JPH0897257A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

Info

Publication number
JPH0897257A
JPH0897257A JP6227868A JP22786894A JPH0897257A JP H0897257 A JPH0897257 A JP H0897257A JP 6227868 A JP6227868 A JP 6227868A JP 22786894 A JP22786894 A JP 22786894A JP H0897257 A JPH0897257 A JP H0897257A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inner lead
lead
frame inner
tab
tab tape
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6227868A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Kikuchi
剛 菊池
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Japan Semiconductor Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Iwate Toshiba Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Iwate Toshiba Electronics Co Ltd filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP6227868A priority Critical patent/JPH0897257A/ja
Publication of JPH0897257A publication Critical patent/JPH0897257A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/79Apparatus for Tape Automated Bonding [TAB]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 TABアウターリードとフレームインナーリ
ードとの接合において、安定した接合が得ることがで
き、しかも接合箇所の位置ずれを矯正することができる
半導体装置の製造方法を提供する。 【構成】 半導体素子の接続電極をTABテープのイン
ナーリード5aに接合する第1の工程と、前記TABテ
ープのアウターリード5bをフレームインナーリード6
に接合する第2の工程とを有する半導体装置の製造方法
において、予め、前記TABテープのアウターリードの
先端に接合孔5cを設けると共に、前記フレームインナ
ーリード6の先端を上向きに折曲げて接合片9aを設け
ておき、前記第2の工程は、前記フレームインナーリー
ドの接合片を前記TABテープのアウターリードの接合
孔に係合させて、ボンディングツールにより熱圧着し
た。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、TAB(Tape A
utomated Bonding)技術を利用した例
えばQFP(Quad Flat Package)等
の半導体装置の製造方法に関し、特にTABテープとフ
レームインナーリードを熱と荷重でボンディングする半
導体装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】LSIチップをパッケージのリードフレ
ームに接合する場合の中間接続部品として、TABテー
プを使用する技術は従来より既に知られている。
【0003】この主の技術を用いた従来の半導体装置
は、例えば図4に示すように、まず、アイランド101
上にマウント剤102によって接着され、表面にバンプ
103が設けられたLSIチップ104を用意する。
【0004】そして、ポリイミドフィルム105上に銅
箔リード106がパターン形成されたTABテープ10
7をLSIチップ104のバンプ103に接合する。す
なわち、前記銅箔リード106のインナーリード部(T
ABインナーリード)107aを前記バンプ103に熱
圧着する。
【0005】さらに、ボンディングツールを用いて前記
銅箔リード106のアウターリード部(TABアウター
リード)107bをフレームインナーリード108上に
熱圧着する。この時、TABアウターリード107b表
面の錫めっきとフレームインナーリード108表面の銀
めっきとの間に合金層が形成され接合される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の半導体装置の製造方法では、上述したようにTAB
アウターリード107bとフレームインナーリード10
8との接合は、ボンディングツール111により外部か
ら熱と荷重を加えることにより行っているため、ボンデ
ィングツールの温度変化や高熱による接合で、図4に示
すようにボンディングツール111の先端に錫酸化物等
の異物112が付着することがある。このような場合
は、この異物によってTABアウターリード107bに
圧痕112aが生じ、接合性の低下、接合箇所の劣化と
いう問題が生じていた。
【0007】さらに、TABアウターリード107bと
フレームインナーリード108との接合箇所の位置ずれ
が生じた場合は、これを矯正することはできなかった。
【0008】本発明は、上述の如き従来の問題点を解決
するためになされたもので、その目的は、TABアウタ
ーリードとフレームインナーリードとの接合において、
安定した接合が得ることができる半導体装置の製造方法
を提供することである。またその他の目的は、TABア
ウターリードとフレームインナーリードとの接合におい
て、接合箇所の位置ずれを矯正することができる半導体
装置の製造方法を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の特徴は、半導体素子の接続電極をTABテ
ープのインナーリードに接合する第1の工程と、前記T
ABテープのアウターリードをフレームインナーリード
に接合する第2の工程とを有する半導体装置の製造方法
において、予め、前記TABテープのアウターリードの
先端に接合孔を設けると共に、前記フレームインナーリ
ードの先端を上向きに折曲げて接合片を設けておき、前
記第2の工程は、前記フレームインナーリードの接合片
を前記TABテープのアウターリードの接合孔に係合さ
せて、ボンディングツールにより熱圧着したものであ
る。
【0010】また、上記発明において、前記フレームイ
ンナーリードの先端を下向きに折曲げて接合片を設ける
ようにしてもよい。
【0011】
【作用】上述の如き構成によれば、半導体素子の接続電
極をTABテープのインナーリードに接合した後、フレ
ームインナーリードの接合片をTABテープのアウター
リードの接合孔に係合させて、ボンディングツールによ
り熱圧着するようにしたので、TABアウターリードと
フレームインナーリードとの接合において、従来のよう
な圧痕が生ずることがなく、安定した接合が得ることが
でき、しかも、接合箇所の位置ずれを矯正することがで
きる。
【0012】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。図1は、本発明の半導体装置の製造方法を実施
して製造されたLSIパッケージの構成を示す断面図で
ある。
【0013】このLSIパッケージは、パッケージの4
辺を利用して複数のリードを引出したQFPパッケージ
であって、アイランド1上にマウント剤2を介して搭載
され且つ表面にバンプ3が形成されたLSIチップ4を
有している。
【0014】このLSIチップ4は、連続したTABテ
ープ5から切り離された1コマTABテープ5の中央部
に搭載され、このTABテープ5を介してフレームイン
ナーリード6が接続されている。すなわち、LSIチッ
プ4表面に形成されたバンプ3には、TABテープ5の
インナーリード部(TABインナーリード5a)が接合
され、TABテープ5のアウターリード部(TABアウ
ターリード5b)が所定角で折曲げられて、フレームイ
ンナーリード6に接合されている。
【0015】このように、本実施例のTABテープ5
は、LSIチップ4をパッケージのリードフレームに接
合する場合の中間接続部品として使用されている。
【0016】ここで、TABテープ5は、従来と同様
に、ポリイミドフィルム7に銅箔リード8がパターン形
成された2層構造を成し、銅箔リード8のインナリード
部がTABインナーリード5aとして形成されると共
に、銅箔リード8のアウターリード部がTABアウター
リード5bとして形成されている。
【0017】また、TABアウターリード5bとフレー
ムインナーリード6の接合部9(本発明の特徴部分)
は、後述するように係合熱圧着が施され、そしてパッケ
ージの4辺からリードを引出すようにLSIチップ4全
体がモールド樹脂10によって樹脂封止されている。
【0018】次に、上述のように構成される本実施例の
半導体装置の製造方法を図2及び図3を用いて説明す
る。
【0019】まず、本実施例のLSIチップ4を構成す
るLSIウェーハの表面の電極パッド上に、AlやAu
などのバンプ3をめっきや蒸着法によって形成し、さら
に例えばダイシングソー方式により、該ウェーハを個々
のLSIチップ4に分割する。
【0020】そして、分割された個々のLSIチップ4
を、Au−Si共晶合金等のマウント剤2によりアイラ
ンド1上に接着する。
【0021】このようなLSIチップ4を用意してお
き、さらに、連続するTABテープ5を用意する。但
し、このTABテープ5における各1コマの複数のTA
Bアウターリード5bの先端部には、既に、後で行うフ
レームインナーリード6との係合圧着のための接合孔5
cがそれぞれ設けられている。
【0022】そして、図2に示すように、LSIチップ
4の全バンプ3上にTABインナーリード5aをそれぞ
れセットし、サーモードを降下して加圧・加熱して、L
SIチップ4の全バンプ3とTABインナーリード5a
とを同時に接合する。このとき、サーモードは、300
〜600℃の高温に加熱され、このサーモードをTAB
インナーリード5aに押し付けてTABインナーリード
5aとLSIチップ4のバンプ3を加圧しながら熱圧着
する。
【0023】その後、該LSIチップ4が搭載されたT
ABテープ5の1コマを切り離すと共に、前記接合孔5
cが形成された各TABアウターリード5bの先端部を
所定角で折曲げる(図2参照)。
【0024】次いで、図3(a),(b)に示すよう
に、先端を上向きにL字折曲して形成された接合片9a
を有するフレームインナーリード6を用意し、このフレ
ームインナーリード6の接合片9aを前記TABアウタ
ーリード5bの接合孔5cに差し込む。そして、前記フ
レームインナーリード6の接合片9aに嵌合する凹形状
の先端部が設けられたボンディングツール11を300
〜600℃の高温に加熱しておき、このボンディングツ
ール11を前記フレームインナーリード6の接合片9a
へ下降し、その先端部によって該接合片9aを押し付け
て荷重を加える。この時のボンディング荷重は例えば
5.1〜7.6MPa程度とする。
【0025】これによって、フレームインナーリード6
の接合片9aが折曲げられ、TABアウターリード5b
とフレームインナーリード6とが熱圧着ボンディングさ
れる。
【0026】このボンディング工程が終了した後は、例
えばトランスファーモールド法により樹脂封止を行う。
【0027】すなわち、専用成形機に取り付けられた金
型に、フレームインナーリード6にTABテープ5を介
してボンディングされたLSIチップ4を装填し、型締
めを行う。さらに、既に成形温度(170℃)に加熱さ
れた金型に、モールド樹脂10を装入して硬化させれ
ば、図1に示すLSIパッケージが得られる。
【0028】このように、本実施例では、フレームイン
ナーリード6の接合片9aをTABアウターリード5b
の接合孔5cに差し込み、ボンディングツール11によ
り加圧・加熱して接合したので、TABアウターリード
5bとフレームインナーリード6との接合において、従
来のような圧痕が生ずることがなく、安定した接合が得
ることができ、しかも、接合箇所の位置ずれを矯正する
ことができる。
【0029】また、TABアウターリード5bとフレー
ムインナーリード6との接合後において、その接合部9
の潰れ具合やL字接合片9aの傾きに度合によって、ボ
ンディングツール11を外さなくともツール先端部の欠
けや摩耗を確認することができる。
【0030】なお、上記実施例では、フレームインナー
リード6の先端を上向きに折曲げて接合片9aを形成し
たが、これを下向きに折曲して接合片9aを形成しても
よい。
【0031】
【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明によれ
ば、半導体素子の接続電極をTABテープのインナーリ
ードに接合する第1の工程と、前記TABテープのアウ
ターリードをフレームインナーリードに接合する第2の
工程とを有する半導体装置の製造方法において、予め、
前記TABテープのアウターリードの先端に接合孔を設
けると共に、前記フレームインナーリードの先端を上向
きに折曲げて接合片を設けておき、前記第2の工程は、
前記フレームインナーリードの接合片を前記TABテー
プのアウターリードの接合孔に係合させて、ボンディン
グツールにより熱圧着したので、TABアウターリード
とフレームインナーリードとの接合において、従来のよ
うな圧痕が生ずることがなく、安定した接合が得ること
が可能となり、しかも、接合箇所の位置ずれを矯正する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体装置の製造方法を実施して製造
されたLSIパッケージの構成を示す断面図である。
【図2】実施例の製造工程を示す図である。
【図3】実施例の製造工程を示す図である。
【図4】従来の半導体装置の製造工程を説明するための
図である。
【符号の説明】
1 アイランド 2 マウント剤 3 バンプ 4 LSIチップ 5 TABテープ 5a TABインナーリード 5b TABアウターリード 5c 接合孔 6 フレームインナーリード 7 ポリイミドフィルム 8 銅箔リード 9 接合部 9a 接合片 10 モールド樹脂

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体素子の接続電極をTABテープの
    インナーリードに接合する第1の工程と、前記TABテ
    ープのアウターリードをフレームインナーリードに接合
    する第2の工程とを有する半導体装置の製造方法におい
    て、 予め、前記TABテープのアウターリードの先端に接合
    孔を設けると共に、前記フレームインナーリードの先端
    を上向きに折曲げて接合片を設けておき、 前記第2の工程は、 前記フレームインナーリードの接合片を前記TABテー
    プのアウターリードの接合孔に係合させて、ボンディン
    グツールにより熱圧着したことを特徴とする半導体装置
    の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記フレームインナーリードの先端を下
    向きに折曲げて接合片を設けたことを特徴とする請求項
    1記載の半導体装置の製造方法。
JP6227868A 1994-09-22 1994-09-22 半導体装置の製造方法 Pending JPH0897257A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6227868A JPH0897257A (ja) 1994-09-22 1994-09-22 半導体装置の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6227868A JPH0897257A (ja) 1994-09-22 1994-09-22 半導体装置の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0897257A true JPH0897257A (ja) 1996-04-12

Family

ID=16867617

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6227868A Pending JPH0897257A (ja) 1994-09-22 1994-09-22 半導体装置の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0897257A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5888847A (en) Technique for mounting a semiconductor die
JP3376203B2 (ja) 半導体装置とその製造方法及びこの半導体装置を用いた実装構造体とその製造方法
JP3526731B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
US20090001608A1 (en) Semiconductor device and wire bonding method
JP2016129205A (ja) 半導体装置の製造方法
TW484215B (en) Packaging structure and method
JPH10270626A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP3705159B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2000114206A (ja) 半導体パッケージの製造方法
JPH0897257A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2018137342A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP4009505B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP3022910B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JPS63293963A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP2773553B2 (ja) スタッドバンプ付きicチップの製造方法
KR100209682B1 (ko) 반도체 패키지 제조방법
JPH07120728B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPH01231333A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2564595B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP3550946B2 (ja) Tab型半導体装置
JP2706058B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JPH04184949A (ja) 半導体装置とその製造方法
JPH09237863A (ja) 半導体リードフレーム及び半導体パッケージ方法
JP2003092308A (ja) 半導体装置およびその製造方法
KR200313585Y1 (ko) 반도체 패키지 제조용 본딩 툴