JPH09101537A - マトリクス型表示装置 - Google Patents

マトリクス型表示装置

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JPH09101537A
JPH09101537A JP25664595A JP25664595A JPH09101537A JP H09101537 A JPH09101537 A JP H09101537A JP 25664595 A JP25664595 A JP 25664595A JP 25664595 A JP25664595 A JP 25664595A JP H09101537 A JPH09101537 A JP H09101537A
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優 梶谷
Tetsushi Yabuta
哲史 薮田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 画素の表示色を検査工程で容易に把握し、表
示色毎に定められる修正基準に従って欠陥スイッチング
素子に修正を施す。 【解決手段】 一方の透光性基板上にはゲート配線とソ
ース配線とが互いに絶縁性を保持し、かつ直交して配置
され、各画素毎に画素電極およびＴＦＴ素子が形成され
て一方基板部材が構成される。他方の透光性基板上には
画素電極に対向する対向電極が形成され、対向電極が形
成された側と反対側には、画素の表示色を識別するため
の識別手段４１が形成され、さらに当該識別手段４１を
覆って遮光部材１９が形成されて他方基板部材３が構成
される。遮光部材１９は、画素電極が対向する部分に開
口部１９ａを有する。識別手段４１によって各画素の表
示色を把握することができるので、表示色毎に定められ
る修正基準に従って欠陥画素のスイッチング素子を修正
することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、アクティブマトリ
クス駆動方式の液晶表示装置などのマトリクス型表示装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】文字および図形を自由に表示することが
できるマトリクス型表示装置の例として、たとえば液晶
表示装置、エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」
と称する）表示装置、およびプラズマ表示装置などが挙
げられる。これらのマトリクス型表示装置においては、
マトリクス状に複数の画素が配列され、当該複数の画素
の状態を、一方表面側から入射した光の出射の有無に対
応した、たとえば白色／黒色表示のいずれか一方の表示
状態に切換えることによって、表示面上に所望の文字や
図形を形成する。このような表示装置では、画素の媒体
である液晶、ＥＬ発光層、およびプラズ発光体層などが
複数の画素電極と当該画素電極に対向する対向電極とを
それぞれ有する一対の基板部材間に挟持される。前記画
素電極および対向電極間に生じる電界の大きさなどを変
化させて当該電極間に挟持されている前記媒体の状態を
変化させ、媒体の光学的性質を変化させることによって
白色／黒色表示の切換えを行っている。たとえば液晶分
子の配向状態を変化させて液晶層の旋光性を変化させて
表示を切替えている。
【０００３】このような表示装置の一例として、アクテ
ィブマトリクス型液晶表示装置が挙げられる。当該液晶
表示装置では、画素電極を各画素毎に独立して形成し、
当該画素電極毎にスイッチング素子をそれぞれ設けてい
る。スイッチング素子は、画素電極と各画素電極に与え
られる信号を伝送する配線との間に接続され、画素電極
に個別的に信号を供給／遮断する。このようなスイッチ
ング素子としては、たとえば薄膜トランジスタ（Thin F
ilm Transistor；以下、「ＴＦＴ」と称する）およびＭ
ＯＳ（Metal Oxide Semiconductor）トランジスタ素子
などの３端子素子や、ＭＩＭ（Metal-Insulator-Meta
l）素子、バリスタ、およびダイオードなどの２端子素
子が用いられる。
【０００４】図１７は、従来技術である液晶表示装置７
１の構成を一部分を切欠いて示す斜視図である。当該液
晶表示装置７１は、スイッチング素子として、逆スタガ
型のＴＦＴ素子８２を設けたものである。液晶表示装置
７１は、一方基板部材７２、他方基板部材７３、液晶層
７４、および偏光板７５，７６を含んで構成される。一
方基板部材７２と他方基板部材７３との間に液晶層７４
が介在され、基板部材７２，７３の液晶層７４とは反対
側に偏光板７５，７６がそれぞれ配置される。前記一方
基板部材７２は、透光性基板７７、ゲート配線７８、ゲ
ート絶縁膜７９、ソース配線８０、画素電極８１、ＴＦ
Ｔ素子８２、および配向膜８６を含んで構成される。前
記ＴＦＴ素子８２は、ゲート電極８３、ソース電極８
４、およびドレイン電極８５を含む。前記他方基板部材
７３は、透光性基板８７、対向電極８８、遮光部材８９
および配向膜９０を含んで構成される。
【０００５】透光性基板７７の一方表面には、互いに平
行に、間隔をあけて複数のゲート配線７８が配設され
る。また、当該ゲート配線７８を覆って透光性基板７７
上にゲート絶縁膜７９が形成され、さらにゲート絶縁膜
７９上に前記ゲート配線７８とは直交する方向に、互い
に間隔をあけて複数のソース配線８０が配設される。ゲ
ート配線７８およびソース配線８０が交差することによ
って形成される矩形の領域が画素領域であり、当該画素
領域に画素電極８１がそれぞれ形成される。また、各画
素毎にＴＦＴ素子８２が設けられ、前記ゲート配線７８
およびソース配線８０と画素電極８１とが接続される。
ＴＦＴ素子８２は、前記ゲート配線７８に接続されるゲ
ート電極８３と、前記ソース配線８０に接続されるソー
ス電極８４と、前記画素電極８１に接続されるドレイン
電極８５とを含んで構成される。ゲート配線７８、ゲー
ト絶縁膜７９、ソース配線８０、画素電極８１およびＴ
ＦＴ素子８２が形成された透光性基板７７上には、これ
らを覆って配向膜８６が形成される。このようにして、
一方基板部材７２が構成される。
【０００６】透光性基板８７の一方表面には前記画素電
極８１が対向する対向電極８８が基板のほぼ全面に形成
される。さらに対向電極８８上には前記配向膜８６と同
様の配向膜９０が形成される。また透光性基板８７の対
向電極８８が形成された側とは反対側の表面には遮光部
材８９が形成される。遮光部材８９は、前記画素電極８
１に対向する部分に開口部８９ａを有し、それ以外の部
分は入射光を遮断する性質を有し、画素電極８１以外の
部分の光を遮光する。画素電極８１と対向電極８８とが
対向する部分以外の部分は、電圧印加時において前記電
極８１，８８間と同様に液晶分子７４ａが配向しない部
分であり、このような部分を透過する光が前記遮光部材
８９によって遮光されるので、表示品位が向上する。な
お、このような遮光部材８９は、透光性基板８７の液晶
層４側表面に形成しても構わない。このようにして他方
基板部材７３が構成される。
【０００７】このような基板部材７２，７３は、液晶層
７４を介在し、対向して配置される。このとき、液晶層
７４に最近接して配置される配向膜８６，９０の配向処
理方向は、たとえば直交するようにして配置される。ま
た一方基板部材７２側に配置される偏光板７５の透過軸
７５ａは配向膜８６の配向処理方向と一致するようにし
て配置される。他方基板部材７３側に配置される偏光板
７６の透過軸７６ａは、配向膜９０の配向処理方向と一
致するようにして配置される。
【０００８】図１８は、液晶表示装置７１の基板部材７
３を示す平面図である。遮光部材８９の開口部８９ａ
は、画素電極８１と対向する部分に形成され、たとえば
図示されるように図１８紙面上において左右方向を行方
向とすると、奇数番目の行と偶数番目の行とでピッチが
１／２だけずれるような、いわゆるデルタ配列に形成さ
れる。
【０００９】画素電極８１と対向電極８８との間に液晶
分子７４ａの配向状態が変化し始めるしきい値電圧に満
たない電界が生じているときには、液晶分子７４ａは基
板部材７２，７３間で９０°捩れ配向する。このとき、
偏光板７５側からの入射光９１は、当該偏光板７５によ
って偏光板７５の透過軸７５ａ方向のみに振動する光と
なって液晶層７４に入射する。当該光は液晶分子７４ａ
の捩れ配向に沿って、その振動方向が９０°捩れ、偏光
板７６の透過軸７６ａと等しい振動方向となって、偏光
板７６を透過して出射光９２となる。一方、画素電極８
１と対向電極８８との間に前記しきい値電圧以上の電界
が生じているときには、液晶分子７４ａが基板部材７
２，７３の基板表面に対して垂直となるように配向す
る。このとき液晶層７４への入射光は前述したように振
動方向が９０°捩れることなく偏光板７６に到達する。
当該光の振動方向は、偏光板７６の透過軸７６ａとは直
交する方向であるので、遮断される。このような２つの
状態によって白色／黒色表示が実現できる。
【００１０】カラー表示を行う、たとえばＯＡ（オフィ
スオートメーション）用表示装置やＡＶ（オーディオビ
ジュアル）用表示装置では、一般に、基板部材７２，７
３のいずれか一方がカラーフィルタを含んで構成され
る。また、カラー表示を行うプロジェクション用表示装
置では、基板部材７２，７３はカラーフィルタを含んで
構成されず、表示パネルへの入射光として、赤、緑、青
の光が用いられる。
【００１１】カラーフィルタを有する表示装置では、光
源として白色光源を用いることによって容易にカラー表
示を実現することができる。しかしながら、プロジェク
ション用の光源などの比較的強い光を用いた場合、カラ
ーフィルタの耐久性上、たとえば色純度が劣化すること
となる。また、カラーフィルタ自身が光を吸収するの
で、光の利用効率が低下する。
【００１２】一方、カラーフィルタを設けなかった表示
装置では、カラーフィルタが存在しないので、上述した
ようなカラーフィルタによる光の吸収がなく、光の利用
効率が向上する。すなわち、同じ開口率のカラーフィル
タを有する表示装置と比べて色純度が高く、明るい表示
が得られる。また、カラーフィルタの耐久性を考慮しな
くてよく、比較的強い光を用いるプロジェクション用と
して好適に用いることができる。しかしながら、カラー
表示を行うためには特別な工夫が必要となる。たとえ
ば、赤、緑および青の３つの光に対応した３枚の表示パ
ネルを用いて１画素を構成する、あるいはマイクロレン
ズなどを用いて赤、緑および青の光を対応する画素に集
光するなどの工夫が必要となる。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】上述したようなスイッ
チング素子を有するマトリクス型表示装置は、製造工程
が比較的複雑であり、また大形化および高精細化に伴う
画素数の増加につれてスイッチング素子の数も増加し、
欠陥のないスイッチング素子を数多く形成することは非
常に困難である。このため、このようなスイッチング素
子を有する表示装置では、製造段階においてスイッチン
グ素子が正常に動作して所望とする表示状態が得られる
かどうかを確認するための検査が行われる。そしてスイ
ッチング素子に欠陥が生じており、所望とする表示状態
が得られないときには、たとえばレーザ光線などを用い
て欠陥スイッチング素子の修正が行われる。ただし、こ
の修正はすべての欠陥スイッチング素子に対して行うの
ではなく、用途に応じた各画素の表示色に対応した修正
基準に基づいて修正が施される。具体的には、たとえば
比較的目立つ緑色の画素に対しては欠陥と認めない、比
較的目立たない青色の画素に対しては、表示パネルの周
辺部分についてはたとえば２箇所まで欠陥として認める
というような検査基準を設定し、このような修正基準に
従って修正が施される。したがって、画素の修正には各
画素が何色の表示色であるかを認識する必要がある。
【００１４】図１９は、カラーフィルタを有する表示装
置における欠陥画素の検査の方法を説明するための基板
部材７２を示す平面図である。カラーフィルタを有する
表示装置では、基板部材７２，７３を液晶層７４を介在
して貼合わた後に、ゲート配線７８およびソース配線８
０に同一のゲート信号およびソース信号をそれぞれ入力
し、全ての画素を同時に駆動させることによって、検査
が行われる。ここで、複数のゲート配線７８の一方端部
側にそれぞれ形成されるゲート端子７８ａはゲート側短
絡配線９３に全て接続されており、複数のソース配線８
０の一方端部側にそれぞれ形成される端子８０ａはソー
ス側短絡配線９４に全て接続されているので、このよう
な短絡配線９３，９４から前記信号を入力することによ
って容易に検査を行うことができる。前記短絡配線９
３，９４は、製造段階で生じる静電気による破壊を防止
するために設けられる。カラーフィルタを有する表示装
置の場合、カラーフィルタが存在するので各画素の表示
色を容易に知ることができる。ただし、カラーフィルタ
を有する表示装置における検査では、カラーフィルタに
よる表示色を検出するためのカラーセンサが必要とな
る。
【００１５】一方、図１７に示したようなカラーフィル
タを有さない表示装置では、各画素が何色の表示色であ
るかを容易に知ることができない。たとえば単板式プロ
ジェクションパネルの場合、完全に光学系を組込むまで
は各画素が何色の表示色であるかを知ることはできな
い。前述したようなカラーフィルタを有する表示装置と
同様に基板部材７２，７３間に液晶層７４を介在した状
態で欠陥の検査を行う場合、各画素に独立した信号を入
力するために、ドライバを実装する、あるいはゲート配
線７８またはソース配線８０にピンプローブなどを利用
した接続端子をそれぞれ形成するなどによって、外部信
号を入力させるための構造を作成しなければならない。
これによって、赤、緑、青に対応する信号をそれぞれ入
力し、各色の表示を行わずに検査を行うことができる。
【００１６】しかしながら、ドライバを実装した場合に
は、実装した基板が不良品となったときに、実装したド
ライバが無駄になる。ピンプローブなどによって接続端
子を形成した場合には、プロービングを行うための専用
の装置が必要となる。このように、基板部材７２，７３
間に液晶層７４を介在した途中段階での欠陥検査では、
欠陥が発生したときに、検査に要した部材や手間などが
無駄となる。したがって、基板部材７２，７３間に液晶
層７４を介在する前の段階で欠陥を見つけ出すことが好
ましい。
【００１７】また、実公平７−１６７５号公報および実
公平７−１６７６号公報には、欠陥画素のアドレスを知
るために、配線の端部に形成される端子に対して、数字
パターンを刻印した表示装置の例が開示されている。こ
れらの公報に開示された技術によって画素のアドレスを
知り、表示色を知ることができるけれども、画素のアド
レスを知るために比較的長い時間がかかる。
【００１８】本発明の目的は、各画素の表示色を検査工
程で容易に把握することができ、表示色毎に定められる
修正基準に従ってスイッチング素子の修正を施すことが
できる、あるいは基板上における欠陥画素部の絶対位置
を効率的に簡便に特定し、検査および修正を短時間でか
つ容易に行うことができるマトリクス型表示装置を提供
することである。
【００１９】
【課題を解決するための手段】本発明は、互いに平行に
間隔を開けて配設されるゲート配線、前記ゲート配線と
は直交し、かつ絶縁性を保持して配設されるソース配
線、前記ゲート配線およびソース配線が交差することに
よって形成される矩形の画素毎に配置される複数の画素
電極、および前記画素電極とゲートおよびソース配線と
を個別的に接続するスイッチング素子を含んで構成され
る一方基板部材と、前記画素電極に対向する対向電極、
および少なくとも前記画素電極が対向する領域に開口部
を有する遮光部材を含んで構成される他方基板部材とを
備えるマトリクス型表示装置において、前記一方基板部
材および他方基板部材のうちのいずれか一方は、画素を
識別するための識別手段を有することを特徴とするマト
リクス型表示装置である。 本発明に従えば、画素を識別するための識別手段が形成
されるので、当該識別手段によって画素の絶対位置ある
いは表示色などを識別することができる。これによっ
て、たとえば画素毎に設定される修正基準に基づいて、
欠陥スイッチング素子を短時間で修正することができ
る。
【００２０】また本発明は、前記画素毎に予め定められ
る表示色が設定され、前記識別手段は、画素の表示色を
表すことを特徴とする。 本発明に従えば、画素の表示色を識別するための識別手
段が形成されるので、当該識別手段によって画素の表示
色あるいは絶対位置を識別することができる。これによ
って、たとえば画素毎に設定される修正基準に基づい
て、欠陥スイッチング素子を短時間で修正することがで
きる。 すなわち、マトリクス型表示装置の一方基板部材は、互
いに絶縁性を保持し、かつ互いに直交して配置されるゲ
ート配線およびソース配線と、画素毎に配置される複数
の画素電極と、前記画素電極とゲートおよびソース配線
とを個別的に接続するスイッチング素子とを含んで構成
され、他方基板部材は、前記画素電極に対向する対向電
極と、少なくとも前記画素電極が対向する領域に開口部
を有する遮光部材とを含んで構成される。このようなマ
トリクス型表示装置では、前記スイッチング素子に起因
する欠陥画素が生じる。当該欠陥画素のスイッチング素
子は、カラー表示を行う表示装置では、画素の表示色毎
に予め定められる修正基準に基づいて修正が施される。
このためには、画素が何色の表示色であるかを把握する
必要があり、前記識別手段によって画素の表示色が明ら
かとなるので、欠陥スイッチング素子の修正を、複雑な
検査信号を入力することなく、また特別な接続端子を形
成することなく、所定の修正基準に基づいて容易に行う
ことができる。したがって、検査および修正工程の簡略
化を図ることができる。
【００２１】また本発明は、前記識別手段は、前記他方
基板部材が有することを特徴とする。 本発明に従えば、他方基板部材が有する識別手段によ
って前述したのと同様に、画素の表示色あるいは絶対位
置が明らかとなるので、欠陥画素のスイッチング素子を
所定の修正基準に基づいて修正することができる。した
がって、検査および修正工程の簡略化を図ることができ
る。
【００２２】また本発明は、前記遮光部材は、前記識別
手段を覆って形成されていることを特徴とする。 本発明に従えば、前記遮光部材の表面には識別手段によ
る凹凸が形成され、これによって画素の表示色あるいは
絶対位置が明らかとなるので、欠陥画素のスイッチング
素子を所定の修正基準に基づいて修正することができ
る。
【００２３】また本発明は、前記識別手段は、前記遮光
部材の一部分をパターン形成して作成されていることを
特徴とする。 本発明に従えば、前記遮光部材の一部分をパターン形成
して作成された識別手段によって画素の表示色あるいは
絶対位置が明らかとなるので、欠陥画素のスイッチング
素子を所定の修正基準に基づいて修正することができ
る。このような識別手段は、遮光部材のパターン形成時
に同時に形成することができる。
【００２４】また本発明は、前記識別手段は、前記遮光
部材の開口部に形成された切込みであることを特徴とす
る。 本発明に従えば、このような識別手段であっても、画素
の表示色あるいは絶対位置が明らかとなるので、欠陥画
素のスイッチング素子を所定の修正基準に基づいて修正
することができる。このような識別手段は、遮光部材の
パターン形成時に同時に形成することができる。
【００２５】また本発明は、前記識別手段は、前記遮光
部材の開口部に形成された突出片であることを特徴とす
る。 本発明に従えば、このような識別手段であっても、画素
の表示色あるいは絶対位置が明らかとなるので、欠陥画
素のスイッチング素子を所定の修正基準に基づいて修正
することができる。このような識別手段は、遮光部材の
パターン形成時に同時に形成することができる。
【００２６】また本発明は、前記識別手段は、前記一方
基板部材が有することを特徴とする。 本発明に従えば、一方基板部材が有する識別手段によ
って前述したのと同様に、画素の表示色あるいは絶対位
置が明らかとなるので、欠陥画素のスイッチング素子を
所定の修正基準に基づいて修正することができる。した
がって、検査および修正工程の簡略化を図ることができ
る。
【００２７】また本発明は、前記ゲート配線またはソー
ス配線は、前記識別手段を覆って形成されていることを
特徴とする。 本発明に従えば、前記ゲート配線またはソース配線の表
面には識別手段による凹凸が形成され、これによって画
素の表示色あるいは絶対位置が明らかとなるので、欠陥
画素のスイッチング素子を所定の修正基準に基づいて修
正することができる。
【００２８】また本発明は、前記識別手段は、ゲート配
線またはソース配線の一部分をパターン形成して作成さ
れていることを特徴とする。 本発明に従えば、前記ゲート配線またはソース配線の一
部分をパターン形成して作成された識別手段によって画
素の表示色あるいは絶対位置が明らかとなるので、欠陥
画素スイッチング素子を所定の修正基準に基づいて修正
することができる。このような識別手段は、ゲート配線
またはソース配線のパターン形成時に同時に形成するこ
とができる。
【００２９】また本発明は、前記識別手段は、前記ゲー
ト配線またはソース配線に形成された切込みであること
を特徴とする。 本発明に従えば、このような識別手段であっても、画素
の表示色あるいは絶対位置が明らかとなるので、欠陥画
素のスイッチング素子を前記所定の修正基準に基づいて
修正することができる。このような識別手段は、ゲート
配線またはソース配線のパターン形成時に同時に形成す
ることができる。
【００３０】また本発明は、前記識別手段は、前記ゲー
ト配線またはソース配線に形成された突出片であること
を特徴とする。 本発明に従えば、このような識別手段であっても、画素
の表示色あるいは絶対位置が明らかとなるので、欠陥画
素のスイッチング素子を所定の修正基準に基づいて修正
することができる。このような識別手段は、ゲート配線
またはソース配線のパターン形成時に同時に形成するこ
とができる。
【００３１】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施の第１の形
態である液晶表示装置１の構成を一部分切欠いて示す斜
視図である。液晶表示装置１は、スイッチング素子とし
て、逆スタガ型のＴＦＴ素子１２を設けたものである。
液晶表示装置１は、一方基板部材２、他方基板部材３、
液晶層４、および偏光板５，６を含んで構成される。一
方基板部材２と他方基板部材３との間に液晶層４が介在
され、基板部材２，３の液晶層４とは反対側に偏光板
５，６がそれぞれ配置される。前記一方基板部材２は、
透光性基板７、ゲート配線８、ゲート絶縁膜９、ソース
配線１０、画素電極１１、ＴＦＴ素子１２、および配向
膜１６を含んで構成される。前記ＴＦＴ素子１２は、ゲ
ート電極１３、ソース電極１４、およびドレイン電極１
５を含む。前記他方基板部材３は、透光性基板１７、対
向電極１８、遮光部材１９および配向膜２０を含んで構
成される。
【００３２】透光性基板７の一方表面には、互いに平行
に、間隔をあけて複数のゲート配線８が配設される。ま
た、当該ゲート配線８を覆って透光性基板７上にゲート
絶縁膜９が形成され、さらにゲート絶縁膜９上に、前記
ゲート配線８とは直交する方向に、互いに間隔をあけて
複数のソース配線１０が配設される。ゲート配線８およ
びソース配線１０が交差することによって形成される矩
形の領域が画素領域であり、当該画素領域に画素電極１
１がそれぞれ形成される。また、各画素２５毎にＴＦＴ
素子１２が設けられ、前記ゲート配線８およびソース配
線１０と画素電極１１とが接続される。ＴＦＴ素子１２
は、前記ゲート配線８に接続されるゲート電極１３と、
前記ソース配線１０に接続されるソース電極１４と、前
記画素電極１１に接続されるドレイン電極１５とを含ん
で構成される。ゲート配線８、ゲート絶縁膜９、ソース
配線１０、画素電極１１およびＴＦＴ素子１２が形成さ
れた透光性基板１７上には、これらを覆って配向膜１６
が形成される。このようにして、一方基板部材２が構成
される。
【００３３】透光性基板１７の一方表面には、前記画素
電極１１が対向する対向電極１８が基板のほぼ全面に形
成される。さらに対向電極１８上には前記配向膜１６と
同様の配向膜２０が形成される。また透光性基板１７の
対向電極１８が形成された側とは反対側の表面には、遮
光部材１９が形成される。遮光部材１９は、少なくとも
前記画素電極１１に対向する部分に開口部１９ａを有
し、それ以外の部分は入射光を遮断する性質を有し、画
素電極１１以外の部分の光を遮光する。画素電極１１と
対向電極１８とが対向する部分以外の部分は、電界印加
時において、前記電極１１，１８が対向する部分と同じ
ように液晶分子４ａが配向しない部分であり、このよう
な部分を透過する光が、遮光部材１９によって遮光され
るので、表示品位が向上する。なお、遮光部材１９は、
透光性基板１７の液晶層４側表面に形成しても構わな
い。このようにして他方基板部材３が構成される。
【００３４】このような基板部材２，３は、液晶層４を
介在し、対向して配置される。このとき、液晶層４に最
近接して配置される配向膜１６，２０の配向処理方向
は、たとえば直交するようにして配置される。また一方
基板部材２側に配置される偏光板５の透過軸５ａは配向
膜１６の配向処理方向と一致するようにして配置され
る。他方基板部材３側に配置される偏光板６の透過軸６
ａは、配向膜２０の配向処理方向と一致するようにして
配置される。
【００３５】画素電極１１と対向電極１８との間に液晶
分子４ａの配向状態が変化し始めるしきい値電圧に満た
ない電界が生じているときには、液晶分子４ａは基板部
材２，３間で９０°捩れ配向する。このとき、偏光板５
側からの入射光２１は、当該偏光板５によって偏光板５
の透過軸５ａ方向のみに振動する光となって液晶層４に
入射する。当該光は液晶分子４ａの捩れ配向に沿って、
その振動方向が９０°捩れ、偏光板６の透過軸６ａと等
しい振動方向となって、偏光板６を透過して出射光２２
となる。一方、画素電極１１と対向電極１８との間に前
記しきい値電圧以上の電界が生じているときには、液晶
分子４ａが基板部材２，３の基板表面に対して垂直とな
るように配向する。このとき液晶層４への入射光は前述
したように振動方向が９０°捩れることなく偏光板６に
到達する。当該光の振動方向は、偏光板６の透過軸６ａ
とは直交する方向であるので、遮断される。このような
２つの状態によって白色／黒色表示が実現できる。
【００３６】図２は、前記液晶表示装置１の基板部材３
を示す平面図である。透光性基板１７の液晶層４とは反
対側の表面には遮光部材１９が形成されている。当該遮
光部材１９には、基板部材２の画素電極１１に対向する
領域に開口部１９ａがそれぞれ形成されている。また基
板部材３は、各画素２５が何色の表示色であるかを表す
識別手段４１を有する。
【００３７】本形態では、透光性基板１７の表面にアル
ミニウム膜を成膜し、フォトリソグラフィ法によって識
別手段４１となる文字パターンを形成した後、遮光部材
１９を形成するために、前記形成した識別手段４１を覆
って透光性基板１７の表面にクロム膜を成膜し、開口部
１９ａをパターン形成して遮光部材１９を作成した。識
別手段４１を覆って遮光部材１９が形成され、遮光部材
１９の識別手段４１と重なる部分と、それ以外の部分と
では段差が生じる。この段差によって識別手段４１の、
たとえば光学顕微鏡を用いた目視あるいは画像認識装置
による識別が可能である。
【００３８】本形態では、赤、緑および青の表示色に対
応して、「Ｒ」、「Ｇ」、「Ｂ」の文字パターンの識別
手段４１ａ〜４１ｃを形成した。また識別手段４１をア
ルミニウム膜で作成し、遮光部材１９をクロム膜で作成
したけれども、識別手段４１および遮光部材１９はこれ
らの材料から成るものに限らず、たとえばアルミニウム
およびクロム以外の金属や、樹脂などを用いて作成して
も構わない。また、識別手段４１のパターンもこれに限
るものではなく、画素の表示色がわかるようであれば、
どのようなパターンであっても構わない。
【００３９】このような識別手段４１を設けることによ
って、全てのゲート配線８に同一のゲート信号を入力
し、また全てのソース配線１０に同一のソース信号を入
力して全画素２５を同時に駆動させて、ＴＦＴ素子１２
に欠陥が生じて欠陥画素が生じているか否かを検査し、
欠陥画素が生じていたときには、当該画素が何色の表示
色であるかを前記識別手段４１によって確認し、表示色
毎に定められる修正基準に基づいてＴＦＴ素子１２の欠
陥修正を行うことができる。したがって、従来技術のよ
うにドライバを実装する必要やピンプローブなどを用い
た接続端子を形成する必要がなく、検査にかかわる工程
の簡略化を図ることができ、製造効率を向上し、かつ製
造コストを低減することができる。
【００４０】図３は、前記液晶表示装置１を用いた投写
型表示装置３２の構成を示す側面図である。また図４
は、当該投写型表示装置３２の液晶表示装置１およびマ
イクロレンズアレイ３１の部分を拡大して示す側面図で
ある。光源２６からの光は、赤の波長帯域の光を反射
し、それ以外の光を透過する赤色ダイクロイックミラー
２７Ｒ、緑色の波長の光を反射し、それ以外の光を透過
する緑色ダイクロイックミラー２７Ｇ、および青色の波
長帯域の光を反射し、それ以外の光を透過する青色ダイ
クロイックミラー２７Ｂによって赤、緑および青の光に
分光される。液晶表示装置１の光入射面側である基板部
材２の表面には、複数のマイクロレンズ３１ａを備える
マイクロレンズアレイ３１が配置される。マイクロレン
ズアレイ３１のマイクロレンズ３１ａは、赤、緑および
青の３つ表示色の画素２５に１つのマイクロレンズ３１
ａが対応するようにして配置される。前記ダイクロイッ
クミラー２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂによって分光された
赤、緑および青の光３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂは、マイク
ロレンズアレイ３１のマイクロレンズ３１ａによって
赤、緑および青の表示色の画素２５にそれぞれ集光され
る。そして赤、緑および青の出射光３４Ｒ，３４Ｇ，３
４Ｂとして出射する。出射光は、フレネルレンズ２８お
よび投写レンズ２９を介して所定のスクリーン３０に照
射される。
【００４１】液晶表示装置１は、このような構成の投写
型表示装置３２として組込まれ、投写型のカラー表示を
行うことが可能である。
【００４２】図５は、本発明の実施の第２の形態である
液晶表示装置の基板部材３を示す平面図である。第２の
形態の液晶表示装置は、前記液晶表示装置１の識別手段
４１に代わって識別手段４２を有することを特徴とし、
その他の構成は前記液晶表示装置１と同様である。図５
中において液晶表示装置１と同様にして構成される部材
には同じ参照符号を付して示す。識別手段４２は、前述
した識別手段４１の文字パターンに代わって、たとえば
図示されるような矩形の図形パターンとしたものであ
る。赤、緑および青に対応して矩形パターンの数を変更
している。本形態では１〜３に変更している。このよう
な識別手段４２ａ〜４２ｃであっても、第１の形態と同
様にして検査および修正を行うことができる。したがっ
て、検査工程の簡略化を図ることができ、製造効率の向
上および製造コストの低減を図ることができる。
【００４３】図６は、本発明の実施の第３の形態である
液晶表示装置の基板部材３を示す平面図である。第３の
形態の液晶表示装置は、遮光部材１９の一部分をパター
ン形成して識別手段４３が形成されていることを特徴と
し、それ以外は、第１の形態の液晶表示装置１と同様に
して構成される。たとえば図示されるように、前述した
ような矩形の開口部から成る識別手段４３ａ〜４３ｃが
表示色毎にパターン形成されている。このような識別手
段４３は、開口部１９ａの作成と同時に作成することが
できる。
【００４４】図７は、前記識別手段４３の形成可能領域
を示す平面図である。上述したような遮光手段１９に開
口部を形成して成る識別手段４３は、当該開口部からの
光漏れを生じないために、基板部材２のゲート配線８お
よびソース配線１０と重なる領域（図７中において斜線
を符して示す領域）に形成することが好ましい。また、
本形態のようにスイッチング素子としてＴＦＴ素子１２
を形成した場合、ＴＦＴ素子は、比較的強い光に反応し
てスイッチング特性が変化するので、当該ＴＦＴ素子１
２に対向する２点鎖線で囲む領域３５には前記識別手段
４３を形成しないことが好ましい。
【００４５】このような識別手段４３であっても、前述
したのと同様にして検査および修正を施すことができ、
検査および修正工程の簡略化を図り、製造効率の向上お
よび製造コストの低減を図ることができる。
【００４６】図８は、本発明の実施の第４の形態である
液晶表示装置の基板部材３を示す平面図である。第４の
形態の液晶表示装置は、遮光部材１９の開口部１９に切
込みが形成されており、当該切込みから成る識別手段４
４を有することを特徴とし、それ以外は第１の形態の液
晶表示装置１と同様にして構成される。赤、緑および青
に対応して形成する切込みの位置を変化させている。し
たがって、形成位置の異なる識別手段４４ａ〜４４ｃに
よって画素の表示色を識別することができる。このよう
な切込みは、たとえば光学顕微鏡などを用いた目視での
認識が可能な大きさであればよく、認識が可能であれば
小さいほど好ましい。また、この切込みに対向する部分
にも画素電極１１が配置されることが好ましい。
【００４７】このような切込みから成る識別手段４４で
あっても、前述したのと同様にして検査および修正を施
すことができる。したがって、検査および修正工程の簡
略化を図ることができ、製造効率の向上および製造コス
トの低減を図ることができる。
【００４８】図９は、本発明の実施の第５の形態である
液晶表示装置の基板部材３を示す平面図である。第５の
形態の液晶表示装置は、遮光部材１９の開口部１９ａに
突出片が形成されており、当該突出片が識別手段４５で
あることを特徴とし、それ以外は、第１の形態の液晶表
示装置１と同様にして構成される。赤、緑および青に対
応して前記突出片の形成位置を代えている。このような
形成位置の異なる突出片から成る識別手段４５ａ〜４５
ｃについても、第４の形態の識別手段４４と同様に、認
識できる大きさであれば、小さいほど好ましい。
【００４９】このような突出片から成る識別手段４５で
あっても、前述したのと同様にして検査および修正を施
すことができ、検査および修正工程の簡略化を図り、製
造効率の向上および製造コストの低減を図ることができ
る。
【００５０】図１０は、本発明の実施の第６の形態であ
る液晶表示装置の基板部材３を示す平面図である。前述
した第１〜第５の形態は、赤、緑および青の画素をいわ
ゆるデルタ配列した例であるけれども、本形態は、前記
画素をいわゆるストライプ配列したことを特徴とし、そ
れ以外は、第１の形態の液晶表示装置１と同様にして構
成される。すなわち、赤、緑および青色表示を行う画素
が図１０紙面上において上下方向である列方向で、それ
ぞれずれることなく配置されていることを特徴とする。
このように画素が配列される場合であっても、第１〜第
５の形態で説明したような識別手段４１〜４５のうちの
いずれか１つを形成することによって、前述したのと同
様にして検査および修正を施すことができる。なお図１
０においては第２の形態で説明した識別手段４２を形成
している。
【００５１】図１１は、本発明の実施の第７の形態であ
る液晶表示装置の基板部材３を示す平面図である。第７
の形態の液晶表示装置は、前述したような識別手段４１
〜４５に代わって識別手段４７を有することを特徴と
し、それ以外は、第１の形態の液晶表示装置１と同様に
して構成される。本形態の識別手段４７は、赤、緑およ
び青の表示色の３つの画素に対応して１つ設けられる。
また、図示されるような三角形に形成される。赤、緑お
よび青の画素に対応した開口部１９ａに向けて前記三角
形の識別手段４７の３つの辺４７ａ〜４７ｃが位置合わ
せされて形成される。
【００５２】たとえば、図１１紙面上において上方向あ
るいは下方向に向かう辺４７ａは、青色（Ｂ）の画素に
対応した開口部１９ａに向けて配置される。図１１紙面
上において左方向に向かう辺４７ｂは、赤色（Ｒ）の画
素に対応した開口部１９ａに向けて配置される。また図
１１紙面上において右方向に向かう辺４７ｃは、緑色
（Ｇ）の画素に対応する開口部１９ａに向けて配置され
る。
【００５３】このような識別手段４７であっても、当該
識別手段４７によって各画素の表示色が明らかとなり、
前述したような検査および修正を施すことができて製造
工程の簡略化を図ることができる。このため、製造効率
を向上し、製造コストを低減することができる。また、
識別手段４７の数が少なく、当該識別手段４７の形成の
ための手間および時間を少なくすることができる。
【００５４】図１２は、本発明の実施の第８の形態であ
る液晶表示装置の基板部材２を示す平面図である。第８
の形態の液晶表示装置は、基板部材２が識別手段４８を
有することを特徴とする。また、それ以外は第１の形態
の液晶表示装置１と同様にして構成され、同様の構成部
材には同じ参照符号を付して示す。
【００５５】遮光部材４８は、透光性基板７の液晶層側
表面であって、ゲート配線８あるいはソース配線１０が
形成される領域に、前記識別手段４１，４２と同様にし
て形成される。図１２においては、ゲート配線８が形成
される領域に、識別手段４２と同様に矩形パターンの数
の異なる識別手段４８ａ〜４８ｃを形成している。ゲー
ト配線８は当該識別手段４８ａ〜４８ｃを覆って形成さ
れる。さらにＴＦＴ素子１２、ソース配線１０および画
素電極１１が形成される。
【００５６】このように、識別手段４８を基板部材２側
に形成することも可能であり、この場合も前述したのと
同様にして各画素の表示色を認識することができる。し
たがって前述したのと同様にして検査および修正を行う
ことができ、製造工程の簡略化を図ることができる。
【００５７】図１３は、本発明の実施の第９の形態であ
る液晶表示装置の基板部材２を示す平面図である。本形
態の液晶表示装置は、前記識別手段４８に代わって、ゲ
ート配線８あるいはソース配線１０の一部分をパターン
形成して成る識別手段４９を有することを特徴とし、そ
れ以外は第１の形態の液晶表示装置１と同様にして構成
される。本形態では、ゲート配線８に形成された切込み
が識別手段４９である。このような切込みは、ソース配
線１０に形成することも可能である。また、切込みに代
わって突出片を形成することも可能である。各画素の表
示色に対応して異なる位置に切込みあるいは突出片から
成る識別手段４９が形成される。
【００５８】このような識別手段４９であっても、その
形成位置によって各画素の表示色を認識することがで
き、前述したのと同様にして検査および修正を施すこと
ができる。
【００５９】図１４は、上述したような識別手段４１〜
４５，４７〜４９を用いて欠陥画素の絶対位置を求める
方法を説明するための液晶表示装置１を示す平面図であ
る。図１５は、前記液晶表示装置１の一部分を拡大して
示す平面図である。また図１６は液晶表示装置１の欠陥
画素部分を拡大して示す平面図である。欠陥画素の絶対
位置を求める方法を簡単に説明するために、ここでは５
×５の画素に１つの識別手段が対応して形成されている
ものとする。欠陥画素を画素２５ａとし、識別手段が設
けられた画素を画素２５ｂとする。
【００６０】たとえば、欠陥を検査するための検査装置
の液晶表示装置１が載置されるステージの位置精度が、
±２００μｍであるとすると、画素ピッチＰが２００μ
ｍを下回る場合、たとえば画素ピッチＰを１００μｍと
した場合、欠陥画素の絶対的な座標位置を得ることがで
きない。具体的には、図１５に示されるように、仮に液
晶表示装置１の左上の画素２５を基準として、当該画素
を（Ｘ，Ｙ）＝（１，１）の座標位置とし、図１６に示
されるように（Ｘ，Ｙ）＝（３０２，５０３）の座標位
置の画素が欠陥画素２５ａであるとする。前述したよう
にステージの位置精度が±２００μｍであるので、Ｘ，
Ｙ座標は、３００≦Ｘ≦３０４の範囲および５０１≦Ｙ
≦５０５の範囲の中のいずれの座標が欠陥画素２５ａの
座標であるかを判断することができない。
【００６１】しかしながら上述したような識別手段を５
×５の画素に対して１つ設けた場合、（Ｘ，Ｙ）＝（３
０１，５０１）の画素２５を仮に基準として補正を行
い、正確な欠陥画素２５ａの位置（Ｘ，Ｙ）＝（３０
２，５０３）を特定することができる。なお、上述のよ
うに５×５の画素に対して１つの識別手段を設けた例に
ついて説明したけれども、検査方法や検査精度に応じ
て、識別手段の数および分布を適宜選択するようにして
も構わない。
【００６２】このように規則的に、あるいはたとえば画
面の中央部と周縁部とで検査基準が異なる場合には不規
則的に識別手段を設けることによって、より正確に画素
の絶対位置を求めることができる。このため、ステージ
の位置精度を緩めることができ、ステージ自身の製造コ
ストを大幅に低減することができる。また、検査時の位
置合わせに要する時間が短縮され、検査効率が向上す
る。
【００６３】なお、上述したような識別手段４１〜４
５，４７〜４９をカラーフィルタを有する表示装置に形
成することも本発明の範囲に属するものであり、欠陥の
検査時に高価な白黒用のＣＣＤ（電荷結合素子）センサ
やカラー用ＣＣＤセンサ、および周辺回路が不要となる
ので、検査にかかわるコストが低減するとともに、画素
の表示色の判定に対する信頼性が向上する。
【００６４】また、上述した形態では液晶を用いた表示
装置の例について説明したけれども、たとえばＥＬ表示
装置やプラズマ表示装置の例も本発明の範囲に属するも
のである。
【００６５】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、画素を識
別するための前記識別手段が形成されるので、当該識別
手段によって画素を識別し、絶対位置または表示色を特
定することができる。たとえば、画素毎に設定される修
正基準に基づいて、欠陥画素スイッチング素子を修正す
ることができる。
【００６６】また本発明によれば、画素の表示色を識別
するための識別手段が形成されるので、当該識別手段に
よって画素の表示色を識別することまたは絶対位置を知
ることができる。たとえば、画素毎に設定される修正基
準に基づいて、複雑な検査信号を入力することなく、ま
た特別な接続端子を形成することなく、欠陥画素のスイ
ッチング素子を修正することができる。したがって、検
査および修正工程の簡略化を図ることができ、製造効率
のと向上および製造コスト低減を図ることができる。
【００６７】また本発明によれば、他方基板部材が有す
る識別手段によって画素の表示色または絶対位置が明ら
かとなるので、欠陥画素のスイッチング素子を前記修正
基準に基づいて修正することができる。したがって、検
査および修正工程の簡略化を図ることができる。
【００６８】また本発明によれば、前記遮光部材は前記
識別手段を覆って形成され、遮光部材の表面には識別手
段による凹凸が形成される。識別手段によって画素の表
示色または絶対位置が明らかとなるので、欠陥画素のス
イッチング素子を前記修正基準に基づいて修正すること
ができる。
【００６９】また本発明によれば、遮光部材の一部分を
パターン形成して作成された識別手段によって画素の表
示色または絶対位置が明らかとなるので、表示欠陥画素
を前記修正基準に基づいて修正することができる。この
ような識別手段は、遮光部材のパターン形成時に同時に
形成することができる。
【００７０】また本発明によれば、前記識別手段は、前
記遮光部材の開口部に形成された切込みであり、このよ
うな識別手段であっても、画素の表示色または絶対位置
が明らかとなるので、欠陥画素のスイッチング素子を前
記修正基準に基づいて修正することができる。このよう
な識別手段は、遮光部材のパターン形成時に同時に形成
することができる。
【００７１】また本発明によれば、前記識別手段は、前
記遮光部材の開口部に形成された突出片であり、このよ
うな識別手段であっても、画素の表示色または絶対位置
が明らかとなるので、欠陥画素のスイッチング素子を前
記修正基準に基づいて修正することができる。このよう
な識別手段は、遮光部材のパターン形成時に同時に形成
することができる。
【００７２】また本発明によれば、一方基板部材が有す
る識別手段によって画素の表示色または絶対位置が明ら
かとなるので、欠陥画素のスイッチング素子を前記修正
基準に基づいて修正することができる。したがって、検
査および修正工程の簡略化を図ることができる。
【００７３】また本発明によれば、前記ゲート配線また
はソース配線は、前記識別手段を覆って形成され、ゲー
ト配線またはソース配線の表面には識別手段による凹凸
が形成される。前記識別手段によって画素の表示色また
は絶対位置が明らかとなるので、欠陥画素のスイッチン
グ素子を前記修正基準に基づいて修正することができ
る。
【００７４】また本発明によれば、前記ゲート配線また
はソース配線の一部分をパターン形成して作成された識
別手段によって画素の表示色または絶対位置が明らかと
なるので、欠陥画素のスイッチング素子を前記修正基準
に基づいて修正することができる。このような識別手段
は、ゲート配線またはソース配線のパターン形成時に同
時に形成することができる。
【００７５】また本発明によれば、前記識別手段は、前
記ゲート配線またはソース配線に形成された切込みであ
り、このような識別手段であっても、画素の表示色また
は絶対位置が明らかとなるので、欠陥画素のスイッチン
グ素子を前記修正基準に基づいて修正することができ
る。このような識別手段は、ゲート配線またはソース配
線のパターン形成時に同時に形成することができる。
【００７６】また本発明は、前記識別手段は、前記ゲー
ト配線またはソース配線に形成された突出片であり、こ
のような識別手段であっても、画素の表示色または絶対
位置が明らかとなるので、欠陥画素のスイッチング素子
を前記修正基準に基づいて修正することができる。この
ような識別手段は、ゲート配線またはソース配線のパタ
ーン形成時に同時に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の第１の形態である液晶表示装置
１の構成を一部分を切欠いて示す斜視図である。
【図２】前記液晶表示装置１の基板部材３を示す平面図
である。
【図３】液晶表示装置１を用いた投写型表示装置３２の
構成を示す側面図である。
【図４】前記投写型表示装置３２の液晶表示装置１の部
分を拡大して示す側面図である。
【図５】本発明の実施の第２の形態である液晶表示装置
の基板部材３を示す平面図である。
【図６】本発明の実施の第３の形態である液晶表示装置
の基板部材３を示す平面図である。
【図７】識別手段４３の形成可能領域を示す図である。
【図８】本発明の実施の第４の形態である液晶表示装置
の基板部材３を示す平面図である。
【図９】本発明の実施の第５の形態である液晶表示装置
の基板部材３を示す平面図である。
【図１０】本発明の実施の第６の形態である液晶表示装
置の基板部材３を示す平面図である。
【図１１】本発明の実施の第７の形態である液晶表示装
置の基板部材３を示す平面図である。
【図１２】本発明の実施の第８の形態である液晶表示装
置の基板部材２を示す平面図である。
【図１３】本発明の実施の第９の形態である液晶表示装
置の基板部材２を示す平面図である。
【図１４】欠陥画素の絶対位置を求める方法を説明する
ための液晶表示装置１を示す平面図である。
【図１５】前記方法を説明するための液晶表示装置１の
一部分を拡大して示す平面図である。
【図１６】前記方法を説明するための液晶表示装置１の
欠陥画素部分を拡大して示す平面図である。
【図１７】従来技術である液晶表示装置７１の構成を一
部分を切欠いて示す斜視図である。
【図１８】前記液晶表示装置７１の基板部材７３を示す
平面図である。
【図１９】前記液晶表示装置７１の基板部材７２を簡略
化して示す平面図である。
【符号の説明】
１ 液晶表示装置 ２，３ 基板部材 ４ 液晶層 ４ａ 液晶分子 ５，６ 偏光板 ７，１７ 透光性基板 ８ ゲート配線 ９ ゲート絶縁膜 １０ ソース配線 １１ 画素電極 １２ ＴＦＴ素子 １６，２０ 配向膜 １８ 対向電極 １９ 遮光部材 １９ａ 開口部 ２５ 画素 ２６ 光源 ２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂ ダイクロイックミラー ２８ フレネルレンズ ２９ 投写レンズ ３０ スクリーン ３１ マイクロレンズアレイ ３１ａ マイクロレンズ ３２ 投写型表示装置 ４１，４１ａ〜４１ｃ，４２，４２ａ〜４２ｃ，４３，
４３ａ〜４３ｃ，４４，４４ａ〜４４ｃ，４５，４５ａ
〜４５ｃ，４７，４７ａ，４７ｂ，４８，４８ａ〜４８
ｃ，４９，４９ａ〜４９ｃ 識別手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡本 昌也 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 互いに平行に間隔を開けて配設されるゲ
    ート配線、前記ゲート配線とは直交し、かつ絶縁性を保
    持して配設されるソース配線、前記ゲート配線およびソ
    ース配線が交差することによって形成される矩形の画素
    毎に配置される複数の画素電極、および前記画素電極と
    ゲートおよびソース配線とを個別的に接続するスイッチ
    ング素子を含んで構成される一方基板部材と、 前記画素電極に対向する対向電極、および少なくとも前
    記画素電極が対向する領域に開口部を有する遮光部材を
    含んで構成される他方基板部材とを備えるマトリクス型
    表示装置において、 前記一方基板部材および他方基板部材のうちのいずれか
    一方は、画素を識別するための識別手段を有することを
    特徴とするマトリクス型表示装置。
  2. 【請求項２】 前記画素毎に予め定められる表示色が設
    定され、 前記識別手段は、画素の表示色を表すことを特徴とする
    請求項１記載のマトリクス型表示装置。
  3. 【請求項３】 前記識別手段は、前記他方基板部材が有
    することを特徴とする請求項１記載のマトリクス型表示
    装置。
  4. 【請求項４】 前記遮光部材は、前記識別手段を覆って
    形成されていることを特徴とする請求項３記載のマトリ
    クス型表示装置。
  5. 【請求項５】 前記識別手段は、前記遮光部材の一部分
    をパターン形成して作成されていることを特徴とする請
    求項３記載のマトリクス型表示装置。
  6. 【請求項６】 前記識別手段は、前記遮光部材の開口部
    に形成された切込みであることを特徴とする請求項５記
    載のマトリクス型表示装置。
  7. 【請求項７】 前記識別手段は、前記遮光部材の開口部
    に形成された突出片であることを特徴とする請求項５記
    載のマトリクス型表示装置。
  8. 【請求項８】 前記識別手段は、前記一方基板部材が有
    することを特徴とする請求項１記載のマトリクス型表示
    装置。
  9. 【請求項９】 前記ゲート配線またはソース配線は、前
    記識別手段を覆って形成されていることを特徴とする請
    求項８記載のマトリクス型表示装置。
  10. 【請求項１０】 前記識別手段は、ゲート配線またはソ
    ース配線の一部分をパターン形成して作成されているこ
    とを特徴とする請求項８記載のマトリクス型表示装置。
  11. 【請求項１１】 前記識別手段は、前記ゲート配線また
    はソース配線に形成された切込みであることを特徴とす
    る請求項１０記載のマトリクス型表示装置。
  12. 【請求項１２】 前記識別手段は、前記ゲート配線また
    はソース配線に形成された突出片であることを特徴とす
    る請求項１０記載のマトリクス型表示装置。
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