JPH09159945A - ミラー角度検出装置及び検出方法 - Google Patents
ミラー角度検出装置及び検出方法Info
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- JPH09159945A JPH09159945A JP7344629A JP34462995A JPH09159945A JP H09159945 A JPH09159945 A JP H09159945A JP 7344629 A JP7344629 A JP 7344629A JP 34462995 A JP34462995 A JP 34462995A JP H09159945 A JPH09159945 A JP H09159945A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/105—Scanning systems with one or more pivoting mirrors or galvano-mirrors
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/28—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with deflection of beams of light, e.g. for direct optical indication
- G01D5/30—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with deflection of beams of light, e.g. for direct optical indication the beams of light being detected by photocells
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 通常使用する微小角度範囲での可動ミラーの
角度偏差が検出できると共に、光加工機の小型化にも対
応可能なミラー角度検出装置及び検出方法を提供する。 【解決手段】 可動ミラー８２の一つの面に主レーザ光
９５を反射する第１ミラー９を形成すると共に、可動ミ
ラー８２の他の面には位置検出用光１０を反射して位置
センサ３に導く第２ミラー２を形成又は取着する。ま
た、位置検出用光１０の可動ミラー８２による反射光が
伝搬する光路中に結像レンズ５を配設し、結像レンズ５
の像側焦点位置に結像レンズ５からの出射光を受光する
位置センサ３を配設する。位置検出用光１０の可動ミラ
ー８２による反射光の伝搬する光路中で、かつ、可動ミ
ラー８２と結像レンズ５との間に、アフォーカル系を構
成する光学系６、７を配設してもよい。さらに、位置検
出用光１０の可動ミラー８２による反射光の伝搬する光
路中に、反射を繰り返しながら光路を延長する光学系１
１、１２、１３を配設してもよい。
角度偏差が検出できると共に、光加工機の小型化にも対
応可能なミラー角度検出装置及び検出方法を提供する。 【解決手段】 可動ミラー８２の一つの面に主レーザ光
９５を反射する第１ミラー９を形成すると共に、可動ミ
ラー８２の他の面には位置検出用光１０を反射して位置
センサ３に導く第２ミラー２を形成又は取着する。ま
た、位置検出用光１０の可動ミラー８２による反射光が
伝搬する光路中に結像レンズ５を配設し、結像レンズ５
の像側焦点位置に結像レンズ５からの出射光を受光する
位置センサ３を配設する。位置検出用光１０の可動ミラ
ー８２による反射光の伝搬する光路中で、かつ、可動ミ
ラー８２と結像レンズ５との間に、アフォーカル系を構
成する光学系６、７を配設してもよい。さらに、位置検
出用光１０の可動ミラー８２による反射光の伝搬する光
路中に、反射を繰り返しながら光路を延長する光学系１
１、１２、１３を配設してもよい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガルバノメータ型
オプティカルスキャナを使用して光ビームを走査し加工
する光加工機における可動ミラーの角度検出方法に関す
る。
オプティカルスキャナを使用して光ビームを走査し加工
する光加工機における可動ミラーの角度検出方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】光ビームを走査し加工する光加工機に
は、例えば厚膜及び薄膜のトリミング装置、半導体パッ
ケージ等の表面に絵柄や文字を刻印するレーザマーカ装
置等がある。これらの装置は、高速に回転する可動ミラ
ーに光ビームを入射し、その反射光を加工対象物の表面
に照射して加工している。可動ミラーを回転させるアク
チュエータとして、従来からガルバノメータ型オプティ
カルスキャナ（以後、ガルバノスキャナと呼ぶ）が使用
されている。通常、ガルバノスキャナは位置検出センサ
を内蔵しているが、この位置検出センサの出力が温度ド
リフトし易いので、周囲温度の変化によってガルバノス
キャナの停止角度にドリフトが生じる。
は、例えば厚膜及び薄膜のトリミング装置、半導体パッ
ケージ等の表面に絵柄や文字を刻印するレーザマーカ装
置等がある。これらの装置は、高速に回転する可動ミラ
ーに光ビームを入射し、その反射光を加工対象物の表面
に照射して加工している。可動ミラーを回転させるアク
チュエータとして、従来からガルバノメータ型オプティ
カルスキャナ（以後、ガルバノスキャナと呼ぶ）が使用
されている。通常、ガルバノスキャナは位置検出センサ
を内蔵しているが、この位置検出センサの出力が温度ド
リフトし易いので、周囲温度の変化によってガルバノス
キャナの停止角度にドリフトが生じる。
【０００３】この温度ドリフトの問題を解決するため
に、従来からガルバノスキャナの回転角度を補正する様
々な提案がなされている。例えば、実開平３−４９５２
２号の公報には図１１及び図１２に示されるような位置
検出センサの補正手段を備えたレーザ光走査装置の一例
が提案されている。図１１及び図１２はそれぞれ可動ミ
ラーの角度補正手段を有するレーザ光走査装置の構成図
及びその制御構成ブロック図であり、以下同図を参照し
て説明する。
に、従来からガルバノスキャナの回転角度を補正する様
々な提案がなされている。例えば、実開平３−４９５２
２号の公報には図１１及び図１２に示されるような位置
検出センサの補正手段を備えたレーザ光走査装置の一例
が提案されている。図１１及び図１２はそれぞれ可動ミ
ラーの角度補正手段を有するレーザ光走査装置の構成図
及びその制御構成ブロック図であり、以下同図を参照し
て説明する。
【０００４】ガルバノスキャナ８１によって回動される
可動ミラー８２には加工のための主レーザ光９５が所定
角度（例えば、４５°）で入射し、その反射光はｆθレ
ンズ８４を介して加工対象の試料面８５上に集光され
る。レーザ光は、図示していないレーザ発振器からミラ
ー８３を介して可動ミラー８２に入射している。また、
位置検出用のレーザ光９６は半導体レーザ８６から出射
され、コリメートレンズ８７によって平行光にされた
後、上記主レーザ光９５の入射角度とは異なる所定角度
で可動ミラー８２に入射する。可動ミラー８２による反
射光は、円柱レンズ９８を介してラインセンサ８９上に
集光され、可動ミラー８２が回転すると、集光位置はラ
インセンサ８９の長手方向に移動する。ここで、ライン
センサ８９は受光位置の光の強度を電気的な信号（例え
ば、電圧信号や電流信号）に変換して受光位置を検出す
るものであり、その受光位置に基づいて可動ミラー８２
の回転角度を検出している。
可動ミラー８２には加工のための主レーザ光９５が所定
角度（例えば、４５°）で入射し、その反射光はｆθレ
ンズ８４を介して加工対象の試料面８５上に集光され
る。レーザ光は、図示していないレーザ発振器からミラ
ー８３を介して可動ミラー８２に入射している。また、
位置検出用のレーザ光９６は半導体レーザ８６から出射
され、コリメートレンズ８７によって平行光にされた
後、上記主レーザ光９５の入射角度とは異なる所定角度
で可動ミラー８２に入射する。可動ミラー８２による反
射光は、円柱レンズ９８を介してラインセンサ８９上に
集光され、可動ミラー８２が回転すると、集光位置はラ
インセンサ８９の長手方向に移動する。ここで、ライン
センサ８９は受光位置の光の強度を電気的な信号（例え
ば、電圧信号や電流信号）に変換して受光位置を検出す
るものであり、その受光位置に基づいて可動ミラー８２
の回転角度を検出している。
【０００５】図１２において、ラインセンサ８９によっ
て検出された集光位置情報は偏差信号出力回路９０に入
力され、偏差信号出力回路９０は上記位置情報に応じて
アナログの偏差信号をＤ／Ａコンバータ９１に出力す
る。Ｄ／Ａコンバータ９１は、この偏差信号によってＤ
／Ａ出力の基準電圧を変化させている。Ｄ／Ａコンバー
タ９１は図示していない外部装置等からのディジタル信
号の位置指令を上記の基準電圧に基づいてアナログ信号
に変換し、そのアナログ位置指令をサーボアンプ９２に
出力する。また、サーボアンプ９２にはガルバノスキャ
ナ８１に内蔵された位置検出センサ（図示せず）からの
位置信号が入力されていて、サーボアンプ９２は上記位
置指令と位置検出センサからの位置信号とを比較し、そ
の偏差が０になるようにガルバノスキャナの回転を制御
する。さらに、温度制御アンプ９３はガルバノスキャナ
８１の周囲に巻き付けられたシート状のヒータ（図示せ
ず）の電流を制御してガルバノスキャナ８１のヒータ温
度を制御している。
て検出された集光位置情報は偏差信号出力回路９０に入
力され、偏差信号出力回路９０は上記位置情報に応じて
アナログの偏差信号をＤ／Ａコンバータ９１に出力す
る。Ｄ／Ａコンバータ９１は、この偏差信号によってＤ
／Ａ出力の基準電圧を変化させている。Ｄ／Ａコンバー
タ９１は図示していない外部装置等からのディジタル信
号の位置指令を上記の基準電圧に基づいてアナログ信号
に変換し、そのアナログ位置指令をサーボアンプ９２に
出力する。また、サーボアンプ９２にはガルバノスキャ
ナ８１に内蔵された位置検出センサ（図示せず）からの
位置信号が入力されていて、サーボアンプ９２は上記位
置指令と位置検出センサからの位置信号とを比較し、そ
の偏差が０になるようにガルバノスキャナの回転を制御
する。さらに、温度制御アンプ９３はガルバノスキャナ
８１の周囲に巻き付けられたシート状のヒータ（図示せ
ず）の電流を制御してガルバノスキャナ８１のヒータ温
度を制御している。
【０００６】次に、上記のような構成における角度補正
手段の作用を説明する。まず、ガルバノスキャナ８１の
温度が一定になったとき、ガルバノスキャナ８１を最大
振幅にし、半導体レーザ８６のレーザ光９６を可動ミラ
ー８２に入射する。そして、この反射光がラインセンサ
８９の長さの中心に戻ってくるように、ラインセンサ８
９や半導体レーザ８６等の位置を予め調整しておく。ま
た、このとき、偏差信号出力回路９０からの偏差信号は
０となるようにしているので、Ｄ／Ａコンバータ９１は
出力の基準電圧を補正しない。したがって、Ｄ／Ａコン
バータは位置指令を補正せずに、そのままサーボアンプ
９２に出力する。
手段の作用を説明する。まず、ガルバノスキャナ８１の
温度が一定になったとき、ガルバノスキャナ８１を最大
振幅にし、半導体レーザ８６のレーザ光９６を可動ミラ
ー８２に入射する。そして、この反射光がラインセンサ
８９の長さの中心に戻ってくるように、ラインセンサ８
９や半導体レーザ８６等の位置を予め調整しておく。ま
た、このとき、偏差信号出力回路９０からの偏差信号は
０となるようにしているので、Ｄ／Ａコンバータ９１は
出力の基準電圧を補正しない。したがって、Ｄ／Ａコン
バータは位置指令を補正せずに、そのままサーボアンプ
９２に出力する。
【０００７】稼働中にガルバノスキャナ８１の周囲温度
や自身の発熱による温度変化が生じると、ガルバノスキ
ャナ８１に内蔵の位置センサの出力ゲインの温度ドリフ
トが発生する。これによって、ガルバノスキャナ８１の
最大振幅のときの可動ミラー８２の振れ角度が変化する
ので、レーザ光９６のラインセンサ８９上での集光位置
が変化する。ラインセンサ８９からのこの位置情報の変
化量に応じて、偏差信号出力回路９０は偏差信号をＤ／
Ａコンバータ９１に出力し、Ｄ／Ａコンバータ９１はこ
の偏差信号により出力の基準電圧を変化させる。これに
よって、Ｄ／Ａコンバータ９１に入力されたディジタル
の位置指令はこの偏差信号によりゲイン補正され、サー
ボアンプ９２に出力されることになる。したがって、サ
ーボアンプ９２は補正された位置指令でガルバノスキャ
ナ８１を駆動するので、可動ミラー８２はゲインドリフ
トの影響を受けることなく回転され、主レーザ光９５が
正確に位置決めされる。
や自身の発熱による温度変化が生じると、ガルバノスキ
ャナ８１に内蔵の位置センサの出力ゲインの温度ドリフ
トが発生する。これによって、ガルバノスキャナ８１の
最大振幅のときの可動ミラー８２の振れ角度が変化する
ので、レーザ光９６のラインセンサ８９上での集光位置
が変化する。ラインセンサ８９からのこの位置情報の変
化量に応じて、偏差信号出力回路９０は偏差信号をＤ／
Ａコンバータ９１に出力し、Ｄ／Ａコンバータ９１はこ
の偏差信号により出力の基準電圧を変化させる。これに
よって、Ｄ／Ａコンバータ９１に入力されたディジタル
の位置指令はこの偏差信号によりゲイン補正され、サー
ボアンプ９２に出力されることになる。したがって、サ
ーボアンプ９２は補正された位置指令でガルバノスキャ
ナ８１を駆動するので、可動ミラー８２はゲインドリフ
トの影響を受けることなく回転され、主レーザ光９５が
正確に位置決めされる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
可動ミラー８２の角度補正手段によって補正を行うとき
は、通常使用している角度範囲と異なる補正のための所
定角度（上記の例では、最大振幅）に可動ミラー８２を
駆動し、この角度でのラインセンサ８９上の集光位置の
偏差に基づいて位置指令の補正を行っている。このた
め、しばしば実加工作業を中断して補正作業を行わなけ
ればならず、光加工機の稼働効率が低下し、作業性が悪
くなっている。
可動ミラー８２の角度補正手段によって補正を行うとき
は、通常使用している角度範囲と異なる補正のための所
定角度（上記の例では、最大振幅）に可動ミラー８２を
駆動し、この角度でのラインセンサ８９上の集光位置の
偏差に基づいて位置指令の補正を行っている。このた
め、しばしば実加工作業を中断して補正作業を行わなけ
ればならず、光加工機の稼働効率が低下し、作業性が悪
くなっている。
【０００９】また、上記のような補正手段によって、通
常使用するような微小角度での補正を行おうとすると、
半導体レーザ８６からのレーザ光９６の反射光がライン
センサ８９上に集光する位置の変化量は非常に小さくな
ってしまう。このとき、ラインセンサ８９の位置検出分
解能では、上記集光位置の微小の変化量を検出できな
い。よって、このような微小角度で可動ミラー８２の角
度補正を行おうとすると、半導体レーザ８６から可動ミ
ラー８２を介してラインセンサ８９までのレーザ光９６
の光路長を大きくする必要がある。しかしながら、この
ためにはこれらの光学ユニット間の距離を長くしなけれ
ばならず、これは光加工機の大きさの制約により実現が
困難となっている。
常使用するような微小角度での補正を行おうとすると、
半導体レーザ８６からのレーザ光９６の反射光がライン
センサ８９上に集光する位置の変化量は非常に小さくな
ってしまう。このとき、ラインセンサ８９の位置検出分
解能では、上記集光位置の微小の変化量を検出できな
い。よって、このような微小角度で可動ミラー８２の角
度補正を行おうとすると、半導体レーザ８６から可動ミ
ラー８２を介してラインセンサ８９までのレーザ光９６
の光路長を大きくする必要がある。しかしながら、この
ためにはこれらの光学ユニット間の距離を長くしなけれ
ばならず、これは光加工機の大きさの制約により実現が
困難となっている。
【００１０】本発明は、上記の問題点に着目してなされ
たものであり、通常使用する微小角度範囲での可動ミラ
ーの角度偏差が検出できると共に、光加工機の小型化に
も対応可能なミラー角度検出装置及び検出方法を提供す
ることを目的としている。
たものであり、通常使用する微小角度範囲での可動ミラ
ーの角度偏差が検出できると共に、光加工機の小型化に
も対応可能なミラー角度検出装置及び検出方法を提供す
ることを目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段、作用及び効果】上記の目
的を達成するために、請求項１に記載の発明は、主レー
ザ光９５を反射しながら回転して対象物を加工し、か
つ、位置検出用光１０を反射して回転角度を検出される
可動ミラー８２と、可動ミラー８２が反射した位置検出
用光１０を受光することによって可動ミラー８２の回転
角度を検出する位置センサ３とを有する光加工機のミラ
ー角度検出装置において、可動ミラー８２の一つの面に
主レーザ光９５を反射する第１ミラー９を形成すると共
に、可動ミラー８２の他の面には位置検出用光１０を反
射して位置センサ３に導く第２ミラー２を形成又は取着
した構成としている。
的を達成するために、請求項１に記載の発明は、主レー
ザ光９５を反射しながら回転して対象物を加工し、か
つ、位置検出用光１０を反射して回転角度を検出される
可動ミラー８２と、可動ミラー８２が反射した位置検出
用光１０を受光することによって可動ミラー８２の回転
角度を検出する位置センサ３とを有する光加工機のミラ
ー角度検出装置において、可動ミラー８２の一つの面に
主レーザ光９５を反射する第１ミラー９を形成すると共
に、可動ミラー８２の他の面には位置検出用光１０を反
射して位置センサ３に導く第２ミラー２を形成又は取着
した構成としている。
【００１２】請求項１に記載の発明によると、可動ミラ
ーの一つの面に形成又は取着された第２ミラーは位置検
出用光を反射して位置センサに導き、この位置センサに
よって可動ミラーの回転角度が検出される。この第２ミ
ラーは主レーザ光を反射する第１ミラーと異なった面に
設けているので、第２ミラーの表面は出力パワーの大き
い主レーザ光による発熱での表面の歪み等の影響を受け
ることがなくなる。よって、第２ミラーから反射した位
置検出用光による可動ミラーの微小回転角度の検出が正
確にできる。
ーの一つの面に形成又は取着された第２ミラーは位置検
出用光を反射して位置センサに導き、この位置センサに
よって可動ミラーの回転角度が検出される。この第２ミ
ラーは主レーザ光を反射する第１ミラーと異なった面に
設けているので、第２ミラーの表面は出力パワーの大き
い主レーザ光による発熱での表面の歪み等の影響を受け
ることがなくなる。よって、第２ミラーから反射した位
置検出用光による可動ミラーの微小回転角度の検出が正
確にできる。
【００１３】請求項２に記載の発明は、主レーザ光９５
を反射しながら回転して対象物を加工し、かつ、位置検
出用光１０を反射して回転角度を検出される可動ミラー
８２と、可動ミラー８２が反射した位置検出用光１０を
受光することによって可動ミラー８２の回転角度を検出
する位置センサ３とを有する光加工機のミラー角度検出
装置において、位置検出用光１０の可動ミラー８２によ
る反射光が伝搬する光路中に配設された結像レンズ５
と、結像レンズ５の像側焦点位置に配設された位置セン
サ３とを備えた構成としている。
を反射しながら回転して対象物を加工し、かつ、位置検
出用光１０を反射して回転角度を検出される可動ミラー
８２と、可動ミラー８２が反射した位置検出用光１０を
受光することによって可動ミラー８２の回転角度を検出
する位置センサ３とを有する光加工機のミラー角度検出
装置において、位置検出用光１０の可動ミラー８２によ
る反射光が伝搬する光路中に配設された結像レンズ５
と、結像レンズ５の像側焦点位置に配設された位置セン
サ３とを備えた構成としている。
【００１４】請求項２に記載の発明によると、位置検出
用光は可動ミラーにより反射され、結像レンズを介して
その像側焦点位置に配設された位置センサ上に集光され
る。このとき、可動ミラーの微小回転角度Δθによる位
置センサ上での集光位置の移動量ｙは、結像レンズの焦
点距離ｆによって増幅され、「ｙ＝ｆ×２×Δθ」で表
される。よって、可動ミラーの微小回転角度Δθが位置
センサの最小検出分解能より小さい場合でも、結像レン
ズの焦点距離ｆを所定値に設定することにより、位置セ
ンサ上での集光位置の移動量ｙを上記最小検出分解能よ
り大きくできる。したがって、通常使用している可動ミ
ラーの微小角度範囲でミラー角度検出が可能となる。ま
た、結像レンズを可動ミラーによる反射光の光路中に配
設するのみでよいので、光学ユニットもコンパクトにな
り、加工機の小型化に対応できる。
用光は可動ミラーにより反射され、結像レンズを介して
その像側焦点位置に配設された位置センサ上に集光され
る。このとき、可動ミラーの微小回転角度Δθによる位
置センサ上での集光位置の移動量ｙは、結像レンズの焦
点距離ｆによって増幅され、「ｙ＝ｆ×２×Δθ」で表
される。よって、可動ミラーの微小回転角度Δθが位置
センサの最小検出分解能より小さい場合でも、結像レン
ズの焦点距離ｆを所定値に設定することにより、位置セ
ンサ上での集光位置の移動量ｙを上記最小検出分解能よ
り大きくできる。したがって、通常使用している可動ミ
ラーの微小角度範囲でミラー角度検出が可能となる。ま
た、結像レンズを可動ミラーによる反射光の光路中に配
設するのみでよいので、光学ユニットもコンパクトにな
り、加工機の小型化に対応できる。
【００１５】請求項３に記載の発明は、上記ミラー角度
検出装置において、位置検出用光１０の可動ミラー８２
による反射光の伝搬する光路中で、かつ、可動ミラー８
２と結像レンズ５との間に、アフォーカル系を構成する
光学系６、７を配設している。
検出装置において、位置検出用光１０の可動ミラー８２
による反射光の伝搬する光路中で、かつ、可動ミラー８
２と結像レンズ５との間に、アフォーカル系を構成する
光学系６、７を配設している。
【００１６】請求項３に記載の発明によると、位置検出
用光は可動ミラーにより反射され、アフォーカル系を構
成する光学系及び結像レンズを介してその像側焦点位置
に配設された位置センサ上に集光される。これにより、
結像レンズの焦点距離ｆはアフォーカル系を構成する光
学系の焦点距離の比率によって増幅される。したがっ
て、このアフォーカル系を構成する光学系の焦点距離の
比率を所定の大きさに設定することにより、等価的に大
きな焦点距離の結像レンズが得られ、前記請求項２に記
載の作用と同様に、位置センサ上での集光位置の移動量
ｙを位置センサの最小検出分解能より大きくできる。こ
の結果、通常使用している可動ミラーの微小角度範囲で
ミラー角度検出が可能となる。また、結像レンズ及びア
フォーカル系を構成する光学系を可動ミラーによる反射
光の光路中に配設するのみでよいので、光学ユニットも
コンパクトになり、加工機の小型化に対応できる。
用光は可動ミラーにより反射され、アフォーカル系を構
成する光学系及び結像レンズを介してその像側焦点位置
に配設された位置センサ上に集光される。これにより、
結像レンズの焦点距離ｆはアフォーカル系を構成する光
学系の焦点距離の比率によって増幅される。したがっ
て、このアフォーカル系を構成する光学系の焦点距離の
比率を所定の大きさに設定することにより、等価的に大
きな焦点距離の結像レンズが得られ、前記請求項２に記
載の作用と同様に、位置センサ上での集光位置の移動量
ｙを位置センサの最小検出分解能より大きくできる。こ
の結果、通常使用している可動ミラーの微小角度範囲で
ミラー角度検出が可能となる。また、結像レンズ及びア
フォーカル系を構成する光学系を可動ミラーによる反射
光の光路中に配設するのみでよいので、光学ユニットも
コンパクトになり、加工機の小型化に対応できる。
【００１７】請求項４に記載の発明は、主レーザ光９５
を反射しながら回転して対象物を加工し、かつ、位置検
出用光１０を反射して回転角度を検出される可動ミラー
８２と、可動ミラー８２が反射した位置検出用光１０を
受光することによって可動ミラー８２の回転角度を検出
する位置センサ３とを有する光加工機のミラー角度検出
装置において、位置検出用光１０の可動ミラー８２によ
る反射光の伝搬する光路中に、反射を繰り返しながら光
路を延長する光学系１１、１２、１３を配設した構成と
している。
を反射しながら回転して対象物を加工し、かつ、位置検
出用光１０を反射して回転角度を検出される可動ミラー
８２と、可動ミラー８２が反射した位置検出用光１０を
受光することによって可動ミラー８２の回転角度を検出
する位置センサ３とを有する光加工機のミラー角度検出
装置において、位置検出用光１０の可動ミラー８２によ
る反射光の伝搬する光路中に、反射を繰り返しながら光
路を延長する光学系１１、１２、１３を配設した構成と
している。
【００１８】請求項４に記載の発明によると、位置検出
用光は可動ミラーにより反射され、反射を繰り返しなが
ら光路を延長する光学系を介して位置センサ上に集光さ
れる。これによって、可動ミラーから位置センサまでの
全光路長Ｌは、上記反射を繰り返しながら光路を延長す
る光学系の物理的な寸法に比して長くなる。このとき、
可動ミラーの微小回転角度Δθによる位置センサ上での
集光位置の移動量ｙは、上記反射を繰り返しながら光路
を延長する光学系の光路を含む全光路長Ｌによって増幅
され、「ｙ＝Ｌ×２×Δθ」で表される。よって、可動
ミラーの微小回転角度Δθが位置センサの最小検出分解
能より小さい場合でも、上記反射を繰り返しながら光路
を延長する光学系の光路を所定値に設定することによ
り、位置センサ上での集光位置の移動量ｙを上記最小検
出分解能より大きくできる。したがって、通常使用して
いる可動ミラーの微小角度範囲でミラー角度検出が可能
となる。また、反射を繰り返しながら光路を延長する光
学系を可動ミラーによる反射光の光路中に配設するのみ
でよいので、光学ユニットもコンパクトになり、加工機
の小型化に対応できる。
用光は可動ミラーにより反射され、反射を繰り返しなが
ら光路を延長する光学系を介して位置センサ上に集光さ
れる。これによって、可動ミラーから位置センサまでの
全光路長Ｌは、上記反射を繰り返しながら光路を延長す
る光学系の物理的な寸法に比して長くなる。このとき、
可動ミラーの微小回転角度Δθによる位置センサ上での
集光位置の移動量ｙは、上記反射を繰り返しながら光路
を延長する光学系の光路を含む全光路長Ｌによって増幅
され、「ｙ＝Ｌ×２×Δθ」で表される。よって、可動
ミラーの微小回転角度Δθが位置センサの最小検出分解
能より小さい場合でも、上記反射を繰り返しながら光路
を延長する光学系の光路を所定値に設定することによ
り、位置センサ上での集光位置の移動量ｙを上記最小検
出分解能より大きくできる。したがって、通常使用して
いる可動ミラーの微小角度範囲でミラー角度検出が可能
となる。また、反射を繰り返しながら光路を延長する光
学系を可動ミラーによる反射光の光路中に配設するのみ
でよいので、光学ユニットもコンパクトになり、加工機
の小型化に対応できる。
【００１９】請求項５に記載の発明は、回転可能な可動
ミラー８２によって主レーザ光９５を反射しながら対象
物を加工すると共に、可動ミラー８２が反射した位置検
出用光１０を位置センサ３で受光することによって可動
ミラー８２の回転角度を検出する光加工機のミラー角度
検出方法において、可動ミラー８２の一つの面に形成し
た第１ミラー９で主レーザ光９５を反射して加工し、可
動ミラー８２の他の面に設けた第２ミラー２に位置検出
用光１０を入射し、第２ミラー２の反射光を位置センサ
３で受光する方法としている。
ミラー８２によって主レーザ光９５を反射しながら対象
物を加工すると共に、可動ミラー８２が反射した位置検
出用光１０を位置センサ３で受光することによって可動
ミラー８２の回転角度を検出する光加工機のミラー角度
検出方法において、可動ミラー８２の一つの面に形成し
た第１ミラー９で主レーザ光９５を反射して加工し、可
動ミラー８２の他の面に設けた第２ミラー２に位置検出
用光１０を入射し、第２ミラー２の反射光を位置センサ
３で受光する方法としている。
【００２０】請求項５に記載の発明によると、主レーザ
光を反射する第１ミラーと異なった面に第２ミラーを設
け、この第２ミラーが位置検出用光を反射して位置セン
サに導き、この位置センサによって可動ミラーの回転角
度が検出される。よって、出力パワーの大きい主レーザ
光による発熱のために第２ミラーの表面が歪み等の影響
を受けることがなくなる。この結果、第２ミラーから反
射した位置検出用光による可動ミラーの微小回転角度の
検出が正確にできる。
光を反射する第１ミラーと異なった面に第２ミラーを設
け、この第２ミラーが位置検出用光を反射して位置セン
サに導き、この位置センサによって可動ミラーの回転角
度が検出される。よって、出力パワーの大きい主レーザ
光による発熱のために第２ミラーの表面が歪み等の影響
を受けることがなくなる。この結果、第２ミラーから反
射した位置検出用光による可動ミラーの微小回転角度の
検出が正確にできる。
【００２１】請求項６に記載の発明は、回転可能な可動
ミラー８２によって主レーザ光９５を反射して対象物を
加工すると共に、可動ミラー８２が反射した位置検出用
光１０を位置センサ３で受光することによって可動ミラ
ー８２の回転角度を検出する光加工機のミラー角度検出
方法において、位置検出用光１０の可動ミラー８２によ
る反射光を結像レンズ５に入射し、結像レンズ５からの
出射光を結像レンズ５の像側焦点位置に位置する位置セ
ンサ３で受光することにより、可動ミラー８２の回転角
度の変位量を増幅して位置センサ３上の集光位置の移動
量に変換する方法としている。
ミラー８２によって主レーザ光９５を反射して対象物を
加工すると共に、可動ミラー８２が反射した位置検出用
光１０を位置センサ３で受光することによって可動ミラ
ー８２の回転角度を検出する光加工機のミラー角度検出
方法において、位置検出用光１０の可動ミラー８２によ
る反射光を結像レンズ５に入射し、結像レンズ５からの
出射光を結像レンズ５の像側焦点位置に位置する位置セ
ンサ３で受光することにより、可動ミラー８２の回転角
度の変位量を増幅して位置センサ３上の集光位置の移動
量に変換する方法としている。
【００２２】請求項６に記載の発明によると、位置検出
用光は可動ミラーにより反射され、結像レンズを介して
その像側焦点位置に配設された位置センサ上に集光され
る。このとき、可動ミラーの微小回転角度Δθによる位
置センサ上での集光位置の移動量ｙは、結像レンズの焦
点距離ｆによって増幅され、「ｙ＝ｆ×２×Δθ」で表
される。よって、可動ミラーの微小回転角度Δθが位置
センサの最小検出分解能より小さい場合でも、結像レン
ズの焦点距離ｆを所定値に設定することにより、位置セ
ンサ上での集光位置の移動量ｙを上記最小検出分解能よ
り大きくできる。したがって、通常使用している可動ミ
ラーの微小角度範囲でミラー角度検出が可能となる。ま
た、結像レンズを可動ミラーによる反射光の光路中に配
設するのみでよいので、光学ユニットもコンパクトにな
り、加工機の小型化に対応できる。
用光は可動ミラーにより反射され、結像レンズを介して
その像側焦点位置に配設された位置センサ上に集光され
る。このとき、可動ミラーの微小回転角度Δθによる位
置センサ上での集光位置の移動量ｙは、結像レンズの焦
点距離ｆによって増幅され、「ｙ＝ｆ×２×Δθ」で表
される。よって、可動ミラーの微小回転角度Δθが位置
センサの最小検出分解能より小さい場合でも、結像レン
ズの焦点距離ｆを所定値に設定することにより、位置セ
ンサ上での集光位置の移動量ｙを上記最小検出分解能よ
り大きくできる。したがって、通常使用している可動ミ
ラーの微小角度範囲でミラー角度検出が可能となる。ま
た、結像レンズを可動ミラーによる反射光の光路中に配
設するのみでよいので、光学ユニットもコンパクトにな
り、加工機の小型化に対応できる。
【００２３】請求項７に記載の発明は、位置検出用光１
０の可動ミラー８２による反射光をアフォーカル系を構
成する光学系６、７に入射し、このアフォーカル系を構
成する光学系６、７からの出射光を結像レンズ５に入射
し、結像レンズ５からの出射光を結像レンズ５の像側焦
点位置に位置する位置センサ３で受光することにより、
可動ミラー８２の回転角度の変位量を増幅して位置セン
サ３上の集光位置の移動量に変換する方法としている。
０の可動ミラー８２による反射光をアフォーカル系を構
成する光学系６、７に入射し、このアフォーカル系を構
成する光学系６、７からの出射光を結像レンズ５に入射
し、結像レンズ５からの出射光を結像レンズ５の像側焦
点位置に位置する位置センサ３で受光することにより、
可動ミラー８２の回転角度の変位量を増幅して位置セン
サ３上の集光位置の移動量に変換する方法としている。
【００２４】請求項７に記載の発明によると、位置検出
用光は可動ミラーにより反射され、アフォーカル系を構
成する光学系及び結像レンズを介してその像側焦点位置
に配設された位置センサ上に集光される。これにより、
結像レンズの焦点距離ｆはアフォーカル系を構成する光
学系の焦点距離の比率によって増幅される。したがっ
て、このアフォーカル系を構成する光学系の焦点距離の
比率を所定の大きさに設定することにより、等価的に大
きな焦点距離の結像レンズが得られ、前記請求項６に記
載の作用と同様に、位置センサ上での集光位置の移動量
ｙを位置センサの最小検出分解能より大きくできる。こ
の結果、通常使用している可動ミラーの微小角度範囲で
ミラー角度検出が可能となる。また、結像レンズ及びア
フォーカル系を構成する光学系を可動ミラーによる反射
光の光路中に配設するのみでよいので、光学ユニットも
コンパクトになり、加工機の小型化に対応できる。
用光は可動ミラーにより反射され、アフォーカル系を構
成する光学系及び結像レンズを介してその像側焦点位置
に配設された位置センサ上に集光される。これにより、
結像レンズの焦点距離ｆはアフォーカル系を構成する光
学系の焦点距離の比率によって増幅される。したがっ
て、このアフォーカル系を構成する光学系の焦点距離の
比率を所定の大きさに設定することにより、等価的に大
きな焦点距離の結像レンズが得られ、前記請求項６に記
載の作用と同様に、位置センサ上での集光位置の移動量
ｙを位置センサの最小検出分解能より大きくできる。こ
の結果、通常使用している可動ミラーの微小角度範囲で
ミラー角度検出が可能となる。また、結像レンズ及びア
フォーカル系を構成する光学系を可動ミラーによる反射
光の光路中に配設するのみでよいので、光学ユニットも
コンパクトになり、加工機の小型化に対応できる。
【００２５】請求項８に記載の発明は、回転可能な可動
ミラー８２によって主レーザ光９５を反射して対象物を
加工すると共に、可動ミラー８２が反射した位置検出用
光１０を位置センサ３で受光することによって可動ミラ
ー８２の回転角度を検出する光加工機のミラー角度検出
方法において、位置検出用光１０の可動ミラー８２から
の反射光の反射を繰り返しながら光路を延長し、この延
長された光路を介して出射された出射光を結像レンズ５
に入射し、結像レンズ５からの出射光を結像レンズ５の
像側焦点位置に位置する位置センサ３で受光する方法と
している。
ミラー８２によって主レーザ光９５を反射して対象物を
加工すると共に、可動ミラー８２が反射した位置検出用
光１０を位置センサ３で受光することによって可動ミラ
ー８２の回転角度を検出する光加工機のミラー角度検出
方法において、位置検出用光１０の可動ミラー８２から
の反射光の反射を繰り返しながら光路を延長し、この延
長された光路を介して出射された出射光を結像レンズ５
に入射し、結像レンズ５からの出射光を結像レンズ５の
像側焦点位置に位置する位置センサ３で受光する方法と
している。
【００２６】請求項８に記載の発明によると、位置検出
用光は可動ミラーにより反射され、反射を繰り返しなが
ら光路を延長する光学系を介して位置センサ上に集光さ
れる。これによって、可動ミラーから位置センサまでの
全光路長Ｌは、上記反射を繰り返しながら光路を延長す
る光学系の物理的な寸法に比して長くなる。このとき、
可動ミラーの微小回転角度Δθによる位置センサ上での
集光位置の移動量ｙは、上記反射を繰り返しながら光路
を延長する光学系の光路を含む全光路長Ｌによって増幅
され、「ｙ＝Ｌ×２×Δθ」で表される。よって、可動
ミラーの微小回転角度Δθが位置センサの最小検出分解
能より小さい場合でも、上記反射を繰り返しながら光路
を延長する光学系の光路を所定値に設定することによ
り、位置センサ上での集光位置の移動量ｙを上記最小検
出分解能より大きくできる。したがって、通常使用して
いる可動ミラーの微小角度範囲でミラー角度検出が可能
となる。また、反射を繰り返しながら光路を延長する光
学系を可動ミラーによる反射光の光路中に配設するのみ
でよいので、光学ユニットもコンパクトになり、加工機
の小型化に対応できる。
用光は可動ミラーにより反射され、反射を繰り返しなが
ら光路を延長する光学系を介して位置センサ上に集光さ
れる。これによって、可動ミラーから位置センサまでの
全光路長Ｌは、上記反射を繰り返しながら光路を延長す
る光学系の物理的な寸法に比して長くなる。このとき、
可動ミラーの微小回転角度Δθによる位置センサ上での
集光位置の移動量ｙは、上記反射を繰り返しながら光路
を延長する光学系の光路を含む全光路長Ｌによって増幅
され、「ｙ＝Ｌ×２×Δθ」で表される。よって、可動
ミラーの微小回転角度Δθが位置センサの最小検出分解
能より小さい場合でも、上記反射を繰り返しながら光路
を延長する光学系の光路を所定値に設定することによ
り、位置センサ上での集光位置の移動量ｙを上記最小検
出分解能より大きくできる。したがって、通常使用して
いる可動ミラーの微小角度範囲でミラー角度検出が可能
となる。また、反射を繰り返しながら光路を延長する光
学系を可動ミラーによる反射光の光路中に配設するのみ
でよいので、光学ユニットもコンパクトになり、加工機
の小型化に対応できる。
【００２７】
【発明の実施の形態】以下に、図面を参照しながら実施
例を説明する。まず、図１〜図３に基づいて本発明の解
決手段の基本的な考え方を説明する。図１は、この基本
的考え方を説明する構成図である。加工用の主レーザ光
９５は図示しないレーザ発振器によって発振され、可動
ミラー８２の一つの面に形成された第１ミラー９によっ
て反射されて加工対象物に照射される。可動ミラー８２
は、図示しない制御装置及びサーボアンプを介して角度
指令を受けるガルバノスキャナにより回転駆動されてい
る。また、光源１は位置検出用光１０を出射するもので
あり、例えば半導体レーザや発光ダイオード等で構成さ
れる。これらの光源の出射光が多少の広がり角を有して
いるので、コリメータレンズ４を介して平行光にしてい
る。この平行光は、可動ミラー８２の第１ミラー９と異
なる他の面に形成又は取着された第２ミラー２に入射さ
れ、第２ミラー２による反射光は結像レンズ５によって
位置センサ３上に集光される。なお、第２ミラー２を主
レーザ光を反射する第１ミラー９と異なった面に設ける
のは、出力パワーの大きい主レーザ光９５による発熱の
ために第２ミラー２の表面が歪み等の影響を受けること
がないようにするためである。これにより、第２ミラー
２で反射された光による可動ミラー８２の微小角度の検
出が正確にできる。
例を説明する。まず、図１〜図３に基づいて本発明の解
決手段の基本的な考え方を説明する。図１は、この基本
的考え方を説明する構成図である。加工用の主レーザ光
９５は図示しないレーザ発振器によって発振され、可動
ミラー８２の一つの面に形成された第１ミラー９によっ
て反射されて加工対象物に照射される。可動ミラー８２
は、図示しない制御装置及びサーボアンプを介して角度
指令を受けるガルバノスキャナにより回転駆動されてい
る。また、光源１は位置検出用光１０を出射するもので
あり、例えば半導体レーザや発光ダイオード等で構成さ
れる。これらの光源の出射光が多少の広がり角を有して
いるので、コリメータレンズ４を介して平行光にしてい
る。この平行光は、可動ミラー８２の第１ミラー９と異
なる他の面に形成又は取着された第２ミラー２に入射さ
れ、第２ミラー２による反射光は結像レンズ５によって
位置センサ３上に集光される。なお、第２ミラー２を主
レーザ光を反射する第１ミラー９と異なった面に設ける
のは、出力パワーの大きい主レーザ光９５による発熱の
ために第２ミラー２の表面が歪み等の影響を受けること
がないようにするためである。これにより、第２ミラー
２で反射された光による可動ミラー８２の微小角度の検
出が正確にできる。
【００２８】位置センサ３は受光位置の光の強度によっ
て位置が検出でき、例えばＣＣＤやＰＳＤ等で構成され
る位置センサである。ここで、可動ミラー８２から位置
センサ３までの光路長をＬとする。なお、図１では、コ
リメータレンズ４で平行光にした後、結像レンズ５によ
って集光させているが、コリメータレンズ４によって平
行光にせずに結像レンズ５によって位置センサ３上に直
接集光させることも考えられる。
て位置が検出でき、例えばＣＣＤやＰＳＤ等で構成され
る位置センサである。ここで、可動ミラー８２から位置
センサ３までの光路長をＬとする。なお、図１では、コ
リメータレンズ４で平行光にした後、結像レンズ５によ
って集光させているが、コリメータレンズ４によって平
行光にせずに結像レンズ５によって位置センサ３上に直
接集光させることも考えられる。
【００２９】いま、図２のように可動ミラー８２が角度
Δθだけ回転したとすると、可動ミラー８２による反射
光の方向は上記角度Δθと同じ方向に２Δθだけ回転す
る。このとき、上記光路長がＬであることから、位置セ
ンサ３上の集光位置は略「Ｌ×２Δθ」で表される距離
だけ移動する。但し、ここでは、結像レンズ５と位置セ
ンサ３との距離（結像レンズ５の焦点距離）ｆが光路長
Ｌに比べて小さいとする。これによって、位置センサ３
ではこの移動距離から可動ミラー８２の回転角度Δθが
検出される。しかしながら、この角度Δθが微小角度で
あるときには、位置センサ３上の集光位置の移動距離が
位置センサ３の最小検出分解能より小さくなる場合が生
じる。このときは、位置センサ３上でこの集光位置の移
動距離を検出できない。
Δθだけ回転したとすると、可動ミラー８２による反射
光の方向は上記角度Δθと同じ方向に２Δθだけ回転す
る。このとき、上記光路長がＬであることから、位置セ
ンサ３上の集光位置は略「Ｌ×２Δθ」で表される距離
だけ移動する。但し、ここでは、結像レンズ５と位置セ
ンサ３との距離（結像レンズ５の焦点距離）ｆが光路長
Ｌに比べて小さいとする。これによって、位置センサ３
ではこの移動距離から可動ミラー８２の回転角度Δθが
検出される。しかしながら、この角度Δθが微小角度で
あるときには、位置センサ３上の集光位置の移動距離が
位置センサ３の最小検出分解能より小さくなる場合が生
じる。このときは、位置センサ３上でこの集光位置の移
動距離を検出できない。
【００３０】このような問題点を解決する方法として、
位置センサ３上での集光位置の移動距離が「Ｌ×２Δ
θ」で表されることから、次のような二つの基本的な考
え方がある。1)Δθに掛かる係数を大きく、すなわち角
度を増幅する。なお、ここでの係数は、可動ミラー８２
での反射光の微小回転角度を増幅する係数である。図１
では、この係数は「２」で固定である。2)光路長Ｌを大
きくする。図１において、単純に光路長Ｌを大きくする
と、それに伴って光学ユニットの距離が長くくなってし
まうので、加工機全体が大型になり実用的でなくなる。
位置センサ３上での集光位置の移動距離が「Ｌ×２Δ
θ」で表されることから、次のような二つの基本的な考
え方がある。1)Δθに掛かる係数を大きく、すなわち角
度を増幅する。なお、ここでの係数は、可動ミラー８２
での反射光の微小回転角度を増幅する係数である。図１
では、この係数は「２」で固定である。2)光路長Ｌを大
きくする。図１において、単純に光路長Ｌを大きくする
と、それに伴って光学ユニットの距離が長くくなってし
まうので、加工機全体が大型になり実用的でなくなる。
【００３１】以上のことを基にして、以下に実施例を詳
細に説明する。第一実施例では、Δθに掛かる係数を大
きくする例を示しており、図４は本実施例の一つの構成
図である。図４では、前述の図１と同じ構成には同じ符
号を付けており、以下の説明を省く。コリメータレンズ
４により平行光にされた位置検出用光１０は可動ミラー
８２の第２ミラー２により反射し、第２ミラー２の反射
光は可動ミラー８２から光路Ｌ１の距離にある第１レン
ズ６に入射する。第１レンズ６の出射光は、第２レンズ
７及び結像レンズ５を介して位置センサ３上に集光され
る。第１レンズ６は焦点距離ｆ1 を有し、また第２レン
ズ７は焦点距離ｆ2 を有していて、それぞれのレンズは
第１レンズ６の像側焦点と第２レンズ７の物体側焦点と
が一致するように配設されている。また、結像レンズ５
は焦点距離ｆ3 を有し、結像レンズ５の像側焦点が位置
センサ３の検出面と光軸８との交点に一致するように結
像レンズ５を配設している。
細に説明する。第一実施例では、Δθに掛かる係数を大
きくする例を示しており、図４は本実施例の一つの構成
図である。図４では、前述の図１と同じ構成には同じ符
号を付けており、以下の説明を省く。コリメータレンズ
４により平行光にされた位置検出用光１０は可動ミラー
８２の第２ミラー２により反射し、第２ミラー２の反射
光は可動ミラー８２から光路Ｌ１の距離にある第１レン
ズ６に入射する。第１レンズ６の出射光は、第２レンズ
７及び結像レンズ５を介して位置センサ３上に集光され
る。第１レンズ６は焦点距離ｆ1 を有し、また第２レン
ズ７は焦点距離ｆ2 を有していて、それぞれのレンズは
第１レンズ６の像側焦点と第２レンズ７の物体側焦点と
が一致するように配設されている。また、結像レンズ５
は焦点距離ｆ3 を有し、結像レンズ５の像側焦点が位置
センサ３の検出面と光軸８との交点に一致するように結
像レンズ５を配設している。
【００３２】このような構成における各レンズの作用
を、図５に基づいて説明する。図５は第１レンズ６、第
２レンズ７及び結像レンズ５の組み合わせレンズを詳細
に記述している。同図において、各レンズと光軸８との
交点をそれぞれＤ、Ｇ、Ｋとし、第１レンズ６の像側焦
点（第２レンズ７の物体側焦点）の位置をＢ、結像レン
ズ５の像側焦点（位置センサ３の検出面）をＣとする。
また、第１レンズ６に入射する平行光の片側最大広がり
幅をｈ1 、第１レンズ６における交点Ｄから広がり幅ｈ
1 の距離にある点をＥ、第１レンズ６からの出射光が焦
点Ｂを通って第２レンズ７に入射したときの点Ｇから片
側最大広がり幅ｈ2 の距離にある点をＩ、そして第２レ
ンズ７から出射した平行光が結像レンズ５に入射したと
きの点Ｋから片側最大広がり幅ｈ2 の距離にある点をＭ
とする。さらに、点Ｃと点Ｍを結ぶ線を結像レンズ５の
入射側に延長し、この線と第１レンズ６の点Ｅから光軸
８に平行に延長した線との交点をＪとし、点Ｊから線分
ＥＤに平行に引いた線と光軸８との交点をＡとする。
を、図５に基づいて説明する。図５は第１レンズ６、第
２レンズ７及び結像レンズ５の組み合わせレンズを詳細
に記述している。同図において、各レンズと光軸８との
交点をそれぞれＤ、Ｇ、Ｋとし、第１レンズ６の像側焦
点（第２レンズ７の物体側焦点）の位置をＢ、結像レン
ズ５の像側焦点（位置センサ３の検出面）をＣとする。
また、第１レンズ６に入射する平行光の片側最大広がり
幅をｈ1 、第１レンズ６における交点Ｄから広がり幅ｈ
1 の距離にある点をＥ、第１レンズ６からの出射光が焦
点Ｂを通って第２レンズ７に入射したときの点Ｇから片
側最大広がり幅ｈ2 の距離にある点をＩ、そして第２レ
ンズ７から出射した平行光が結像レンズ５に入射したと
きの点Ｋから片側最大広がり幅ｈ2 の距離にある点をＭ
とする。さらに、点Ｃと点Ｍを結ぶ線を結像レンズ５の
入射側に延長し、この線と第１レンズ６の点Ｅから光軸
８に平行に延長した線との交点をＪとし、点Ｊから線分
ＥＤに平行に引いた線と光軸８との交点をＡとする。
【００３３】このとき、三角形ＤＥＢと三角形ＧＩＢは
相似なので、式「ｆ1 ／ｈ1 ＝ｆ2／ｈ2 」が成立し、
また三角形ＡＪＣと三角形ＫＭＣは相似なので、式「ｆ
4 ／ｈ１＝ｆ3 ／ｈ２」が成立する。よって、これらの
式から式「ｆ4 ＝（ｆ1 ／ｆ2 ）×ｆ3 」が成立する。
このｆ4 は、第１レンズ６、第２レンズ７及び結像レン
ズ５の組み合わせレンズの焦点距離を表している。した
がって、図４は、図６のように焦点距離ｆ4 を有する１
枚の結像レンズ５ａを使用した構成に置き換えることが
できる。
相似なので、式「ｆ1 ／ｈ1 ＝ｆ2／ｈ2 」が成立し、
また三角形ＡＪＣと三角形ＫＭＣは相似なので、式「ｆ
4 ／ｈ１＝ｆ3 ／ｈ２」が成立する。よって、これらの
式から式「ｆ4 ＝（ｆ1 ／ｆ2 ）×ｆ3 」が成立する。
このｆ4 は、第１レンズ６、第２レンズ７及び結像レン
ズ５の組み合わせレンズの焦点距離を表している。した
がって、図４は、図６のように焦点距離ｆ4 を有する１
枚の結像レンズ５ａを使用した構成に置き換えることが
できる。
【００３４】図７は、上記１枚の結像レンズ５ａによる
可動ミラー８２の回転角度の増幅作用を説明している。
いま、可動ミラー８２によって反射した平行光が結像レ
ンズ５ａに入射し、その結像レンズ５ａからの出射光が
焦点距離ｆ4 と一致する位置にある位置センサ３上の点
Ｃ１に集光されているものとする。ここで、可動ミラー
８２がΔθだけ回転したとき、位置センサ３上での集光
位置Ｃ２の点Ｃ１からの移動距離ｙは、式「ｙ＝ｆ4 ×
tan(2 Δθ) 」で表されることは良く知られている。Δ
θが微小角度のときは「tan(2 Δθ) ＝2 Δθ」で表さ
れることより、上記移動距離ｙは式「ｙ＝ｆ4 ×2 Δ
θ」で表され、回転角度Δθに掛かる係数を組み合わせ
レンズの焦点距離ｆ4 によって大きくすることが可能と
なる。
可動ミラー８２の回転角度の増幅作用を説明している。
いま、可動ミラー８２によって反射した平行光が結像レ
ンズ５ａに入射し、その結像レンズ５ａからの出射光が
焦点距離ｆ4 と一致する位置にある位置センサ３上の点
Ｃ１に集光されているものとする。ここで、可動ミラー
８２がΔθだけ回転したとき、位置センサ３上での集光
位置Ｃ２の点Ｃ１からの移動距離ｙは、式「ｙ＝ｆ4 ×
tan(2 Δθ) 」で表されることは良く知られている。Δ
θが微小角度のときは「tan(2 Δθ) ＝2 Δθ」で表さ
れることより、上記移動距離ｙは式「ｙ＝ｆ4 ×2 Δ
θ」で表され、回転角度Δθに掛かる係数を組み合わせ
レンズの焦点距離ｆ4 によって大きくすることが可能と
なる。
【００３５】前述の式「ｆ4 ＝（ｆ1 ／ｆ2 ）×ｆ3 」
より、第１レンズ６及び第２レンズ７の焦点距離の比
「ｆ1 ／ｆ2 」を所定の大きさに設定することによっ
て、組み合わせレンズの焦点距離ｆ4 を所定値に設定可
能である。しかも、この焦点距離ｆ4 は上記のように焦
点距離の比「ｆ1 ／ｆ2 」を結像レンズ５の焦点距離ｆ
3にかけた値として求められるので、焦点距離ｆ4 に相
当するような焦点距離を有する一枚の結像レンズ５ａで
構成するよりも物理的な寸法を小さくできる。したがっ
て、このような組み合わせレンズを使用し、等価的に焦
点距離の大きなレンズによって回転角度Δθを増幅でき
ると共に、加工機全体の小型化にも対応が可能となる。
より、第１レンズ６及び第２レンズ７の焦点距離の比
「ｆ1 ／ｆ2 」を所定の大きさに設定することによっ
て、組み合わせレンズの焦点距離ｆ4 を所定値に設定可
能である。しかも、この焦点距離ｆ4 は上記のように焦
点距離の比「ｆ1 ／ｆ2 」を結像レンズ５の焦点距離ｆ
3にかけた値として求められるので、焦点距離ｆ4 に相
当するような焦点距離を有する一枚の結像レンズ５ａで
構成するよりも物理的な寸法を小さくできる。したがっ
て、このような組み合わせレンズを使用し、等価的に焦
点距離の大きなレンズによって回転角度Δθを増幅でき
ると共に、加工機全体の小型化にも対応が可能となる。
【００３６】これまで説明したように、第１レンズ６と
第２レンズ７の組み合わせは光軸８に平行な入射光を光
軸８に平行に出射しているが、このような光学系をアフ
ォーカル系を構成する光学系と呼んでいる。本実施例の
ように、組み合わせレンズにより等価的に焦点距離の大
きなレンズを構成することは、一般的にアフォーカル系
を構成する光学系によって実現可能となる。すなわち、
可動ミラー８２と結像レンズ５との間にこのアフォーカ
ル系を構成する光学系を配設し、アフォーカル系を構成
する光学系に平行光を入射し、そのアフォーカル系を構
成する光学系からの出射光を結像レンズ５に入射して位
置センサ３に集光するようにする。そして、アフォーカ
ル系を構成する光学系の焦点距離の比率を所定値に設定
することによって、前述同様に所定の焦点距離の等価的
な結像レンズ５ａが得られる。この結果、同様に可動ミ
ラー８２の回転角度Δθを増幅できると共に、加工機全
体の小型化にも対応が可能となる。
第２レンズ７の組み合わせは光軸８に平行な入射光を光
軸８に平行に出射しているが、このような光学系をアフ
ォーカル系を構成する光学系と呼んでいる。本実施例の
ように、組み合わせレンズにより等価的に焦点距離の大
きなレンズを構成することは、一般的にアフォーカル系
を構成する光学系によって実現可能となる。すなわち、
可動ミラー８２と結像レンズ５との間にこのアフォーカ
ル系を構成する光学系を配設し、アフォーカル系を構成
する光学系に平行光を入射し、そのアフォーカル系を構
成する光学系からの出射光を結像レンズ５に入射して位
置センサ３に集光するようにする。そして、アフォーカ
ル系を構成する光学系の焦点距離の比率を所定値に設定
することによって、前述同様に所定の焦点距離の等価的
な結像レンズ５ａが得られる。この結果、同様に可動ミ
ラー８２の回転角度Δθを増幅できると共に、加工機全
体の小型化にも対応が可能となる。
【００３７】次に、前述の光路長Ｌを大きくする例を示
す。第２実施例はその例であり、図８の構成図に基づい
て説明する。同図において、第一実施例と同じ構成には
同符号を付し、ここでの説明を省く。本実施例では、可
動ミラー８２と結像レンズ５との間で、かつ、可動ミラ
ー８２からの反射光が伝搬する光路中にプリズム１１を
配設している。図８のように、プリズム１１に入射した
平行光はプリズム１１内で所定回数の反射を繰り返した
後、反対側から出射して結像レンズ５に入射し、位置セ
ンサ３上に集光されるようになっている。
す。第２実施例はその例であり、図８の構成図に基づい
て説明する。同図において、第一実施例と同じ構成には
同符号を付し、ここでの説明を省く。本実施例では、可
動ミラー８２と結像レンズ５との間で、かつ、可動ミラ
ー８２からの反射光が伝搬する光路中にプリズム１１を
配設している。図８のように、プリズム１１に入射した
平行光はプリズム１１内で所定回数の反射を繰り返した
後、反対側から出射して結像レンズ５に入射し、位置セ
ンサ３上に集光されるようになっている。
【００３８】本実施例において、プリズム１１を反射を
繰り返しながら光路を延長する光学系として使用してい
る。すなわち、可動ミラー８２から位置センサ３までの
距離の内、反射光の進行方向の成分をＬR とすると、可
動ミラー８２から位置センサ３までの反射光の実際の光
路はプリズム１１内で反射を繰り返すので延長され、距
離ＬR よりも長くなる。したがって、これらの光学ユニ
ットの実際の物理的な距離に比べて、可動ミラー８２か
ら位置センサ３までの反射光の光路長Ｌを長くすること
ができる。前述のように、可動ミラー８２が微小角度Δ
θだけ回転したときは、位置センサ３上での集光位置の
移動距離は「Ｌ×２Δθ」となるので、反射光の光路長
Ｌを大きくすることによって上記集光位置の移動距離を
増幅することが可能となる。この結果、位置センサ３の
最小検出分解能より大きく集光位置を移動させることが
でき、微小回転角度の検出が容易となると共に、加工機
全体の小型化にも対応できる。
繰り返しながら光路を延長する光学系として使用してい
る。すなわち、可動ミラー８２から位置センサ３までの
距離の内、反射光の進行方向の成分をＬR とすると、可
動ミラー８２から位置センサ３までの反射光の実際の光
路はプリズム１１内で反射を繰り返すので延長され、距
離ＬR よりも長くなる。したがって、これらの光学ユニ
ットの実際の物理的な距離に比べて、可動ミラー８２か
ら位置センサ３までの反射光の光路長Ｌを長くすること
ができる。前述のように、可動ミラー８２が微小角度Δ
θだけ回転したときは、位置センサ３上での集光位置の
移動距離は「Ｌ×２Δθ」となるので、反射光の光路長
Ｌを大きくすることによって上記集光位置の移動距離を
増幅することが可能となる。この結果、位置センサ３の
最小検出分解能より大きく集光位置を移動させることが
でき、微小回転角度の検出が容易となると共に、加工機
全体の小型化にも対応できる。
【００３９】図９は第三実施例を表しており、三角プリ
ズム１２を使用して光路長Ｌを延長する例を示してい
る。同図において、可動ミラー８２からの反射光の光路
中に２個の三角プリズム１２を配設しており、各三角プ
リズム１２の直角面で入射光を受けてこの反射光を出射
し、次の三角プリズム１２に導くようにしている。最後
の三角プリズム１２の出射光は、結像レンズ５を介して
位置センサ３上に集光されている。なお、三角プリズム
１２の個数は図９のような２個に限定されず、少なくと
も１個以上であればよい。このように本実施例では、三
角プリズム１２は反射を繰り返しながら光路を延長する
光学系として使用されている。
ズム１２を使用して光路長Ｌを延長する例を示してい
る。同図において、可動ミラー８２からの反射光の光路
中に２個の三角プリズム１２を配設しており、各三角プ
リズム１２の直角面で入射光を受けてこの反射光を出射
し、次の三角プリズム１２に導くようにしている。最後
の三角プリズム１２の出射光は、結像レンズ５を介して
位置センサ３上に集光されている。なお、三角プリズム
１２の個数は図９のような２個に限定されず、少なくと
も１個以上であればよい。このように本実施例では、三
角プリズム１２は反射を繰り返しながら光路を延長する
光学系として使用されている。
【００４０】ここでも、可動ミラー８２から位置センサ
３までの距離の内、反射光の進行方向の成分をＬR とす
ると、可動ミラー８２から位置センサ３までの反射光の
実際の光路は各三角プリズム１２で反射を繰り返すので
延長され、距離ＬR よりも長くなる。したがって、これ
らの光学ユニットの実際の物理的な距離に比べて、可動
ミラー８２から位置センサ３までの反射光の光路長Ｌを
長くすることができる。これによって、前述同様に、可
動ミラー８２が微小角度Δθだけ回転したときでも、位
置センサ３上での集光位置の移動距離を増幅することが
可能となり、位置センサ３の最小検出分解能より大きく
集光位置を移動させることができる。この結果、可動ミ
ラー８２の微小回転角度の検出が容易となると共に、加
工機全体の小型化にも対応できる。
３までの距離の内、反射光の進行方向の成分をＬR とす
ると、可動ミラー８２から位置センサ３までの反射光の
実際の光路は各三角プリズム１２で反射を繰り返すので
延長され、距離ＬR よりも長くなる。したがって、これ
らの光学ユニットの実際の物理的な距離に比べて、可動
ミラー８２から位置センサ３までの反射光の光路長Ｌを
長くすることができる。これによって、前述同様に、可
動ミラー８２が微小角度Δθだけ回転したときでも、位
置センサ３上での集光位置の移動距離を増幅することが
可能となり、位置センサ３の最小検出分解能より大きく
集光位置を移動させることができる。この結果、可動ミ
ラー８２の微小回転角度の検出が容易となると共に、加
工機全体の小型化にも対応できる。
【００４１】次に、第四実施例を説明する。本実施例は
固定ミラー１３を使用して光路長Ｌを延長する例を示し
ており、図１０はその構成図である。同図において、可
動ミラー８２からの反射光の光路中に２個の固定ミラー
１３を配設しており、各固定ミラー１３の反射面で入射
光を反射し、次の固定ミラー１３に導くようにしてい
る。最後の固定ミラー１３の反射光は結像レンズ５を介
して位置センサ３上に集光されている。なお、固定ミラ
ー１３の個数は図１０のような２個に限定されず、少な
くとも１個以上であればよい。本実施例でも同じく、固
定ミラー１３は反射を繰り返しながら光路を延長する光
学系として使用されている。
固定ミラー１３を使用して光路長Ｌを延長する例を示し
ており、図１０はその構成図である。同図において、可
動ミラー８２からの反射光の光路中に２個の固定ミラー
１３を配設しており、各固定ミラー１３の反射面で入射
光を反射し、次の固定ミラー１３に導くようにしてい
る。最後の固定ミラー１３の反射光は結像レンズ５を介
して位置センサ３上に集光されている。なお、固定ミラ
ー１３の個数は図１０のような２個に限定されず、少な
くとも１個以上であればよい。本実施例でも同じく、固
定ミラー１３は反射を繰り返しながら光路を延長する光
学系として使用されている。
【００４２】ここでも、可動ミラー８２から位置センサ
３までの距離の内、反射光の進行方向の成分をＬR とす
ると、可動ミラー８２から位置センサ３までの反射光の
実際の光路は各固定ミラー１３で反射を繰り返すので延
長され、距離ＬR よりも長くなる。したがって、前述同
様に、これらの光学ユニットの実際の物理的な距離に比
べて、可動ミラー８２から位置センサ３までの反射光の
光路長Ｌを長くすることができる。これによって、可動
ミラー８２が微小角度Δθだけ回転したときでも、位置
センサ３上での集光位置の移動距離を増幅することが可
能となり、位置センサ３の最小検出分解能より大きく集
光位置を移動させることができる。この結果、可動ミラ
ー８２の微小回転角度の検出が容易となると共に、加工
機全体の小型化にも対応できる。
３までの距離の内、反射光の進行方向の成分をＬR とす
ると、可動ミラー８２から位置センサ３までの反射光の
実際の光路は各固定ミラー１３で反射を繰り返すので延
長され、距離ＬR よりも長くなる。したがって、前述同
様に、これらの光学ユニットの実際の物理的な距離に比
べて、可動ミラー８２から位置センサ３までの反射光の
光路長Ｌを長くすることができる。これによって、可動
ミラー８２が微小角度Δθだけ回転したときでも、位置
センサ３上での集光位置の移動距離を増幅することが可
能となり、位置センサ３の最小検出分解能より大きく集
光位置を移動させることができる。この結果、可動ミラ
ー８２の微小回転角度の検出が容易となると共に、加工
機全体の小型化にも対応できる。
【図１】本発明に係わるミラー角度検出方法の基本説明
図である。
図である。
【図２】図１におけるミラーでの反射角度の変化量の説
明図である。
明図である。
【図３】図１における位置検出センサでの検出位置変位
量の説明図である。
量の説明図である。
【図４】本発明に係わる第一実施例のミラー角度検出装
置の構成図である。
置の構成図である。
【図５】本発明に係わる第一実施例の作用の説明図であ
る。
る。
【図６】本発明に係わる第一実施例の作用の説明図であ
る。
る。
【図７】本発明に係わる第一実施例の作用の説明図であ
る。
る。
【図８】本発明に係わる第二実施例のミラー角度検出装
置の構成図である。
置の構成図である。
【図９】本発明に係わる第三実施例のミラー角度検出装
置の構成図である。
置の構成図である。
【図１０】本発明に係わる第四実施例のミラー角度検出
装置の構成図である。
装置の構成図である。
【図１１】従来技術の可動ミラーの角度補正手段を有す
るレーザ光走査装置の構成図である。
るレーザ光走査装置の構成図である。
【図１２】従来技術の可動ミラーの角度補正手段の制御
構成ブロック図である。
構成ブロック図である。
１ 光源 ２ 第２ミラー ３ 位置センサ ４ コリメータレンズ ５、５ａ 結像レンズ ６ 第１レンズ ７ 第２レンズ ８ 光軸 ９ 第１ミラー １０ 位置検出用光 １１ プリズム １２ 三角プリズム １３ 固定ミラー ８１ ガルバノメータ型オプティカルスキャナ ８２ 可動ミラー ８３ ミラー ８４ ｆθレンズ ８５ 試料面 ８６ 半導体レーザ ８７ コリメートレンズ ８８ 円柱レンズ ８９ ラインセンサ ９０ 偏差信号出力回路 ９１ Ｄ／Ａコンバータ ９２ サーボアンプ ９３ 温度制御アンプ ９５ 主レーザ光 ９６ レーザ光
Claims (8)
- 【請求項１】 主レーザ光(95)を反射しながら回転して
対象物を加工し、かつ、位置検出用光(10)を反射して回
転角度を検出される可動ミラー(82)と、可動ミラー(82)
が反射した位置検出用光(10)を受光することによって可
動ミラー(82)の回転角度を検出する位置センサ(3) とを
有する光加工機のミラー角度検出装置において、 可動ミラー(82)の一つの面に主レーザ光(95)を反射する
第１ミラー(9) を形成すると共に、可動ミラー(82)の他
の面には位置検出用光(10)を反射して位置センサ(3) に
導く第２ミラー(2) を形成又は取着したことを特徴とす
るミラー角度検出装置。 - 【請求項２】 主レーザ光(95)を反射しながら回転して
対象物を加工し、かつ、位置検出用光(10)を反射して回
転角度を検出される可動ミラー(82)と、可動ミラー(82)
が反射した位置検出用光(10)を受光することによって可
動ミラー(82)の回転角度を検出する位置センサ(3) とを
有する光加工機のミラー角度検出装置において、 位置検出用光(10)の可動ミラー(82)による反射光が伝搬
する光路中に配設された結像レンズ(5) と、 結像レンズ(5) の像側焦点位置に配設された位置センサ
(3) とを備えたことを特徴とするミラー角度検出装置。 - 【請求項３】 位置検出用光(10)の可動ミラー(82)によ
る反射光の伝搬する光路中で、かつ、可動ミラー(82)と
結像レンズ(5) との間に、アフォーカル系を構成する光
学系(6,7) を配設したことを特徴とする請求項２に記載
のミラー角度検出装置。 - 【請求項４】 主レーザ光(95)を反射しながら回転して
対象物を加工し、かつ、位置検出用光(10)を反射して回
転角度を検出される可動ミラー(82)と、可動ミラー(82)
が反射した位置検出用光(10)を受光することによって可
動ミラー(82)の回転角度を検出する位置センサ(3) とを
有する光加工機のミラー角度検出装置において、 位置検出用光(10)の可動ミラー(82)による反射光の伝搬
する光路中に、反射を繰り返しながら光路を延長する光
学系(11 、12、13) を配設したことを特徴とするミラー
角度検出装置。 - 【請求項５】 回転可能な可動ミラー(82)によって主レ
ーザ光(95)を反射して対象物を加工すると共に、可動ミ
ラー(82)が反射した位置検出用光(10)を位置センサ(3)
で受光することによって可動ミラー(82)の回転角度を検
出する光加工機のミラー角度検出方法において、 可動ミラー(82)の一つの面に形成した第１ミラー(9) で
主レーザ光(95)を反射して加工し、可動ミラー(82)の他
の面に設けた第２ミラー(2) に位置検出用光(10)を入射
し、第２ミラー(2) の反射光を位置センサ(3) で受光す
ることを特徴とするミラー角度検出方法。 - 【請求項６】 回転可能な可動ミラー(82)によって主レ
ーザ光(95)を反射して対象物を加工すると共に、可動ミ
ラー(82)が反射した位置検出用光(10)を位置センサ(3)
で受光することによって可動ミラー(82)の回転角度を検
出する光加工機のミラー角度検出方法において、 位置検出用光(10)の可動ミラー(82)による反射光を結像
レンズ(5) に入射し、結像レンズ(5) からの出射光を結
像レンズ(5) の像側焦点位置に位置する位置センサ(3)
で受光することにより、可動ミラー(82)の回転角度の変
位量を増幅して位置センサ(3) 上の集光位置の移動量に
変換することを特徴とするミラー角度検出方法。 - 【請求項７】 位置検出用光(10)の可動ミラー(82)によ
る反射光をアフォーカル系を構成する光学系(6,7) に入
射し、このアフォーカル系を構成する光学系(6,7) から
の出射光を結像レンズ(5) に入射し、結像レンズ(5) か
らの出射光を結像レンズ(5) の像側焦点位置に位置する
位置センサ(3) で受光することにより、可動ミラー(82)
の回転角度の変位量を増幅して位置センサ(3) 上の集光
位置の移動量に変換することを特徴とする請求項６に記
載のミラー角度検出方法。 - 【請求項８】 回転可能な可動ミラー(82)によって主レ
ーザ光(95)を反射して対象物を加工すると共に、可動ミ
ラー(82)が反射した位置検出用光(10)を位置センサ(3)
で受光することによって可動ミラー(82)の回転角度を検
出する光加工機のミラー角度検出方法において、 位置検出用光(10)の可動ミラー(82)からの反射光の反射
を繰り返しながら光路を延長し、この延長された光路を
介して出射された出射光を結像レンズ(5) に入射し、結
像レンズ(5) からの出射光を結像レンズ(5) の像側焦点
位置に位置する位置センサ(3) で受光することを特徴と
するミラー角度検出方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7344629A JPH09159945A (ja) | 1995-12-04 | 1995-12-04 | ミラー角度検出装置及び検出方法 |
| TW085113402A TW318894B (ja) | 1995-12-04 | 1996-10-30 | |
| KR1019960058271A KR970048691A (ko) | 1995-12-04 | 1996-11-27 | 미러각도 검출장치 및 검출방법 |
| PCT/JP1996/003538 WO1997021132A1 (fr) | 1995-12-04 | 1996-12-03 | Detecteur angulaire a miroir et procede de detection |
| EP96939353A EP0869384A4 (en) | 1995-12-04 | 1996-12-03 | ANGLE DETECTOR AND DETECTION METHOD WITH MIRROR |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7344629A JPH09159945A (ja) | 1995-12-04 | 1995-12-04 | ミラー角度検出装置及び検出方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09159945A true JPH09159945A (ja) | 1997-06-20 |
Family
ID=18370746
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7344629A Pending JPH09159945A (ja) | 1995-12-04 | 1995-12-04 | ミラー角度検出装置及び検出方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0869384A4 (ja) |
| JP (1) | JPH09159945A (ja) |
| KR (1) | KR970048691A (ja) |
| TW (1) | TW318894B (ja) |
| WO (1) | WO1997021132A1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008224408A (ja) * | 2007-03-13 | 2008-09-25 | Sanyo Electric Co Ltd | ビーム照射装置 |
| JP2010145313A (ja) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Opcell Co Ltd | オートコリメータ装置 |
| JP2010182847A (ja) * | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Toshiba Corp | 光伝送装置 |
| WO2018066286A1 (ja) * | 2016-10-04 | 2018-04-12 | 株式会社ニコン | ビーム走査装置およびパターン描画装置 |
| WO2018066285A1 (ja) * | 2016-10-04 | 2018-04-12 | 株式会社ニコン | ビーム走査装置、パターン描画装置、およびパターン描画装置の精度検査方法 |
| JP2020118623A (ja) * | 2019-01-28 | 2020-08-06 | 株式会社日立製作所 | レーザ変位計、超音波装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100425770B1 (ko) * | 2002-04-23 | 2004-04-01 | 전자부품연구원 | 미소 반사체의 회전각도 측정장치 |
| KR100589592B1 (ko) * | 2004-05-10 | 2006-06-19 | 주식회사 대우일렉트로닉스 | 홀로그래픽 디지털 데이터 시스템의 미러 각도 측정 및서보 장치 |
| CN101852596B (zh) * | 2010-04-09 | 2012-03-14 | 哈尔滨工程大学 | 直升机旋翼共锥度测量光路的快速产生装置 |
| CN102288135A (zh) * | 2011-06-30 | 2011-12-21 | 亚威朗光电(中国)有限公司 | 测量极小旋转角度的光学系统 |
| CN106463567B (zh) * | 2014-04-25 | 2018-06-01 | 浜松光子学株式会社 | 光学式传感器 |
| CN105091791B (zh) * | 2015-05-09 | 2017-11-24 | 国家电网公司 | 光学镜头光轴与机械轴夹角的检测方法 |
| DE102016111615B3 (de) * | 2016-06-24 | 2017-04-13 | Sick Ag | Optoelektronischer Sensor und Verfahren zur Erfassung von Objekten |
| CN112014362B (zh) * | 2019-05-30 | 2024-04-09 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 显微成像全谱段高压模块时间分辨荧光测量系统 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4121883A (en) * | 1974-04-22 | 1978-10-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning device for radiation beams |
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