JPH0894820A - カラー液晶表示素子及びそのカラーフィルタの形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】カラーフィルタの上に直接電極を形成しても、
この電極のフィルタ側面に対応する部分に導通不良欠陥
が発生することはないようにする。 【構成】基板３２上に、顔料を添加したポジ型フォトレ
ジスト３６ａを塗布し、このレジスト膜３６ａの所定領
域をその表面側から露光処理した後、現像処理によって
前記レジスト膜３６ａの露光された領域を除去し、基板
３２上に残されたレジスト膜をカラーフィルタ３６Ｒ，
３６Ｇ，３６Ｂとする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、カラー液晶表示素子及
びそのカラーフィルタの形成方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】カラー画像を表示するカラー液晶表示素
子は、液晶層をはさんで対向する一対の基板の内面にそ
れぞれ電極を設けるとともに、一方の基板の内面にカラ
ーフィルタを設けた構成となっている。

【０００３】このカラー液晶表示素子には、カラーフィ
ルタを設けた基板側の電極を前記カラーフィルタの上に
形成したものと、前記電極の上にカラーフィルタを形成
したものとがあるが、一般には、一対の基板の電極間に
印加される電圧を効率よく液晶層に印加するために、カ
ラーフィルタの上に電極を形成した構成のものが採用さ
れている。

【０００４】図４は従来のカラー液晶表示素子の一部分
の断面図である。このカラー液晶表示素子は、ＴＦＴ
（薄膜トランジスタ）を能動素子とするアクティブマト
リックス型のものであり、液晶層１０をはさんで対向す
る一対の透明基板１１，１２のうち、図において下側の
基板１１の内面には、複数の透明な画素電極１３と、こ
れら画素電極１３にそれぞれ対応する複数のＴＦＴ１４
とが行方向及び列方向に配列形成されている。

【０００５】なお、図４では、ＴＦＴ１４を簡略化して
示したが、このＴＦＴ１４は、例えば、基板１１上に形
成されたゲート電極と、このゲート電極を覆って基板１
１のほぼ全面に形成されたゲート絶縁膜と、このゲート
絶縁膜の上に前記ゲート電極と対向させて形成されたｉ
型半導体膜と、このｉ型半導体膜の上にｎ型半導体膜を
介して形成されたソース電極及びドレイン電極とからな
っており、そのゲート電極は基板１１上に配線したゲー
トラインに一体に形成され、ドレイン電極は前記ゲート
絶縁膜の上に配線したデータラインにつながっている。

【０００６】また、図４では、画素電極１３を基板１１
上に直接形成されているように示したが、この画素電極
１３は、上記ＴＦＴ１４のゲート絶縁膜（透明膜）の上
に形成されており、その端部において対応するＴＦＴ１
４のソース電極に接続されている。

【０００７】一方、図において上側の基板１２の内面に
は、上記各画素電極１３のそれぞれに対応させて、複数
の色、例えば赤，緑，青のカラーフィルタ１６Ｒ，１６
Ｇ，１６Ｂが設けられており、その上に、前記画素電極
１３の全てに対向する１枚膜の透明な対向電極１５が形
成されている。

【０００８】なお、この液晶表示素子は、ツイステッド
・ネマティック方式のものであり、液晶の分子は、一対
の基板１１，１２の電極形成面の上にそれぞれ設けた配
向膜１７，１８によってそれぞれの基板１１，１２側で
の配向方向を規制され、両基板１１，１２間において所
定のツイスト角でツイスト配向されている。

【０００９】また、上記カラーフィルタ１６Ｒ，１６
Ｇ，１６Ｂは、一般に、感光性のカラーレジストを基板
１２上に塗布し、このカラーレジスト膜を露光及び現像
処理して形成されている。

【００１０】上記カラーレジストは、光の照射によって
重合反応するネガ型フォトレジストに所望の色の顔料を
添加したものであり、このカラーレジストを用いるカラ
ーフィルタ１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの形成は次のように
して行なわれている。

【００１１】図５は上記カラーフィルタ１６Ｒ，１６
Ｇ，１６Ｂの形成方法を示しており、（ａ）及び（ｂ）
は、１つの色のカラーフィルタの形成工程を示すカラー
レジスト膜の露光処理状態及び現像処理によりカラーフ
ィルタを形成した状態の断面図、（ｃ）は、全ての色の
カラーフィルタを形成した状態の断面図である。

【００１２】このカラーフィルタ形成方法を説明する
と、例えば、赤，緑，青のカラーフィルタ１６Ｒ，１６
Ｇ，１６Ｂを、赤色フィルタ１６Ｒ、緑色フィルタ１６
Ｇ、青色フィルタ１６Ｂの順に形成する場合は、まず、
図５の（ａ）に示すように、基板１２上に、赤の顔料を
添加したカラーレジストを所定の厚さに塗布して乾燥さ
せ、赤のカラーレジスト膜１６ａを形成する。

【００１３】次に、図５の（ａ）に示すように、上記カ
ラーレジスト膜１６ａの所定領域、つまり赤色フィルタ
１６Ｒとして残す領域を、その表面側から、前記領域に
対応する部分が開口する遮光膜２１を形成した露光マス
ク２０を用いて露光処理し、前記カラーレジスト膜１６
ａの露光領域を光重合により硬化させる。

【００１４】次に、露光処理したカラーレジスト膜１６
ａを現像処理して、その非露光領域を図５の（ｂ）に示
すように除去し、基板１２上に残されたカラーレジスト
膜１６ａを赤色フィルタ１６Ｒとする。

【００１５】この後は、上記赤色フィルタ１６Ｒの形成
と同様に、緑の顔料を添加したカラーレジストを塗布し
て露光，現像処理し、次いで青の顔料を添加したカラー
レジストを塗布して露光，現像処理することにより、緑
色フィルタ１６Ｇ及び青色フィルタ１６Ｂを順次図５の
（ｃ）に示すように形成する。

【００１６】なお、上記カラーフィルタ１６Ｒ，１６
Ｇ，１６Ｂの形成パターンには、１つ１つの画素電極１
３に個々に対応する独立したドット状パターンと、各画
素電極１３に対して行単位または列単位で対応するスト
ライプ状パターンとがあるが、いずれのパターンにカラ
ーフィルタ１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを形成する場合も、
上述した形成方法が採用されている。

【００１７】また、図６は、上記カラーフィルタ１６
Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの上に対向電極１５を形成した状態
の断面図であり、この電極１５は、ＩＴＯ等からなる透
明導電膜をスパッタ装置等により成膜して形成されてい
る。

【００１８】なお、従来のカラー液晶表示素子には、カ
ラーフィルタ１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを形成した基板１
２の上に透明樹脂を塗布して保護膜を形成し、この保護
膜の上に電極１５を形成しているものもあるが、最近で
は、コストダウンをはかるために、前記保護膜を省略し
て、カラーフィルタ１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの上に直接
電極１５を形成している。

【００１９】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来のカ
ラー液晶表示素子は、その一方の基板１２の上に形成さ
れたカラーフィルタ１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの側面が、
図５の（ｃ）に示したように、フィルタ表面から基板１
２側に向かって内側に傾いたオーバーハング状の傾斜面
（以下、逆傾斜面という）となっており、そのために、
このカラーフィルタ１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの上に直接
電極を形成すると、この電極１５に導通不良欠陥が発生
するという問題をもっていた。

【００２０】上記カラーフィルタ１６Ｒ，１６Ｇ，１６
Ｂの側面が逆傾斜面となるのは、上述したカラーフィル
タの形成におけるカラーレジスト膜１６ａの露光処理に
際して、このカラーレジスト膜１６ａの露光された領域
が、光が入射する表面側から光重合してゆくためであ
り、したがって、カラーレジスト膜１６ａの表層側は充
分な光を受けて速やかに硬化するが、下層側は受光量が
少ないために遅れて硬化するから、このカラーレジスト
膜１６ａを現像処理すると、その非露光領域だけでな
く、露光された領域のうちの充分に硬化していない下層
側もその硬化不足の程度に応じて除去されて、形成され
たカラーフィルタ１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの側面が、フ
ィルタ表面から基板１２側に向かって内側に傾いた逆傾
斜面になってしまう。

【００２１】そして、カラーフィルタ１６Ｒ，１６Ｇ，
１６Ｂの側面が上記のような逆傾斜面になっていると、
このカラーフィルタ１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの上に電極
１５となる導電膜を成膜する際に、カラーフィルタ１６
Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの側面に導電膜を均一に堆積させる
ことが難しく、そのために、形成された電極１５が、図
６に示したように、フィルタ側面において極端に薄くな
ったり、フィルタ側面において切れたりしてしまう。

【００２２】このため、従来のカラー液晶表示素子は、
カラーフィルタ１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの上に形成され
た電極１５のフィルタ側面に対応する部分に、膜厚の不
足や、膜に切れ目が生じることによる導通不良欠陥が発
生し、これが表示欠陥の発生原因となっていた。

【００２３】なお、カラー液晶表示素子が、図４に示し
たようなＴＦＴ１４を能動素子とするアクティブマトリ
ックス型のものであり、カラーフィルタ１６Ｒ，１６
Ｇ，１６Ｂの上に形成された電極１５が１枚膜状の対向
電極である場合は、カラーフィルタ１６Ｒ，１６Ｇ，１
６Ｂが１つ１つの画素電極１３に個々に対応する独立し
たドット状パターンに形成されており、対向電極１５の
導通不良欠陥がドット状カラーフィルタのほぼ全周にわ
たって発生した場合には、対向電極１５の導通不良欠陥
で囲まれた部分にほとんど駆動電圧が加わらなくなるた
め、この部分の画素が常に非点灯状態となって、点状の
表示欠陥が発生する。

【００２４】また、上記カラーフィルタ１６Ｒ，１６
Ｇ，１６Ｂが、各画素電極１３に対して行単位または列
単位で対応するストライプ状パターンに形成されてお
り、対向電極１５の導通不良欠陥がストライプ状カラー
フィルタの側面に沿ってある程度長く発生した場合は、
対向電極１５の導通不良欠陥の発生箇所から片側の領域
にほとんど駆動電圧が加わらなくなり、この領域の全て
の画素が常に非点灯状態になってしまうおそれがある。

【００２５】これは、ＴＦＴ１４を能動素子とするアク
ティブマトリックス型のカラー液晶表示素子に限らず、
例えば、ＭＩＭ等の２端子の非線形抵抗素子を能動素子
とするアクティブマトリックス型カラー液晶表示素子
や、単純マトリックス型のカラー液晶表示素子において
もいえることである。

【００２６】すなわち、前記非線形抵抗素子を能動素子
とするアクティブマトリックス型カラー液晶表示素子に
おいては、その一方の基板に形成する対向電極を、他方
の基板に配列形成された各画素電極に対して各行ごとに
対向させて設けているが、これらの対向電極を上述した
ような側面が逆傾斜面になっているカラーフィルタの上
に形成すると、この対向電極のカラーフィルタの側面に
対応する部分に導通不良欠陥が発生して、この部分で対
向電極が断線状態となり、この箇所から片側の領域に線
状の表示欠陥が発生する。

【００２７】また、単純マトリックス型のカラー液晶表
示素子は、その一方の基板に複数本の走査電極を互いに
平行に形成し、他方の基板に前記走査電極と直交させて
複数本の信号電極を互いに平行に形成したものである
が、この液晶表示素子においても、前記走査電極または
信号電極を側面が逆傾斜面になっているカラーフィルタ
の上に形成すると、この電極のフィルタ側面に対応する
部分に導通不良欠陥が発生して、その片側の領域に線状
の表示欠陥が発生する。

【００２８】本発明は、カラーフィルタの上に直接電極
を形成しても導通不良欠陥が発生することのないカラー
液晶表示素子を提供するとともに、あわせてそのカラー
フィルタの形成方法を提供することを目的としたもので
ある。

【００２９】

【課題を解決するための手段】本発明のカラー液晶表示
素子は、液晶層をはさんで対向する一対の基板の内面に
それぞれ電極を設けるとともに、いずれか一方の基板の
内面にカラーフィルタを設けてなり、かつ、カラーフィ
ルタを設けた基板側の前記電極を前記カラーフィルタの
上に形成したものであって、前記カラーフィルタが、顔
料を添加したポジ型フォトレジストで形成されており、
このカラーフィルタの側面が、フィルタ表面から基板側
に向かって外側に傾いていることを特徴とするものであ
る。

【００３０】また、本発明のカラーフィルタの形成方法
は、基板上に、顔料を添加したポジ型フォトレジストを
塗布し、このレジスト膜の所定領域をその表面側から露
光処理した後、現像処理によって前記レジスト膜の露光
された領域を除去し、基板上に残されたレジスト膜をカ
ラーフィルタとすることを特徴とするものである。

【００３１】

【作用】すなわち、本発明のカラー液晶表示素子は、そ
の一方の基板の内面に設けるカラーフィルタを、顔料を
添加したポジ型フォトレジストによって形成したもので
あり、このポジ型フォトレジストを基板上に塗布して表
面側から露光した後現像処理すると、側面がフィルタ表
面から基板側に向かって外側に傾いた形状のカラーフィ
ルタが形成される。

【００３２】そして、このようにカラーフィルタの側面
がフィルタ表面から基板側に向かって外側に傾いた傾斜
面（以下、順傾斜面という）となっていれば、このカラ
ーフィルタの上に電極となる導電膜を成膜する際に、カ
ラーフィルタの側面にも導電膜が充分な厚さに堆積する
ため、カラーフィルタの上に直接電極を形成しても、こ
の電極のフィルタ側面に対応する部分に導通不良欠陥が
発生することはない。

【００３３】また、本発明のカラーフィルタの形成方法
は、基板上に顔料を添加したフォトレジストを塗布し、
そのレジスト膜の所定領域を表面側から露光処理した
後、現像処理してカラーフィルタを形成するものである
が、前記フォトレジストがポジ型レジストであるため、
露光処理したレジスト膜を現像処理すると、その露光さ
れた領域の表層側、つまり露光処理時に充分な光を受け
た光照射面側はマスク開口の全域にわたり速やかに除去
されるのに対して、受光量が少ない下層側では、開口縁
部の受光量が充分でないためにその部分のレジスト膜が
残り、その程度が下層になるほど大きくなりから、側面
がフィルタ表面から基板側に向かって外側に傾いた形状
のカラーフィルタが形成される。

【００３４】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図１は本発明の一実施例を示すカラー液晶表示素
子の一部分の断面図である。このカラー液晶表示素子
は、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を能動素子とするアク
ティブマトリックス型のものであり、液晶層３０をはさ
んで対向する一対の透明基板（例えばガラス基板）３
１，３２のうち、図において下側の基板３１の内面に
は、複数の透明な画素電極３３と、これら画素電極３３
にそれぞれ対応する複数のＴＦＴ３４とが行方向及び列
方向に配列形成されている。

【００３５】なお、図１では、ＴＦＴ３４を簡略化して
示したが、このＴＦＴ３４は、例えば、基板３１上に形
成されたゲート電極と、このゲート電極を覆って基板３
１のほぼ全面に形成されたゲート絶縁膜と、このゲート
絶縁膜の上に前記ゲート電極と対向させて形成されたｉ
型半導体膜と、このｉ型半導体膜の上にｎ型半導体膜を
介して形成されたソース電極及びドレイン電極とからな
っており、そのゲート電極は基板３１上に配線したゲー
トラインに一体に形成され、ドレイン電極は前記ゲート
絶縁膜の上に配線したデータラインにつながっている。

【００３６】また、図１では、画素電極３３を基板３１
上に直接形成されているように示したが、この画素電極
３３は、上記ＴＦＴ３４のゲート絶縁膜（透明膜）の上
に形成されており、その端部において対応するＴＦＴ３
４のソース電極に接続されている。

【００３７】一方、図１において上側の基板３２の内面
には、上記各画素電極３３それぞれ対応させて、複数の
色、例えば赤，緑，青のカラーフィルタ３６Ｒ，３６
Ｇ，３６Ｂが設けられており、その上に直接、前記画素
電極３３の全てに対向する１枚膜の透明な対向電極３５
が形成されている。

【００３８】なお、この液晶表示素子は、ツイステッド
・ネマティック方式のものであり、液晶の分子は、一対
の基板３１，３２の電極形成面の上にそれぞれ設けた配
向膜３７，３８によってそれぞれの基板３１，３２側で
の配向方向を規制され、両基板３１，３２間において所
定のツイスト角でツイスト配向されている。

【００３９】そして、上記カラーフィルタ３６Ｒ，３６
Ｇ，３６Ｂは、顔料を添加したポジ型フォトレジストで
形成されており、これらカラーフィルタ３６Ｒ，３６
Ｇ，３６Ｂは、その側面が、フィルタ表面から基板３２
側に向かって僅かな傾き角で外側に傾いている形状をな
している。

【００４０】このカラーフィルタ３６Ｒ，３６Ｇ，３６
Ｂは、基板３２上に、顔料を添加したポジ型フォトレジ
ストを塗布し、このレジスト膜の所定領域をその表面側
から露光処理した後、現像処理によって前記レジスト膜
の露光された領域を除去し、基板上に残されたレジスト
膜をカラーフィルタとする方法によって形成されてい
る。

【００４１】図２は上記カラーフィルタ３６Ｒ，３６
Ｇ，３６Ｂの形成方法を示しており、（ａ）及び（ｂ）
は、１つの色のカラーフィルタの形成工程を示すフォト
レジスト膜の露光処理状態及び現像処理によりカラーフ
ィルタを形成した状態の断面図、（ｃ）は、全ての色の
カラーフィルタを形成した状態の断面図である。

【００４２】このカラーフィルタ形成方法を説明する
と、例えば、赤，緑，青のカラーフィルタ３６Ｒ，３６
Ｇ，３６Ｂを、赤色フィルタ３６Ｒ、緑色フィルタ３６
Ｇ、青色フィルタ３６Ｂの順に形成する場合は、まず、
図２の（ａ）に示すように、基板３２上に、赤の顔料を
添加したポジ型フォトレジストを所定の厚さに塗布して
乾燥させ、赤のフォトレジスト膜３６ａを形成する。

【００４３】次に、図２の（ａ）に示すように、上記フ
ォトレジスト膜３６ａの所定領域、つまり赤色フィルタ
３６Ｒとして残す領域以外の領域を、その表面側から、
前記所定領域以外の領域に対応する部分が開口する遮光
膜４１を形成した露光マスク４０を用いて露光処理す
る。

【００４４】この場合、上記レジスト膜３６ａは、顔料
を添加したポジ型フォトレジストからなっており、この
ポジ型フォトレジスト膜３６ａは、光を照射された領域
が、光に反応して、現像媒体（湿式現像では現像液、乾
式現像ではエッチングガス）により容易に除去されるよ
うに変化するが、このレジスト膜３６ａにその表面側か
ら照射された光は、レジスト膜３６ａ中をその厚さ方向
に進みながら吸収されるため、レジスト膜３６ａの露光
領域に照射される光量は、レジスト膜３６ａの表層側か
ら下層側に向かって徐々に少なくなり、したがって、こ
のレジスト膜３６ａの光による反応は、下層側ほど遅れ
て進行する。

【００４５】次に、露光処理したポジ型フォトレジスト
膜３６ａを湿式現像あるいは乾式現像により現像処理し
て、その露光された領域を図２の（ｂ）に示すように除
去し、基板３２上に残されたレジスト膜３６ａを赤色フ
ィルタ３６Ｒとする。

【００４６】このように、所定領域（赤色フィルタ３６
Ｒとして残す領域以外の領域）を表面側から露光処理し
たポジ型フォトレジスト膜３６ａを現像処理すると、そ
の露光された領域の表層側、つまり露光処理時に充分な
光を受けた光照射面側はマスク開口４０ａの全域にわた
り速やかに除去されるのに対して、受光量が少ない下層
側では、開口４０ａの縁部の受光量が充分でないため
に、その部分のレジスト膜３６ａが残り、その程度が下
層になるほど大きくなるから、このレジスト膜３６ａを
現像処理して形成された赤色フィルタ（基板３２上に残
されたレジスト膜）３６Ｒが、図２の（ｂ）に示したよ
うに、その側面がフィルタ表面から基板３２側に向かっ
て外側に傾いた形状になる。

【００４７】この後は、上記赤色フィルタ３６Ｒの形成
と同様に、緑の顔料を添加したネガ型フォトレジストを
塗布して露光，現像処理し、次いで青の顔料を添加した
ネガ型フォトレジストを塗布して露光，現像処理するこ
とにより、緑色フィルタ３６Ｇ及び青色フィルタ３６Ｂ
を順次図２の（ｃ）に示すように形成し、全ての色のカ
ラーフィルタ３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂの形成を終了す
る。

【００４８】なお、上記緑色フィルタ３６Ｇ及び青色フ
ィルタ３６Ｂも、その色の顔料を添加したポジ型フォト
レジストを塗布し、このレジスト膜の所定領域をその表
面側から露光処理した後、現像処理によって前記レジス
ト膜の露光された領域を除去し、基板上に残されたレジ
スト膜をカラーフィルタとする方法で形成されるため、
これらカラーフィルタ３６Ｇ，３６Ｂも、その側面がフ
ィルタ表面から基板３２側に向かって外側に傾いた形状
になる。

【００４９】また、カラーフィルタ３６Ｒ，３６Ｇ，３
６Ｂの形成パターンには、１つ１つの画素電極３３に個
々に対応する独立したドット状パターンと、各画素電極
３３に対して行単位または列単位で対応するストライプ
状パターンとがあるが、カラーフィルタ３６Ｒ，３６
Ｇ，３６Ｂをドット状に形成する場合は、その全周の全
ての側面が、フィルタ表面から基板３２側に向かって外
側に傾いた形状になり、カラーフィルタ３６Ｒ，３６
Ｇ，３６Ｂをストライプ状に形成する場合は、その両側
面が全長にわたって、フィルタ表面から基板３２側に向
かって外側に傾いた形状になる。

【００５０】そして、上記カラー液晶表示素子において
は、その一方の基板３２の内面に設けたカラーフィルタ
３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂの側面が、フィルタ表面から基
板３２側に向かって外側に傾いた順傾斜面となっている
ため、このカラーフィルタ３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂの上
に直接電極（この実施例では対向電極）３５を形成して
も、この電極３５のフィルタ側面に対応する部分に導通
不良欠陥が発生することはない。

【００５１】すなわち、図３は、上記カラーフィルタ３
６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂの上に対向電極３５を形成した状
態の断面図であり、この電極３５は、ＩＴＯ等からなる
透明導電膜をスパッタ装置等により成膜して形成する
が、カラーフィルタ３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂの側面が上
記のような順傾斜面となっていれば、電極３５となる導
電膜を成膜する際に、カラーフィルタ３６Ｒ，３６Ｇ，
３６Ｂの側面にも前記導電膜が充分な厚さに堆積するた
め、この導電膜のフィルタ側面に成膜された部分が極端
に薄くなったり、この部分に切れ目が生じたりしてしま
うことはなく、したがって、前記電極３５のフィルタ側
面に対応する部分に導通不良欠陥が発生することはな
い。

【００５２】このため、上記カラー液晶表示素子によれ
ば、従来のカラー液晶表示素子のように、カラーフィル
タの上に形成した電極のフィルタ側面に対応する部分に
導通不良欠陥が生じて表示欠陥の発生原因となることは
ないから、その製造歩留を向上させて、より低コスト化
をはかることができる。

【００５３】また、上記カラーフィルタの形成方法は、
基板３２上に顔料を添加したフォトレジストを塗布し、
そのレジスト膜３６ａの所定領域を表面側から露光処理
した後、現像処理してカラーフィルタ３６Ｒ，３６Ｇ，
３６Ｂを形成するものであるが、前記フォトレジストが
ポジ型レジストであるため、露光処理したレジスト膜３
６ａを現像処理すると、その露光された領域の表層側、
つまり露光処理時に充分な光を受けた光照射面側はマス
ク開口４０ａの全域にわたり速やかに除去されるのに対
して、受光量が少ない下層側では、開口４０ａの縁部の
受光量が充分でないために、その部分のレジスト膜３６
ａが残り、その程度が下層になるほど大きくなるから、
側面がフィルタ表面から基板側に向かって外側に傾いた
形状のカラーフィルタ３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂを形成す
ることができる。

【００５４】なお、上記実施例のカラー液晶表示素子
は、ＴＦＴ３４を能動素子とするアクティブマトリック
ス型のものであるが、本発明は、ＭＩＭ等の非線形抵抗
素子を能動素子とするアクティブマトリックス型カラー
液晶表示素子や、単純マトリックス型のカラー液晶表示
素子にも適用することができる。

【００５５】

【発明の効果】本発明のカラー液晶表示素子は、液晶層
をはさんで対向する一対の基板の内面にそれぞれ電極を
設けるとともに、いずれか一方の基板の内面にカラーフ
ィルタを設けてなり、かつ、カラーフィルタを設けた基
板側の前記電極を前記カラーフィルタの上に形成したも
のであって、前記カラーフィルタが、顔料を添加したポ
ジ型フォトレジストで形成されており、このカラーフィ
ルタの側面が、フィルタ表面から基板側に向かって外側
に傾いていることを特徴とするものであるから、カラー
フィルタの上に直接電極を形成しても、この電極のフィ
ルタ側面に対応する部分に導通不良欠陥が発生すること
はない。

【００５６】また、本発明のカラーフィルタの形成方法
は、基板上に、顔料を添加したポジ型フォトレジストを
塗布し、このレジスト膜の所定領域をその表面側から露
光処理した後、現像処理によって前記レジスト膜の露光
された領域を除去し、基板上に残されたレジスト膜をカ
ラーフィルタとすることを特徴とするものであるから、
側面がフィルタ表面から基板側に向かって外側に傾いて
いるカラーフィルタを形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のカラー液晶表示素子の一実施例を示す
一部分の断面図。

【図２】本発明のカラーフィルタの形成方法の一実施例
を示す図であり、（ａ）及び（ｂ）は、１つの色のカラ
ーフィルタの形成工程を示すフォトレジスト膜の露光処
理状態及び現像処理によりカラーフィルタを形成した状
態の断面図、（ｃ）は、全ての色のカラーフィルタを形
成した状態の断面図。

【図３】カラーフィルタの上に電極を形成した状態の断
面図。

【図４】従来のカラー液晶表示素子の一部分の断面図。

【図５】従来のカラーフィルタの形成方法を示す図であ
り、（ａ）及び（ｂ）は、１つの色のカラーフィルタの
形成工程を示すカラーレジスト膜の露光処理状態及び現
像処理によりカラーフィルタを形成した状態の断面図、
（ｃ）は、全ての色のカラーフィルタを形成した状態の
断面図。

【図６】従来のカラーフィルタの上に電極を形成した状
態の断面図。

【符号の説明】

３０…液晶層 ３１，３２…基板 ３３…画素電極 ３４…ＴＦＴ（能動素子） ３５…対向電極 ３６Ｒ…赤色フィルタ ３６Ｇ…緑色フィルタ ３６Ｒ…青色フィルタ ３６ａ…ポジ型フォトレジスト膜 ３７，３８…配向膜 ４０…露光マスク ４０ａ…開口 ４１…遮光膜

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】液晶層をはさんで対向する一対の基板の内
   面にそれぞれ電極を設けるとともに、いずれか一方の基
   板の内面にカラーフィルタを設けてなり、かつ、カラー
   フィルタを設けた基板側の前記電極を前記カラーフィル
   タの上に形成したカラー液晶表示素子であって、 前記カラーフィルタが、顔料を添加したポジ型フォトレ
   ジストで形成されており、このカラーフィルタの側面
   が、フィルタ表面から基板側に向かって外側に傾いてい
   ることを特徴とするカラー液晶表示素子。
2. 【請求項２】液晶表示素子は、薄膜トランジスタを能動
   素子とするアクティブマトリックス液晶表示素子であ
   り、カラーフィルタを設けた基板側の電極は、１枚膜状
   の対向電極であることを特徴とするカラー液晶表示素
   子。
3. 【請求項３】基板上に、顔料を添加したポジ型フォトレ
   ジストを塗布し、このレジスト膜の所定領域をその表面
   側から露光処理した後、現像処理によって前記レジスト
   膜の露光された領域を除去し、基板上に残されたレジス
   ト膜をカラーフィルタとすることを特徴とするカラーフ
   ィルタの形成方法。