、剥き出しの区域12a上に(コーティン
グなしで)直接放出された放射エネルギー・ビームをト
ラップし、プラズマ形成を開始して、その後の放射エネ
ルギーの吸収を助け、ビームが下の材料、つまり接点1
8と直接相互作用するのを可能にし、ビームが結合し、
小さいプラズマ・ボールを生成してビームのさらなる吸
収を助け、剥き出しの区域12aが溶解するのを補助す
る。
【0025】本発明の実行に関わる材料、寸法などの特
定の例として、構造22および24は、フレキシブルP
CBから成ってもよく、これは厚さ0.003"のKaptonの薄
板2枚に挟まれた厚さ0.004"の銅のトレース回路であ
る。この溶接目標は、まったくめっき(コーティング)
されていない。接点は、目標が接点の周囲の中心および
内側に配置されるよう、選択された目標の直径より多少
大きい直径を有する、ニッケル・コーティングを被せた
燐青銅である。
【0026】ニッケルめっきを削除し、本発明に従って
剥き出しのめっきまたはコーティングしていない区域1
2aを逆に溶接すると、達成された溶接部の多孔性が低
下し、溶接の強度が大幅に、つまり少なくとも3倍に上
昇し、稠度も大幅に改善されることが判明した。後者に
関して、ニッケルめっきした溶接目標の経験から、溶接
目標上のニッケルめっきの変動により強度に大きな差が
生じ、溶接が弱くなるという忠告が得られた。ニッケル
めっきPCB溶接部の不合格率は、バッチごとのニッケ
ルめっきのばらつきにより約2%ないし約15%の範囲
であるが、剥き出しの銅のPCB溶接部の場合は、溶接
部1000カ所で1カ所の失敗も生じない。
【0027】以下で特許請求の範囲を要約し、紹介する
ことによって、本発明が放射エネルギー源を使用して、
第1導電部材と第2導電部材との間に溶接ジョイントを
形成する方法を提供し、第1部材が放射エネルギーに関
して第2部材より高い反射度を有することが分かる。こ
の方法は、溶接ジョイントのために第1および第2部材
の個々の区域を事前選択するステップと、第1部材の選
択区域の部分を完全に貫通して延びる開口部を形成する
ステップと、第1部材の部分が第2部材の選択区域の周
囲の内側に配置された状態で、第2部材に重なる関係で
第1部材を配置するステップと、第1部材に放射エネル
ギーを直接放出し、同時に第1部材の開口部を通して第
2部材にも放出するステップとを含む。
【0028】放射エネルギーはレーザ・ビームから得る
ことが好ましく、第1部材は銅でよく、第2部材は、第
2部材が放射エネルギーに対して第1部材より反射度が
低いようコーティングを施すことができ、コーティング
はニッケルなどである。
【0029】第1部材はおおむね平面で、第1部材の選
択区域の部分を完全に貫通して延びる開口部を形成する
ステップは、第1部材の少なくとも一部が第1部材の面
の下方向および外方向に延びるよう実行される。
【0030】第2部材に重なる関係で第1部材を配置す
るステップは、第1部材の部分が第2部材と接触関係で
配置されるよう実行される。
【0031】第1部材の選択区域の部分を完全に貫通し
て延びる開口部を形成するステップは、第1部材の平面
の下方向および外方向に延びる第1部材の部分が、円形
の構成であるよう実行されることが望ましく、第1部材
の円形部分の境界を形成する縁を、第2部材と接触関係
にして配置するようにすることが望ましい。
【0032】第1部材に放射エネルギーを直接放出し、
同時に第1部材の開口部を通して第2部材にも放出する
ステップは、第1部材の開口部内およびその周囲にプラ
ズマを形成するように実行される。
【0033】第1部材は、その上を電気的に絶縁された
銅の回路トレースでもよく、電気的絶縁は少なくともそ
の第1区域で銅の回路トレースから除去される。
【0034】その方法的側面以外に、本発明は、所与の
放射エネルギー源によって実行される溶接操作のための
アセンブリを提供するとも考えられる。アセンブリは、
金属から成り放射エネルギーを受けるために露出した非
コーティング表面および非コーティング表面を通して延
びる開口部を有する第1溶接可能部材と、所与の放射源
のエネルギーに対して第1溶接可能部材より反射度が低
い表面を有する第2溶接可能部材とから成り、第2溶接
可能部材の表面は第1溶接可能部材の開口部と位置合わ
せして配置され、さらに放射エネルギーを第1溶接可能
部材の非コーティング表面上、第1溶接可能部材の開口
部内、および第1溶接可能部材の開口部を通して第2溶
接可能部材の表面に発する所与の放射エネルギー源を支
持する手段とから成る。
【0035】第1および第2溶接可能部材は、個々の導
電体を構成することができ、第1溶接可能部材はさら
に、フレキシブル導電回路の構成要素を構成することが
できる。第2溶接可能部材は、第1溶接可能部材に電気
的に接続する接点を構成することができる。
【0036】第2溶接可能部材は、所与の放射源のエネ
ルギーに対して第1溶接可能部材の非コーティング表面
より反射度が低い表面を提供するコーティングを有する
電気的接点を構成することができる。第1溶接可能部材
は、さらに、放射エネルギーを受けるために露出した表
面以外は、その上をカバーする電気的絶縁を構成するこ
とができる。
【0037】本発明から逸脱することなく、特定の開示
方法および装置に対して様々な変更を導入できることが
明白である。たとえば、開口部12bおよび12cは構
成が円形で図示されているが、正方形、長方形、菱形な
ど、所望の構成を用いることができる。したがって、本
発明で特定して検討し、図示した好ましい実施例および
方法は、例証的なものであり、限定的な意味ではないこ
とが理解される。本発明の真の精神および範囲は、添付
の特許請求の範囲で述べる。
【図面の簡単な説明】
【図1】1対の導電材間で溶接部を得るための、先行技
術の前面図である。
【図2】図1の配置構成の平面図である。
【図3】本発明により導電材と接点との間で溶接部を得
るための、好ましい方法の前面図である。
【図4】図3の配置構成の平面図である。
【図5】本発明により導電材と接点との間で溶接ジョイ
ントを得るための、別の方法の前面図である。
【図6】図5の配置構成の平面図である。
【図7】本発明の一般的な方法のフローチャートであ
る。
【符号の説明】
10 ケーブル 12 トレース 12a 区域 12a-1 縁 12a-2 縁 12b 開口部 12c 開口部 14 層 16 層 18 接点 18a ニッケル・コーティング 20 コーティング 22 ケーブル 24 ケーブル

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 放射エネルギー源を使用することによっ
    て第1導電部材と第2導電部材との間に溶接ジョイント
    を形成する方法で、第1部材は放射エネルギーに関して
    第2部材より反射度が高く、 a)溶接部のために第1および第2部材の個々の区域を
    事前選択するステップと、 b)前記第1部材の選択区域の部分を完全に貫通して延
    びる開口部を形成するステップと、 c)前記第1部材の部分が前記第2部材の前記選択区域
    の周囲の内側に配置された状態で、前記第2部材に重な
    る関係で前記第1部材を配置するステップと、 d)前記第1部材に前記放射エネルギーを直接放出し、
    同時に前記第1部材の開口部を通して前記第2部材にも
    放出するステップとから成る溶接ジョイントの形成方
    法。
  2. 【請求項2】 前記第2部材が、その上に放射エネルギ
    ーに対して前記第1部材より前記第2部材の反射度が低
    くなるようなコーティングを有するよう選択される、請
    求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 前記第1部材がおおむね平面で、前記第
    1部材の選択区域の部分を完全に貫通して延びる開口部
    を形成する前記ステップが、少なくとも前記第1部材の
    一部が、前記第1部材の面の下方向および外方向に延び
    るよう実行される、請求項1記載の方法。
  4. 【請求項4】 前記第1部材に前記放射エネルギーを直
    接放出し、同時に前記第1部材の開口部を通して前記第
    2部材にも放出する前記ステップが、前記第1部材の開
    口部内およびその周囲にプラズマを形成するよう実行さ
    れる、請求項1記載の方法。
  5. 【請求項5】 前記第1部材が上に電気絶縁体を有する
    銅製回路トレースであるよう選択され、前記電気的絶縁
    体がその第1区域で前記銅製回路トレースから除去され
    る、請求項第1記載の方法。
  6. 【請求項6】 所与の放射エネルギー源によって実行す
    る溶接操作のアセンブリで、 a)金属から成り、放射エネルギーを受けるために上に
    露出した非コーティング表面を有し、前記非コーティン
    グ表面を通って延びる開口部を有する第1溶接可能部材
    と、 b)前記所与の放射源に対する反射度が前記第1溶接可
    能部材の前記非コーティング表面より小さい表面を上に
    有する第2溶接可能部材から成り、前記第2溶接可能部
    材の表面は前記第1溶接可能部材の前記開口部と合わせ
    て配置され、さらに c)前記所与の放射エネルギー源を支持して、その放射
    エネルギーを前記第1溶接可能部材の非コーティング表
    面、前記第1溶接可能部材の前記開口部、および前記第
    1溶接可能部材の前記開口部を通して前記第2溶接可能
    部材の表面に放出する手段とから成るアセンブリ。
  7. 【請求項7】 前記第1および第2溶接可能部材が、個
    々の導電体から成る請求項6記載のアセンブリ。
  8. 【請求項8】 前記第1溶接可能部材が、フレキシブル
    な導電体回路のコンポーネントから成り、前記第2溶接
    可能部材が、前記第1溶接可能部材と電気的に接続する
    接点から成る、請求項7記載のアセンブリ。
  9. 【請求項9】 前記第1溶接可能部材が導電体から成
    り、前記第2溶接可能部材が、前記第1溶接可能部材の
    前記非コーティング表面より小さい前記所与の放射源の
    エネルギーに対する反射度を前記表面に与えるコーティ
    ングを有する電気接点から成る、請求項6記載のアセン
    ブリ。
  10. 【請求項10】 前記第1溶接可能部材が、さらに、放
    射エネルギーを受けるために露出した前記表面以外の前
    記第1溶接可能部材の部分を覆う電気絶縁体から成る、
    請求項9記載のアセンブリ。
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