JPH09155749A

JPH09155749A - 研磨シート

Info

Publication number: JPH09155749A
Application number: JP32040895A
Authority: JP
Inventors: Katsumi Ryomo; 克己両毛; Masaaki Fujiyama; 正昭藤山
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1995-12-08
Filing date: 1995-12-08
Publication date: 1997-06-17

Abstract

(57)【要約】【課題】感熱ヘッド発色型記録材料用のサーマルヘッ
ドの汚れを研磨シートを接触させてクリーニングする際
に、静電破壊を防止する。【解決手段】支持体上に、研磨剤とバインダーとカー
ボンブラックを含む研磨層を有し、表面抵抗を低下させ
て帯電防止を行っている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感熱ヘッド発色型
記録材料用のサーマルヘッドに付着した汚れを清掃除去
するためのクリーニング用の研磨シートに関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】感熱ヘッド発色型記録材料にサーマルヘ
ッドを接触させつつ記録材料を移動させ、サーマルヘッ
ドに画像信号を送出して発熱セルを所定のパターンに発
熱させ、記録材料の発色によって所定の画像を記録処理
することが行われる。

【０００３】上記のような発色型記録材料の発色処理を
行うと、その発色層や紙、ポリエステル等の支持体の一
部がサーマルヘッドの発熱セル周辺に堆積し、このサー
マルヘッドの伝熱に阻害が生じ良好な発色処理が行えな
いとともに、記録材料を汚してしまうという問題があっ
た。

【０００４】具体的には、前記サーマルヘッドとして
は、例えばグレーズ層の上に、アルミニウムと窒化珪素
を配し、発熱部分にタンタルを用いたものが使用され
る。また、感熱記録方式としては、自己発色型と転写型
がある。自己発色型は記録材料の感熱層に発色剤を含
み、サーマルヘッドの熱によりロイコ色素に変化させて
発色するものである。転写型は溶融転写型と昇華転写型
があり、溶融転写型は転写シートにインク層が塗設して
あり、裏面よりサーマルヘッドの熱を受け、記録材料に
画像としてインクを溶融転写するものである。昇華転写
型は転写シートに昇華性染料層が設けられており、裏面
からサーマルヘッドの熱を受け、記録材料の受像層に画
像として染料を転写するものである。これらはいずれも
サーマルヘッドを接触通過させることが必要で、このと
き通過させる材料によりヘッド発熱部分に汚れが堆積し
発熱の伝達効率を阻害するものである。上記サーマルヘ
ッドの発熱温度は上記記録材料、記録方式等によって異
なるものであるが、特に、サーマルヘッドの発熱温度が
高いものにおいて汚れの付着が顕著となる傾向にある。

【０００５】また、磁気ヘッド等の表面が汚れた場合に
は、この磁気ヘッドの表面を研磨シートなどによって研
磨してクリーニングし、汚れを除去することが知られて
いる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、前記のような
サーマルヘッドを従来の磁気ヘッドクリーニング用の研
磨シートで研磨すると、サーマルヘッドの破壊を招く問
題が生起している。

【０００７】すなわち、前記研磨シートをサーマルヘッ
ドの表面に接触させて摺動して、その研磨層でサーマル
ヘッドの発熱セル部分を研磨すると、その摩擦に応じて
静電気が発生して研磨シートと発熱セル部分が帯電し放
電が発生するものであり、多数枚処理の後にサーマルヘ
ッドの発熱セル部分が静電破壊される。

【０００８】本発明は上記問題点に鑑みなされたもので
あって、クリーニング効果を保持しながら静電破壊の防
止を図ったサーマルヘッドのクリーニング用の研磨シー
トを提供せんとするものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決した本発
明の研磨シートは、感熱ヘッド発色型記録材料用のサー
マルヘッドのクリーニング用であり、支持体上に研磨剤
とバインダーとカーボンブラックを含む研磨層を有する
ことを特徴とするものである。

【００１０】前記研磨シートの研磨層表面の表面抵抗Ｋ
ｓが１０¹¹Ω／ｉｎ²以下となるように設けるのが望ま
しい。また、前記支持体は厚さ７５〜２５０μｍのポリ
エステルが好適である。さらに、前記研磨剤は、酸化
鉄、酸化アルミナ、酸化クロムの少なくとも１つを含
み、その粒子サイズが０．１〜１０μｍのものが好適で
ある。

【００１１】

【発明の効果】上記のような本発明によれば、支持体上
に設けた研磨層中に研磨剤、バインダーに加えてカーボ
ンブラックを含むことにより、サーマルヘッドに接触さ
せて発熱セル部分のクリーニングを行った際に発生する
静電気の帯電を防止して、良好なクリーニングが行える
と同時に、放電を起こすこともなくサーマルヘッドの破
壊を防止することができ、このサーマルヘッドによる記
録材料への感熱記録が高品質で長時間行うことができ
る。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の研磨シートの実
施の形態を示し、本発明をさらに詳細に説明する。

【００１３】本例の研磨シートは、厚みが７５〜２５０
μｍのポリエステル等の支持体の片面に研磨剤とバイン
ダーとカーボンブラック等からなる研磨層を有する。特
に本例の研磨シートは、Ｘ線撮影像を透過性フィルム状
の発色型記録媒体に記録するサーマルヘッドのクリーニ
ング用として好適なものである。また、上記支持体と研
磨層の間に下塗層を、支持体の裏面にバック層を設けて
もよい。

【００１４】本発明で用いるカーボンブラックは帯電防
止剤として機能し、このカーボンブラックはゴム用ファ
ーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレ
ンブラック等を用いることができる。これらカーボンブ
ラックは帯電防止剤としてのほか、遮光剤、摩擦係数調
節剤、耐久性向上を目的としても使用される。これらカ
ーボンブラックの米国における略称の具体例を示すとＳ
ＡＦ，ＩＳＡＦ，ＩＩＳＡＦ，Ｔ，ＨＡＦ，ＳＰＦ，Ｆ
Ｆ，ＦＥＦ，ＨＭＦ，ＧＰＦ，ＡＰＦ，ＳＲＦ，ＭＰ
Ｆ，ＥＣＦ，ＳＣＦ，ＣＦ，ＦＴ，ＭＴ，ＨＣＣ，ＨＣ
Ｆ，ＭＣＦ，ＬＦＦ，ＲＣＦ等があり、米国のＡＳＴＭ
規格のＤ−１７６５−８２ａに分類されているものを使
用することができる。

【００１５】本発明に使用されるこれらカーボンブラッ
クは、平均粒子径が５〜１００ｎｍ（電子顕微鏡）、窒
素吸着法比表面積は１０〜８００ｍ²／ｇ、ｐＨは４〜
１１（ＪＩＳ規格Ｋ−６２２１−１９８２法）、ジブチ
ルフタレート（ＤＢＰ）吸油量は１０〜８００ｍｌ／１
００ｇ（ＪＩＳ規格Ｋ−６２２１−１９８２法）のもの
が好適である。

【００１６】また、カーボンブラックの種類と添加量は
サーマルヘッドの種類等に応じて使い分けられる。ま
た、これらのカーボンブラックを、後述の分散剤などで
表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用してもよ
い。また、カーボンブラックを製造するときの炉の温度
を２０００℃以上で処理して表面の一部をグラファイト
化したものも使用できる。また、特殊なカーボンブラッ
クとして中空カーボンブラックを使用することもでき
る。これらのカーボンブラックは研磨層の研磨剤１００
重量部に対して３〜１００重量部で用いることが望まし
い。またバック層の場合後述する樹脂１００重量部に対
して２０〜４００重量部で用いることが望ましい。本発
明に使用できるカーボンブラックは、例えば『カーボン
ブラック便覧』、カーボンブラック協会編（昭和４６年
発行）を参考にすることができる。

【００１７】また、カーボンブラックとともに添加し得
る帯電防止剤としては、グラファイト、変成グラファイ
ト、カーボンブラックグラフトポリマー、酸化錫−酸化
アンチモン、酸化錫、酸化チタン−酸化錫−酸化アンチ
モン等の導電性粉末；サポニン等の天然界面活性剤；ア
ルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール
系、多価アルコール、多価アルコールエステル、アルキ
ルフェノールＥＯ付加体等のノニオン界面活性剤；高級
アルキルアミン類、環状アミン、ヒダントイン誘導体、
アミドアミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩
類、ピリジンそのほかの複素環類、ホスホニウムまたは
スルホニウム類等のカチオン界面活性剤；カルボン酸、
スルホン酸、ホスホン酸、燐酸、硫酸エステル基、ホス
ホン酸エステル、燐酸エステル基などの酸性基を含むア
ニオン界面活性剤；アミノ酸類；アミノスルホン酸類、
アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキ
ルベタイン型等の両性界面活性剤等が使用される。

【００１８】これら帯電防止剤として使用し得る界面活
性剤化合物例の一部は、小田良平他著『界面活性剤の合
成とその応用』（槙書店１９７２年版）；Ａ．Ｗ．ベイ
リ著『サーフエスアクテイブエージエンツ』（イン
ターサイエンスパブリケーションコーポレイテッド
１９８５年版）；Ｔ．Ｐ．シスリー著『エンサイクロペ
ディアオブサーフエスアクティブエージェンツ、
第２巻』（ケミカルパブリシュカンパニー１９６４年
版）；『界面活性剤便覧』第六刷（産業図書株式会社、
昭和４１年１２月２０日）；丸茂秀雄著『帯電防止剤』
幸書房（１９６８）等の成書に記載されている。これら
の界面活性剤は単独または混合して添加しても良い。こ
れらは帯電防止剤として用いられるものであるが、時と
してそのほかの目的、例えば分散、潤滑性の改良、塗布
助剤、湿潤剤、硬化促進剤、分散促進剤として適用され
る場合もある。

【００１９】本発明で研磨層に用いる研磨剤としては、
平均粒子サイズが０．１μｍ〜１０μｍの酸化クロム、
α−アルミナ、炭化珪素、非磁性酸化鉄、ダイヤモン
ド、γ−アルミナ、α・γ−アルミナ、熔融アルミナ、
酸化セリウム、コランダム、人造ダイヤモンド、ザクロ
石、エメリー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）、ガーネ
ット、珪石、窒化珪素、窒化硼素、炭化モリブデン、炭
化硼素、炭化タングステン、チタンカーバイド等で、主
としてモース硬度６以上の材料が１内至４種迄の組合わ
せで使用される。これらの併用される研磨剤のｐＨは２
〜１０のものが使用され、特に好ましくは５〜１０のも
のが用いられる。

【００２０】本発明に使用できるバインダーとしては、
塩化ビニル系樹脂、ウレタン樹脂及びポリイソシアネー
ト以外に、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反
応型樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、可視
光線硬化型樹脂、防黴樹脂やこれらの混合物を使用する
ことができる。

【００２１】熱可塑性樹脂としては、軟化温度が１５０
℃以下、平均分子量が１００００〜３０００００、重合
度が約５０〜２０００程度のもので、より好ましくは２
００〜７００程度であり、例えば、アクリル酸エステル
アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビ
ニリデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合
体、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、
メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタク
リル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマ
ー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポ
リアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビニリデンアク
リロニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共
重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セル
ロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セル
ロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セ
ルロースプロピオネート、ニトロセルロース、エチルセ
ルロース、メチルセルロース、プロピルセルロース、メ
チルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、
アセチルセルロース等）、スチレンブタジエン共重合
体、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、クロロ
ビニルエーテルアクリル酸エステル共重合体、アミノ樹
脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合
物等が使用される。

【００２２】前記塩化ビニル系樹脂としては、例えば塩
化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体、塩化ビ
ニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニル塩化ビニリ
デン共重合体、塩化ビニルアクリロニトリル共重合体等
が挙げられ、中でも、塩化ビニルの共重合体である−
（ＣＨＣｌＣＨ₂）_n−（ＣＨＸＣＨ₂）_m−（Ｘは、
−ＳＯ₃Ｎａ、−ＳＯ₃Ｈ、−ＰＯ₄Ｈ等の極性基）を
基本単位とするものが研磨層の強度および研磨剤粒子の
分散性の面で望ましい。塩化ビニル系樹脂の中でも特に
望ましいのは、分散性、塗布膜強度の点から日本ゼオン
社製のＭＲ１１０、４００Ｘ１１０Ａ等である。

【００２３】また熱硬化性樹脂又は反応型樹脂として
は、塗布液の状態では２０００００以下の分子量であ
り、塗布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付
加等の反応により分子量が無限大となるものが適してい
る。また、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するま
での間に軟化又は溶融しないものが好ましい。具体的に
は例えばフェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタ
ンポリカーボネート樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ア
ルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂（電
子線硬化樹脂）、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセ
ルロースメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイ
ソシアネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共
重合体とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリ
エステルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、
尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分
子量ジオール／トリフェニルメタントリイソシアネート
の混合物、ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれら
の混合物等である。

【００２４】特にウレタン系樹脂としては、従来よりバ
インダー樹脂として公知のものを使用することができ
る。例えば、１００％モジュラスが５０〜３００Ｋｇ／
ｍｍ²のものが、ガラス転移温度（Ｔg ）が−３０〜５
０℃であるものが、研磨剤を研磨層に保持する性能で、
また塗膜に適度の弾性を付与するので望ましい。具体的
には大日本インキ社製のＣ−７２０９、パンデックス、
日本ポリウレタン社製のＮ−２３０１、Ｎ−２３０２、
Ｎ−２３０４、Ｎ−３１０７、東洋紡社製のＵＲ−８２
００、ＵＲ−８３００、ＵＲ−８６００等が挙げられ、
中でも研磨剤粒子の分散を促進させるための極性基を分
子内に有するものが好ましい。

【００２５】これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反
応型樹脂は、官能基としてカルボン酸（ＣＯＯＭ）、ス
ルフィン酸、スルフェン酸、スルホン酸（ＳＯ₃Ｍ）、
燐酸（ＰＯ（ＯＭ）（ＯＭ））、ホスホン酸、硫酸（Ｏ
ＳＯ₃Ｍ）、これらのエステル基等の酸性基（ＭはＨ、
アルカリ金属、アルカリ土類金属、炭化水素基）、アミ
ノ酸類；アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸
または燐酸エステル類、スルフォベタイン、ホスホベタ
イン、アルキルベタイン型等の両性類基、アミノ基、イ
ミノ基、イミド基、アミド基等また、水酸基、アルコキ
シル基、チオール基、アルキルチオ基、ハロゲン基
（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シリル基、シロキサン基、エ
ポキシ基、イソシアナト基、シアノ基、ニトリル基、オ
キソ基、アクリル基、フォスフィン基を、通常１種以上
６種以内含んでも良い。そして各々の官能基は樹脂１ｇ
あたり１×１０^-6ｅｑ〜１×１０^-2ｅｑ含むことが、研
磨剤粒子の分散の促進、研磨層の強度の向上のために好
ましい。

【００２６】研磨層の研磨剤とバインダー樹脂との混合
割合は重量比で研磨剤１００重量部に対してバインダー
樹脂５〜７００重量部の範囲で使用される。

【００２７】本発明に用いられるポリイソシアネートと
しては、特に制限されず従来よりバインダー樹脂として
公知のものを使用することができる。例えば、トリレン
ジイソシアネート、４・４’−ジフェニルメタンジイソ
シアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリ
レンジイソシアネート、ナフチレン−１・５−ジイソシ
アネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロ
ンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシア
ネート、イソホロンジイソシアネート等のイソシアネー
ト類、当該イソシアネート類とポリアルコールとの生成
物、イソシアネート類の縮合によって生成した２〜１０
量体のポリイソシアネート、ポリイソシアネートとポリ
ウレタンとの生成物で末端官能基がイソシアネート等が
挙げられ、中でもイソシアネート基（−ＮＣＯ）を１分
子内中に３個以上あると架橋が三次元的になるので望ま
しい。

【００２８】これらポリイソシアネート類の平均分子量
は、１００〜２００００のものが好適である。これらポ
リイソシアネートの市販されている商品名としては、コ
ロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コ
ロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＭ
ＴＬ（日本ポリウレタン社製）、タケネートＤ−１０
２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、
タケネートＤ−２０２、タケネート３００Ｓ、タケネー
ト５００（武田薬品社製）、スミジュールＴ−８０、ス
ミジュール４４Ｓ、スミジュールＰＦ、スミジュール
Ｌ、スミジュールＮ、デスモジュールＬ、デスモジュー
ルＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ、デス
モジュールＴ６５、デスモジュール１５、デスモジュー
ルＲ、デスモジュールＲＦ、デスモジュールＳＬ、デス
モジュールＺ４２７３（住友バイエル社製）等があり、
これらを単独もしくは硬化反応性の差を利用して二つも
しくはそれ以上の組み合わせによって使用することがで
きる。また、硬化反応を促進する目的で、水酸基（ブタ
ンジオール、ヘキサンジオール、分子量が１０００〜１
００００のポリウレタン、水等）、アミノ基（モノメチ
ルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン等）を有
する化合物や金属酸化物の触媒や鉄アセチルアセトネー
ト等の触媒を併用することもできる。これらの水酸基や
アミノ基を有する化合物は多官能であることが望まし
い。上記のポリイソシアネートの中でも特に望ましいの
は、３次元的架橋密度を促進向上させるため、３官能ポ
リイソシアネートが好ましく、日本ポリウレタン社製の
コロネート３０４０等が挙げられる。

【００２９】その他、研磨層中には各種の機能を持った
化合物が添加剤として添加される。例えば、分散剤、潤
滑剤、酸化防止剤、防黴剤、着色剤、溶剤等が加えられ
る。

【００３０】分散剤、分散助剤はバインダーへの研磨剤
の分散を助ける目的で加えることがある。分散剤、分散
助剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロ
ール酸、ベヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数２
〜４０個の脂肪酸（Ｒ₁ＣＯＯＨ、Ｒ₁は炭素数１〜３
９個のアルキル基、フェニル基、アラルキル基）、前記
の脂肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、ＮＨ
₄ ⁺等）またはアルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ
等）、Ｃｕ、Ｐｂ等からなる金属石鹸（オレイン酸
銅）、脂肪酸アミド；レシチン（大豆油レシチン）等が
使用される。この他に炭素数４〜４０の高級アルコール
（ブタノール、オクチルアルコール、ミリスチルアルコ
ール、ステアリルアルコール）、及びこれらの硫酸エス
テル、スルホン酸、フェニルスルホン酸、アルキルスル
ホン酸、スルホン酸エステル、燐酸モノエステル、燐酸
ジエステル、燐酸トリエステル、アルキルホスホン酸、
フェニルホスホン酸、アミン化合物等も使用可能であ
る。また、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオキ
サイド、スルホ琥珀酸、スルホ琥珀酸金属塩、スルホ琥
珀酸エステル等も使用可能である。これらの分散剤は通
常一種類以上で用いられ、一種類の分散剤はバインダー
１００重量部に対して０．００５〜２０重量部の範囲で
添加される。これら分散剤の使用方法は、研磨剤等の表
面に予め被着させても良く、また分散途中で添加しても
よい。

【００３１】粉末状潤滑剤としては、グラファイト、二
硫化モリブデン、窒化硼素、弗化黒鉛、炭酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、酸化珪素、酸化チタン、酸化亜鉛、
酸化錫、二硫化タングステン等の無機微粉末、アクリル
スチレン系樹脂微粉末、ベンゾグアナミン系樹脂微粉
末、メラミン系樹脂微粉末、ポリオレフイン系樹脂微粉
末、ポリエステル系樹脂微粉末、ポリアミド系樹脂微粉
末、ポリイミド系樹脂微粉末、ポリフッカエチレン系樹
脂微粉末等の樹脂微粉末などがある。

【００３２】研磨層には、さらに摩擦係数の低減、塗布
膜の弾性のコントロールという効果を期待して有機化合
物系潤滑剤を添加することもできる。その際の添加量と
しては、研磨剤粒子に対して重量百分比で０．０１〜１
０重量％、望ましくは０．０５〜５重量％である。この
有機化合物系潤滑剤としては、シリコンオイル（ジアル
キルポリシロキサン、ジアルコキシポリシロキサン、フ
ェニルポリシロキサン、フルオロアルキルポリシロキサ
ン（信越化学社製ＫＦ９６、ＫＦ６９等））、脂肪酸変
性シリコンオイル、フッ素アルコール、ポリオレフィン
（ポリエチレンワックス、ポリプロピレン等）、ポリグ
リコール（エチレングリコール、ポリエチレンオキシド
ワックス等）、テトラフルオロエチレンオキシドワック
ス、ポリテトラフルオログリコール、パーフルオロアル
キルエーテル、パーフルオロ脂肪酸、パーフルオロ脂肪
酸エステル、パーフルオロアルキル硫酸エステル、パー
フルオロアルキルスルホン酸エステル、パーフルオロア
ルキルベンゼンスルホン酸エステル、パーフルオロアル
キル燐酸エステル等の弗素や珪素を導入した化合物、ア
ルキル硫酸エステル、アルキルスルホン酸エステル、ア
ルキルホスホン酸トリエステル、アルキルホスホン酸モ
ノエステル、アルキルホスホン酸ジエステル、アルキル
燐酸エステル、琥珀酸エステル等の有機酸および有機酸
エステル化合物、トリアザインドリジン、テトラアザイ
ンデン、ベンゾトリアゾール、ベンゾトリアジン、ベン
ゾジアゾール、ＥＤＴＡ等の窒素・硫黄を含む複素（ヘ
テロ）環化合物、炭素数１０〜４０の一塩基性脂肪酸と
炭素数２〜４０個の一価のアルコールもしくは二価のア
ルコール、三価のアルコール、四価のアルコール、六価
のアルコールのいずれか１つもしくは２つ以上とからな
る脂肪酸エステル類、炭素数１０個以上の一塩基性脂肪
酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が１１〜７０個
となる一価〜六価のアルコールからなる脂肪酸エステル
類、炭素数８〜４０の脂肪酸或いは脂肪酸アミド類、脂
肪酸アルキルアミド類、脂肪族アルコール類も使用でき
る。

【００３３】これら化合物の具体的な例としては、カプ
リル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチ
ル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチ
ン酸エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸オクチ
ル、ミリスチン酸２エチルヘキシル、パルミチン酸エチ
ル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸オクチル、パル
ミチン酸２エチルヘキシル、ステアリン酸エチル、ステ
アリン酸ブチル、ステアリン酸イソブチル、ステアリン
酸オクチル、ステアリン酸２エチルヘキシル、ステアリ
ン酸アミル、ステアリン酸イソアミル、ステアリン酸２
エチルペンチル、ステアリン酸２ヘキシルデシル、ステ
アリン酸イソトリデシル、ステアリン酸アミド、ステア
リン酸アルキルアミド、ステアリン酸ブトキシエチル、
アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソ
ルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリス
テアレート、アンヒドロソルビタンテトラステアレー
ト、オレイルオレート、オレイルアルコール、ラウリル
アルコール、モンタンワックス、カルナウバワックス等
が有り単独若しくは組み合わせ使用できる。

【００３４】酸化防止剤としては、一般的に防錆剤とし
て知られているアルキルフェノール、ベンゾトリアジ
ン、テトラアザインデン、スルファミド、グアニジン、
核酸、ピリジン、アミン、ヒドロキノン、ＥＤＴＡ等の
金属キレート剤、錆どめ剤であるナフテン酸、アルケニ
ルコハク酸、燐酸、ジラウリルフォスフェート等、油性
剤として知られているナタネ油、ラウリルアルコール
等、極圧剤であるジベンジルスルフィド、トリクレジル
フォスフェート、トリブチルホスファイト等が用いられ
る。これらは清浄分散剤、粘度指数向上剤、流動点降下
剤、泡どめ剤等としても用いられる。これらの潤滑剤は
バインダー１００重量部に対して０．０１〜３０重量部
の範囲で添加される。

【００３５】また、防黴材としては、２−（４−チアゾ
リル）−ベンズイミダゾール、Ｎ−（フルオロジクロロ
メチルチオ）−フタルイミド、１０・１０’−オキシビ
スフェノキサルシン、２・４・５・６テトラクロロイソ
フタロニトリル、Ｐ−トリルジヨードメチルスルホン、
トリヨードアリルアルコール、ジヒドロアセト酸、フェ
ニルオレイン酸水銀、酸化ビス（トリブチル錫）、サル
チルアニライド等がある。このようなものは、例えば
「微生物災害と防止技術」１９７２年工学図書、「化学
と工業」３２、９０４（１９７９）等において示されて
いる。

【００３６】着色剤としては、フタロシアニン色素、シ
アニン色素、キレート色素など染料や顔料に用いる工業
用色素を用いることができる。

【００３７】溶剤は分散、混練、塗布の際に使用し、任
意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラ
ヒドロフラン等のケトン系；メタノール、エタノール、
プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イ
ソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなど
のアルコール系；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、
酢酸グリコールモノエチルエーテル等のエステル系；ジ
エチルエーテル、グリコールジメチルエーテル、グリコ
ールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル
系；ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロ
ルベンゼン、スチレンなどのタール系（芳香族炭化水
素）；メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩
化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジク
ロルベンゼン等の塩素化炭化水素、Ｎ・Ｎ−ジメチルホ
ルムアルデヒド、ヘキサン、水等が使用できる。またこ
れら溶媒は通常任意の比率で２種以上で用いる。また１
重量％以下の量で微量の不純物（その溶媒自身の重合
物、水分、原料成分等）を含んでもよい。これらの溶剤
は塗布液合計固形分１００重量部に対して１００〜２０
０００重量部で用いられる。好ましい塗布液の固形分率
は１〜７０重量％である。

【００３８】研磨層の形成は上記の組成などを任意に組
合せて有機溶媒に溶解・混練・分散し、塗布溶液として
支持体上に塗布・乾燥し、裁断、クリーニングする。

【００３９】溶解、分散、混練の方法には特に制限はな
く、また各成分の添加順序（樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒
等）、溶解、分散・混練中の添加位置、分散温度（０〜
８０℃）などは適宜設定することができる。研磨塗料の
調製には通常の撹拌機、分散機、混練機、例えば、二本
ロールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミ
ル、トロンミル、サンドグラインダー、ツェグバリ（Ｓ
ｚｅｇｖａｒｉ）アトライター、高速インペラー、高速
ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパー、ニーダ
ー、高速ミキサー、リボンブレンダー、コニーダー、イ
ンテンシブミキサー、タンブラー、ブレンダー、ディス
パーザー、ホモジナイザー、単軸スクリュー押し出し
機、二軸スクリュー押し出し機、及び超音波分散機など
を用いることができる。通常溶解、分散・混練にはこれ
らの機械を複数備え、連続的に処理を行う。混練分散に
関する技術の詳細は、Ｔ．Ｃ．ＰＡＴＴＯＮ著（テー．
シー．パットン）“ＰａｉｎｔＦｌｏｗａｎｄＰ
ｉｇｍｅｎｔＤｉｓｐｅｒｓｉｏｎ”（ペイントフ
ローアンドピグメントディスパージョン）１９６
４年，ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ社発行（ジ
ョンウイリーアンドサンズ）や田中信一著『工業材
料』２５巻３７（１９７７）などや当該書籍の引用文献
に記載されている。これら分散、混練の補助材料として
分散・混練を効率よく進めるため、球相当径で１０ｃｍ
φ〜０．０５ｍｍφの径のスチールボール、スチールビ
ーズ、セラミツクビーズ、ガラスビーズ、有機ポリマー
ビーズを用いることができる。またこれら材料は球形に
限らない。また、米国特許第２５８１４１４号及び同第
２８５５１５６号などの明細書にも記載がある。本発明
においても上記の書籍や当該書籍の引用文献などに記載
された方法に準じて混練分散を行い研磨層およびバック
層塗料を調製することができる。

【００４０】支持体上へ研磨層を設ける方法としては、
塗布、噴霧などがある。塗布の場合塗布液の粘度を１〜
２００００センチストークス（２５℃）に調整し、エア
ードクターコーター、ブレードコーター、エアナイフコ
ーター、スクイズコーター、含浸コーター、リバースロ
ールコーター、トランスファーロールコーター、グラビ
アコーター、キスコーター、キャストコーター、スプレ
イコーター、ロッドコーター、正回転ロールコーター、
カーテンコーター、押出コーター、バーコーター、リッ
プコータ等が利用でき、その他の方法も可能である。こ
れらの具体的説明は朝倉書店発行の『コーテイング工
学』２５３頁〜２７７頁（昭和４６．３．２０．発行）
等に詳細に記載されている。また所望の液の塗布の前に
下塗層あるいは支持体との密着力向上のためにコロナ放
電処理等を行っても良い。また研磨層を多層で構成した
いときは、同時多層塗布、逐次多層塗布等を行ってもよ
い。これらは、例えば、特開昭５７−１２３５３２号公
報、特公昭６２−３７４５１号公報、特開昭５９−１４
２７４１号公報、特開昭５９−１６５２３９号公報の明
細書等に示されている。

【００４１】このような方法により支持体上に約１〜１
０００μｍほどで研磨層を設けた後、直ちに２０〜１３
０℃で乾燥させる処理を施したのち、形成した研磨層を
０．１〜１００μｍ厚みに乾燥する。このときの支持体
の搬送速度は、通常１０ｍ／分〜９００ｍ／分で行わ
れ、複数の乾燥ゾーンで乾燥温度を２０℃〜１３０℃で
制御し塗布膜の残留溶剤量を０．１〜４０ｍｇ／ｍ²と
する。また必要により同様の手順でその他の層を設けて
もよく、引き続き表面平滑化加工を施したりして、所望
の形状に裁断し本発明の研磨シートを製造する。これら
の製造方法は粉体の予備処理・表面処理、混練・分散、
塗布・乾燥、平滑処理、熱処理、ＥＢ処理、表面クリー
ニング処理、裁断の工程を連続して行うことが望まし
い。

【００４２】このように作成した研磨シートを裁断した
後ないしはそれ以前の工程において研磨シート（研磨
層、バック層、エッジ端面、ベース面）をバーニッシュ
およびまたはクリーニングすることが望ましい。バーニ
ッシュは研磨シートの表面粗度と研磨力を制御するため
に具体的にはサファイア刃、剃刀刃、超硬材料刃、ダイ
アモンド刃、セラミックス刃のような硬い材料により研
磨シート表面の突起部分をそぎおとし均一にもしくは平
滑にする。これら材料のモース硬度は８以上が好ましい
が特に制限はなく突起を除去できるものであれば良い。
これら材料の形状は特に刃である必要はなく、角型、丸
型、ホイール（回転する円筒形状の周囲にこれらの材質
を付与しても良い）のような形状でも使用できる。また
研磨シートのクリーニングは、研磨シート表面の汚れや
余分な潤滑剤を除去する目的で研磨シート表層を不織布
などで研磨層とバック層面、エッジ端面、バック側のベ
ース面をワイピングすることにより行う。このようなワ
イピングの材料としては例えば日本バイリーン社製の各
種バイリーンや東レ社製のトレシー、エクセーヌ、商品
名キムワイプ、また不織布はナイロン製不織布、ポリエ
ステル製不織布、レーヨン製不織布、アクリロニトリル
製不織布、混紡不織布、ティッシュペーパー等が使用で
きる。

【００４３】支持体は、素材としてポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル
類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロース
トリアセテート、セルロースダイアセテート等のセルロ
ース誘導体、ポリ塩化ビニル等のビニル系樹脂類、ポリ
カーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリスルホ
ン、ポリフェニルスルホン、ポリベンゾオキサゾール等
のプラスチックのほかにアルミニウム、銅等の金属、ガ
ラス等のセラミックス等も使用できる。これらの支持体
は塗布に先立って、コロナ放電処理、プラズマ処理、下
塗処理、熱処理、除塵埃処理、金属蒸着処理、アルカリ
処理を行ってもよい。これら支持体に関しては例えば、
西独特許３３３８８５４Ａ、特開昭５９−１１６９２６
号、特開昭６１−１２９７３１号公報、米国特許第４３
８８３６８号；三石幸夫著、『繊維と工業』３１巻，ｐ
５０〜５５、１９７５年などに記載されている。研磨シ
ートの場合、これら支持体の中心線平均表面粗さは０．
００１〜１．５μｍ（カットオフ値０．２５ｍｍ）が好
ましい。支持体は厚み２．５〜５００μｍ、望ましくは
７５〜２５０μｍの範囲である。また支持体の長手もし
くは幅方向のいずれかのヤング率が４００Ｋｇ／ｍｍ²
以上であることが望ましい。

【００４４】研磨層、バック層、下塗層は、摩擦や弾
性、密着強度のコントロールのために設ける。バック層
は支持体の裏面に、下塗層は支持体と研磨層との密着強
度を増すために設ける。また研磨層は研磨剤のサイズや
種類の異なる２種以上を厚みを変えて多層構成とするこ
ともできる。

【００４５】本発明の研磨シートの製法に関しては、更
に特公昭５６−２６８９０号等に記載されている磁気記
録媒体のものを参考にできる。

【００４６】

【実施例】以下に、本発明の実施例および比較例を示
し、その研磨特性を評価する。なお実施例中の「部」と
あるのは「重量部」のことである。

【００４７】＜実施例１〜６＞本例の研磨シートは、厚
さ１７５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）
による支持体上に、ポリエステルポリウレタン樹脂から
なる下塗層を０．１μｍ厚に塗布し、下記組成の研磨層
用塗布液を、乾燥後の厚さが１０μｍとなるようにバー
コート塗布し、乾燥し研磨シートのサンプルを作成し
た。

【００４８】各実施例は、カーボンブラックの配合量が
異なり、実施例１から６となるに従って配合量を２〜１
００部に増大している。

【００４９】作成した研磨シートのサーマルヘッドに対
するクリーニングテストの結果を、表１に示す。このク
リーニングテストは、サーマルヘッドで記録材料１００
枚を記録処理し、その後、研磨シートを通してサーマル
ヘッドの汚れ除去具合を観測した。ヘッド破壊率は、８
０μセルの総数に対する破壊率を示した。

【００５０】＜比較例１＞表１には比較例１のテスト結
果も同様に示す。この比較例は、前記実施例と同様の支
持体に同様の組成の塗布液を塗布して研磨層を形成する
ものであるが、この研磨層にはカーボンブラックを含有
していない。

【００５１】〔塗布液組成〕研磨剤粒子（αアルミナ、平均粒径３μｍ）：１００部カーボンブラック（コンダクテックスＳＣ、粒径１７ｎｍ）：Ｘ部バインダー樹脂（ポリエステルポリウレタン、スルホン酸ナトリウム１×10^-3当量／ｇ樹脂含有、Mw 50000）：１２部ポリイソシアネート（トリメチロールプロパン（１モル）のＴＤＩ（３モル）付加物）：３部潤滑剤（オレイン酸／オレイン酸オレイル）：０．１部希釈剤（メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝２／１）：２００部希釈剤（トルエン／ＭＩＢＫ）：３５０部

【００５２】

【表１】

【００５３】上記表１の結果、比較例ではカーボンブラ
ックを含んでいないことで、表面抵抗が大きな値とな
り、研磨シートおよびサーマルヘッドに帯電が生じ、そ
の放電によってヘッドの破壊が発生している。これに対
して、本発明実施例によるものでは、カーボンブラック
を含有することで表面抵抗が小さな値となって帯電が防
止され、放電によるサーマルヘッドの破壊が発生するこ
となく汚れが良好に除去できている。

【００５４】

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】感熱ヘッド発色型記録材料用のサーマル
ヘッドのクリーニング用の研磨シートであって、支持体
上に研磨剤とバインダーとカーボンブラックを含む研磨
層を有することを特徴とする研磨シート。
【請求項２】前記研磨シートの研磨層表面の表面抵抗
Ｋｓが、１０¹¹Ω／ｉｎ²以下であることを特徴とする
請求項１に記載の研磨シート。
【請求項３】前記支持体が厚さ７５〜２５０μｍのポ
リエステルであることを特徴とする請求項１に記載の研
磨シート。
【請求項４】前記研磨剤が、酸化鉄、酸化アルミナ、
酸化クロムの少なくとも１つを含むことを特徴とする請
求項１に記載の研磨シート。
【請求項５】前記研磨剤の粒子サイズが、０．１〜１
０μｍであることを特徴とする請求項１に記載の研磨シ
ート。