JPH08701B2 - ペルオキシニオブ酸ゾルおよびその製造方法 - Google Patents
ペルオキシニオブ酸ゾルおよびその製造方法Info
- Publication number
- JPH08701B2 JPH08701B2 JP1294184A JP29418489A JPH08701B2 JP H08701 B2 JPH08701 B2 JP H08701B2 JP 1294184 A JP1294184 A JP 1294184A JP 29418489 A JP29418489 A JP 29418489A JP H08701 B2 JPH08701 B2 JP H08701B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- peroxyniobate
- niobium
- sol
- aqueous solution
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G33/00—Compounds of niobium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B15/00—Peroxides; Peroxyhydrates; Peroxyacids or salts thereof; Superoxides; Ozonides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Colloid Chemistry (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はペルオキシニオブ酸ゾルおよびその製造方法
に係わり、例えば、圧電体、半導体、センサー、オプト
エレクトロニクス材、誘電体、超伝導体を作製する際の
ニオブ原料として用いて好適なペルオキシニオブ酸ゾル
およびその製造方法に関する。
に係わり、例えば、圧電体、半導体、センサー、オプト
エレクトロニクス材、誘電体、超伝導体を作製する際の
ニオブ原料として用いて好適なペルオキシニオブ酸ゾル
およびその製造方法に関する。
近年、種々の機能性セラミックスが圧電体、半導体、
センサー、オプトエレクトロニクス材、誘電体等として
脚光を浴びている。ニオブ原料はその原材料の一つとし
て用いられているものである。
センサー、オプトエレクトロニクス材、誘電体等として
脚光を浴びている。ニオブ原料はその原材料の一つとし
て用いられているものである。
ところで、例えばニオブ含有誘電体セラミックスを製
造する場合、低温で焼結し得て、しかも誘電率の高いペ
ロブスカイト相のみからなる等、物性の優れた原料粉末
を用いることが好ましく、そのためには、粒子径が小さ
く、且つ、粒度分布幅の狭い、均一微細なニオブ原料を
用いて原料粉末を作製する必要がある。
造する場合、低温で焼結し得て、しかも誘電率の高いペ
ロブスカイト相のみからなる等、物性の優れた原料粉末
を用いることが好ましく、そのためには、粒子径が小さ
く、且つ、粒度分布幅の狭い、均一微細なニオブ原料を
用いて原料粉末を作製する必要がある。
然るに、従来においては、ニオブ以外の構成元素の水
酸化物、炭酸塩等の沈澱物に、粒子径が大きく、しかも
不均一である市販の酸化ニオブまたは水酸化ニオブをス
ラリーとして混合するなどの方法により原料粉末を製造
していた。このため、均一微細な原料粉末を得ることが
困難であった。
酸化物、炭酸塩等の沈澱物に、粒子径が大きく、しかも
不均一である市販の酸化ニオブまたは水酸化ニオブをス
ラリーとして混合するなどの方法により原料粉末を製造
していた。このため、均一微細な原料粉末を得ることが
困難であった。
本発明は以上の事情に鑑みなされたものであって、そ
の目的とするところは、セラミックスのニオブ原料とし
て用いて好適であるばかりでなく、ニオブ成分を分散性
良く用いることが好ましい他のあらゆる用途に用いて好
適なペルオキシニオブ酸ゾルおよびその製造方法を提供
するにある。
の目的とするところは、セラミックスのニオブ原料とし
て用いて好適であるばかりでなく、ニオブ成分を分散性
良く用いることが好ましい他のあらゆる用途に用いて好
適なペルオキシニオブ酸ゾルおよびその製造方法を提供
するにある。
上記目的を達成するための本発明に係るペルオキシニ
オブ酸ゾル（H+〔NbO2（Ｏ）２］−）の製造方法（以
下、「本発明方法」という）は、水酸化ニオブ、酸化ニ
オブおよび五塩化ニオブの中から選ばれた少なくとも一
種のニオブ化合物に強酸と過酸化水素水とを加えてペル
オキシニオブ酸水溶液とし、次いで該水溶液を５〜50℃
の温度に保持することを骨子とする。
オブ酸ゾル（H+〔NbO2（Ｏ）２］−）の製造方法（以
下、「本発明方法」という）は、水酸化ニオブ、酸化ニ
オブおよび五塩化ニオブの中から選ばれた少なくとも一
種のニオブ化合物に強酸と過酸化水素水とを加えてペル
オキシニオブ酸水溶液とし、次いで該水溶液を５〜50℃
の温度に保持することを骨子とする。
強酸としては、濃塩酸または濃硝酸が例示され、一塩
基酸の場合は、ニオブ化合物のニオブ１モル部に対して
５モル部の強酸が必要である。
基酸の場合は、ニオブ化合物のニオブ１モル部に対して
５モル部の強酸が必要である。
過酸化水素は、ニオブ化合物をペルオキシ化して錯体
水溶液化するためのものであり、ニオブ化合物のニオブ
１モル部に対して４モル部必要である。
水溶液化するためのものであり、ニオブ化合物のニオブ
１モル部に対して４モル部必要である。
次に、本発明方法について詳しく説明する。
本発明方法は、水に不溶性のニオブ酸または五塩化ニ
オブと強酸との混合系に過酸化水素水を加えて酸化し、
ペルオキシニオブ錯体の水溶液とする工程、および、ペ
ルオキシニオブ錯体の水溶液を適宜の時間５〜50℃の温
度に保持することにより該水溶液をゾル化する工程とを
主たる有効工程とする。
オブと強酸との混合系に過酸化水素水を加えて酸化し、
ペルオキシニオブ錯体の水溶液とする工程、および、ペ
ルオキシニオブ錯体の水溶液を適宜の時間５〜50℃の温
度に保持することにより該水溶液をゾル化する工程とを
主たる有効工程とする。
上記混合系に過酸化水素水を加えてニオブ化合物を溶
解する際の液温は、室温以下の温度であればよく、５℃
以下であることが好ましく、０℃以下であることがより
好ましい。
解する際の液温は、室温以下の温度であればよく、５℃
以下であることが好ましく、０℃以下であることがより
好ましい。
なお、得られたペルオキシニオブ酸ゾルに含まれるCl
-、No3 -等の不純陰イオンおよび不純陽イオンを除去す
るために、限外濾過膜に通して精製することが好まし
い。限外濾過する場合には、アンモニア水を添加して予
めペルオキシニオブ酸ゾルを限該濾過可能なPH（１〜12
程度）に調整（通常1.5程度）しておく必要がある。因
みに、限外濾過後のゾルのPHは４程度になる。
-、No3 -等の不純陰イオンおよび不純陽イオンを除去す
るために、限外濾過膜に通して精製することが好まし
い。限外濾過する場合には、アンモニア水を添加して予
めペルオキシニオブ酸ゾルを限該濾過可能なPH（１〜12
程度）に調整（通常1.5程度）しておく必要がある。因
みに、限外濾過後のゾルのPHは４程度になる。
本発明方法においては、ゾル化を５〜50℃の温度で行
う。ゾル化温度が５℃未満の場合は、粒子径の小さいゾ
ルが得られるものの、ゾル化に多大の時間を要し効率的
でない。また、50℃を越えた場合は、得られるゾルの粒
子径が大きくなり、仮焼温度を高くする必要が生じる
等、セラミックス等の原料粉末の製造用原材料として好
ましくない。
う。ゾル化温度が５℃未満の場合は、粒子径の小さいゾ
ルが得られるものの、ゾル化に多大の時間を要し効率的
でない。また、50℃を越えた場合は、得られるゾルの粒
子径が大きくなり、仮焼温度を高くする必要が生じる
等、セラミックス等の原料粉末の製造用原材料として好
ましくない。
上記温度保持時間はゾル化温度によって異なるが、通
常、３時間程度行えばよい。
常、３時間程度行えばよい。
ところで、時を経てペルオキシニオブ酸ゾルを使用す
る場合には、ペルオキシニオブ酸水溶液に、安定剤とし
て、しゅう酸、マロン酸、コハク酸等の水溶性の有機二
塩基酸をニオブ１モル部に対して１モル部添加してゾル
化の進行を抑制しておき、使用の際に、前記安定剤と等
当量のアンモニア水を加えて該安定剤を分解した上で、
上述のゾル化を行うことが好ましい。ゾル化後時を経る
と、ニオブ原料が均一微細なものではなくなるからであ
る。
る場合には、ペルオキシニオブ酸水溶液に、安定剤とし
て、しゅう酸、マロン酸、コハク酸等の水溶性の有機二
塩基酸をニオブ１モル部に対して１モル部添加してゾル
化の進行を抑制しておき、使用の際に、前記安定剤と等
当量のアンモニア水を加えて該安定剤を分解した上で、
上述のゾル化を行うことが好ましい。ゾル化後時を経る
と、ニオブ原料が均一微細なものではなくなるからであ
る。
以下、本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説明す
るが、本発明は下記実施例により何ら限定されるもので
はなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変更実
施可能なものである。
るが、本発明は下記実施例により何ら限定されるもので
はなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変更実
施可能なものである。
（実施例１） 水酸化ニオブ（三井金属鉱業社製）0.2モルを純水300
mlに分散させ、これに濃塩酸１モルを加えた後、撹拌し
ながら過酸化水素0.8モルを徐々に加え、純水を追加し
て水酸化ニオブをペルオキシニオブ錯体に変化させペル
オキシニオブの錯体水溶液１を調製した。この水溶液
を45℃の温度に、48時間保持してペルオキシニオブ酸ゾ
ルを生成させた。
mlに分散させ、これに濃塩酸１モルを加えた後、撹拌し
ながら過酸化水素0.8モルを徐々に加え、純水を追加し
て水酸化ニオブをペルオキシニオブ錯体に変化させペル
オキシニオブの錯体水溶液１を調製した。この水溶液
を45℃の温度に、48時間保持してペルオキシニオブ酸ゾ
ルを生成させた。
次いで、生成したペルオキシニオブ酸ゾルに6Nアンモ
ニア水を滴下してそのPHを1.5に調整した。なお、この
ゾルのコロイド粒子の粒径は0.02μｍ（レーザー粒径解
析システムLPA−3000/3100、大塚電子社製にて測定）で
あった。
ニア水を滴下してそのPHを1.5に調整した。なお、この
ゾルのコロイド粒子の粒径は0.02μｍ（レーザー粒径解
析システムLPA−3000/3100、大塚電子社製にて測定）で
あった。
PH調整により限外濾過可能になった上記ペルオキシニ
オブ酸ゾルを限外濾過膜（ポリスルホン、分画分子量10
000）に通して塩素イオン等の不純イオンを除去して精
製した。
オブ酸ゾルを限外濾過膜（ポリスルホン、分画分子量10
000）に通して塩素イオン等の不純イオンを除去して精
製した。
（実施例２） 水酸化ニオブ（三井金属鉱業社製）0.2モルを純水300
mlに分散させ、これに濃塩酸１モルを加えた後、撹拌し
ながら過酸化水素0.8モルを徐々に加え、純水を追加し
て水酸化ニオブをペルオキシニオブ錯体に変化させペル
オキシニオブの錯体水溶液１に調製した。この水溶液
に、安定剤として、しゅう酸0.2モルを添加した。その
後、10日間放置して沈澱形成の有無を観察したところ、
沈澱は全く見られなかった。因みに、安定剤を添加しな
かったこと以外は上記と同様の方法により別途調製した
ペルオキシニオブ酸水溶液は、１日経過した時点で黄色
沈澱を生成した。
mlに分散させ、これに濃塩酸１モルを加えた後、撹拌し
ながら過酸化水素0.8モルを徐々に加え、純水を追加し
て水酸化ニオブをペルオキシニオブ錯体に変化させペル
オキシニオブの錯体水溶液１に調製した。この水溶液
に、安定剤として、しゅう酸0.2モルを添加した。その
後、10日間放置して沈澱形成の有無を観察したところ、
沈澱は全く見られなかった。因みに、安定剤を添加しな
かったこと以外は上記と同様の方法により別途調製した
ペルオキシニオブ酸水溶液は、１日経過した時点で黄色
沈澱を生成した。
上記、安定剤を添加したペルオキシニオブ酸水溶液
に、安定剤分解剤として、アンモニア0.4モルを加えて
中和した後、該水溶液を45℃の温度に48時間保持してペ
ルオキシニオブ酸ゾルを生成させた。
に、安定剤分解剤として、アンモニア0.4モルを加えて
中和した後、該水溶液を45℃の温度に48時間保持してペ
ルオキシニオブ酸ゾルを生成させた。
次いで、生成したペルオキシニオブ酸ゾルに6Nアンモ
ニア水を滴下してそのPHを1.5に調整した。なお、この
ゾルのコロイド粒子の粒径は0.02μｍ（レーザー粒径解
析システムLPA−3000/3100、大塚電子社製にて測定）で
あった。
ニア水を滴下してそのPHを1.5に調整した。なお、この
ゾルのコロイド粒子の粒径は0.02μｍ（レーザー粒径解
析システムLPA−3000/3100、大塚電子社製にて測定）で
あった。
PH調整により限外濾過可能になった上記ペルオキシニ
オブ酸ゾルを限外濾過膜（ポリスルホン、分画分子量10
000）に通して塩素イオン等の不純イオンを除去して精
製した。
オブ酸ゾルを限外濾過膜（ポリスルホン、分画分子量10
000）に通して塩素イオン等の不純イオンを除去して精
製した。
（実施例３） 濃塩酸１モルに代えて、濃硝酸１モルを用いたこと以
外は実施例１と同様にして、ペルオキシニオブ酸ゾルお
よび精製ペルオキシニオブ酸ゾルを作製した。
外は実施例１と同様にして、ペルオキシニオブ酸ゾルお
よび精製ペルオキシニオブ酸ゾルを作製した。
（参考例１） 0.2モルの硝酸マグネシウム水溶液500mlに強塩基性ア
ニオン交換樹脂（イオン交換容量1.04eq/R−ｌ、住友化
学工業社製、商品名「Duolite A−101D」）500mlを加
え、30分間緩速撹拌した後、アニオン交換樹脂と水酸化
マグネシウムゾルとに分離した。
ニオン交換樹脂（イオン交換容量1.04eq/R−ｌ、住友化
学工業社製、商品名「Duolite A−101D」）500mlを加
え、30分間緩速撹拌した後、アニオン交換樹脂と水酸化
マグネシウムゾルとに分離した。
この水酸化マグネシウムゾルと上記実施例１で得た精
製ペルオキシニオブ酸ゾルとを撹拌しつつ混合し、この
混合物をスプレードライ法で乾燥した後、アルミナルツ
ボ中650℃の温度で、２時間加熱して仮焼（以下「Ｂ仮
焼」という）した。
製ペルオキシニオブ酸ゾルとを撹拌しつつ混合し、この
混合物をスプレードライ法で乾燥した後、アルミナルツ
ボ中650℃の温度で、２時間加熱して仮焼（以下「Ｂ仮
焼」という）した。
得られたＢ仮焼粉末の平均粒子径は0.08μｍ（レーザ
ー粒径解析システムLPA−3000/3100、大塚電子社製にて
測定）であった。また、Ｘ線回析によりMgNb2O6結晶で
あることが確認された。
ー粒径解析システムLPA−3000/3100、大塚電子社製にて
測定）であった。また、Ｘ線回析によりMgNb2O6結晶で
あることが確認された。
このＢ仮焼粉末にPb（Mg1/3Nb2/3）O3となるように酸
化鉛を配合し、この配合物と純水とをジルコニアボール
（5mmφ）とともにポリアミド製の容器に入れた後、該
ポットをボールミルに設置して15時間湿式混合し、次い
で、ジルコニアボールを分離して内容物を乾燥した。得
られた乾燥粉末をアルミナルツボ中700℃の温度で、２
時間仮焼（以下、「Ｐ仮焼」という）して、Pb（Mg0.33
Nb0.66）O3の組成のセラミックス製造用原料粉末を得
た。
化鉛を配合し、この配合物と純水とをジルコニアボール
（5mmφ）とともにポリアミド製の容器に入れた後、該
ポットをボールミルに設置して15時間湿式混合し、次い
で、ジルコニアボールを分離して内容物を乾燥した。得
られた乾燥粉末をアルミナルツボ中700℃の温度で、２
時間仮焼（以下、「Ｐ仮焼」という）して、Pb（Mg0.33
Nb0.66）O3の組成のセラミックス製造用原料粉末を得
た。
得られたＰ仮化焼粉末について、Ｘ線回析によりペロ
ブスカイト率を算出した結果を表に示す。
ブスカイト率を算出した結果を表に示す。
上記Ｐ仮焼粉末を、ボールミルにて15時間湿式粉砕
し、その粉砕物を乾燥した後、８重量％のポリビニルア
ルコール水溶液を粉末に対して８重量％添加して顆粒化
した。この顆粒物を1000kg/cm2の圧力で加圧成形してペ
レット状のグリーン成形体とした。
し、その粉砕物を乾燥した後、８重量％のポリビニルア
ルコール水溶液を粉末に対して８重量％添加して顆粒化
した。この顆粒物を1000kg/cm2の圧力で加圧成形してペ
レット状のグリーン成形体とした。
次いで、上記グリーン成形体を電気炉に収容して500
℃の温度で４時間加熱し、ポリビニルアルコールを熱分
解させた後昇温し、温度950℃で２時間焼成して焼結ペ
レットを得た。
℃の温度で４時間加熱し、ポリビニルアルコールを熱分
解させた後昇温し、温度950℃で２時間焼成して焼結ペ
レットを得た。
得られた焼結ペレットについて、Ｘ線回析によりペロ
ブスカイト率を算出した結果を表に示す。
ブスカイト率を算出した結果を表に示す。
（参考例２） 実施例１で得た精製ペルオキシニオブ酸ゾルに代えて
実施例２で得た精製ペルオキシニオブ酸ゾルを用いたこ
と以外は参考例１と同様にして、鉛系ペロブスカイト型
セラミックスの焼結ペレットを作製した。
実施例２で得た精製ペルオキシニオブ酸ゾルを用いたこ
と以外は参考例１と同様にして、鉛系ペロブスカイト型
セラミックスの焼結ペレットを作製した。
得られた焼結ペレットについて、Ｘ線回析によりペロ
ブスカイト率を算出した結果を表に示す。
ブスカイト率を算出した結果を表に示す。
（参考例３） 実施例１で得た精製ペルオキシニオブ酸ゾルに代えて
実施例３で得た精製ペルオキシニオブ酸ゾルを用いたこ
と以外は参考例１と同様にして、鉛系ペロブスカイト型
セラミックスの焼結ペレットを作製した。
実施例３で得た精製ペルオキシニオブ酸ゾルを用いたこ
と以外は参考例１と同様にして、鉛系ペロブスカイト型
セラミックスの焼結ペレットを作製した。
得られた焼結ペレットについて、Ｘ線回析によりペロ
ブスカイト率を算出した結果を表に示す。
ブスカイト率を算出した結果を表に示す。
（比較参考例１） 酸化マグネシウム（宇部化学社製）および酸化ニオブ
（三井金属鉱業社製）の各粉末をMgNb2O6の組成になる
ように配合し、この配合物と純水とジルコニアボール
（5mmφ）とをポリアミド製ポットに入れた後、該ポッ
トをボールミルに設置して15時間湿式混合し、次いで、
ジルコニアボールを分離して乾燥し、Ｂ仮焼した。この
Ｂ仮焼粉末にPb（Mg1/3Nb2/3）O3となるように酸化鉛
（大日本塗料社製）を配合し、以下、参考例１と同様に
して、二段仮焼および焼結を行い、順次Ｐ仮焼粉末およ
び焼結ペレットを得、これらについてＸ線回析によるペ
ロブスカイト率を算出した。結果を表に示す。なお、Ｂ
仮焼、Ｐ仮焼および焼結は、表に示す所定の温度で２時
間行った。
（三井金属鉱業社製）の各粉末をMgNb2O6の組成になる
ように配合し、この配合物と純水とジルコニアボール
（5mmφ）とをポリアミド製ポットに入れた後、該ポッ
トをボールミルに設置して15時間湿式混合し、次いで、
ジルコニアボールを分離して乾燥し、Ｂ仮焼した。この
Ｂ仮焼粉末にPb（Mg1/3Nb2/3）O3となるように酸化鉛
（大日本塗料社製）を配合し、以下、参考例１と同様に
して、二段仮焼および焼結を行い、順次Ｐ仮焼粉末およ
び焼結ペレットを得、これらについてＸ線回析によるペ
ロブスカイト率を算出した。結果を表に示す。なお、Ｂ
仮焼、Ｐ仮焼および焼結は、表に示す所定の温度で２時
間行った。
（比較参考例２〜４） 酸化マグネシウムに代えて、各々酸化第２鉄（レアメ
タル社製）（比較参考例２）、酸化コバルト（和光純薬
社製）（比較参考例３）、酸化ニッケル（キシダ化学社
製）（比較参考例４）を用いたこと以外は比較参考例１
と同様にして、二段仮焼および焼結を行い、順次Ｐ仮焼
粉末および焼結ペレットを得、これらについてＸ線回析
によりペロブスカイト率を算出した。結果を表に示す。
なお、Ｂ仮焼、Ｐ仮焼および焼結は、表に示す所定の各
温度で２時間行った。
タル社製）（比較参考例２）、酸化コバルト（和光純薬
社製）（比較参考例３）、酸化ニッケル（キシダ化学社
製）（比較参考例４）を用いたこと以外は比較参考例１
と同様にして、二段仮焼および焼結を行い、順次Ｐ仮焼
粉末および焼結ペレットを得、これらについてＸ線回析
によりペロブスカイト率を算出した。結果を表に示す。
なお、Ｂ仮焼、Ｐ仮焼および焼結は、表に示す所定の各
温度で２時間行った。
表に示すように、参考例１〜３で得た各焼結ペレット
のペロブスカイト率はすべて100％であるのに対して、
比較のために作製した各焼結ペレット（比較参考例１〜
４）のペロブスカイト率はいずれも100％未満（96.5〜9
7.5％）と低い。
のペロブスカイト率はすべて100％であるのに対して、
比較のために作製した各焼結ペレット（比較参考例１〜
４）のペロブスカイト率はいずれも100％未満（96.5〜9
7.5％）と低い。
このことから、本発明に係るペルオキシニオブ酸ゾル
をニオブ原料として用いて作製されたセラミックスはい
ずれも、ペロブスカイト相のみからなるのに対して、酸
化ニオブをニオブ原料として用いて作製されたものは全
て、ペロブスカイト相とパイロクロア相との混相からな
るものであることが確認された。
をニオブ原料として用いて作製されたセラミックスはい
ずれも、ペロブスカイト相のみからなるのに対して、酸
化ニオブをニオブ原料として用いて作製されたものは全
て、ペロブスカイト相とパイロクロア相との混相からな
るものであることが確認された。
なお、上記参考例ではいずれもニオブ含有鉛系ペロブ
スカイト型セラミックスについてのみ説明したが、本発
明に係るペルオキシニオブ酸ゾルは鉛系に限らずチタン
酸バリウム系等、種々のセラミックスの製造原料として
用い得ることはもとより、セラミックスに限らず、ニオ
ブ成分を分散性良く用いることが好ましい種々の用途に
好適に用い得るものである。
スカイト型セラミックスについてのみ説明したが、本発
明に係るペルオキシニオブ酸ゾルは鉛系に限らずチタン
酸バリウム系等、種々のセラミックスの製造原料として
用い得ることはもとより、セラミックスに限らず、ニオ
ブ成分を分散性良く用いることが好ましい種々の用途に
好適に用い得るものである。
以上、詳細に説明したように、本発明方法によによれ
ば、均一微細な組成を有するセラミックスを製造し得る
ペルオキシニオブ酸ゾルを得ることができ、その結果、
圧電体、半導体、センサー、オプトエレクトロニクス
材、誘電体、超伝導体等の原材料にニオブ原料を適用す
ることが可能になる他、ニオブ成分を分散性良く用いる
ことが好ましい他のあらゆる用途に好適に用い得るニオ
ブ原料を実現する等、本発明は優れた特有の効果を奏す
るものである。
ば、均一微細な組成を有するセラミックスを製造し得る
ペルオキシニオブ酸ゾルを得ることができ、その結果、
圧電体、半導体、センサー、オプトエレクトロニクス
材、誘電体、超伝導体等の原材料にニオブ原料を適用す
ることが可能になる他、ニオブ成分を分散性良く用いる
ことが好ましい他のあらゆる用途に好適に用い得るニオ
ブ原料を実現する等、本発明は優れた特有の効果を奏す
るものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安倍 一允 大阪府堺市戎島町５丁１番地 堺化学工業 株式会社内 (72)発明者 宇野 肇 大阪府堺市戎島町５丁１番地 堺化学工業 株式会社内 (72)発明者 白崎 信一 茨城県新治郡桜村竹園３―610―201
Claims (7)
- 【請求項１】水酸化ニオブ、酸化ニオブおよび五塩化ニ
オブの中から選ばれた少なくとも一種のニオブ化合物に
強酸と過酸化水素水とを加えてペルオキシニオブ酸水溶
液とし、次いで該水溶液を５〜50℃の温度に保持するこ
とを特徴とするペルオキシニオブ酸ゾルの製造方法。 - 【請求項２】水酸化ニオブ、酸化ニオブおよび五塩化ニ
オブの中から選ばれた少なくとも一種のニオブ化合物に
強酸と過酸化水素水とを加えてペルオキシニオブ酸水溶
液とし、次いで該水溶液を５〜50℃の温度に保持してペ
ルオキシニオブ酸ゾルを生成させた後、限外濾過膜を用
いて精製することを特徴とするペルオキシニオブ酸ゾル
の製造方法。 - 【請求項３】水酸化ニオブ、酸化ニオブおよび五塩化ニ
オブの中から選ばれた少なくとも一種のニオブ化合物に
強酸と過酸化水素水とを加えて得たペルオキシニオブ酸
水溶液にさらに水溶性の有機二塩基酸を安定剤として添
加したものに、アンモニア水を添加し、次いでこの水溶
液を５〜50℃の温度に保持することを特徴とするペルオ
キシニオブ酸ゾルの製造方法。 - 【請求項４】水酸化ニオブ、酸化ニオブおよび五塩化ニ
オブの中から選ばれた少なくとも一種のニオブ化合物に
強酸と過酸化水素水とを加えて得たペルオキシニオブ酸
水溶液にさらに水溶性の有機二塩基酸を安定剤として添
加したものに、アンモニア水を添加し、次いでこの水溶
液を５〜50℃の温度に保持してペルオキシニオブ酸ゾル
を生成させた後、限外濾過膜を用いて精製することを特
徴とするペルオキシニオブ酸ゾルの製造方法。 - 【請求項５】前記少なくとも一種のニオブ化合物に強酸
と過酸化水素水とを加えてペルオキシニオブ酸水溶液と
する反応を５℃を越えない温度で行う請求項１〜４のい
ずれかに記載のペルオキシニオブ酸ゾルの製造方法。 - 【請求項６】前記強酸が濃塩酸または濃硝酸である請求
項１〜５のいずれかに記載のペルオキシニオブ酸ゾルの
製造方法。 - 【請求項７】請求項１〜６のいずれかに記載の製造方法
により製造されたペルオキシニオブ酸ゾル。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1294184A JPH08701B2 (ja) | 1989-11-13 | 1989-11-13 | ペルオキシニオブ酸ゾルおよびその製造方法 |
| EP90312386A EP0428388B1 (en) | 1989-11-13 | 1990-11-13 | Process for producing peroxoniobic acid sol |
| DE69018934T DE69018934T2 (de) | 1989-11-13 | 1990-11-13 | Verfahren zur Erzeugung einer Peroxoniobsäuresol. |
| KR1019900018570A KR0160778B1 (ko) | 1989-11-13 | 1990-11-13 | 과산화니오브산졸 및 그 제조방법 |
| US07/611,265 US5102649A (en) | 1989-11-13 | 1990-11-13 | Process for producing peroxoniobic acid sol |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1294184A JPH08701B2 (ja) | 1989-11-13 | 1989-11-13 | ペルオキシニオブ酸ゾルおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03153527A JPH03153527A (ja) | 1991-07-01 |
| JPH08701B2 true JPH08701B2 (ja) | 1996-01-10 |
Family
ID=17804401
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1294184A Expired - Lifetime JPH08701B2 (ja) | 1989-11-13 | 1989-11-13 | ペルオキシニオブ酸ゾルおよびその製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5102649A (ja) |
| EP (1) | EP0428388B1 (ja) |
| JP (1) | JPH08701B2 (ja) |
| KR (1) | KR0160778B1 (ja) |
| DE (1) | DE69018934T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008081378A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | ニオブ系酸化物微粒子の製造方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4651000B2 (ja) * | 2004-01-13 | 2011-03-16 | 多木化学株式会社 | 酸化ニオブゾルの製造方法 |
| JP4582789B2 (ja) * | 2005-07-25 | 2010-11-17 | 多木化学株式会社 | セリア−ジルコニア固溶体ゾル及びその製造方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2259396A (en) * | 1938-12-29 | 1941-10-14 | Walter H Duisberg | Process of recovering niobium oxide fromits ores |
| SU242158A1 (ja) * | 1967-05-11 | 1974-09-25 | Г. И. Горштейн, В. С. Нечаева, Л. В. Васильева, О. Д. Звонцова, Р. Е. Гуревич, И. А. Кифарова , В. К. Малашенкова | |
| US3873584A (en) * | 1972-12-27 | 1975-03-25 | Said Burke By Said Kizer And D | Hydroxyl containing unsaturated drying oil polymers and processes for preparing polymers |
| JPS553717A (en) * | 1978-06-19 | 1980-01-11 | Masachika Sakao | Production of special confection |
| JPH05110197A (ja) * | 1991-10-16 | 1993-04-30 | Hikari Gijutsu Kenkyu Kaihatsu Kk | 半導体レーザ |
-
1989
- 1989-11-13 JP JP1294184A patent/JPH08701B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-11-13 DE DE69018934T patent/DE69018934T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-13 US US07/611,265 patent/US5102649A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-11-13 EP EP90312386A patent/EP0428388B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-11-13 KR KR1019900018570A patent/KR0160778B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008081378A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | ニオブ系酸化物微粒子の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5102649A (en) | 1992-04-07 |
| KR910021341A (ko) | 1991-12-20 |
| EP0428388B1 (en) | 1995-04-26 |
| DE69018934T2 (de) | 1995-12-14 |
| DE69018934D1 (de) | 1995-06-01 |
| KR0160778B1 (ko) | 1998-11-16 |
| JPH03153527A (ja) | 1991-07-01 |
| EP0428388A1 (en) | 1991-05-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS63156057A (ja) | 高密度ペロブスカイトセラミックスの製造法 | |
| US5180699A (en) | Process for producing powder material for lead perovskite ceramic | |
| KR920000783B1 (ko) | 네오디뮴 티타네이트 또는 바륨 네오디뮴 티타네이트의 제조방법 | |
| JP2598786B2 (ja) | ペロブストカイト系機能性セラミツクの製造方法 | |
| JPH08701B2 (ja) | ペルオキシニオブ酸ゾルおよびその製造方法 | |
| JPH0832559B2 (ja) | ペロブスカイト型化合物の無機微粉体の製造方法 | |
| JPH027906B2 (ja) | ||
| JPH0818871B2 (ja) | ジルコン酸チタン酸鉛系圧電磁器の製造方法 | |
| JP2580346B2 (ja) | 金属水酸化物ゾルの製造方法 | |
| JPH0210091B2 (ja) | ||
| JPS61251516A (ja) | ペロブスカイト型酸化物の製造法 | |
| JPH0818870B2 (ja) | ジルコン酸チタン酸鉛系圧電磁器の製造方法 | |
| JPS61163118A (ja) | 粉末分散湿式法による易焼結性ペロブスカイト原料粉末の製造法 | |
| JPH0210090B2 (ja) | ||
| JPS63156065A (ja) | ジルコニウムを含むペロブスカイトセラミツクスの製造方法 | |
| JPS62138354A (ja) | 易焼結性鉛含有酸化物粉末の製造法 | |
| JPH0329729B2 (ja) | ||
| JPH0258230B2 (ja) | ||
| JPS6325223A (ja) | セラミツク原料粉末の製造方法 | |
| JP2849207B2 (ja) | ソフトフェライト用原料酸化物の製造方法 | |
| JP2538439B2 (ja) | 鉛系誘電体磁器組成物の製造方法 | |
| JPH0784346B2 (ja) | ニオブを含むペロブスカイトセラミックスの製造方法 | |
| JPS63117914A (ja) | Ｐｔｃサ−ミスタ用金属酸化物粉末の製造方法 | |
| JP2538438B2 (ja) | 鉛系誘電体磁器組成物の製造方法 | |
| JPH0456777B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080110 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090110 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090110 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100110 Year of fee payment: 14 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |