JPH09143160A - N−シクロヘキシルチオフタルイミドの製造法 - Google Patents
N−シクロヘキシルチオフタルイミドの製造法Info
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- JPH09143160A JPH09143160A JP8322126A JP32212696A JPH09143160A JP H09143160 A JPH09143160 A JP H09143160A JP 8322126 A JP8322126 A JP 8322126A JP 32212696 A JP32212696 A JP 32212696A JP H09143160 A JPH09143160 A JP H09143160A
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- JP
- Japan
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- phthalimide
- chlorine
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- cyclohexylthiophthalimide
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
- C07D209/44—Iso-indoles; Hydrogenated iso-indoles
- C07D209/48—Iso-indoles; Hydrogenated iso-indoles with oxygen atoms in positions 1 and 3, e.g. phthalimide
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 N−シクロヘキシルチオフタルイミドの製造
法 【解決手段】 ジシクロヘキシルジスルフィドを塩素化
することによりその場で塩化シクロヘキシルスルフェニ
ルを製造することにより、塩化シクロヘキシルスルフェ
ニルおよびフタルイミドからN−シクロヘキシルチオフ
タルイミドを製造する方法。
法 【解決手段】 ジシクロヘキシルジスルフィドを塩素化
することによりその場で塩化シクロヘキシルスルフェニ
ルを製造することにより、塩化シクロヘキシルスルフェ
ニルおよびフタルイミドからN−シクロヘキシルチオフ
タルイミドを製造する方法。
Description
【0001】本発明はシクロヘキシルジスルフィド、フ
タルイミドおよび塩素を、塩基の存在下において反応さ
せることにより、N−シクロヘキシルチオフタルイミド
を製造する方法に関する。
タルイミドおよび塩素を、塩基の存在下において反応さ
せることにより、N−シクロヘキシルチオフタルイミド
を製造する方法に関する。
【0002】本発明で製造される化合物は天然および/
または合成ゴムの未成熟な硫化を遅延させるのに使用さ
れる。
または合成ゴムの未成熟な硫化を遅延させるのに使用さ
れる。
【0003】N−シクロヘキシルチオフタルイミドはフ
タルイミドを塩化シクロヘキシルスルフェニルと反応さ
せることにより製造することができる。塩化シクロヘキ
シルスルフェニルはシクロヘキシルメルカプタンまたは
ジシクロヘキシルジスルフィドを塩素化することにより
製造することができる。塩化シクロヘキシルスルフェニ
ルを製造する好適な方法においては、シクロヘキシルメ
ルカプタンを水中に懸濁させ、過酸化水素で酸化し、生
じたジシクロヘキシルジスルフィドを有機溶媒、好まし
くは室温において液体の随時塩素化された炭化水素、例
えばトルエンまたはヘキサンで抽出し、溶解しているジ
スルフィドを塩素で塩素化して塩化シクロヘキシルスル
フェニルをつくる。この反応は下記の反応式に対応して
いる。
タルイミドを塩化シクロヘキシルスルフェニルと反応さ
せることにより製造することができる。塩化シクロヘキ
シルスルフェニルはシクロヘキシルメルカプタンまたは
ジシクロヘキシルジスルフィドを塩素化することにより
製造することができる。塩化シクロヘキシルスルフェニ
ルを製造する好適な方法においては、シクロヘキシルメ
ルカプタンを水中に懸濁させ、過酸化水素で酸化し、生
じたジシクロヘキシルジスルフィドを有機溶媒、好まし
くは室温において液体の随時塩素化された炭化水素、例
えばトルエンまたはヘキサンで抽出し、溶解しているジ
スルフィドを塩素で塩素化して塩化シクロヘキシルスル
フェニルをつくる。この反応は下記の反応式に対応して
いる。
【0004】
【化1】
【0005】米国特許3 579 460号に記載され
たこの方法の最後の段階においては、等モル量の3級ア
ミンの存在下においてジメチルフォルムアミドに溶解し
たフタルイミドをペンタンに溶解させた塩化シクロヘキ
シルスルフェニルと反応させる。大量の水を用いて最終
生成物を沈澱させる方法はアミンおよび溶媒を回収し、
母液を処理し乾燥を行う上で極めて費用のかかる方法で
ある。
たこの方法の最後の段階においては、等モル量の3級ア
ミンの存在下においてジメチルフォルムアミドに溶解し
たフタルイミドをペンタンに溶解させた塩化シクロヘキ
シルスルフェニルと反応させる。大量の水を用いて最終
生成物を沈澱させる方法はアミンおよび溶媒を回収し、
母液を処理し乾燥を行う上で極めて費用のかかる方法で
ある。
【0006】ヨーロッパ特許A 47 912号には水
性懸濁液にしたフタルイミドを有機溶媒に溶解した塩化
シクロヘキシルスルフェニルと、アルカリ金属またはア
ルカリ土類金属の水酸化物の存在下において反応させる
ことにより、N−シクロヘキシルチオフタルイミドを製
造する方法が記載されている。しかしこの方法の収率の
再現性は必ずしも満足すべきものではない。
性懸濁液にしたフタルイミドを有機溶媒に溶解した塩化
シクロヘキシルスルフェニルと、アルカリ金属またはア
ルカリ土類金属の水酸化物の存在下において反応させる
ことにより、N−シクロヘキシルチオフタルイミドを製
造する方法が記載されている。しかしこの方法の収率の
再現性は必ずしも満足すべきものではない。
【0007】本発明においては、驚くべきことには下記
の反応式
の反応式
【0008】
【化2】
【0009】に従ってジシクロヘキシルジスルフィドか
らその場で製造された塩化シクロヘキシルスルフェニル
を、塩基の存在下において、有機溶媒中に懸濁させたフ
タルイミドと反応させると、その収率は極めて狭い限度
内で再現させ得ることが見出された。この場合、加水分
解に対して敏感な塩化シクロヘキシルスルフェニルを取
り扱う必要はない。これによって環境に対する防護およ
び作業上の安全性に関し明らかな改善が得られる。
らその場で製造された塩化シクロヘキシルスルフェニル
を、塩基の存在下において、有機溶媒中に懸濁させたフ
タルイミドと反応させると、その収率は極めて狭い限度
内で再現させ得ることが見出された。この場合、加水分
解に対して敏感な塩化シクロヘキシルスルフェニルを取
り扱う必要はない。これによって環境に対する防護およ
び作業上の安全性に関し明らかな改善が得られる。
【0010】従って本発明においては、塩基の存在下に
おいて塩化シクロヘキシルスルフェニルをフタルイミド
と反応させN−シクロヘキシルチオフタルイミドを製造
する方法において、フタルイミドの存在下においてジシ
クロヘキシルジスルフィドおよび塩素から塩化シクロヘ
キシルスルフェニルを製造することを特徴とする方法が
提供される。
おいて塩化シクロヘキシルスルフェニルをフタルイミド
と反応させN−シクロヘキシルチオフタルイミドを製造
する方法において、フタルイミドの存在下においてジシ
クロヘキシルジスルフィドおよび塩素から塩化シクロヘ
キシルスルフェニルを製造することを特徴とする方法が
提供される。
【0011】ジシクロヘキシルジスルフィド/フタルイ
ミドのモル比は1:1.9〜1:2.2、好ましくは
1:2〜1:2.1であることができる。
ミドのモル比は1:1.9〜1:2.2、好ましくは
1:2〜1:2.1であることができる。
【0012】塩素/ジシクロヘキシルジスルフィドのモ
ル比は1:1〜1.2:1、好ましくは1:1〜1.0
5:1であることができる。
ル比は1:1〜1.2:1、好ましくは1:1〜1.0
5:1であることができる。
【0013】アルカリ金属およびアルカリ土類金属の水
酸化物(好ましくは水溶液として使用する)および3級
アミンは塩基として好適である。塩基/フタルイミドの
モル比は広い範囲で変えることができ、一般に1:1〜
1.3:1、好ましくは1.05:1〜1.1:1であ
る。
酸化物(好ましくは水溶液として使用する)および3級
アミンは塩基として好適である。塩基/フタルイミドの
モル比は広い範囲で変えることができ、一般に1:1〜
1.3:1、好ましくは1.05:1〜1.1:1であ
る。
【0014】好適なアルカリ金属およびアルカリ土類金
属の水酸化物には、ナトリウム、カリウム、リチウムお
よびカルシウムの水酸化物が含まれる。濃度が5〜40
重量%の苛性ソーダの溶液が好適に使用される。使用す
る水酸化物溶液の密度が所望の反応温度において1.0
〜1.2g/mlの範囲にある場合が特に有利である。
属の水酸化物には、ナトリウム、カリウム、リチウムお
よびカルシウムの水酸化物が含まれる。濃度が5〜40
重量%の苛性ソーダの溶液が好適に使用される。使用す
る水酸化物溶液の密度が所望の反応温度において1.0
〜1.2g/mlの範囲にある場合が特に有利である。
【0015】好適な3級アミンは式 NR1R2R3 に対応している。ここでR1〜R3はそれぞれ互いに独立
にC2〜C6−アルキル、C6〜C12−シクロアルキル、
C7〜C12−アリールアルキルまたはC6〜C12−アリー
ル基を表すが、これらの基の二つが一緒になって随時酸
素原子が介在したC4〜C7−アルキレン基をつくること
ができる。
にC2〜C6−アルキル、C6〜C12−シクロアルキル、
C7〜C12−アリールアルキルまたはC6〜C12−アリー
ル基を表すが、これらの基の二つが一緒になって随時酸
素原子が介在したC4〜C7−アルキレン基をつくること
ができる。
【0016】好適な3級アミンには例えばトリエチルア
ミン、ジメチルベンジルアミン、およびN−エチルモル
フィリンが含まれる。
ミン、ジメチルベンジルアミン、およびN−エチルモル
フィリンが含まれる。
【0017】本発明方法は例えば非プロトン性の有機溶
媒中においてジシクロヘキシルジスルフィドとフタルイ
ミドとの混合物に塩素を通し、この方法で塩化シクロヘ
キシルスルフェニルをその場で製造するようにして行う
ことができる。塩化スルフェニルとフタルイミドとの反
応は塩基の存在下において起こる。しかしフタルイミド
を存在させないで塩素化を行い、後でフタルイミドを加
えることもできる。
媒中においてジシクロヘキシルジスルフィドとフタルイ
ミドとの混合物に塩素を通し、この方法で塩化シクロヘ
キシルスルフェニルをその場で製造するようにして行う
ことができる。塩化スルフェニルとフタルイミドとの反
応は塩基の存在下において起こる。しかしフタルイミド
を存在させないで塩素化を行い、後でフタルイミドを加
えることもできる。
【0018】広い範囲の溶媒を使用することができる。
これらの溶媒には − 芳香族炭化水素、例えばベンゼンおよび/またはト
ルエン。
これらの溶媒には − 芳香族炭化水素、例えばベンゼンおよび/またはト
ルエン。
【0019】− 脂肪族炭化水素、例えばヘキサン、ヘ
プタン、オクタン、および/またはシクロヘキサン。
プタン、オクタン、および/またはシクロヘキサン。
【0020】− 塩素化された炭化水素、例えばCCl
4、ジクロロエチレンおよび/またはクロロベンゼン。
4、ジクロロエチレンおよび/またはクロロベンゼン。
【0021】− 極性をもった非プロトン性溶媒、例え
ばDMFおよび/またはDMSO。
ばDMFおよび/またはDMSO。
【0022】トルエン、ヘキサンおよび/またはシクロ
ヘキサンを使用することが好ましい。 溶媒の使用量は一般にフタルイミドに関して600〜
1,500重量%である。
ヘキサンを使用することが好ましい。 溶媒の使用量は一般にフタルイミドに関して600〜
1,500重量%である。
【0023】本発明方法は温度−20〜100℃、好ま
しくは0〜20℃で行うことができる。
しくは0〜20℃で行うことができる。
【0024】
【実施例】特記しない限りすべての割合は重量による。
即ち部は重量部であり、%データは重量%である。
即ち部は重量部であり、%データは重量%である。
【0025】実施例 1 先ず下記の成分を撹拌容器の中に入れる。
【0026】300部のトルエン、40部のフタルイミ
ド、31部のジシクロヘキシルジスルフィド。
ド、31部のジシクロヘキシルジスルフィド。
【0027】この混合物を5℃に冷却する。次に撹拌し
ながら先ず9.8部の塩素を導入する。次に38.2部
のジメチルベンジルアミンを圧入し、15分間撹拌を続
ける。得られた溶液を80部の塩酸(濃度5%)で洗滌
し、次いで有機相を分離する。
ながら先ず9.8部の塩素を導入する。次に38.2部
のジメチルベンジルアミンを圧入し、15分間撹拌を続
ける。得られた溶液を80部の塩酸(濃度5%)で洗滌
し、次いで有機相を分離する。
【0028】200部のトルエンを真空蒸溜して除去
し、ヘキサンを加えて生成物を沈澱させる。固体の生成
物を濾過し、30部のヘキサンで洗滌し、次いで生成物
を真空下で乾燥する。
し、ヘキサンを加えて生成物を沈澱させる。固体の生成
物を濾過し、30部のヘキサンで洗滌し、次いで生成物
を真空下で乾燥する。
【0029】収率:68部のN−(シクロヘキシルチ
オ)−フタルイミド= 使用したジシクロヘキシルジス
ルフィドに関し理論値の97%。
オ)−フタルイミド= 使用したジシクロヘキシルジス
ルフィドに関し理論値の97%。
【0030】純粋な物質の割合は98%。
【0031】実施例 2 先ず下記の成分を撹拌容器の中に入れる。
【0032】300部のトルエン、41部のフタルイミ
ド、30部のジシクロヘキシルジスルフィド。
ド、30部のジシクロヘキシルジスルフィド。
【0033】この混合物を5℃に冷却する。次に9.5
部の塩素を導入し、次いで115部の苛性ソーダ溶液
(濃度10%)を圧入し、30分間撹拌を続ける。相分
離を行った後、実施例1と同じ方法で有機相から生成物
を分離する。
部の塩素を導入し、次いで115部の苛性ソーダ溶液
(濃度10%)を圧入し、30分間撹拌を続ける。相分
離を行った後、実施例1と同じ方法で有機相から生成物
を分離する。
【0034】収率:66部のN−(シクロヘキシルチ
オ)−フタルイミド= 使用したジシクロヘキシルジス
ルフィドに関し理論値の97%。
オ)−フタルイミド= 使用したジシクロヘキシルジス
ルフィドに関し理論値の97%。
【0035】純粋な物質の割合は99%。
【0036】本発明の主な特徴及び態様は次の通りであ
る。 1.塩基の存在下において塩化シクロヘキシルスルフェ
ニルをフタルイミドと反応させN−シクロヘキシルチオ
フタルイミドを製造する方法において、フタルイミドの
存在下においてジシクロヘキシルジスルフィドおよび塩
素から塩化シクロヘキシルスルフェニルを製造する方
法。
る。 1.塩基の存在下において塩化シクロヘキシルスルフェ
ニルをフタルイミドと反応させN−シクロヘキシルチオ
フタルイミドを製造する方法において、フタルイミドの
存在下においてジシクロヘキシルジスルフィドおよび塩
素から塩化シクロヘキシルスルフェニルを製造する方
法。
【0037】2.温度−20〜100℃で反応を行う上
記第1項記載の方法。
記第1項記載の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハロ・シユレスマン ドイツ51519オーデンタール・アイフゲン シユトラーセ24 (72)発明者 トマス・クライナー ドイツ51519オーデンタール・アムベルク 24
Claims (1)
- 【請求項1】 塩基の存在下において塩化シクロヘキシ
ルスルフェニルをフタルイミドと反応させN−シクロヘ
キシルチオフタルイミドを製造する方法において、フタ
ルイミドの存在下においてジシクロヘキシルジスルフィ
ドおよび塩素から塩化シクロヘキシルスルフェニルを製
造することを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19543863A DE19543863A1 (de) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | Verfahren zur Herstellung von N-Cyclohexylthio-phthalimid |
DE19543863.9 | 1995-11-24 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09143160A true JPH09143160A (ja) | 1997-06-03 |
Family
ID=7778334
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8322126A Pending JPH09143160A (ja) | 1995-11-24 | 1996-11-19 | N−シクロヘキシルチオフタルイミドの製造法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5719294A (ja) |
EP (1) | EP0775695B1 (ja) |
JP (1) | JPH09143160A (ja) |
CA (1) | CA2190907A1 (ja) |
DE (2) | DE19543863A1 (ja) |
ES (1) | ES2154377T3 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109988096B (zh) * | 2019-05-13 | 2022-05-10 | 汤阴永新化学有限责任公司 | 合成ctp使用后的溶剂中ctp的回收方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3579460A (en) | 1969-06-16 | 1971-05-18 | Joseph Edward Kerwood | Sulfenamide compositions stabilized by organic disulfides |
DE3034397A1 (de) | 1980-09-12 | 1982-04-29 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von n-(cyclohexylthio)-phthalimid |
-
1995
- 1995-11-24 DE DE19543863A patent/DE19543863A1/de not_active Withdrawn
-
1996
- 1996-11-12 ES ES96118085T patent/ES2154377T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-11-12 DE DE59606423T patent/DE59606423D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-11-12 EP EP96118085A patent/EP0775695B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-11-13 US US08/747,851 patent/US5719294A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-11-19 JP JP8322126A patent/JPH09143160A/ja active Pending
- 1996-11-21 CA CA002190907A patent/CA2190907A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5719294A (en) | 1998-02-17 |
EP0775695A1 (de) | 1997-05-28 |
EP0775695B1 (de) | 2001-02-07 |
DE19543863A1 (de) | 1997-05-28 |
CA2190907A1 (en) | 1997-05-25 |
DE59606423D1 (de) | 2001-03-15 |
ES2154377T3 (es) | 2001-04-01 |
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