JPH0877603A

JPH0877603A - 光ディスクおよび被記録材

Info

Publication number: JPH0877603A
Application number: JP6240625A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Arioka; 博之有岡
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1994-09-08
Filing date: 1994-09-08
Publication date: 1996-03-22
Anticipated expiration: 2018-01-08
Also published as: JP3364336B2; US5616447A

Abstract

(57)【要約】【目的】水性インクによる書き込みによって高品質、
高品位の文字等の画像が得られ、かつ印字等の消去が可
能なレーベル面をもつ光ディスクを得る。【構成】光ディスクの保護コート上に充填材と結着材
とを含む第一の被覆層を設け、この第一の被覆層上に、
重量平均分子量３００００以上のビニルピロリドンポリ
マーを８０wt% 以上含有し、厚さ０．１μm 以上の水性
にインクで書き込み可能な第二の被覆層を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーベル面に、水性ペ
ンやインクジェットプリンタによる記入が可能な光ディ
スクおよび被記録材に関する。

【０００２】

【従来の技術】追記型のコンパクトディスク（ＣＤ−
Ｒ）に代表される光ディスクのレーベル面に、例えば個
人的な情報を記入しておきたい場合がある。

【０００３】しかし、このような光ディスクの保護コー
トは、一般に放射線硬化樹脂で構成されており、このよ
うな保護コート表面に水性ペンやインクジェットプリン
タなどの水性インクで記入しようとすると、インクをは
じいてしまい記入できない。

【０００４】従って、一般に油性インクによる書き込み
やラベルを貼付してラベル上に書き込むことが行われて
いる。油性インクによる場合は手書きするしかなく、ま
たラベルの貼付は、外観上の問題のみならず、再生や追
記の際に悪影響を及ぼしてしまうことがある。

【０００５】このような実状から、特開平６−６０４３
２号公報には、保護コート表面に親水性樹脂膜の被覆を
設けるなどして、保護コート表面を親水性表面とし、水
性の印刷インクの定着を可能にした光情報媒体（ＣＤ）
が開示されている。そして、インクジェットプリンタに
よりベタ印字性と漢字印字性に優れた印刷を行うことが
できることが記載されている。

【０００６】また、特公昭６３−６５０３６号公報に
は、充填材粒子と結着剤とを含む被覆層を設けたインク
ジェット用被記録材において、充填材粒子を３〜２５μ
m とし、充填材粒子を被覆層表面に１mm² 当り１万個〜
１０万個露呈させることが開示されている。

【０００７】さらに、特開昭６１−４１５８５号公報に
は、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）とポリビニルアル
コール（ＰＶＡ）とを所定割合［ＰＶＰ：ＰＶＡ（重量
比）＝１：３〜５：１］で混合したインク受容層の被覆
をもつインクジェット用被記録材が開示されている。

【０００８】また、特開昭６１−６３４７４号公報に
は、ビニルピロリドンと酢酸ビニルとの共重合物からな
るインク受容層を有するインクジェット用被記録材が開
示されている。

【０００９】これらの被記録材では、いずれも鮮明の画
像が得られることが記載されている。

【００１０】しかし、記入内容を間違えたり、書き損じ
たりしたときには書き直しをしたり、さらには一旦記入
した内容を書き換えたくなることもある。このような場
合、一旦記入した内容を消去したり、修正したりするこ
とができれば非常に便利である。

【００１１】ところが、従来の水性インク受容性の被覆
は、印字等の定着性を改良するものであり、消去あるい
は修正を行うことはできない。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明の主たる目的
は、第一に、水性インクによる書き込みで高品質、高品
位の印字等の画像が得られ、かつ印字等の水性インクで
形成された画像の消去および修正が可能な被覆層をレー
ベル面に有する光ディスクを提供することにある。第二
に、上記の被覆層を有する被記録材を提供することにあ
る。

【００１３】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（１０）の本発明により達成される。（１）光ディスク本体と、保護コートと、この保護コー
ト上に設けられた充填材および結着剤を含有する第一の
被覆層と、この第一の被覆層上に設けられ、厚さ０．１
μm 以上の、重量平均分子量Ｍ_W３００００以上のビニ
ルピロリドンポリマーを８０wt% 以上含有する、水性イ
ンクで書き込み可能な第二の被覆層とを有する光ディス
ク。（２）前記第一の被覆層の表面粗さＲ₂₀が１．０μm 以
上である上記（１）の光ディスク。（３）前記充填材の平均粒径が０．１〜５０μm である
上記（１）または（２）の光ディスク。（４）前記充填材が無機微粒子であり、かつ前記結着剤
が放射線硬化型化合物を硬化させたものである上記
（１）〜（３）のいずれかの光ディスク。（５）前記無機微粒子がシリカ、アルミナおよびバリウ
ム塩のうちの１種以上である上記（４）の光ディスク。（６）前記放射線硬化型化合物の硬化を紫外線照射によ
って行う上記（４）または（５）の光ディスク。（７）前記第一の被覆層の厚さが３μm 以上である上記
（１）〜（６）のいずれかの光ディスク。（８）前記第一の被覆層の設けられる保護コートが放射
線硬化樹脂で形成される上記（１）〜（７）のいずれか
の光ディスク。（９）前記保護コートが２層以上で構成される上記
（１）〜（８）のいずれかの光ディスク。（１０）上記（１）〜（７）のいずれかの第一の被覆層
と第二の被覆層とを積層した被記録材。

【００１４】

【作用】本発明では、光ディスクのレーベル面に充填材
と結着剤とを含む第一の被覆層を設け、さらに、この第
一の被覆層上に、重量平均分子量Ｍ_W ３００００以上の
ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）等のビニルピロリドン
ポリマーを８０wt% 以上含有し、厚さ０．１μm 以上の
第二の被覆層を設ける。

【００１５】このような被覆層の存在により、水性ペン
やインクジェットプリンタ等による水性インクを用いた
書き込みで印字等の画像の形成が可能になる。この場合
の印字等の水性インクで形成された画像には、にじみ、
はじき、かすれがなく鮮明である。また、水性インク中
の水分は第一の被覆層まで浸透するものの、インク中の
染料成分は第二の被覆層表面にとどまるため、水をかけ
たり、水をしみ込ませた布で拭き取れば、印字等を簡単
に消去することができる。従って、書き損じ、あるいは
万一印字等ににじみなどが発生した場合などには、印字
等を消去でき、修正が可能になる。

【００１６】また、光ディスクの保護コートは、通常、
放射線硬化樹脂で構成されているので、第一の被覆層の
結着剤として放射線硬化型化合物を硬化したものを用い
れば、保護コートと第一の被覆層との密着性が良好であ
る。

【００１７】さらに、第一の被覆層の表面は充填材の添
加により平滑面でなく、従って第二の被覆層の表面も平
滑面とはならないので、印字等ににじみ、はじきなどが
発生するのを防止するとともに、アンカー効果により、
第二の被覆層との密着性が良好である。また、第一の被
覆層の存在により、第二の被覆層のみによっては得られ
ない被膜強度および耐吸湿性を確保することができる。

【００１８】

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。

【００１９】本発明の光ディスクは、例えば追記型コン
パクトディスク（ＣＤ−Ｒ）であり、保護コート上、す
なわちレーベル面に充填材と結着剤とを含む第一の被覆
層を設け、さらにビニルピロリドンポリマーを含有する
第二の被覆層を設け、水性インクによる書き込みを可能
としたものである。

【００２０】第二の被覆層に含有されるビニルピロリド
ンポリマーの重量平均分子量Ｍ_W は３００００以上であ
り、さらには３５０００〜１００００００であることが
好ましい。

【００２１】ビニルピロリドンポリマーの分子量を上記
範囲とすることによって、良好な性能の印字が得られ
る。これに対し、平均分子量Ｍ_W が３００００未満とな
ると、印字性能が低下し、印字がかすれ、にじみが発生
してしまう。このような現象は、印字に限らず水性イン
クで形成した画像一般に該当する。この場合と同様に以
下においても主として印字を用いて説明する。また、印
字は、一般に、文字を機械で打ってあらわすことを意味
することが多いが、本発明では機械的ならびに手動的に
印された文字を意味する。

【００２２】なお、ビニルピロリドンポリマーの重合度
ｎは３６０〜９００００程度である。ビニルピロリドン
ポリマーとしては、ビニルピロリドンモノマーのみが重
合したホモポリマー（ポリビニルピロリドンＰＶＰ）で
あることが好ましいが、１０wt% 以下であれば、他のモ
ノマー成分（例えば酢酸ビニル、エチレン、エチレンオ
キシド、炭酸エステル、塩化ビニル等）を含むコポリマ
ーであってもよい。

【００２３】第二の被覆層におけるビニルピロリドンポ
リマーの含有量は８０wt% 以上であり、さらには８５〜
１００wt% とすることが好ましい。

【００２４】ビニルピロリドンポリマーの含有量を上記
範囲とすることにより、印字性能が良好となり、かつ印
字の消去が可能になる。これに対し、ビニルピロリドン
ポリマーの含有量が８０wt% 未満となると、ビニルピロ
リドンポリマーと併用する材料が親水性材料を主成分
（ピロリドンポリマー残部の５０wt% 以上）とするもの
であれば印字の消去が不可能となり、疎水性材料を主成
分とするものであれば印字の消去が不可能となる他、印
字のかすれが生じてしまう。

【００２５】第二の被覆層において、ビニルピロリドン
ポリマーと併用してもよい材料としては特に制限はな
く、上記のように、親水性材料であっても疎水性材料で
あってもよく、通常は高分子材料が用いられる。具体的
には、水溶性ナイロン（例えば商品名ＡＱナイロンＡ−
７０：東レ（株）製）、ポリビニルアルコール、ポリア
クリルアミド、ポリアクリル酸、ポリエチレンオキシ
ド、ポリ酢酸ビニル部分ケン化物、ゼラチン、デンプン
等の親水性高分子材料、ポリアミド、ポリイミド、ポリ
ウレタン、ポリエステル、ポリエチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリスチレン等の疎水性高分子材料などが挙げられ
る。

【００２６】このほか、第二の被覆層には、後述するよ
うな充填材等が含有されていてもよい。

【００２７】第二の被覆層の厚さは０．１μm 以上であ
り、さらには０．２〜２０μm とすることが好ましい。

【００２８】第二の被覆層の厚さを上記範囲とすること
によって、良好な印字性能を呈する。これに対し、厚さ
が０．１μm 未満となると、印字のかすれ、にじみなど
が生じ、印字性能が低下する。また、必要以上に厚すぎ
ても効果は向上しない。

【００２９】一方、第一の被覆層の表面粗さＲ₂₀は１．
０μm 以上が好ましく、さらには１．０〜５．０μm で
あることが好ましい。このような表面粗さとすることに
よって、第二の被覆層の表面が適度な粗さを有すること
になり、第二の被覆層の表面が平滑であるときの印字の
にじみ、はじきなどが生じにくくなり、印字性能の低下
が防止される。また、第一の被覆層と第二の被覆層との
密着性が良好である。

【００３０】また、第一の被覆層の厚さは３μm 以上が
好ましく、さらには３〜２０μm であることが好まし
い。このような厚さとすることによって、上記のような
表面粗さが実現しやすくなる。

【００３１】ここで、表面粗さＲ₂₀とは、２０点平均粗
さを意味し、ＪＩＳＢ０６０１の定義に従う１０点
平均粗さＲ₁₀に準じ、測定点を１０点から２０点に増し
て新たに規定したものであり、以下のように定義され
る。

【００３２】２０点平均粗さは、例えば触針計（ Talys
tep-1,TAYLOR HOBSON 社製を使用した。）により描き出
された断面曲線を用い、この断面曲線から基準長さだけ
抜き取った部分において、記録チャート進行方向に記入
した各山頂、谷底の平均線に平行、かつ断面曲線を横切
らない任意の基準直線から縦倍率の方向に測定した最高
から１０番目までの山頂の標高の平均値と、最深から１
０番目までの谷底の標高の平均値との差をマイクロメー
ター（μm ）で表わしたものをいう。

【００３３】すなわち、例えばＲ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ
⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰を基準長さの
間に存在する抜取り部分の最高から１０番目までの山頂
の標高とし、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ
¹⁷、Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹、Ｒ²⁰を基準長さの間に存在する抜取り
部分の最深から１０番目までの谷底の標高とした場合、Ｒ₂₀＝［（Ｒ¹ ＋Ｒ² ＋Ｒ³ ＋Ｒ⁴ ＋Ｒ⁵ ＋Ｒ⁶ ＋Ｒ⁷
＋Ｒ⁸ ＋Ｒ⁹ ＋Ｒ¹⁰）−（Ｒ¹¹＋Ｒ¹²＋Ｒ¹³＋Ｒ¹⁴＋Ｒ
¹⁵＋Ｒ¹⁶＋Ｒ¹⁷＋Ｒ¹⁸＋Ｒ¹⁹＋Ｒ²⁰）］／１０で表わされる。

【００３４】なお、カットオフ値は、触針スピード３０
μm/sec で、０．１８〜９Hz程度とする。また触針計の
針圧は２mgとする。

【００３５】なお、２０点平均粗さＲ₂₀を求める場合の
基準長さＬは、原則として２０点平均粗さＲ₂₀の範囲に
よって異なり、０．８μm ≦Ｒ₂₀の場合Ｌ＝０．２５
mm ０．８μm ＜Ｒ₂₀≦６．３μm の場合Ｌ＝０．８mm ６．３μm ＜Ｒ₂₀≦２５ μm の場合Ｌ＝２．５mm ２５ μm ＜Ｒ₂₀≦１００μm の場合Ｌ＝８mm １００μm ＜Ｒ₂₀≦４００μm の場合Ｌ＝２５mm とする。

【００３６】第一の被覆層に用いる充填材には特に制限
はなく、無機微粒子や有機微粒子などであってよい。

【００３７】具体的には、シリカ、シリカゲル、硫酸バ
リウムや炭酸バリウム等のバリウム塩、クレー、タル
ク、ケイソウ土、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、ケ
イ酸アルミニウム、ゼオライト、アルミナ、ジルコニ
ア、マグネシア、窒化ホウ素、窒化チタン、プロテイン
粒子、樹脂微粒子等が挙げられる。なかでも無機微粒子
が好ましく、シリカ、シリカゲル、アルミナ、硫酸バリ
ウム、炭酸バリウム等が好ましく、特にシリカ、アルミ
ナ、硫酸バリウム等が好ましい。これらは１種のみを用
いても、２種以上を併用してもよい。

【００３８】また、充填材の形状に特に制限はなく、粒
状、球状等のいずれであってもよく、その平均粒径は走
査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等で測定して０．１〜３０μ
m 、さらには０．５〜２０μm が好ましい。球状でない
場合の平均粒径は、投影面積を円に換算して求めた値で
ある。

【００３９】第一の被覆層における充填材の含有量は、
表面粗さが前記範囲となるようにすることが好ましく、
通常１〜３０wt% 程度である。

【００４０】なお、このような第一の被覆層により第二
の被覆層の表面粗さＲ₂₀は、好ましくは、１〜５μm 程
度となる。

【００４１】第一の被覆層に用いる結着剤には特に制限
はなく、光ディスクの保護コートおよび第二の被覆層と
の密着性を確保できる材料であればいずれであってもよ
い。特に、本発明では光ディスクの保護コートが、通
常、放射線硬化樹脂で構成されることから、放射線硬化
型化合物を硬化させたものであることが好ましい。

【００４２】放射線硬化型化合物としては、イオン化エ
ネルギーに感応し、ラジカル重合性を示す不飽和二重結
合を有するアクリル酸、メタクリル酸、あるいはそれら
のエステル化合物のようなアクリル系二重結合、ジアリ
ルフタレートのようなアリル系二重結合、マレイン酸、
マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合等の放射線照射に
よる架橋あるいは重合する基を分子中に含有または導入
したモノマー、オリゴマーおよびポリマー等を挙げるこ
とができる。これらは多官能、特に３官能以上であるこ
とが好ましく、これらを１種のみ用いても２種以上併用
してもよい。

【００４３】放射線硬化性モノマーとしては、分子量２
０００未満の化合物が、オリゴマーとしては分子量２０
００〜１００００のものが好適である。これらはスチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
メタクリレート、1,6-ヘキサングリコールジアクリレー
ト、1,6-ヘキサングリコールジメタクリレート等も挙げ
られるが、特に好ましいものとしては、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート（メタクリレート）、ペンタ
エリスリトールアクリレート（メタクリレート）、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート（メタクリレー
ト）、トリメチロールプロパントリアクリレート（メタ
クリレート）、トリメチロールプロパンジアクリレート
（メタクリレート）、ウレタンエラストマーのアクリル
変性体、あるいはこれらのものにＣＯＯＨ等の官能基が
導入されたもの、フェノールエチレンオキシド付加物の
アクリレート（メタクリレート）、特願昭６２−０７２
８８８号に示されるペンタエリスリトール縮合環にアク
リル基（メタクリル基）またはε−カプロラクトン−ア
クリル基のついた化合物、および特願昭６２−０７２８
８８号に示される特殊アクリレート類等のアクリル基含
有モノマーおよび／またはオリゴマーが挙げられる。こ
の他、放射線硬化性オリゴマーとしては、ウレタンエラ
ストマーのアクリル変性体、あるいはこれらのものにＣ
ＯＯＨ等の官能基が導入されたもの等が挙げられる。

【００４４】また、上記の化合物に加えて、あるいはこ
れにかえて熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによ
って得られる放射線硬化型化合物を用いてもよい。この
ような放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジカル重
合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタク
リル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアク
リル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系
二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結
合等の、放射線照射による架橋あるいは重合する基を熱
可塑性樹脂の分子中に含有、または導入した樹脂であ
る。放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例と
しては、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリエステル樹
脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フ
ェノキシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができ
る。その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂
としては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエス
テル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（Ｐ
ＶＰオレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミ
ド樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸
基を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステ
ルを重合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等
も有効である。

【００４５】このような放射線硬化型化合物を硬化させ
るが、硬化は第一の被覆層の塗膜を形成し、放射線を硬
化することにより行う。硬化に用いられる放射線として
は電子線、紫外線等が挙げられるが、特に紫外線が好ま
しい。

【００４６】第一の被覆層における結着剤の含有量は９
９〜３０wt% 、さらには９８〜５０wt% であることが好
ましい。このような含有量とすることによって、充填材
量を適正にすることができ、被膜強度および耐吸湿性が
十分となる。

【００４７】本発明では、放射線硬化型化合物とともに
重合開始剤を用いることが好ましく、特に紫外線照射に
よる硬化では光重合開始剤を用いることが好ましい。

【００４８】光重合開始剤としては、特に制限はなく、
安息香酸エステル類、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾイ
ン誘導体、チオキサントン誘導体、アセトフェノン誘導
体、プロピオフェノン誘導体およびベンジルなどを用い
ることができる。

【００４９】具体的には、メチル−オルソベンゾイルベ
ンゾエート、ベンゾフェノン、４，４−ビスジエチルア
ミノベンゾフェノン、ジベンゾスベロン、ベンソイルア
ルキルエーテル（Ｒ＝Ｃ₁ 〜Ｃ₈ の分岐を含んでもよい
アルキル基）、１−フェニル−１，２−プロパンジオン
−２−（ο−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェ
ニル−１，２−プロパンジオン−２−（ο−ベンゾイ
ル）オキシム、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセ
トフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、塩素
化アセトフェノン誘導体、４−イソプロピル−２−ヒド
ロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、２−ヒドロキ
シ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２
−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンおよびベン
ジル等が挙げられる。これらのうちでも特に好ましい重
合開始剤としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−
フェニルプロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−２
−フェニルアセトフェノン、メチル−オルソベンゾイル
ベンゾエート等である。なお、これら特に好ましい重合
開始剤のうち、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェ
ニルプロパン−１−オンは、ダロキュア１１７３（メル
ク社製）、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノンは、イルガキュア６５１（日本チバガイギー社
製）として市販されているものである。

【００５０】第一の被覆層における重合開始剤の含有量
は、放射線硬化型化合物の１〜５wt% 程度とすることが
好ましい。

【００５１】本発明において、放射線硬化型化合物は重
合開始剤と組み合わせて市販されているものをそのまま
用いることができ、このようなものとしては、光反応性
オリゴマーと光反応性モノマーと光重合開始剤との混合
物として市販されている光ディスク用トップコート剤Ｓ
Ｄ−２１１（大日本インキ社製）などを挙げることがで
きる。

【００５２】第一の被覆層には、このほか各種有機物や
無機物等を含有させてもよい。

【００５３】本発明において、第一および第二の被覆層
を形成するには、以下のように行う。

【００５４】第一の被覆層は、光ディスクの保護コート
上に充填材および結合剤成分を所定量含有する塗布液を
調製し、塗膜を形成し乾燥して作製する。

【００５５】塗布液は、結合剤成分が液体であるときに
は溶媒を用いる必要はないが、必要に応じ、アルコー
ル、ケトン、エーテル、炭化水素等の溶媒を用いてもよ
い。

【００５６】塗布方法としては公知の種々の方法、例え
ばスピンコート法、スプレーコート法、ディッピング
法、グラビアロールコート法、ナイフコート法、リバー
スロールコート法、スクリーン印刷法、バーコート法等
を用いればよく、適宜選択すればよい。

【００５７】本発明では、第一の被覆層の塗膜に放射線
硬化型化合物を含有させることが好ましいため、塗膜形
成後、塗膜に放射線を照射して硬化する。なお、溶媒を
用いた場合は乾燥により溶媒を除去した後に硬化すれば
よい。放射線としては前述のように紫外線が好ましく、
この場合、照射する紫外線強度は、５０mW/cm²程度以
上、照射量は２００〜２０００mJ/cm²程度とすればよ
い。また、紫外線源としては、水銀灯、メタルハライド
ランプなど通常のものを用いればよい。

【００５８】このように第一の被覆層を形成したのち、
第二の被覆層を形成する。第二の被覆層は、ビニルピロ
リドンポリマーを所定量含有する塗布液を調製し、塗膜
を形成し乾燥して作製する。

【００５９】塗布液は、溶媒を用いて調製するが、用い
る溶媒としてはビニルピロリドンポリマーおよびこれと
併用する成分（ただし、充填材を添加するときはこれを
除く。）を溶解するものであれば特に制限はなく、具体
的には水、各種アルコール等の親水性溶媒やこれらの混
合溶媒が挙げられる。

【００６０】塗布方法には特に制限はなく、第一の被覆
層の場合と同様の方法が挙げられ、適宜選択すればよ
い。

【００６１】塗膜形成後は、加熱乾燥すればよく、通常
４０〜９０℃の温度で０．５〜５時間程度の処理とすれ
ばよい。

【００６２】上記のような第一および第二の被覆層を有
する光ディスクは、第一の被覆層が形成される保護コー
トを２層以上の多層構成とすることが好ましい。多層構
成とすることにより、第一の被覆層中に含有される充填
材の形状等によっては光ディスクの記録再生特性に悪影
響を及ぼすことがあるが、これを防止することができ
る。

【００６３】本発明の光ディスクの一構成例として、追
記型光記録ディスク（ＣＤ−Ｒ）が図１に示されてい
る。図１の光ディスクは、２層構成の保護コートを有
し、保護コート上に、前記したような、第一および第二
の被覆層を設けたものである。

【００６４】図１に示される光ディスク１は、基板２
と、基板２上に形成された色素を主成分とする記録層３
と、記録層３に密着して形成された反射層４とを有する
光ディスク本体を具備し、さらに下部保護コート５およ
び上部保護コート６を有する。そして、上部保護コート
６上に第一の被覆層７が設けられており、第一の被覆層
７上にさらに第二の被覆層８が設けられている。

【００６５】基板２は、記録光および再生光（波長６０
０〜９００nm程度、特に波長７７０〜９００nm程度の半
導体レーザー光、特に７８０nm）に対し、実質的に透明
（好ましくは透過率８８％以上）な樹脂あるいはガラス
から形成されたものを用いればよい。これにより、基板
裏面側からの記録および再生が可能となる。

【００６６】基板材質としては、樹脂を用いることが好
ましく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、アモル
ファスポリオレフィン、ＴＰＸ等の各種熱可塑性樹脂が
好適である。基板２は射出成形等の公知の方法に従い製
造すればよい。また、その際、トラッキング用やアドレ
ス用等のために、グルーブ１１等の所定のパターンを基
板表面に形成することが好ましい。なお、基板２製造後
に、２Ｐ法等によりグルーブ等の所定のパターンを有す
る樹脂層を形成してもよい。

【００６７】記録層３は、１種類の色素だけを含有して
もよく、あるいは２種以上の色素が相溶した構成であっ
てもよい。

【００６８】記録層３に用いる光吸収性の色素として
は、吸収極大が６００〜９００nm、好ましくは６００〜
８００nm、より好ましくは６５０〜７５０nmであれば、
他に特に制限はなく、例えばシアニン系、フタロシアニ
ン系、ナフタロシアニン系、アントラキノン系、アゾ
系、トリフェニルメタン系、ピリリウムないしチアピリ
リウム塩系、スクワリリウム系、クロコニウム系、金属
錯体色素系等から１種ないし２種以上を目的に応じて適
宜選択すればよい。

【００６９】また、光吸収色素にクエンチャーを混合し
てもよい。さらに、色素カチオンとクエンチャーアニオ
ンとのイオン結合体を光吸収色素として用いてもよい。

【００７０】クエンチャーとしては、アセチルアセトナ
ート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフェニルジ
チオール系などのビスジチオール系、チオカテコール
系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェノレ
ート系等の金属錯体が好ましい。また、窒素のラジカル
カチオンを有するアミン系化合物やヒンダードアミン等
のアミン系のクエンチャーも好適である。

【００７１】結合体を構成する色素としては、インドレ
ニン環を有するシアニン色素が、またクエンチャーとし
てはビスフェニルジチオール金属錯体等の金属錯体色素
が好ましい。

【００７２】記録層３は、色素および有機溶剤を含有す
る塗布液を用い、この塗布液を回転する基板上に展開塗
布するスピンコート法により形成される。

【００７３】記録形成のための塗布液に用いる有機溶剤
としては、アルコール系、ケトン系、エステル系、エー
テル系、芳香族系、ハロゲン化アルキル系、脂肪族炭化
水素系等から、用いる色素に応じて適宜選択すればよい
が、一分子中に２つ以上の官能基を有する有機溶剤が好
適である。

【００７４】スピンコート後、必要に応じて塗膜を乾燥
させる。

【００７５】このようにして形成される記録層の厚さ
は、目的とする反射率などに応じて適宜設定されるもの
であるが、通常、１０００〜３０００A 程度である。

【００７６】記録層３上には、直接密着して反射層４が
設層される。反射層４には高反射率材料を用いる。この
ような材料としては、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌやこれら
を含む合金などが好ましい。

【００７７】反射層４を形成するには、スパッタリン
グ、蒸着等の各種気相成膜法を用いればよい。

【００７８】反射層４の厚さは５００A 以上であること
が好ましい。また、厚さの上限は特にないが、コスト、
生産作業時間等を考慮すると、１７００A 程度以下であ
ることが好ましい。

【００７９】反射層４上には下部保護コート５が設けら
れ、下部保護コート５上には上部保護コート６が設けら
れている。下部保護コート５および上部保護コート６
は、ともに放射線硬化樹脂製とすることが好ましく、具
体的には、前記した放射線硬化型化合物の塗膜を放射線
硬化させた者であることが好ましい。塗布方法、硬化方
法等は、前記の第一の被覆層と同様にしてよい。この場
合、下部保護コートと上部保護コートとの樹脂材質は同
一であっても異なっていてもよく、また塗布方法も同一
であっても異なっていてもよい。

【００８０】下部保護コート５の厚さは１〜１０μm 、
さらには３〜８μm とすることが好ましく、上部保護コ
ート６の厚さは２〜２０μm 、さらには５〜１５μm と
することが好ましい。また、下部保護コート５と上部保
護コート６との合計厚さは３〜３０μm 、さらには８〜
２３μm とすることが好ましい。

【００８１】このような保護コートの厚さは、３層以上
の多層構成とするときも同様であり、１層当りの厚さは
１〜２０μm 、さらには３〜１５μm とすることが好ま
しい。

【００８２】なお、保護コートを１層のみで構成すると
きの厚さは、３〜３０μm 、さらには８〜２３μm とす
ることが好ましい。

【００８３】保護コート（多層構成のときは全層）が薄
すぎると、保護コートとしての効果が十分に得られなく
なり、記録時の信号にひずみが生じやすい。また、厚す
ぎると、このような樹脂膜の硬化の際に伴う収縮によ
り、ディスクの反りや保護コート中のクラックが生じや
すくなる。

【００８４】また、２層以上の多層構成とすることによ
って、前記のような記録再生特性の低下を防止すること
ができるが、１層当りの厚さを上記範囲とすることによ
ってこの効果を向上させることができる。

【００８５】このような上部保護コート６の２５℃での
水との接触角は、好ましくは４０°以上、より好ましく
は４０〜９０°である。このような水との接触角を有す
る上部保護コート６に対して第一の被覆層７の密着性は
十分であり、本発明の第一および第二の被覆層７、８は
有効である。

【００８６】本発明の光ディスクは、色素膜の記録層を
用いた、図示例の追記型光記録ディスクに限らず、光学
ヘッドを介して情報の再生、あるいは記録再生を行うも
のであればいずれであってもよい。例えば、このほか、
再生専用型の光ディスクや消去再生型の光磁気ディスク
などが挙げられる。

【００８７】本発明の光ディスクの被覆層では、水性イ
ンクによる書き込みが可能になる。具体的には水性ペン
やインクジェット記録方式による書き込みが可能にな
る。また、書き損じやにじみが生じた場合は印字等を消
去することができ、修正が可能である。

【００８８】ここで、水性インクとは、水溶性染料（例
えば、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブラック１９、Ｃ．Ｉ．フー
ドブラック、ウォータブラック１８７Ｌ等）を含有する
インクである。

【００８９】また、油性ペンを用いた油性インクによる
書き込みを行うこともできる。

【００９０】なお、以上、光ディスクについて述べてき
たが、各種被記録材としても本発明は有効である。

【００９１】

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。

【００９２】実施例１下記の組成の第一および第二被覆層用塗布液を各々調製
した。第一の被覆層用塗布液ＳｉＯ₂ （平均粒径１０μm ；球状）１０重量部光反応性オリゴマー［ウレタンアクリレート；アロニックスＭ−１１００（東亜合成化学社製）］２０重量部光反応性モノマー［ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート；アロニックスＭ−４００（東亜合成化学社製）］５０重量部光重合開始剤［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１− オン；ダロキュア１１７３（メルク社製）］５重量部ＢａＳＯ₄ （平均粒径５μm ；球状）１０重量部Ａｌ₂ Ｏ₃ （平均粒径１０μm ；球状）５重量部第二の被覆層用塗布液ポリビニルピロリドンＰＶＰ（重量平均分子量Ｍ_W ４０，０００）９０重量部水溶性ナイロン（東レＡＱナイロンＡ−７０）１０重量部イソプロピルアルコール１０００重量部

【００９３】第一の被覆層用塗布液を用いて、追記型コ
ンパクトディスク（ＣＤ−Ｒ）の上部保護コート上にス
クリーン印刷により塗膜を形成し、塗膜を紫外線硬化
し、第一の被覆層（乾燥膜厚１２μm ）を形成した。紫
外線硬化は、紫外線照射装置（ウシオ電気製ＵＶＭ−６
０２）を用い、４００mJ/cm²の照射条件で行った。

【００９４】次に、第一の被覆層上に第二の被覆層用塗
布液を用いて塗膜を形成し、６０℃で５時間加熱して、
第二の被覆層（乾燥膜厚５μm ）を形成した。

【００９５】このようにして、図１に示すような追記型
コンパクトディスク（ＣＤ−Ｒ）のサンプルNo. １を得
た。

【００９６】なお、この場合、上部保護コート（膜厚１
０μm ）および下部保護コート（膜厚６μm ）の各組成
は以下のとおりであり、下部保護コートはスピンコート
により塗膜を形成して紫外線硬化させたものであり、上
部保護コートはスクリーン印刷により塗膜を形成して紫
外線硬化させたものである。

【００９７】上部保護コート組成多官能オリゴエステルアクリレート９７重量部（アロニックスＭ−８１００：東亜合成化学社製）２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン３重量部（ダロキュア１１７３：メルク社製）下部保護コート組成多官能オリゴエステルアクリレート（アロニックスＭ−８１００：東亜合成化学社製）７０重量部ラウリルアクリレート（油脂Ｌ−Ａ：共栄社製）２７重量部２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン３重量部（ダロキュア１１７３：メルク社製）

【００９８】サンプルNo. １において、第一の被覆層の
みとし、第二の被覆層を設けないサンプルNo. ２を作製
した。ただし、膜厚は１５μm とした。また、第二の被
覆層のみとし、その膜厚を５μm としたサンプルNo. ３
を作製した。さらに、サンプルNo. １において、第一の
被覆層に充填材を添加しないサンプルNo. ４、第二の被
覆層のＰＶＰの重量平均分子量Ｍ_W をかえたサンプルN
o. ５、ＰＶＰの含有量をかえたサンプルNo. ６、第二
の被覆層の膜厚をかえたサンプルNo. ７をそれぞれ作製
した。また、サンプルNo. １において、第一および第二
の被覆層成分をすべて含有する被覆層を１層（膜厚１０
μm ）のみとしたサンプルNo. ８を作製した。サンプル
No. ８は、Ｒ₂₀がサンプルNo. １とほぼ同等となるよう
にした。

【００９９】これらのサンプルについて、水性ペンを用
いて文字の書き込みを行い、書き込んだ文字の印字性
能、印字消去性、被覆層の密着性を以下のようにして調
べた。またサンプルNo. １、２、４〜７については、前
述のようにして、第一の被覆層のＲ₂₀を求めた。結果を
表１、２に示す。なお、水性ペンの水性インク組成は以
下のとおりである。

【０１００】インク組成Ｃ．Ｉ．ダイレクトブラック１９５重量部ジエチレングリコール３０重量部水６５重量部

【０１０１】（１）印字性能各サンプル１００個につき、印字部分に、にじみ、はじ
き、かすれ等の欠陥が生じるかどうかを目視により観察
し評価した。表中には、以下の基準により○、△、×で
示し、にじみ、はじき、かすれの別を併記する。 ○：５個未満のサンプルに欠陥発生 △：５〜３０個のサンプルに欠陥発生 ×：３０個超のサンプルに欠陥発生

【０１０２】（２）印字消去性印字した各サンプル１００個につき、水をしみこませた
布で印字を消去できるかどうかを調べた。表中には、以
下の基準により○、△、×で示す。 ○：すべてのサンプルで消去でき、かすかに消し残りが
あると認められるサンプルが５個未満 △：はっきり消し残りがあると認められるサンプルが５
〜３０個 ×：印字の消去不能

【０１０３】（３）被覆層の密着性（３−１）上部保護コートと被覆層各サンプル１００個につき、３Ｍ社性のスコッチクリア
テープ６００を用い、１．２cm×１．０cmの接着面を被
覆層に貼り付けた後、引きはがして被覆層の剥離の有無
について調べた。第一および第二の被覆層が存在するサ
ンプルでは、第一の被覆層を設けた段階で調べた。

【０１０４】（３−２）被覆層同士第一および第二の被覆層の存在する各サンプル１００個
について、第二の被覆層に上記と同様にテープを貼り付
けて第二の被覆層の剥離の有無について調べた。

【０１０５】表中には、いずれについても、以下の基準
により、○、△、×で示す。 ○：５個未満のサンプルに剥離発生 △：５〜３０個のサンプルに剥離発生 ×：３０個超のサンプルに剥離発生

【０１０６】

【表１】

【０１０７】上記結果より、本発明のサンプルNo. １
は、印字性能、印字消去性に優れ、被覆層の密着性が良
好であることがわかる。また、サンプルNo. １のＲ₂₀は
２．１μm 程度であった。これに対し、充填材を含有し
ない第一の被覆層のサンプルNo. ４では第二の被覆層が
平滑（Ｒ₂₀が０．３μm 程度）となり、印字性能が劣っ
た。また、低分子量のＰＶＰを用いたサンプルNo. ５、
第二の被覆層が薄いサンプルNo. ７でも印字性能が劣っ
た。一方、サンプルNo. １の第一および第二の被覆層の
全成分を混合した被覆層を１層のみ設けたサンプルNo.
８は、Ｒ₂₀をサンプルNo. １と同等のレベルとしたもの
であり、印字性能は良好であったが、印字の消去は不能
であった。

【０１０８】以上より本発明の効果は明らかである。

【０１０９】なお、本発明のサンプルNo. １では、油性
ペンを用いた油性インクによる書き込みも良好に行うこ
とができた。

【０１１０】また、サンプルNo. １に、ＣＤ−Ｒ記録機
（パイオニア社製ＲＰＤ−１０００）によりＣＤ信号を
記録し、市販のコンパクトディスクプレーヤーで再生を
行い、Ｃ１エラーを測定したところＣＤ規格を満足する
ものであった。また、ブロック・エラー・レート（ＢＬ
ＥＲ）を測定したところ、ＣＤ規格を満足するものであ
った。

【０１１１】実施例２実施例１のサンプルNo. １、６の各々において、第二の
被覆層の水溶性ナイロンのかわりに、ポリウレタンを用
いるほかは同様にしてサンプルNo. １１、１６を作製し
た。

【０１１２】これらのサンプルについて実施例１と同様
にして特性を調べた。結果を表２に示す。なお、サンプ
ルNo. １１、１６の第一の被覆層のＲ₂₀はそれぞれ実施
例１のサンプルNo. １、６と同等であった。

【０１１３】

【表２】

【０１１４】上記結果より本発明の効果は明らかであ
る。ＰＶＰとポリウレタンとを併用したとき、ＰＶＰ量
が少なくなると印字の消去ができなくなり、印字性能が
劣ることがわかる。

【０１１５】また、サンプルNo. １１では、油性ペンに
よる書き込みを良好に行うことができた。また、Ｃ１エ
ラー、ＢＬＥＲについてもＣＤ規格を満足するものであ
り、サンプルNo. １と同等のレベルであった。

【０１１６】実施例３実施例１、２の各サンプルについて、インクジェット記
録方式で文字を記録した。このときのインク組成は以下
のとおりである。

【０１１７】インク組成Ｃ．Ｉ．ダイレクトブラック１９５重量部ジエチレングリコール３０重量部水６５重量部

【０１１８】このような記録による場合の各サンプルに
ついて、実施例１と同様に特性を調べたところ、水性ペ
ンによる書き込みの場合と同等の結果を示した。

【０１１９】実施例４実施例１のサンプルNo. １、実施例２のサンプルNo. １
１の各々において、上部保護コートと下部保護コートを
設けるかわりに、１５μm 厚の保護コートを１層設ける
ほかは同様のサンプルを作製した。サンプルNo. １に対
応するものをサンプルNo. ３１、サンプルNo. １１に対
応するものをサンプルNo. ４１とする。

【０１２０】これらのサンプルについて、実施例１と同
様に、印字性能、印字消去性、被覆層の密着性を調べた
ところ、対応するサンプルと同等であった。また、Ｃ１
エラーおよびＢＬＥＲを測定したところ、ＣＤ規格を満
足するものであったが、サンプルNo. １、No. １１に比
べてやや劣ることがわかった。

【０１２１】

【発明の効果】本発明によれば、水性インクによる書き
込みで、高品質、高品位の文字等の画像が得られるとと
もに、印字等の水性インクによって形成された画像の消
去を簡単に行うことができ、修正可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光ディスクの一構成例を示す部分断面
図である。

【符号の説明】

１光ディスク２基板３記録層４反射層５下部保護コート６上部保護コート７第一の被覆層８第二の被覆層１１グルーブ１２充填材

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光ディスク本体と、保護コートと、この保護コート上に設けられた充填材および結着剤を含
有する第一の被覆層と、この第一の被覆層上に設けられ、厚さ０．１μm 以上
の、重量平均分子量Ｍ_W３００００以上のビニルピロリ
ドンポリマーを８０wt% 以上含有する、水性インクで書
き込み可能な第二の被覆層とを有する光ディスク。
【請求項２】前記第一の被覆層の表面粗さＲ₂₀が１．
０μm 以上である請求項１の光ディスク。
【請求項３】前記充填材の平均粒径が０．１〜５０μ
m である請求項１または２の光ディスク。
【請求項４】前記充填材が無機微粒子であり、かつ前
記結着剤が放射線硬化型化合物を硬化させたものである
請求項１〜３のいずれかの光ディスク。
【請求項５】前記無機微粒子がシリカ、アルミナおよ
びバリウム塩のうちの１種以上である請求項４の光ディ
スク。
【請求項６】前記放射線硬化型化合物の硬化を紫外線
照射によって行う請求項４または５の光ディスク。
【請求項７】前記第一の被覆層の厚さが３μm 以上で
ある請求項１〜６のいずれかの光ディスク。
【請求項８】前記第一の被覆層の設けられる保護コー
トが放射線硬化樹脂で形成される請求項１〜７のいずれ
かの光ディスク。
【請求項９】前記保護コートが２層以上で構成される
請求項１〜８のいずれかの光ディスク。
【請求項１０】請求項１〜７のいずれかの第一の被覆
層と第二の被覆層とを積層した被記録材。