JPH0915566A

JPH0915566A - 可逆性記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JPH0915566A
Application number: JP7186566A
Authority: JP
Inventors: Junichi Tomonaga; 淳一朝長; Takashi Morikawa; 尚森川; Masanobu Ninomiya; 正伸二宮; Takashi Uematsu; 高志植松; Yuichi Yashiki; 雄一矢敷
Original assignee: Fuji Xerox Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Business Innovation Corp
Priority date: 1995-06-30
Filing date: 1995-06-30
Publication date: 1997-01-17

Abstract

(57)【要約】【目的】ロール状に巻き取られたて記録層その他の表
面層が基材裏面と密着した場合でも、容易に剥離でき、
基材裏面への塗膜の転移が起こらない可逆的記録媒体の
製造方法を提供する。【構成】プラスチックフィルム上に、外部刺激によっ
て可逆的に光散乱度が変化する記録層と、少なくとも１
層よりなる保護層を設けて可逆性記録媒体を製造するに
際して、層形成用塗布液の塗布後、乾燥および／または
硬化過程の終了時点で、塗布層の表面に離型性シートを
重ね、次の層形成用塗布液を塗布するまで離型性シート
が重ねられた状態を維持することを特徴とする。この場
合、離型性シートが重ねられた状態で高分子液晶よりな
る記録層を架橋処理するのが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、熱、電界、磁界、光等
の外部刺激によって可逆的に光散乱度が変化し、画像を
繰り返し記録、消去できる可逆性記録媒体の製造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】外部刺激によって可逆的に画像の記録を
行うことができる材料や媒体に関して各種の方式が提案
されている。中でも、特開昭５９−１０９３０号公報、
特開昭６２−１４１１４号公報、特開昭６３−２２３０
６６号公報および特開平２−２５１３号公報等に記載さ
れている、光散乱度が可逆的に変化する有機低分子／高
分子複合材料や、高分子液晶は、優れた耐久性を持つの
で有望なものである。これ等の材料は、プラスチックフ
ィルム等の基材上に記録層として形成し、さらにその上
に保護層を形成した構成からなる媒体として使用され
る。

【０００３】記録媒体の構成を示すと、図２（ａ）は、
基材２１のプラスチックフィルム上に記録層２２が設け
られた構造のものを示し、図２（ｂ）は、基材２１の上
に記録層２２が設けられ、その上に第１ないし第ｎ層よ
りなる保護層２３が設けられた構造のものを示す。ま
た、図２（ｃ）は、図２（ｂ）における基材２１と記録
層２２との間に光反射層２４が設けられた構造のものを
示す。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記のような記録媒体
を製造するに当たっては、基材上に各種コーターによっ
て各層を塗布により形成し、順次巻き取っていく方法が
とられる。その際、基材を巻き取ったロールの中心部に
は、高い圧力が加わるが、塗布面は巻き取られた基材の
裏側と接触しているので、その面と密着する現象が現れ
る場合がある。特に層が特開平６−１６０８２５号公報
に記載されているように、高分子液晶が液晶性単量体と
活性基を有する非液晶性単量体との共重合体であり、非
液晶性単量体の活性基をポリイソシアネート化合物によ
って架橋させる記録層である場合には、架橋時に、記録
層内部で進む化学反応の際に、基材裏面と、より密着性
が高まり、架橋の為にロール全体を加熱するような場合
には、密着する現象は一層現れやすくなる。そして基材
が容易には剥離できない程度に密着してしまった場合に
は、もはや記録媒体として使用不能なものになるという
問題があった。

【０００５】また、保護層が１層または複数存在する場
合では、最上層以外の層の材料および表面状態によって
は、基材裏面と密着してしまい、容易には剥離できない
状態になるか、或いは剥離できたとしても、密着してい
た層単独或いは記録層までの複数層が基材裏面側に転移
し、記録媒体として使用不能なものになるおそれがあっ
た。

【０００６】したがって、本発明は従来の技術における
上記の問題を解決することを目的としてなされたもので
ある。すなわち、本発明の目的は、ロール状に巻き取ら
れたて記録層その他の表面層が基材裏面と密着した場合
でも、容易に剥離でき、基材裏面への塗膜の転移が起こ
らない可逆的記録媒体の製造方法を提供することにあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の可逆
性記録媒体の製造方法の第１のものは、プラスチックフ
ィルム上に、外部刺激によって可逆的に光散乱度が変化
する記録層と、少なくとも１層よりなる保護層を設ける
に際して、層形成用塗布液の塗布後、乾燥および／また
は硬化過程の終了時点で形成された層の表面に離型性シ
ートを重ね、次の層形成用塗布液を塗布するまで離型性
シートが重ねられた状態を維持することを特徴とする。
この場合、離型性シートが重ねられた状態で記録層を架
橋処理するのが好ましい。また、外部刺激によって可逆
的に光散乱度が変化する記録層が、架橋された高分子液
晶よりなるものが好ましい。本発明の可逆性記録媒体の
製造方法の第２のものは、プラスチックフィルム上に、
外部刺激によって可逆的に光散乱度が変化する記録層を
設けるに際して、高分子液晶を含有する記録層形成用塗
布液をの塗布後、乾燥過程の終了時点で形成された記録
層の表面に離型性シートを重ね、その状態を維持して該
記録層の高分子液晶を架橋することを特徴とする。

【０００８】以下、本発明を図面を参照して詳細に説明
する。図１は、本発明を実施するための塗布工程を説明
する模式図である。図１（ａ）は、記録層形成用塗布液
を塗布する場合を説明するものであり、図（ｂ）は、保
護層形成用塗布液を塗布する場合を説明するものであ
り、また、図１（ｃ）は、複数層よりなる保護層を形成
する場合を説明するものである。

【０００９】まず、前記図２（ａ）で示される層構成を
有する可逆性記録媒体を製造する場合について説明す
る。図１（ａ）に示すように、プラスチックフィルムの
ロールを用意し、プラスチックフィルム送り出し部１か
らプラスチックフィルム２を送り出して、例えばグラビ
アロールコーター等の塗布装置３により記録層形成用塗
布液を塗布し、次いで、乾燥ゾーン４に送られて乾燥さ
せる。乾燥終了後、離型性シート送りだし部５から離型
性シート６を送り出して、乾燥後の記録層の表面に重
ね、その状態で巻き取り部７においてロール状に巻き取
り、記録層が形成されたプラスチックフィルムのロール
を得る。次いで、記録層が形成されたプラスチックフィ
ルムは、ロールの状態のまま保温室（図示していない）
において加熱処理して記録層の構成材料が架橋され、可
逆性記録媒体が作製される。

【００１０】次に、図２（ｂ）または（ｃ）において、
記録層上に保護層が設けられた可逆性記録媒体を製造す
る場合について説明する。形成する保護層が１層構成の
場合については、まず、図１（ａ）に示すようにして記
録層が形成されたプラスチックフィルムのロールを作製
した後、引き続いて記録層の上に、第１図（ｂ）に示す
ようにして保護層が形成される。すなわち、送り出し部
８から記録層が形成されたプラスチックフィルム２ａを
送り出し、それと同時に離型性シート６は離型性シート
巻き取り部９でロール状に巻き取られて、再使用され
る。記録層の上には、例えばグラビアロールコーター等
の塗布装置１０により保護層形成用塗布液を塗布し、次
いで、乾燥ゾーン１１に送られて乾燥させ、引き続いて
硬化ゾーン１２において、必要に応じて高圧水銀ランプ
等により硬化させて保護層を形成し、巻き取り部１３で
ロール状に巻き取り、可逆性記録媒体の作製が完了す
る。

【００１１】また、保護層が複数層、例えば、第１の保
護層と第２の保護層よりなるものを作製する場合には、
上記図１（ａ）のようにして作製された記録層が形成さ
れたプラスチックフィルムのロールを、図１（ｃ）に示
すように、送り出し部８から送り出し、それと同時に離
型性シート６は離型性シート巻き取り部９でロール状に
巻き取られて、再使用される。記録層の上には、塗布装
置１０により第１の保護層形成用塗布液を塗布し、次い
で、乾燥ゾーン１１に送られて乾燥させる。乾燥終了
後、必要に応じて、硬化ゾーン１２において高圧水銀ラ
ンプ等により硬化させて保護層を形成し、離型性シート
送りだし部１４から他の離型性シート６ａを送り出し
て、乾燥後の第１保護層の表面に重ね、その状態で巻き
取り部１３においてロール状に巻き取り、第１保護層お
よび記録層が形成されたプラスチックフィルムのロール
を得る。これをロールの状態のまま保温室（図示してい
ない）において加熱処理して記録層を架橋させた後、第
１の保護層の表面に第２の保護層が形成される。第２の
保護層の形成は、上記図１（ｂ）に示した場合と同様に
して実施され、プラスチックフィルム上に記録層、第１
の保護層および第２の保護層が形成された可逆性記録媒
体が作製される。可逆性記録媒体を使用するに際して
は、ロールから送り出して所定のサイズに切断すればよ
い。

【００１２】本発明において、上記記録層、保護層を形
成する際に、これら層形成用塗布液を塗布する方法とし
ては、ブレードコーター、グラビアコーター、ダイコー
ター等一般的な塗布法が採用できる。また、記録層にお
ける高分子液晶の架橋は、成膜した後に、熱、光、電子
線などを加えることによて行うことができる。

【００１３】次に、本発明によって作製される可逆性記
録媒体の層構成について説明する。基材であるプラスチ
ックフィルムとしては、ポリエステル樹脂、ポリエーテ
ル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミ
ド樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリカーボネート樹脂等が用
いられる。その厚みは１０〜１０００μｍの範囲が適当
である。

【００１４】上記基材の上に形成する記録層は、有機低
分子化合物を高分子バインダー中に分散した有機低分子
／高分子複合材料、または高分子液晶を用いて形成する
ことができる。以下、それぞれについて詳記する。有機
低分子／高分子複合材料は、アラキン酸、パルミチン
酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ラウリン酸、ラウリン酸
ドデシル等の脂肪酸またはそれ等のエステル類を、アク
リル酸、ポリスチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン
−ブタジエン共重合体樹脂、ポリエステル樹脂、ポリア
ミド樹脂等の高分子母材に分散させた材料よりなる。こ
の材料は、加熱温度の差によって結晶化度や２成分の相
溶状態が変化して、光散乱度が可逆的に変化し、記録お
よび消去を行うことができる。本発明において、上記有
機低分子／高分子複合材料は、例えば特開平３−２２７
６８８号公報に記載されているように、高分子母材を架
橋させることが、耐久性の向上の点で好ましい。その場
合、高分子母材としては、主鎖または側鎖の一成分とし
て反応性基を含有させたものに、必要に応じて触媒或い
は多官能反応性化合物を添加したものが使用され、そし
て反応性基を利用して架橋が行われる。

【００１５】反応性基としては、ビニル基、アクリル
基、メタクリル基、エポキシ基、イソシアネート基等の
重合或いは付加可能な基、水酸基、アミノ基、酸アミド
基、チオール基、カルボキシル基、スルホン酸基、リン
酸基、金属アルコラート基、マグネシウムハライド（グ
リニヤール）基等が好ましいものとして例示される。こ
れ等反応性基を高分子母材に導入するには、それ等反応
性基を有するモノマーを共重合させることが好ましい。
触媒としては、各種紫外線または熱重合開始剤が使用で
き、多官能反応性化合物としては、多官能イソシアネー
ト化合物、多官能エポキシ化合物、多官能メラミン化合
物、多官能アルデヒド化合物、多官能アミン化合物、多
官能カルボキシル化合物等が使用できる。

【００１６】また、高分子液晶としては、主鎖または側
鎖にメソゲン分子団が結合された主鎖型および側鎖型分
子液晶等が使用できる。側鎖型高分子液晶としては、下
記構造例１〜３に表されるものが例示される。

【化１】（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｎは１〜
３０の整数を意味し、Ａは下記（ａ）〜（ｋ）から選択
されるメソゲン基を表す。）

【００１７】

【化２】（式中、ＸおよびＹは、それぞれ単結合、−Ｎ＝Ｎ−、
−Ｎ（→Ｏ）＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−
ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、エチニレン基から選択される
基を表し、Ｒ¹はアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ
基、カルボキシル基、アルキル基から選択される基を表
し、ｐは１〜５の中から選択される整数を示し、ｐが２
以上の場合、それぞれのＲ¹は異なるものであってもよ
い。）〕

【００１８】また、メソゲンモノマーと非メソゲンモノ
マーとを共重合または付加反応させることによって合成
された、高分子側鎖に非メソゲン成分を含む相分離型高
分子液晶（例えば、特開平４−２１８０２４号公報およ
び特開平６−１８８６６号公報参照）を使用することも
できる。そのような高分子液晶は、記録像のコントラス
トが大幅に向上し、かつ、感熱特性を最適化することが
可能であるので好ましい。メソゲンモノマーおよび付加
反応可能なメソゲン化合物としては、ビフェニル系、フ
ェニルベンゾエート系、シクロヘキシルベンゼン系、ア
ゾキシベンゼン系、アゾベンゼン系、アゾメチン系、フ
ェニルピリミジン系、ジフェニルアセチレン系、ビフェ
ニルベンゾエート系、シクロヘキシルビフェニル系、タ
ーフェニル系等の剛直な分子（メソゲン）に、好ましく
は所定の長さのアルキルスペーサーを介して、アクリル
酸エステル基、メタクリル酸エステル基またはビニル基
が結合した種々の化合物等が代表的なものとしてあげら
れる。

【００１９】これらの化合物の代表的な構造例を下記に
示す。これらは代表的な構造例であって本発明はこれに
限定されるものではない。ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ^a）−ＣＯＯ−（ＣＨ₂）_ｌ−Ｏ−ＡＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ^a）−ＣＯＯ−ＡＣＨ₂＝ＣＨ−（ＣＨ₂）_ｌ−Ｏ−Ａ（式中、Ｒ^aは水素原子またはメチル基を表し、ｌは１
〜３０の中から選ばれる整数を表し、Ａは前記構造例１
〜３のメソゲン基と同様の基を表す。）

【００２０】一方、非メソゲンモノマーとしては、例え
ば、アクリル酸アルキルおよびその誘導体、スチレンお
よびその誘導体、酢酸ビニル、アクリロニトリル、塩化
ビニル、塩化ビニリデン、ビニルピロリドン、１−ヘキ
セン、１−オクテン等、および架橋可能な反応性基を持
つ化合物である（メタ）アクリル酸、ω−カルボキシ−
ポリカプロラクトン−モノ（メタ）アクリレート、スル
ホン酸ビニル、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−
（メタ）アクリロキシエチルアシッドフォスフェート、
２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アク
リレート、２−（メタ）アクリロキシエチルサクシネー
ト、フタル酸モノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）
アクリロキシエチル（２−ヒドロキシエチル）フタレー
ト、４−（メタ）アクリロキシアルキルオキシ安息香
酸、グリセリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシ基置
換スチレン、メタ（アクリル）アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メ
タ）アクリレート、２−プロペン−１−オール、５−ヘ
キセン−１−オール等をあげることができる。ここで例
示したものは一例であって、特に限定するものではな
い。各化合物は、それぞれを複数種類用いても構わな
い。上記した化合物の高分子液晶中への共重合または共
付加量は、単量体単位として０．１〜７０モル％の範囲
が好ましい。

【００２１】本発明の高分子液晶は上記したメソゲンモ
ノマーは、種々の反応性モノマーや化合物を所定量配合
し、ラジカル重合やイオン重合あるいは反応性ポリマー
に付加させることにより、単独重合（付加）あるいは共
重合（付加）して合成することができる。高分子液晶の
分子量は、重量平均分子量で１万〜１００万の範囲、特
に好ましくは２万〜５０万の範囲である。

【００２２】本発明において上記高分子液晶は、架橋さ
れるものが好ましく用いられる。特に、マルチドメイン
構造を形成するものが好ましい。高分子液晶を光学異方
性を持つ特定の大きさのドメインの集合体からなるマル
チドメイン構造として架橋することにより、高速かつ安
定な記録および消去が実現できる。なお、マルチドメイ
ン構造とは、光学異方性（複屈折率）を持つ複数の微小
なドメインの集合体からなる構造を意味し、光を強く散
乱する。特に、マルチドメイン構造におけるドメインの
大きさがドメインの分布数の極大において、その直径が
０．２〜２．０μｍの範囲にある場合に、最も強く光を
強く散乱するので好ましい。架橋の目的に使用される高
分子液晶としては主鎖または側鎖の１成分として反応性
基を含有するものが好ましく使用され、この反応性基を
利用して所望によって触媒や多官能反応性化合物を添加
して架橋を行うことが可能になる。反応性基としては、
有機低分子／高分子複合材料に関して記載したものと同
様なものが使用され、その具体例としては、上記非メソ
ゲンモノマーに例示したものと同様のものが使用でき
る。触媒及び多官能反応性化合物の添加量は、高分子液
晶組成物に対して０．１〜５０重量％の範囲が好まし
く、さらに好ましくは０．５〜２０重量％の範囲に設定
される。

【００２３】記録層には特性向上を目的として上記以外
の成分を含有させてもよい。例えば、耐候性の向上を目
的として、ヒンダードアミンやヒンダードフェノール等
の各種酸化防止剤が、また、表示コントラスト向上の目
的で、アントラキノン系、スチリル系、アゾメチン系や
アゾ系等の各種二色性色素が、また、光散乱性の向上を
目的として各種蛍光色素を添加することができる。レー
ザー光による熱書き込みを効率的に行うためにレーザー
光吸収色素、例えば、７８０〜８３０ｎｍの一般的な半
導体レーザーを用いる場合には、フタロシアニン、スク
アリリウムやアズレニウム等の近赤外吸収色素を含有さ
せることが好ましい。以上に列挙した種々成分の添加量
は、組成物中に０．０１〜５重量％の範囲が好ましい。
さらに、高分子液晶には、低分子液晶化合物を１〜２０
重量％の範囲内で添加してもよい。

【００２４】記録層上に設ける保護層は、記録層の反復
使用に伴う表面の劣化を防止する作用を有するものであ
って、耐熱性、耐摩耗性、耐圧性、表面摩擦性および表
面潤滑性等の諸特性を備えたものを使用するのが好まし
く、具体的には、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、熱
硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が
使用可能である。保護層には記録時のサーマルヘッドと
の接触性を改善するために、シリカや炭酸カルシウム等
の粉体を分散させてもよい。本発明において、保護層は
複数層積層されていてもよく、また、保護層の厚みは好
ましくは０．１〜２０μｍの範囲から選択される。

【００２５】本発明において、光散乱型のデバイスの場
合に光散乱度を向上させるために好ましくは、光反射層
を設けてもよい。光反射層はシート状基材と高分子液晶
層との間、あるいはシート状基材の裏面に好ましく形成
される。その材料としてはアルミニウム、銀、錫、マグ
ネシウム、金、白金等の金属膜が好ましく使用され、蒸
着やスパッタリング法等により形成される。その好まし
い厚みは１ｎｍ〜１００μｍの範囲である。

【００２６】可逆性記録媒体の製造に際して使用される
離型性シートは、物品同士の密着を防止するためのシー
トであり、離型紙、離型フィルム等を意味する。具体的
には、シリコーン化合物系、フッ素化合物系、ポリオレ
フィン系等の表面自由エネルギーが低い種々の材料を塗
布したり離型紙、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレ
ンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、テフロンフ
ィルム等の離型性プラスチックフィルムがあげられる。
記録層を加熱により架橋する場合には、加熱温度に耐え
得ることが要求される。

【００２７】次に、記録層への熱を利用した記録および
消去の原理について説明するが、電界や磁界によっても
記録および消去が可能である。初期状態にマルチドメイ
ン構造をもった高分子からなる記録層は光散乱し、白濁
しているが、これにサーマルヘッドやレーザー光線など
を用いて像様加熱して高分子液晶を等方性の透明状態と
し、急冷すると加熱部分は等方性のままガラス状態が固
定化され、透明になる。消去する場合には、加熱後、記
録時に比べて徐冷することにより最初の光散乱状態に戻
すことができる。すなわち可逆的に幾度も記録と消去を
繰り返して行うことができる。加熱手段としては、サー
マルヘッドを用いる場合、これに印加されるパルス幅や
エネルギーを制御することにより、所望の条件が達成で
きる。そのほかにも、初期状態を透明状態として白濁し
た記録を行うことも可能である。

【００２８】

【実施例】

実施例１長さ３００ｍのポリエチレンテレフタレートフィルム
（幅５０ｃｍ、厚み１００μｍ）を用意した。一方、メ
ソゲンモノマーとして、４−アクリロキシヘキシルオキ
シ−４′−シアノ−ビフェニルと、反応性モノマーとし
て、２−ヒドロキシエチルメタクリレートとを、アゾビ
スイソブチロニトリルを開始剤とし、２−ブタノンを溶
剤として使用し、重合を行った。得られた生成物をメタ
ノールで沈殿精製し、下記構造式（Ｉ）で示される高分
子液晶を合成した。この高分子液晶の重量平均分子量
（ＧＰＣによるポリスチレン換算）は８万、Ｔｇ（ガラ
ス転移点）は約４０℃、Ｔｉ（液晶相−等方相転移点）
は１１５℃であった。

【化３】上記高分子液晶１００部（重量部、以下同じ）に、架橋
剤として４，４′−ジフェニルメタジイソシアネート４
部、溶剤として２−ブタノン１５０部およびトルエン１
５０部を加えて、記録層形成用塗布液を調製した。この
塗布液を、塗工機としてグラビアロールコーターを用い
て、上記ポリエチレンテレフタレートフィルムに連続的
に塗布し、乾燥ゾーンで９０℃で２分間乾燥させて膜厚
５．５μｍの記録層を形成した。形成された記録層の表
面に、離型性シート（メチルペンテンコポリマーフィル
ム、膜厚み５０μｍ）を重ねながらロール状に巻き取っ
た。乾燥後の記録層は、光を散乱し、白濁していた。記
録層が形成されたフィルムロールを、保温室に入れ、６
０℃で２４時間保持して熱処理を行い、高分子液晶を架
橋させた。

【００２９】次いで巻き取られたフィルムロールから記
録層形成フィルムを離型性シートと共に送り出して、記
録層が形成されたフィルムのみを塗工工程に送り、離型
性シートは再使用可能なようにロール状に巻き取った。
塗工工程において、記録層の上に、平均粒子径１μｍの
シリカ粒子を１重量％分散した紫外線硬化性樹脂（アロ
ニックス、東亜合成社製）をグラビアロールコーターを
用いて塗布し、高圧水銀ランプを用いて硬化して、膜厚
２μｍの保護層を形成し、ロール状に巻き取った。この
ロール状物から、Ａ４サイズのシートを切り出して可逆
性記録媒体を作製した。得られた可逆性記録媒体にサー
マルプリンター（８ドット／ｍｍ、０．３ｍＪ／ドッ
ト）を用いて記録を行ったところ、印字部は透明になっ
た。可逆性記録媒体全体を１３０℃に加熱して、空気中
で冷却したところ、全面が再び白濁状態となり、再生さ
れた。この記録・再生操作をを繰り返し１００回以上行
うことができた。

【００３０】比較例１実施例１において、記録層表面に離型性シートを重ねず
に巻き取り、ロール状に巻き取った。６０℃で２４時間
の熱処理による架橋を施した後、保護層を塗布するため
に記録層が形成されたフィルムを送り出したところ、記
録層がフィルム裏面に転移しており、保護層を塗布する
ことができなかった。

【００３１】実施例２実施例１と同様に塗布、乾燥を行って膜厚５．５μｍの
記録層を形成し、形成された記録層の表面にシリコーン
系離型剤が塗布された離型紙の離型面を重ねながらロー
ル状に巻き取った。次いで、ロール状物から、離型紙と
共に記録層が形成されたフィルムを送り出し、離型紙を
ロール状に巻き取って離型紙のみのロールとし、一方、
記録層の上に紫外線硬化性樹脂（ＤＰＣＡ−６０、日本
化薬社製）をグラビアロールコーターにより塗布し、高
圧水銀ランプを用いて硬化して膜厚２μｍの第１保護層
を形成した。形成した第１保護層の表面にシリコーン系
離型剤を塗布した離型紙の離型面を重ねながらロール状
に巻き取った。このロールを保温室に入れ、６０℃で２
４時間熱処理を行い、高分子液晶を架橋させた。次いで
ロールから、離型紙と共に第１保護層および記録層が形
成されたフィルムを送り出し、離型紙をロール状に巻き
取って離型紙のみのロールとし、一方、第１保護層の上
に紫外線硬化性樹脂（アロニックス、東亜合成社製）を
グラビアロールを用いて連続的に塗布し、高圧水銀ラン
プを用いて硬化することによって、膜厚約１μｍの第２
保護層を形成した。その後、ロール状に巻き取った。こ
のロールから、Ａ４サイズのシートを切り出して可逆性
記録媒体を作製した。得られた可逆性記録媒体は、実施
例１の場合と同様に情報の記録を行うことができ、繰り
返し５００回以上使用することができた。

【００３２】比較例２実施例２と同様にして第１保護層まで形成したが、第１
保護層表面に離型紙を重ねずにロール状に巻き取った。
６０℃で２４時間の熱処理による架橋を施した後、第２
保護層を塗布するために第１保護層および記録層が形成
されたフィルムを送り出したところ、第１記録層単独或
いは記録層と第１保護層の両層がフィルム裏面に転移し
ており、第２保護層を塗布することができなかった。

【００３３】

【発明の効果】本発明による可逆性記録媒体の製造方法
においては、記録層単独の場合は記録層の乾燥および／
または硬化過程の終了時点で記録層の表面に、また、記
録層と少なくとも１層よりなる保護層とからなる場合
は、最上の保護層を除く層の乾燥および／または硬化過
程の終了時点で保護層の表面に離型性シートを重ねるの
で、記録層等が形成されたフィルムを巻き取りロール状
にした場合でも、記録層等の層がプラスチックフィルム
の裏面に密着したり裏面側に転移することがない。した
がって、長尺のプラスチックフィルムを用いてロール状
に巻き取ることによっても何等問題なく可逆性記録媒体
を作製することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を実施するための塗布工程を説明する
模式図である。

【図２】可逆性記録媒体の模式的断面図である。

【符号の説明】

１…プラスチックフィルム送りだし部、２…プラスチッ
クフィルム、２ａ…記録層が形成されたプラスチックフ
ィルム、３…塗布装置、４…乾燥ゾーン、５…離型性シ
ート送りだし部、６，６ａ…離型性シート、７…巻き取
り部、８…送り出し部、９…離型性シート巻き取り部、
１０…塗布装置、１１…乾燥ゾーン、１２…硬化ゾー
ン、１３…巻き取り部、１４…離型性シート送りだし
部、２１…基材、２２…記録層、２３…保護層、２４…
光反射層。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｇ１１Ｂ 7/26 Ｇ０６Ｋ 19/00 Ｃ (72)発明者植松高志神奈川県南足柄市竹松1600番地富士ゼロックス株式会社内 (72)発明者矢敷雄一神奈川県南足柄市竹松1600番地富士ゼロックス株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】プラスチックフィルム上に、外部刺激に
よって可逆的に光散乱度が変化する記録層と、少なくと
も１層よりなる保護層を設けることよりなる可逆性記録
媒体の製造方法において、層形成用塗布液の塗布後、乾
燥および／または硬化過程の終了時点で、塗布層の表面
に離型性シートを重ね、次の層形成用塗布液を塗布する
まで離型性シートが重ねられた状態を維持することを特
徴とする可逆性記録媒体の製造方法。
【請求項２】離型性シートが重ねられた状態で高分子
液晶よりなる記録層を架橋処理することを特徴とする請
求項１記載の可逆性記録媒体の製造方法。
【請求項３】プラスチックフィルム上に、外部刺激に
よって可逆的に光散乱度が変化する記録層を設けること
よりなる可逆性記録媒体の製造方法において、高分子液
晶を含有する記録層形成用塗布液の塗布後、乾燥過程の
終了時点で形成された記録層の表面に離型性シートを重
ね、その状態を維持して該記録層の高分子液晶を架橋す
ることを特徴とする可逆性記録媒体の製造方法。