JPH09142915A - 撥水性石膏ボード - Google Patents
撥水性石膏ボードInfo
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- JPH09142915A JPH09142915A JP34662195A JP34662195A JPH09142915A JP H09142915 A JPH09142915 A JP H09142915A JP 34662195 A JP34662195 A JP 34662195A JP 34662195 A JP34662195 A JP 34662195A JP H09142915 A JPH09142915 A JP H09142915A
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- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B28/00—Compositions of mortars, concrete or artificial stone, containing inorganic binders or the reaction product of an inorganic and an organic binder, e.g. polycarboxylate cements
- C04B28/14—Compositions of mortars, concrete or artificial stone, containing inorganic binders or the reaction product of an inorganic and an organic binder, e.g. polycarboxylate cements containing calcium sulfate cements
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C04B2111/00612—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00 as one or more layers of a layered structure
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- C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 撥水性及び防火性に優れ、ボード原紙と石膏
の接着性が良好な石膏ボードを提供する。 【解決手段】 石膏とメチルハイドロジェンポリシロキ
サンと、セメント、珪酸カルシウム水和物、酸化マグネ
シウム及び水酸化マグネシウムから選ばれる少なくとも
１種とを添加混合してスラリーとする石膏組成物を、ボ
ード原紙間に流し込み成形硬化後乾燥することにより、
メチルハイドロジェンポリシロキサンが、新たなシロキ
サン結合を作り、三次元網目構造を形成していることを
特徴とする撥水性石膏ボード。
の接着性が良好な石膏ボードを提供する。 【解決手段】 石膏とメチルハイドロジェンポリシロキ
サンと、セメント、珪酸カルシウム水和物、酸化マグネ
シウム及び水酸化マグネシウムから選ばれる少なくとも
１種とを添加混合してスラリーとする石膏組成物を、ボ
ード原紙間に流し込み成形硬化後乾燥することにより、
メチルハイドロジェンポリシロキサンが、新たなシロキ
サン結合を作り、三次元網目構造を形成していることを
特徴とする撥水性石膏ボード。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は撥水性石膏ボードに
関する。更に詳しくは、耐水性及び防火性の改善された
撥水性石膏ボードに関する。
関する。更に詳しくは、耐水性及び防火性の改善された
撥水性石膏ボードに関する。
【０００２】
【従来の技術】石膏を用いる石膏ボード製品は、石膏の
有する特性により、防火性、防音性、強度、廉価等の著
しい特徴にもかかわらず耐水性に問題があり使用範囲が
限定されているのが現状である。このような石膏の欠点
を補うために石膏にジメチルポリシロキサンを添加して
撥水性を向上させる方法（米国特許第３４５５７１０
号）や石膏にアルカリ金属のアルキルシリコネートと消
石灰または生石灰とを配合する方法（特開昭５６−５４
２６３号公報）等が提案されているが、これらの方法で
は、十分な撥水性が得られなかったり、撥水性を満足さ
せると含有有機物が増加するため防火性が損なわれる欠
点があった。また、撥水性が良くてもボード原紙と石膏
の接着が悪く石膏ボードに製造できないという欠点もあ
った。
有する特性により、防火性、防音性、強度、廉価等の著
しい特徴にもかかわらず耐水性に問題があり使用範囲が
限定されているのが現状である。このような石膏の欠点
を補うために石膏にジメチルポリシロキサンを添加して
撥水性を向上させる方法（米国特許第３４５５７１０
号）や石膏にアルカリ金属のアルキルシリコネートと消
石灰または生石灰とを配合する方法（特開昭５６−５４
２６３号公報）等が提案されているが、これらの方法で
は、十分な撥水性が得られなかったり、撥水性を満足さ
せると含有有機物が増加するため防火性が損なわれる欠
点があった。また、撥水性が良くてもボード原紙と石膏
の接着が悪く石膏ボードに製造できないという欠点もあ
った。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は石膏の持つ防
火性を損なわず、かつ十分な撥水性を有する石膏ボード
を提供することを目的とするものである。
火性を損なわず、かつ十分な撥水性を有する石膏ボード
を提供することを目的とするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らはかかる問題
点に鑑み鋭意検討を行ったところ、メチルハイドロジェ
ンポリシロキサンと特定の化合物を併用することによ
り、メチルハイドロジェンポリシロキサンの使用量が少
量でも撥水性を示し、防火性も損なわれず、ボード原紙
との接着も良好であることを見いだし本発明に至った。
点に鑑み鋭意検討を行ったところ、メチルハイドロジェ
ンポリシロキサンと特定の化合物を併用することによ
り、メチルハイドロジェンポリシロキサンの使用量が少
量でも撥水性を示し、防火性も損なわれず、ボード原紙
との接着も良好であることを見いだし本発明に至った。
【０００５】すなわち、本発明の要旨は、石膏とメチル
ハイドロジェンポリシロキサンと、セメント、珪酸カル
シウム水和物、酸化マグネシウム及び水酸化マグネシウ
ムから選ばれる少なくとも１種とを添加混合してスラリ
ー化した石膏組成物を、ボード原紙間に流し込み成形硬
化後乾燥することにより、メチルハイドロジェンポリシ
ロキサンが、新たなシロキサン結合を作り、三次元網目
構造を形成していることを特徴とする撥水性石膏ボード
に存する。
ハイドロジェンポリシロキサンと、セメント、珪酸カル
シウム水和物、酸化マグネシウム及び水酸化マグネシウ
ムから選ばれる少なくとも１種とを添加混合してスラリ
ー化した石膏組成物を、ボード原紙間に流し込み成形硬
化後乾燥することにより、メチルハイドロジェンポリシ
ロキサンが、新たなシロキサン結合を作り、三次元網目
構造を形成していることを特徴とする撥水性石膏ボード
に存する。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に使用されるポリシロキサンは下記の構造式を有
するメチルハイドロジェンポリシロキサンである。
本発明に使用されるポリシロキサンは下記の構造式を有
するメチルハイドロジェンポリシロキサンである。
【０００７】
【化１】
【０００８】上記一般式中、ｎは１〜１００の数を示
す。メチルハイドロジェンポリシロキサンの含有量は、
石膏１００重量部（半水石膏換算）に対して、通常０．
２〜５重量部、好ましくは０．２〜１重量部である。
０．２重量部より少ないと十分な撥水性が得られない。
５重量部より多いと防火性の点で不利になる。
す。メチルハイドロジェンポリシロキサンの含有量は、
石膏１００重量部（半水石膏換算）に対して、通常０．
２〜５重量部、好ましくは０．２〜１重量部である。
０．２重量部より少ないと十分な撥水性が得られない。
５重量部より多いと防火性の点で不利になる。
【０００９】メチルハイドロジェンポリシロキサンはそ
のまま使用しても、また、メチルハイドロジェンポリシ
ロキサンを水中に乳化してなるエマルションとして使用
してもよい。エマルションとして使用すると石膏スラリ
ー中にメチルハイドロジェンポリシロキサンを均一に添
加混合できるので好ましい。メチルハイドロジェンポリ
シロキサンを水中に乳化してなるエマルションとするた
めに使用する乳化剤には特に制限はなく、例えば、ノニ
オン性乳化剤、アニオン性乳化剤、ポリビニルアルコー
ル等が挙げられる。これらの乳化剤は、単独あるいは２
種類以上を組み合わせて用いても良い。
のまま使用しても、また、メチルハイドロジェンポリシ
ロキサンを水中に乳化してなるエマルションとして使用
してもよい。エマルションとして使用すると石膏スラリ
ー中にメチルハイドロジェンポリシロキサンを均一に添
加混合できるので好ましい。メチルハイドロジェンポリ
シロキサンを水中に乳化してなるエマルションとするた
めに使用する乳化剤には特に制限はなく、例えば、ノニ
オン性乳化剤、アニオン性乳化剤、ポリビニルアルコー
ル等が挙げられる。これらの乳化剤は、単独あるいは２
種類以上を組み合わせて用いても良い。
【００１０】ノニオン性乳化剤としてはグリセロールモ
ノステアレート、グリセロールモノオレエート、ソルビ
タンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、
ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノオレエー
ト、ソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソ
ルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモ
ノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリス
テアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエ
ート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、
ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチ
レンセチルエーテルポリオキシエチレンステアリルエー
テル、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、ポ
リオキシエチレンオクチルフエニルエーテル、ポリオキ
シエチレンノニルフエニルエーテルなどが挙げられる。
ノステアレート、グリセロールモノオレエート、ソルビ
タンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、
ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノオレエー
ト、ソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソ
ルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモ
ノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリス
テアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエ
ート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、
ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチ
レンセチルエーテルポリオキシエチレンステアリルエー
テル、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、ポ
リオキシエチレンオクチルフエニルエーテル、ポリオキ
シエチレンノニルフエニルエーテルなどが挙げられる。
【００１１】アニオン性乳化剤としては、ラウリル硫酸
ナトリウム、ドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウ
ム、アルキルナフタレンスルフォン酸ナトリウム、ジア
ルキルスルホコハク酸ナトリウム、混合脂肪酸ソーダ石
鹸、ステアリン酸ソーダ石鹸、オレイン酸カリ石鹸、高
級アルコール硫酸ナトリウム、β−ナフタレンスルフォ
ン酸ホルマリン縮合物のナトリウム塩などが挙げられ
る。
ナトリウム、ドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウ
ム、アルキルナフタレンスルフォン酸ナトリウム、ジア
ルキルスルホコハク酸ナトリウム、混合脂肪酸ソーダ石
鹸、ステアリン酸ソーダ石鹸、オレイン酸カリ石鹸、高
級アルコール硫酸ナトリウム、β−ナフタレンスルフォ
ン酸ホルマリン縮合物のナトリウム塩などが挙げられ
る。
【００１２】ポリビニルアルコールとしては、ケン化度
７５モル％以上のポリビニルアルコールが好ましく、特
に、７６〜９０モル％のポリビニルアルコールが好まし
い。また、これらのポリビニルアルコールは２０℃にお
ける４％水溶液粘度が、通常１〜８０センチポイズ、特
に３〜５０センチポイズのものが好ましい。これらの乳
化剤の使用量はメチルハイドロジェンポリシロキサンに
対し通常、０．５〜１０重量％、好ましくは０．７〜５
重量％である。０．５重量％より少ないと安定なエマル
ションが得られず機械的安定性も悪くなり、１０重量％
より多いと十分な撥水性が得られない。
７５モル％以上のポリビニルアルコールが好ましく、特
に、７６〜９０モル％のポリビニルアルコールが好まし
い。また、これらのポリビニルアルコールは２０℃にお
ける４％水溶液粘度が、通常１〜８０センチポイズ、特
に３〜５０センチポイズのものが好ましい。これらの乳
化剤の使用量はメチルハイドロジェンポリシロキサンに
対し通常、０．５〜１０重量％、好ましくは０．７〜５
重量％である。０．５重量％より少ないと安定なエマル
ションが得られず機械的安定性も悪くなり、１０重量％
より多いと十分な撥水性が得られない。
【００１３】メチルハイドロジェンポリシロキサンを乳
化する際に、必要な水の量はメチルハイドロジェンポリ
シロキサン１００重量部に対して、４０〜２００重量部
が望ましい。４０重量部以下では、エマルションの粘度
が高くなり、安定なエマルションが得られにくい。又、
２００重量部以上では、かさが増えすぎ輸送コストが高
くなり経済性の面から不利となる。
化する際に、必要な水の量はメチルハイドロジェンポリ
シロキサン１００重量部に対して、４０〜２００重量部
が望ましい。４０重量部以下では、エマルションの粘度
が高くなり、安定なエマルションが得られにくい。又、
２００重量部以上では、かさが増えすぎ輸送コストが高
くなり経済性の面から不利となる。
【００１４】セメント、珪酸カルシウム水和物、酸化マ
グネシウム、及び水酸化マグネシウムの添加量は石膏１
００重量部（半水石膏換算）に対して０．１重量部以
上、好ましくは０．２〜１重量部である。０．１重量部
より少ないと十分な撥水性が得られない。多量にいれて
も性能上問題はないがセメントを多量にいれると石膏の
凝結が早くなり作業性に問題がある。
グネシウム、及び水酸化マグネシウムの添加量は石膏１
００重量部（半水石膏換算）に対して０．１重量部以
上、好ましくは０．２〜１重量部である。０．１重量部
より少ないと十分な撥水性が得られない。多量にいれて
も性能上問題はないがセメントを多量にいれると石膏の
凝結が早くなり作業性に問題がある。
【００１５】セメント、珪酸カルシウム水和物、酸化マ
グネシウム及び水酸化マグネシウムは単独で使用しても
よいし、２種以上を混合して使用してもよい。その中で
も特に、水酸化マグネシウムがメチルハイドロジェンポ
リシロキサンとの反応が緩やかで比重の制御がしやすい
ので好ましい。セメントとしては普通ポルトランドセメ
ント、早強ポルトランドセメント、アルミナセメント、
低アルカリセメントなどが使用できる。
グネシウム及び水酸化マグネシウムは単独で使用しても
よいし、２種以上を混合して使用してもよい。その中で
も特に、水酸化マグネシウムがメチルハイドロジェンポ
リシロキサンとの反応が緩やかで比重の制御がしやすい
ので好ましい。セメントとしては普通ポルトランドセメ
ント、早強ポルトランドセメント、アルミナセメント、
低アルカリセメントなどが使用できる。
【００１６】珪酸カルシウム水和物としては例えばトバ
モライトやゾノトライトなどの粉末が使用できる。珪酸
カルシウム化合物であってもワラストナイトのような水
和物でないものは効果はない。撥水性はメチルハイドロ
ジェンポリシロキサンとセメント、珪酸カルシウム水和
物、酸化マグネシウムあるいは水酸化マグネシウムを併
用することにより初めて発現する。これは、メチルハイ
ドロジェンポリシロキサンがアルカリ性の存在下で加水
分解し、乾燥により新たなシロキサン結合を作り重合す
る。これによって、メチルハイドロジェンポリシロキサ
ンは、三次元網目構造を形成して硬化するとともに、図
１に示すように石膏に結晶粒を相互に結合する。この時
疎水性のメチル基が外側に配向し結晶化するために水を
はじくようになると推定される。石膏の撥水性はセメン
トなどの代わりに消石灰などを使用しても発現するが、
消石灰を使用した場合、石膏とボード原紙との接着性が
悪く石膏ボードにはなりえない。
モライトやゾノトライトなどの粉末が使用できる。珪酸
カルシウム化合物であってもワラストナイトのような水
和物でないものは効果はない。撥水性はメチルハイドロ
ジェンポリシロキサンとセメント、珪酸カルシウム水和
物、酸化マグネシウムあるいは水酸化マグネシウムを併
用することにより初めて発現する。これは、メチルハイ
ドロジェンポリシロキサンがアルカリ性の存在下で加水
分解し、乾燥により新たなシロキサン結合を作り重合す
る。これによって、メチルハイドロジェンポリシロキサ
ンは、三次元網目構造を形成して硬化するとともに、図
１に示すように石膏に結晶粒を相互に結合する。この時
疎水性のメチル基が外側に配向し結晶化するために水を
はじくようになると推定される。石膏の撥水性はセメン
トなどの代わりに消石灰などを使用しても発現するが、
消石灰を使用した場合、石膏とボード原紙との接着性が
悪く石膏ボードにはなりえない。
【００１７】石膏としては工業用に多用されるβ−半水
石膏、α−半水石膏および２型無水石膏のいずれも使用
できる。石膏とメチルハイドロジェンポリシロキサン
と、セメント、珪酸カルシウム水和物、酸化マグネシウ
ム及び水酸化マグネシウムから選ばれる少なくとも１種
とを添加混合してスラリー化した石膏組成物は、必要に
応じ、パーライト、バーミュキライト等の軽量骨材、各
種発泡剤、石膏用減水剤、石膏凝結速度調節剤、補強繊
維等を併用しても良い。
石膏、α−半水石膏および２型無水石膏のいずれも使用
できる。石膏とメチルハイドロジェンポリシロキサン
と、セメント、珪酸カルシウム水和物、酸化マグネシウ
ム及び水酸化マグネシウムから選ばれる少なくとも１種
とを添加混合してスラリー化した石膏組成物は、必要に
応じ、パーライト、バーミュキライト等の軽量骨材、各
種発泡剤、石膏用減水剤、石膏凝結速度調節剤、補強繊
維等を併用しても良い。
【００１８】本発明の石膏ボードを製造するには、所定
量の石膏、メチルハイドロジェンポリシロキサン、セメ
ント、珪酸カルシウム水和物、酸化マグネシウム、及び
水酸化マグネシウムから選ばれる少なくとも１種とおよ
び水を添加混合してスラリー化したか、あるいは、石膏
の水スラリー中にメチルハイドロジェンポリシロキサン
とセメント、珪酸カルシウム水和物、酸化マグネシウム
及び水酸化マグネシウムから選ばれる少なくとも１種と
を任意の順序で添加し混合してスラリー化し、該スラリ
ーを常法に従ってボード原紙間に流し込むことにより、
石膏組成物とボード原紙間に接着剤を用いることなく成
形し、硬化後必要に応じて乾燥する。
量の石膏、メチルハイドロジェンポリシロキサン、セメ
ント、珪酸カルシウム水和物、酸化マグネシウム、及び
水酸化マグネシウムから選ばれる少なくとも１種とおよ
び水を添加混合してスラリー化したか、あるいは、石膏
の水スラリー中にメチルハイドロジェンポリシロキサン
とセメント、珪酸カルシウム水和物、酸化マグネシウム
及び水酸化マグネシウムから選ばれる少なくとも１種と
を任意の順序で添加し混合してスラリー化し、該スラリ
ーを常法に従ってボード原紙間に流し込むことにより、
石膏組成物とボード原紙間に接着剤を用いることなく成
形し、硬化後必要に応じて乾燥する。
【００１９】
【実施例】次に本発明を実施例、比較例により説明す
る。なお、以下の例において「部」及び「％」はそれぞ
れ「重量部」及び「重量％」を意味する。 実施例１ メチルハイドロジェンポリシロキサン（信越化学製ＫＦ
−９９）９９部、ケン化度８５％のポリビニルアルコー
ル（日本合成製ＧＬ−０５）１部と水１３５部をホモミ
キサーにて乳化しメチルハイドロジェンポリシロキサン
を４２％含むエマルションを得た。
る。なお、以下の例において「部」及び「％」はそれぞ
れ「重量部」及び「重量％」を意味する。 実施例１ メチルハイドロジェンポリシロキサン（信越化学製ＫＦ
−９９）９９部、ケン化度８５％のポリビニルアルコー
ル（日本合成製ＧＬ−０５）１部と水１３５部をホモミ
キサーにて乳化しメチルハイドロジェンポリシロキサン
を４２％含むエマルションを得た。
【００２０】β半水石膏（吉野石膏製桜印Ａ級）１００
部に上記のメチルハイドロジェンポリシロキサンのエマ
ルションをメチルハイドロジェンポリシロキサンとして
０．６部、セメント１部及び水８０部を添加しスラリー
化し、これを石膏ボード原紙の間に流し込み石膏ボード
とし、７０℃で２．５時間乾燥した。乾燥後の石膏と石
膏ボード原紙の接着は十分であり剥離は認められなかっ
た。得られた石膏ボードの比重は０．８６であった。石
膏ボードの石膏部分を電子顕微鏡で観察したところ、図
１のように、石膏の柱状結晶の間にメチルハイドロジェ
ンポリシロキサンの網目構造が形成されていた。該ボー
ドを２０℃±１℃の水中に２時間、２４時間浸漬後の吸
水率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を測定した。
部に上記のメチルハイドロジェンポリシロキサンのエマ
ルションをメチルハイドロジェンポリシロキサンとして
０．６部、セメント１部及び水８０部を添加しスラリー
化し、これを石膏ボード原紙の間に流し込み石膏ボード
とし、７０℃で２．５時間乾燥した。乾燥後の石膏と石
膏ボード原紙の接着は十分であり剥離は認められなかっ
た。得られた石膏ボードの比重は０．８６であった。石
膏ボードの石膏部分を電子顕微鏡で観察したところ、図
１のように、石膏の柱状結晶の間にメチルハイドロジェ
ンポリシロキサンの網目構造が形成されていた。該ボー
ドを２０℃±１℃の水中に２時間、２４時間浸漬後の吸
水率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を測定した。
【００２１】
【数１】 結果を表−１に示す。
【００２２】実施例２ メチルハイドロジェンポリシロキサン（信越化学製ＫＦ
−９９）９５部、ノニオン性の乳化剤ポリオキシエチレ
ンノニルフエニルエーテル（花王製エマルゲン９１０）
５部と水１１０部をホモミキサーにて乳化し、メチルハ
イドロジェンポリシロキサンを４５％含むエマルション
を得た。
−９９）９５部、ノニオン性の乳化剤ポリオキシエチレ
ンノニルフエニルエーテル（花王製エマルゲン９１０）
５部と水１１０部をホモミキサーにて乳化し、メチルハ
イドロジェンポリシロキサンを４５％含むエマルション
を得た。
【００２３】β半水石膏（吉野石膏製桜印Ａ級）１００
部に上記のメチルハイドロジェンポリシロキサンのエマ
ルションをメチルハイドロジェンポリシロキサンとして
０．６部、セメント１部及び水８０部を添加しスラリー
化し、これを石膏ボード原紙の間に流し込み石膏ボード
とし、７０℃で２．５時間乾燥した。乾燥後の石膏と石
膏ボード原紙の接着は十分であり剥離は認められなかっ
た。得られた石膏ボードの比重は０．７５であった。石
膏ボードの石膏部分を電子顕微鏡で観察したところ、図
１のように、石膏の柱状結晶の間にメチルハイドロジェ
ンポリシロキサンの網目構造が形成されていた。該ボー
ドの吸水率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表ー１に示す。
部に上記のメチルハイドロジェンポリシロキサンのエマ
ルションをメチルハイドロジェンポリシロキサンとして
０．６部、セメント１部及び水８０部を添加しスラリー
化し、これを石膏ボード原紙の間に流し込み石膏ボード
とし、７０℃で２．５時間乾燥した。乾燥後の石膏と石
膏ボード原紙の接着は十分であり剥離は認められなかっ
た。得られた石膏ボードの比重は０．７５であった。石
膏ボードの石膏部分を電子顕微鏡で観察したところ、図
１のように、石膏の柱状結晶の間にメチルハイドロジェ
ンポリシロキサンの網目構造が形成されていた。該ボー
ドの吸水率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表ー１に示す。
【００２４】実施例３ β半水石膏（吉野石膏製桜印Ａ級）１００部にメチルハ
イドロジェンポリシロキサン０．６部、セメント１部及
び水８０部を添加しスラリー化し、これを石膏ボード原
紙の間に流し込み石膏ボードとし、７０℃で２．５時間
乾燥した。乾燥後の石膏と石膏ボード原紙の接着は十分
であり剥離は認められなかった。得られた石膏ボードの
比重は０．８８であった。石膏ボードの石膏部分を電子
顕微鏡で観察したところ、図１のように、石膏の柱状結
晶の間にメチルハイドロジェンポリシロキサンの網目構
造が形成されていた。該ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａｗ
24）を表−１に示す。
イドロジェンポリシロキサン０．６部、セメント１部及
び水８０部を添加しスラリー化し、これを石膏ボード原
紙の間に流し込み石膏ボードとし、７０℃で２．５時間
乾燥した。乾燥後の石膏と石膏ボード原紙の接着は十分
であり剥離は認められなかった。得られた石膏ボードの
比重は０．８８であった。石膏ボードの石膏部分を電子
顕微鏡で観察したところ、図１のように、石膏の柱状結
晶の間にメチルハイドロジェンポリシロキサンの網目構
造が形成されていた。該ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａｗ
24）を表−１に示す。
【００２５】実施例４ セメントの添加量を０．２部とした他は実施例１と同様
にし石膏ボードを得た。乾燥後の石膏と石膏ボード原紙
の接着は十分であり剥離は認められなかった。得られた
石膏ボードの比重は０．８８であった。石膏ボードの石
膏部分を電子顕微鏡で観察したところ、図１のように、
石膏の柱状結晶の間にメチルハイドロジェンポリシロキ
サンの網目構造が形成されていた。該ボードの吸水率
（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に示す。
にし石膏ボードを得た。乾燥後の石膏と石膏ボード原紙
の接着は十分であり剥離は認められなかった。得られた
石膏ボードの比重は０．８８であった。石膏ボードの石
膏部分を電子顕微鏡で観察したところ、図１のように、
石膏の柱状結晶の間にメチルハイドロジェンポリシロキ
サンの網目構造が形成されていた。該ボードの吸水率
（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に示す。
【００２６】実施例５ メチルハイドロジェンポリシロキサンの添加量を０．３
部、セメントの添加量を０．４部とした他は実施例１と
同様にし石膏ボードを得た。乾燥後の石膏と石膏ボード
原紙の接着は十分であり剥離は認められなかった。得ら
れた石膏ボードの比重は０．８７であった。石膏ボード
の石膏部分を電子顕微鏡で観察したところ、図１のよう
に、石膏の柱状結晶の間にメチルハイドロジェンポリシ
ロキサンの網目構造が形成されていた。該ボードの吸水
率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に示す。
部、セメントの添加量を０．４部とした他は実施例１と
同様にし石膏ボードを得た。乾燥後の石膏と石膏ボード
原紙の接着は十分であり剥離は認められなかった。得ら
れた石膏ボードの比重は０．８７であった。石膏ボード
の石膏部分を電子顕微鏡で観察したところ、図１のよう
に、石膏の柱状結晶の間にメチルハイドロジェンポリシ
ロキサンの網目構造が形成されていた。該ボードの吸水
率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に示す。
【００２７】実施例６ メチルハイドロジェンポリシロキサン（信越化学製ＫＦ
−９９）９９部、ケン化度８５％のポリビニルアルコー
ル（日本合成製ＧＬ−０５）１部、ノニオン性の乳化剤
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（花王製エ
マルゲン９１０）０．４部と水１２４部をホモミキサー
にて乳化しメチルハイドロジェンポリシロキサンを４３
％含むエマルションを得た。
−９９）９９部、ケン化度８５％のポリビニルアルコー
ル（日本合成製ＧＬ−０５）１部、ノニオン性の乳化剤
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（花王製エ
マルゲン９１０）０．４部と水１２４部をホモミキサー
にて乳化しメチルハイドロジェンポリシロキサンを４３
％含むエマルションを得た。
【００２８】β半水石膏（吉野石膏製桜印Ａ級）１００
部に上記のメチルハイドロジェンポリシロキサンのエマ
ルションをメチルハイドロジェンポリシロキサンとして
０．３部、セメント０．４部及び水８０部を添加しスラ
リー化し、これを石膏ボード原紙の間に流し込み石膏ボ
ードとし、７０℃で２．５時間乾燥した。乾燥後の石膏
と石膏ボード原紙の接着は十分であり剥離は認められな
かった。得られた石膏ボードの比重は０．８０であっ
た。石膏ボードの石膏部分を電子顕微鏡で観察したとこ
ろ、図１のように、石膏の柱状結晶の間にメチルハイド
ロジェンポリシロキサンの網目構造が形成されていた。
該ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に示す。
部に上記のメチルハイドロジェンポリシロキサンのエマ
ルションをメチルハイドロジェンポリシロキサンとして
０．３部、セメント０．４部及び水８０部を添加しスラ
リー化し、これを石膏ボード原紙の間に流し込み石膏ボ
ードとし、７０℃で２．５時間乾燥した。乾燥後の石膏
と石膏ボード原紙の接着は十分であり剥離は認められな
かった。得られた石膏ボードの比重は０．８０であっ
た。石膏ボードの石膏部分を電子顕微鏡で観察したとこ
ろ、図１のように、石膏の柱状結晶の間にメチルハイド
ロジェンポリシロキサンの網目構造が形成されていた。
該ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に示す。
【００２９】実施例７ セメントの代わりにゾノトライトを主成分とする珪酸カ
ルシウム水和物の粉末を１部とした他は実施例１と同様
にし石膏ボードを得た。乾燥後の石膏と石膏ボード原紙
の接着は十分であり剥離は認められなかった。得られた
石膏ボードの比重は０．８７であった。石膏ボードの石
膏部分を電子顕微鏡で観察したところ、図１のように、
石膏の柱状結晶の間にメチルハイドロジェンポリシロキ
サンの網目構造が形成されていた。該ボードの吸水率
（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に示す。
ルシウム水和物の粉末を１部とした他は実施例１と同様
にし石膏ボードを得た。乾燥後の石膏と石膏ボード原紙
の接着は十分であり剥離は認められなかった。得られた
石膏ボードの比重は０．８７であった。石膏ボードの石
膏部分を電子顕微鏡で観察したところ、図１のように、
石膏の柱状結晶の間にメチルハイドロジェンポリシロキ
サンの網目構造が形成されていた。該ボードの吸水率
（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に示す。
【００３０】実施例８ セメントの代わりにゾノトライトを主成分とする珪酸カ
ルシウム水和物の粉末を０．４部とした他は実施例１と
同様にし石膏ボードを得た。乾燥後の石膏と石膏ボード
原紙の接着は十分であり剥離は認められなかった。得ら
れた石膏ボードの比重は０．８８であった。石膏ボード
の石膏部分を電子顕微鏡で観察したところ、図１のよう
に、石膏の柱状結晶の間にメチルハイドロジェンポリシ
ロキサンの網目構造が形成されていた。該ボードの吸水
率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に示す。
ルシウム水和物の粉末を０．４部とした他は実施例１と
同様にし石膏ボードを得た。乾燥後の石膏と石膏ボード
原紙の接着は十分であり剥離は認められなかった。得ら
れた石膏ボードの比重は０．８８であった。石膏ボード
の石膏部分を電子顕微鏡で観察したところ、図１のよう
に、石膏の柱状結晶の間にメチルハイドロジェンポリシ
ロキサンの網目構造が形成されていた。該ボードの吸水
率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に示す。
【００３１】実施例９ β半水石膏（吉野石膏製桜印Ａ級）１００部にメチルハ
イドロジェンポリシロキサンのオイルを１部、水酸化マ
グネシウムを１部及び水を８０部添加しスラリー化し、
これを石膏ボード原紙の間に流し込み石膏ボードとし、
７０℃で２．５時間乾燥した。
イドロジェンポリシロキサンのオイルを１部、水酸化マ
グネシウムを１部及び水を８０部添加しスラリー化し、
これを石膏ボード原紙の間に流し込み石膏ボードとし、
７０℃で２．５時間乾燥した。
【００３２】乾燥後の石膏と石膏ボード原紙の接着は十
分であり剥離は認められなかった。得られた石膏ボード
の比重は０．８８であった。石膏ボードの石膏部分を電
子顕微鏡で観察したところ、図１のように、石膏の柱状
結晶の間にメチルハイドロジェンポリシロキサンの網目
構造が形成されていた。該ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａ
ｗ24）を表−１に示す。
分であり剥離は認められなかった。得られた石膏ボード
の比重は０．８８であった。石膏ボードの石膏部分を電
子顕微鏡で観察したところ、図１のように、石膏の柱状
結晶の間にメチルハイドロジェンポリシロキサンの網目
構造が形成されていた。該ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａ
ｗ24）を表−１に示す。
【００３３】実施例１０ メチルハイドロジェンポリシロキサンの添加量を０．５
部、セメントの代わりに水酸化マグネシウムを０．５部
とした他は実施例１と同様にし石膏ボードを得た。乾燥
後の石膏と石膏ボード原紙の接着は十分であり剥離は認
められなかった。得られた石膏ボードの比重は０．８６
であった。石膏ボードの石膏部分を電子顕微鏡で観察し
たところ、図１のように、石膏の柱状結晶の間にメチル
ハイドロジェンポリシロキサンの網目構造が形成されて
いた。該ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に
示す。
部、セメントの代わりに水酸化マグネシウムを０．５部
とした他は実施例１と同様にし石膏ボードを得た。乾燥
後の石膏と石膏ボード原紙の接着は十分であり剥離は認
められなかった。得られた石膏ボードの比重は０．８６
であった。石膏ボードの石膏部分を電子顕微鏡で観察し
たところ、図１のように、石膏の柱状結晶の間にメチル
ハイドロジェンポリシロキサンの網目構造が形成されて
いた。該ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に
示す。
【００３４】実施例１１ メチルハイドロジェンポリシロキサンの添加量を０．５
部、セメントの代わりに酸化マグネシウムを０．５部と
した他は実施例６と同様にし石膏ボードを得た。乾燥後
の石膏と石膏ボード原紙の接着は十分であり剥離は認め
られなかった。得られた石膏ボードの比重は０．８３で
あった。石膏ボードの石膏部分を電子顕微鏡で観察した
ところ、図１のように、石膏の柱状結晶の間にメチルハ
イドロジェンポリシロキサンの網目構造が形成されてい
た。該ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に示
す。
部、セメントの代わりに酸化マグネシウムを０．５部と
した他は実施例６と同様にし石膏ボードを得た。乾燥後
の石膏と石膏ボード原紙の接着は十分であり剥離は認め
られなかった。得られた石膏ボードの比重は０．８３で
あった。石膏ボードの石膏部分を電子顕微鏡で観察した
ところ、図１のように、石膏の柱状結晶の間にメチルハ
イドロジェンポリシロキサンの網目構造が形成されてい
た。該ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に示
す。
【００３５】実施例１２ 実施例１において、メチルハイドロジェンポリシロキサ
ンを０．１部、セメントを１部とし実施例１と同様に石
膏ボードを得た。乾燥後の石膏と石膏ボード原紙の接着
は十分であり剥離は認められなかった。得られた石膏成
形体の比重は０．８６であった。石膏ボードの石膏部分
を電子顕微鏡で観察したところ、図１のように、石膏の
柱状結晶の間にメチルハイドロジェンポリシロキサンの
網目構造が形成されていた。該ボードの吸水率（Ａｗ
2 、Ａｗ24）を表−１に示す。
ンを０．１部、セメントを１部とし実施例１と同様に石
膏ボードを得た。乾燥後の石膏と石膏ボード原紙の接着
は十分であり剥離は認められなかった。得られた石膏成
形体の比重は０．８６であった。石膏ボードの石膏部分
を電子顕微鏡で観察したところ、図１のように、石膏の
柱状結晶の間にメチルハイドロジェンポリシロキサンの
網目構造が形成されていた。該ボードの吸水率（Ａｗ
2 、Ａｗ24）を表−１に示す。
【００３６】比較例１ β半水石膏（吉野石膏製桜印Ａ級）１００部に水８０部
を添加し石膏スラリーとし、これを石膏ボード原紙の間
に流し込み石膏ボードとし、７０℃で２．５時間乾燥し
た。乾燥後の石膏と石膏ボード原紙の接着は十分であり
剥離は認められなかった。得られた石膏ボードの比重は
０．８９であった。該ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａ
ｗ24）を表−１に示す。
を添加し石膏スラリーとし、これを石膏ボード原紙の間
に流し込み石膏ボードとし、７０℃で２．５時間乾燥し
た。乾燥後の石膏と石膏ボード原紙の接着は十分であり
剥離は認められなかった。得られた石膏ボードの比重は
０．８９であった。該ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａ
ｗ24）を表−１に示す。
【００３７】比較例２ β半水石膏（吉野石膏製桜印Ａ級）１００部に実施例１
で製造したエマルションをメチルハイドロジェンポリシ
ロキサンとして１部及び水８０部を添加し石膏スラリー
とし、これを石膏ボード原紙の間に流し込み石膏ボード
とし、７０℃で２．５時間乾燥した。乾燥後の石膏と石
膏ボード原紙の接着は十分であり剥離は認められなかっ
た。得られた石膏成形体の比重は０．９１であった。該
ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に示す。
で製造したエマルションをメチルハイドロジェンポリシ
ロキサンとして１部及び水８０部を添加し石膏スラリー
とし、これを石膏ボード原紙の間に流し込み石膏ボード
とし、７０℃で２．５時間乾燥した。乾燥後の石膏と石
膏ボード原紙の接着は十分であり剥離は認められなかっ
た。得られた石膏成形体の比重は０．９１であった。該
ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に示す。
【００３８】比較例３ セメントの代わりに消石灰を１部添加した他は実施例１
と同様に石膏ボードを得た。乾燥後の石膏と石膏ボード
原紙の接着はまったくなく、石膏ボード原紙は上下とも
剥離していた。得られた石膏成形体の比重は０．７３で
あった。該ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１
に示す。
と同様に石膏ボードを得た。乾燥後の石膏と石膏ボード
原紙の接着はまったくなく、石膏ボード原紙は上下とも
剥離していた。得られた石膏成形体の比重は０．７３で
あった。該ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１
に示す。
【００３９】比較例４ メチルハイドロジェンポリシロキサンを１部、セメント
の代わりに消石灰を０．８部添加した他は実施例１と同
様に石膏ボードを得た。乾燥後の石膏と石膏ボード原紙
の接着はまったくなく石膏ボード原紙は上下とも剥離し
ていた。得られた石膏成形体の比重は０．６８であっ
た。該ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に示
す。
の代わりに消石灰を０．８部添加した他は実施例１と同
様に石膏ボードを得た。乾燥後の石膏と石膏ボード原紙
の接着はまったくなく石膏ボード原紙は上下とも剥離し
ていた。得られた石膏成形体の比重は０．６８であっ
た。該ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に示
す。
【００４０】比較例５ セメントの代わりに炭酸カルシウムを１部添加した他は
実施例１と同様に石膏ボードを得た。乾燥後の石膏と石
膏ボード原紙の接着は十分であり剥離は認められなかっ
た。得られた石膏成形体の比重は０．８６であった。該
ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に示す。
実施例１と同様に石膏ボードを得た。乾燥後の石膏と石
膏ボード原紙の接着は十分であり剥離は認められなかっ
た。得られた石膏成形体の比重は０．８６であった。該
ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に示す。
【００４１】比較例６ セメントの代わりに水酸化アルミニウム１部を添加した
他は実施例１と同様に石膏ボードを得た。乾燥後の石膏
と石膏ボード原紙の接着は十分であり剥離は認められな
かった。得られた石膏成形体の比重は０．８６であっ
た。該ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に示
す。
他は実施例１と同様に石膏ボードを得た。乾燥後の石膏
と石膏ボード原紙の接着は十分であり剥離は認められな
かった。得られた石膏成形体の比重は０．８６であっ
た。該ボードの吸水率（Ａｗ2 、Ａｗ24）を表−１に示
す。
【００４２】比較例７ β半水石膏（吉野石膏製桜印Ａ級）１００部にジメチル
ポリシロキサン（東レダウコウニングシリコン製ＳＨ−
２００）を１部、セメントを１部及び水を８０部添加し
スラリー化し、これを石膏ボード原紙の間に流し込み石
膏ボードとし、７０℃で２．５時間乾燥した。乾燥後の
石膏と石膏ボード原紙の接着は十分であり剥離は認めら
れなかった。得られた石膏ボードの比重は０．８８であ
った。該石膏ボードの２時間浸漬後の吸水率は４７．８
％でありまったく撥水性を示さなかった。
ポリシロキサン（東レダウコウニングシリコン製ＳＨ−
２００）を１部、セメントを１部及び水を８０部添加し
スラリー化し、これを石膏ボード原紙の間に流し込み石
膏ボードとし、７０℃で２．５時間乾燥した。乾燥後の
石膏と石膏ボード原紙の接着は十分であり剥離は認めら
れなかった。得られた石膏ボードの比重は０．８８であ
った。該石膏ボードの２時間浸漬後の吸水率は４７．８
％でありまったく撥水性を示さなかった。
【００４３】比較例８ ジメチルポリシロキサン（東レダウコウニングシリコン
製ＳＨ−２００）８０部とメチルハイドロジェンポリシ
ロキサン（信越化学製ＫＦ−９９）２０部とをノニオン
製の乳化剤ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル
（花王製エマルゲン９１０）５部と水をホモミキサーに
て乳化しポリシロキサン化合物を４５％含むエマルショ
ンを製造した。
製ＳＨ−２００）８０部とメチルハイドロジェンポリシ
ロキサン（信越化学製ＫＦ−９９）２０部とをノニオン
製の乳化剤ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル
（花王製エマルゲン９１０）５部と水をホモミキサーに
て乳化しポリシロキサン化合物を４５％含むエマルショ
ンを製造した。
【００４４】β半水石膏（吉野石膏製桜印Ａ級）１００
部に上記のエマルションをポリシロキサン化合物として
１部及び水８０部を添加しスラリー化しこれを石膏ボー
ド原紙の間に流し込み石膏ボードとし、７０℃で２．５
時間乾燥した。乾燥後の石膏と石膏ボード原紙の接着は
十分であり剥離は認められなかった。得られた石膏ボー
ドの比重は０．８６であった。該石膏ボードの２時間浸
漬後の吸水率は４８．８％でありまったく撥水性を示さ
なかった。
部に上記のエマルションをポリシロキサン化合物として
１部及び水８０部を添加しスラリー化しこれを石膏ボー
ド原紙の間に流し込み石膏ボードとし、７０℃で２．５
時間乾燥した。乾燥後の石膏と石膏ボード原紙の接着は
十分であり剥離は認められなかった。得られた石膏ボー
ドの比重は０．８６であった。該石膏ボードの２時間浸
漬後の吸水率は４８．８％でありまったく撥水性を示さ
なかった。
【００４５】
【表１】
【００４６】
【表２】
【００４７】
【発明の効果】本発明の石膏ボードは、従来の撥水剤を
使用したものに比べ添加量が少なくしてより高い耐水性
を有し石膏と石膏ボード原紙の接着力が十分に保たれて
いる。
使用したものに比べ添加量が少なくしてより高い耐水性
を有し石膏と石膏ボード原紙の接着力が十分に保たれて
いる。
【図１】本発明の撥水性石膏ボードの石膏部分の結晶構
造を示した電子顕微鏡写真である。
造を示した電子顕微鏡写真である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０４Ｂ 22:06 24:42） 103:65 111:27 111:28 (72)発明者 小沢 八十治 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社横浜総合研究所内 (72)発明者 西 美知男 東京都足立区江北二丁目１番１号 吉野石 膏株式会社技術研究所内 (72)発明者 関 正伸 東京都足立区江北二丁目１番１号 吉野石 膏株式会社技術研究所内
Claims (5)
- 【請求項１】 石膏とメチルハイドロジェンポリシロキ
サンと、セメント、珪酸カルシウム水和物、酸化マグネ
シウム及び水酸化マグネシウムから選ばれる少なくとも
１種とを添加混合してスラリー化した石膏組成物を、ボ
ード原紙間に流し込み成形硬化後乾燥することにより、
メチルハイドロジェンポリシロキサンが、新たなシロキ
サン結合を作り、三次元網目構造を形成していることを
特徴とする撥水性石膏ボード。 - 【請求項２】 石膏１００重量部に対してメチルハイド
ロジェンポリシロキサン０．２〜５重量部、セメント、
珪酸カルシウム水和物、酸化マグネシウム及び水酸化マ
グネシウムから選ばれる少なくとも１種を０．１〜１０
重量部添加混合することを特徴とする請求項１記載の撥
水性石膏ボード。 - 【請求項３】 石膏１００重量部に対してメチルハイド
ロジェンポリシロキサンを０．２〜１重量部、セメン
ト、珪酸カルシウム水和物、酸化マグネシウム及び水酸
化マグネシウムから選ばれる少なくとも１種を０．２〜
１重量部添加混合することを特徴とする請求項１または
２記載の撥水性石膏ボード。 - 【請求項４】 メチルハイドロジェンポリシロキサンが
エマルションであることを特徴とする請求項１ないし３
いずれか１項に記載の撥水性石膏ボード。 - 【請求項５】 メチルハイドロジェンポリシロキサンの
エマルションが乳化剤としてポリビニルアルコールを使
用してなることを特徴とする請求項４記載の撥水性石膏
ボード。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34662195A JPH09142915A (ja) | 1995-11-21 | 1995-11-21 | 撥水性石膏ボード |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34662195A JPH09142915A (ja) | 1995-11-21 | 1995-11-21 | 撥水性石膏ボード |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09142915A true JPH09142915A (ja) | 1997-06-03 |
Family
ID=18384686
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34662195A Pending JPH09142915A (ja) | 1995-11-21 | 1995-11-21 | 撥水性石膏ボード |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09142915A (ja) |
Cited By (11)
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