JPH058704B2 - - Google Patents
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- Indole Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
<産業上の利用分野>
本発明は高純度のN−(シクロヘキシルチオ)−
フタルイミドを製造する方法に関するものであ
る。
フタルイミドを製造する方法に関するものであ
る。
<従来の技術>
N−(シクロヘキシルチオ)−フタルイミドは天
然ゴムまたは合成ゴムの早期加硫抑制剤として極
めて、有用な化合物である。
然ゴムまたは合成ゴムの早期加硫抑制剤として極
めて、有用な化合物である。
従来より、N−(シクロヘキシルチオ)−フタル
イミドはフタルイミドとシクロヘキシルスルフエ
ニルクロライドとの反応(イミド化反応)によつ
て製造されるが、この時、生成する塩化水素をト
ラツプするためにアルカリ金属水酸化物またはア
ルカリ土類金属水酸化物を共存させる方法(特開
昭57−80369号公報)が知られている。
イミドはフタルイミドとシクロヘキシルスルフエ
ニルクロライドとの反応(イミド化反応)によつ
て製造されるが、この時、生成する塩化水素をト
ラツプするためにアルカリ金属水酸化物またはア
ルカリ土類金属水酸化物を共存させる方法(特開
昭57−80369号公報)が知られている。
ここで原料として用いられるシクロヘキシルス
ルフエニルクロライドの一般的製法としてはシク
ロヘキシルチオールまたはシクロヘキシルジスル
フイドを有機溶媒中で塩素と反応させる方法があ
る。
ルフエニルクロライドの一般的製法としてはシク
ロヘキシルチオールまたはシクロヘキシルジスル
フイドを有機溶媒中で塩素と反応させる方法があ
る。
しかしながら、シクロヘキシルスルフエニルク
ロライドは非常に不安定であり、有機溶媒中で速
やかに分解する(J.Org.Chem.34.51(1969))。
ロライドは非常に不安定であり、有機溶媒中で速
やかに分解する(J.Org.Chem.34.51(1969))。
従つて、シクロヘキシルスルフエニルクロライ
ドとフタルイミドからN−(シクロヘキシルチオ)
−フタルイミドを製造する場合、有機溶媒中でシ
クロヘキシルチオールまたはジシクロヘキシルジ
スルフイドと塩素を反応させて得た反応液を精製
することなく、そのままフタルイミドと混合する
のが工業的に有利な方法である。
ドとフタルイミドからN−(シクロヘキシルチオ)
−フタルイミドを製造する場合、有機溶媒中でシ
クロヘキシルチオールまたはジシクロヘキシルジ
スルフイドと塩素を反応させて得た反応液を精製
することなく、そのままフタルイミドと混合する
のが工業的に有利な方法である。
<発明が解決しようとする問題点>
しかしながら、有機溶媒中でジシクロヘキシル
ジスルフイドと塩素とを反応させて得た反応液と
フタルイミドをアルカリ金属水酸化物またはアル
カリ土類金属水酸化物共存下で混合して反応せし
めると、得られるN−(シクロヘキシルチオ)−フ
タルイミドの品質が不満足であり、かつ保存中に
酸性ガスを発生するという問題があることを本発
明者らは見出した。
ジスルフイドと塩素とを反応させて得た反応液と
フタルイミドをアルカリ金属水酸化物またはアル
カリ土類金属水酸化物共存下で混合して反応せし
めると、得られるN−(シクロヘキシルチオ)−フ
タルイミドの品質が不満足であり、かつ保存中に
酸性ガスを発生するという問題があることを本発
明者らは見出した。
そこで、本発明者らは高品質のN−(シクロヘ
キシルチオ)−フタイミドを工業的に有利な方法
で製造する方法を提供することを目的として鋭意
検討した結果本発明に到達した。
キシルチオ)−フタイミドを工業的に有利な方法
で製造する方法を提供することを目的として鋭意
検討した結果本発明に到達した。
<問題点を解決するための手段および作用>
すなわち、本発明は、アルカリ金属水酸化物ま
たはアルカリ土類金属の水酸化物および有機溶媒
の存在下で、フタルイミドとシクロヘキシルスル
フエニルクロライドとの反応によつて得られたN
−(シクロヘキシルチオ)−フタルイミドを有機ア
ミンと混合すること、得られた混合物を中和して
分液するとおよび分液して得られた有機溶媒層を
晶析することからなる高純度N−(シクロヘキシ
ルチオ)−フタルイミドの製造法である。
たはアルカリ土類金属の水酸化物および有機溶媒
の存在下で、フタルイミドとシクロヘキシルスル
フエニルクロライドとの反応によつて得られたN
−(シクロヘキシルチオ)−フタルイミドを有機ア
ミンと混合すること、得られた混合物を中和して
分液するとおよび分液して得られた有機溶媒層を
晶析することからなる高純度N−(シクロヘキシ
ルチオ)−フタルイミドの製造法である。
以下、本発明を具体的に説明する。
本発明で原料として用いるシクロヘキシルスル
フエニルクロライドは、任意の方法によつて製造
されたものを使用することがきるが、前述のごと
くシクロヘキシルスルフエニルクロライドが非常
に不安定であるため、シクロヘキシルスルフエニ
ルクロライドの合成反応混合物をそのまま原料と
して使用することが工業的には好ましい。
フエニルクロライドは、任意の方法によつて製造
されたものを使用することがきるが、前述のごと
くシクロヘキシルスルフエニルクロライドが非常
に不安定であるため、シクロヘキシルスルフエニ
ルクロライドの合成反応混合物をそのまま原料と
して使用することが工業的には好ましい。
特に、ジシクロヘキシルジスルフイドまたはシ
クロヘキシルチオールと塩素を反応させて得た反
応液を精製することなくそのまま原料として使用
するのが望ましい。
クロヘキシルチオールと塩素を反応させて得た反
応液を精製することなくそのまま原料として使用
するのが望ましい。
本発明において有機アミンと混合することおよ
び混合物を中和して分液することとは、具体的に
はN−(シクロヘキシルチオ)−フタルイミドを有
機アミン共存下で加熱したあと、鉱酸で中和し有
機アミンの鉱酸塩となし、これを含む水層と有機
溶媒層とに分液することである。
び混合物を中和して分液することとは、具体的に
はN−(シクロヘキシルチオ)−フタルイミドを有
機アミン共存下で加熱したあと、鉱酸で中和し有
機アミンの鉱酸塩となし、これを含む水層と有機
溶媒層とに分液することである。
有機アミンとは脂肪族アミン、芳香族アミンの
1級アミン、2級アミン、3級アミンから選ばれ
たもので、反応溶媒に溶けしかも反応溶媒よりも
高い沸点を持つものである。
1級アミン、2級アミン、3級アミンから選ばれ
たもので、反応溶媒に溶けしかも反応溶媒よりも
高い沸点を持つものである。
例えば、反応溶媒が四塩化炭素の時はトリエチ
ルアミンが好ましい。
ルアミンが好ましい。
有機アミンの添加率はイミド化反応に使用した
シクロヘキシルスルフエニルクロライドの重量に
対して1%〜10%で、好ましくは2〜5%であ
る。
シクロヘキシルスルフエニルクロライドの重量に
対して1%〜10%で、好ましくは2〜5%であ
る。
添加率が少ないと効果がなく、多いと除去する
負荷が増加する。
負荷が増加する。
加熱温度は60〜120℃が好ましく、イミド反応
液の沸点付近がさらに好ましく低温度では効果が
なく、沸点温度よりも高温度では耐圧装置が必要
となる。
液の沸点付近がさらに好ましく低温度では効果が
なく、沸点温度よりも高温度では耐圧装置が必要
となる。
加熱時間は1〜2時間が好ましく、短時間では
効果が少なく長時間では生産性がおちる。
効果が少なく長時間では生産性がおちる。
シクロヘキシルスルフエニルクロライドの合成
やイミド化反応に使用する溶媒はN−(シクロヘ
キシルチオ)−フタルイミドをよく溶かし、塩素
に対して安定なもので、例えば四塩化炭素が使用
される。
やイミド化反応に使用する溶媒はN−(シクロヘ
キシルチオ)−フタルイミドをよく溶かし、塩素
に対して安定なもので、例えば四塩化炭素が使用
される。
<実施例>
以下、実施例によつて本発明をさらに具体的に
説明する。
説明する。
実施例 1
滴下ロート、コンデンサー、かきまぜ機、温度
計を備えたガラス製四つ口フラスコの中に純度98
%のフタルイミド30.0g(0.2モル)と純度99%以
上の四塩化炭素200gを入れかきまぜた。
計を備えたガラス製四つ口フラスコの中に純度98
%のフタルイミド30.0g(0.2モル)と純度99%以
上の四塩化炭素200gを入れかきまぜた。
この中へ10%の苛性ソーダ水溶液88.0%(0.22
モル)を滴下ロートより加えてフタルイミドを速
かに溶解し、続いてすばやく四塩化炭素を溶媒に
したシクロヘキシルスルフエニルクロライドの溶
液200g(0.2モルのシクロヘキシルスルフエニルク
ロライドが溶解している)を別の滴下ロートより
滴下した。反応液温度が約20℃から約34℃に上昇
した。滴下終了あとも30分間かきまぜを継続し
た。
モル)を滴下ロートより加えてフタルイミドを速
かに溶解し、続いてすばやく四塩化炭素を溶媒に
したシクロヘキシルスルフエニルクロライドの溶
液200g(0.2モルのシクロヘキシルスルフエニルク
ロライドが溶解している)を別の滴下ロートより
滴下した。反応液温度が約20℃から約34℃に上昇
した。滴下終了あとも30分間かきまぜを継続し
た。
このあとに、純度99%以上のトリエチルアミン
1.0gを添加し73〜75℃の温浴で加熱し、反応液を
沸騰させた。1時間この状態を維持したあと、水
で冷却し室温にした。1N−塩酸で内液をPH6〜
7まで中和した。
1.0gを添加し73〜75℃の温浴で加熱し、反応液を
沸騰させた。1時間この状態を維持したあと、水
で冷却し室温にした。1N−塩酸で内液をPH6〜
7まで中和した。
内液の全量を分液ロートに移液し上層と下層を
分離した。下層を2等分し、一方の液からロータ
リーエバポレータで四塩化炭素を留去させたあ
と、室温5Torr.以下の真空乾燥器で一夜乾燥し
固形物24.9gを得た。
分離した。下層を2等分し、一方の液からロータ
リーエバポレータで四塩化炭素を留去させたあ
と、室温5Torr.以下の真空乾燥器で一夜乾燥し
固形物24.9gを得た。
固形物の融点は89〜90℃でN−(シクロヘキシ
ルチオ)−フタルイミドの純度は、液体クロマト
グラフイで分析した結果95.9%であつた。また、
この固形物を室温下で1ケ月放置しても酸性ガス
は発生しなかつた。
ルチオ)−フタルイミドの純度は、液体クロマト
グラフイで分析した結果95.9%であつた。また、
この固形物を室温下で1ケ月放置しても酸性ガス
は発生しなかつた。
もう一方の液をロータリエバポレータで濃縮
し、N−(シクロヘキシルチオ)−フタルイミドの
結晶を析出させた。
し、N−(シクロヘキシルチオ)−フタルイミドの
結晶を析出させた。
この結晶を濾過鐘で分離したあと、室温、
5Torr.以下の真空乾燥器で一夜乾燥し結晶し
14.3gを得た。
5Torr.以下の真空乾燥器で一夜乾燥し結晶し
14.3gを得た。
結晶の融点は93〜94℃で、N−(シクロヘキシ
ルチオ)−フタルイミドの液体クロマトグラフイ
による純度は99.4%であつた。この結晶を室温下
で1ケ月放置しても酸性ガスは発生しなかつた。
ルチオ)−フタルイミドの液体クロマトグラフイ
による純度は99.4%であつた。この結晶を室温下
で1ケ月放置しても酸性ガスは発生しなかつた。
実施例 2
実施例1のトリエチルアミンをベンジルアミン
に代えた以外は実施例1と同じ方法で行なつた。
に代えた以外は実施例1と同じ方法で行なつた。
その結果、濃縮固形物25.1g、晶析結晶14.4gを
得た。融点は濃縮固形物で89〜90℃、晶析結晶で
93〜94℃であつた。
得た。融点は濃縮固形物で89〜90℃、晶析結晶で
93〜94℃であつた。
N−(シクロヘキシルチオ)−フタルイミドの液
体クロマトグラフイによる純度は濃縮固形物で
95.5%、晶析結晶で99.2%であつた。濃縮固形
物、晶析結晶いずれも1ケ月放置しても酸性ガス
は発生しなかつた。
体クロマトグラフイによる純度は濃縮固形物で
95.5%、晶析結晶で99.2%であつた。濃縮固形
物、晶析結晶いずれも1ケ月放置しても酸性ガス
は発生しなかつた。
比較例
実施例1のトリエチルアミンを添加しなかつた
以外は実施例1と同じ方法で行なつた。
以外は実施例1と同じ方法で行なつた。
その結果、濃縮固形物25.8g、晶析結晶14.4gを
得た。融点は濃縮固形物で88〜89℃、晶析結晶で
92〜93℃であつた。
得た。融点は濃縮固形物で88〜89℃、晶析結晶で
92〜93℃であつた。
N−(シクロヘキシルチオ)−フタルイミドの液
体クロマトグラフイによる純度は濃縮固形物で
93.3%、晶析結晶で98.0%であつた。
体クロマトグラフイによる純度は濃縮固形物で
93.3%、晶析結晶で98.0%であつた。
濃縮固形物は翌日に、晶析結晶は4日後に酸性
ガスを発生した。
ガスを発生した。
<発明の効果>
本発明によれば、工業的に簡易な方法により99
%以上の高純度のN−(シクロヘキシルチオ)−フ
タルイミドの取得が可能となつた。
%以上の高純度のN−(シクロヘキシルチオ)−フ
タルイミドの取得が可能となつた。
Claims (1)
- 1 アルカリ金属水酸化物またはアルカリ土類金
属の水酸化物および有機溶媒の存在下で、フタル
イミドとシクロヘキシルスルフエニルクロライド
との反応によつて得られたN−(シクロヘキシル
チオ)−フタルイミドを有機アミンと混合するこ
と、得られた混合物を中和して分液することおよ
び分液して得られた有機溶媒層を晶析することか
らなる高純度N−(シクロヘキシルチオ)−フタル
イミドの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60052544A JPS61212560A (ja) | 1985-03-18 | 1985-03-18 | 高純度n−(シクロヘキシルチオ)−フタルイミドの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60052544A JPS61212560A (ja) | 1985-03-18 | 1985-03-18 | 高純度n−(シクロヘキシルチオ)−フタルイミドの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61212560A JPS61212560A (ja) | 1986-09-20 |
JPH058704B2 true JPH058704B2 (ja) | 1993-02-02 |
Family
ID=12917728
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60052544A Granted JPS61212560A (ja) | 1985-03-18 | 1985-03-18 | 高純度n−(シクロヘキシルチオ)−フタルイミドの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61212560A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109776389A (zh) * | 2019-03-19 | 2019-05-21 | 汤阴永新化学有限责任公司 | 一种低值邻苯二甲酰亚胺的橡胶防焦剂ctp的制造方法 |
-
1985
- 1985-03-18 JP JP60052544A patent/JPS61212560A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61212560A (ja) | 1986-09-20 |
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