JPH0866720A - 耐剥離性に優れた硬質皮膜を有する押出し加工用ダイスとその製造方法及び表面性状に優れたアルミニウム押出し形材 - Google Patents

耐剥離性に優れた硬質皮膜を有する押出し加工用ダイスとその製造方法及び表面性状に優れたアルミニウム押出し形材

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JPH0866720A
JPH0866720A JP22573894A JP22573894A JPH0866720A JP H0866720 A JPH0866720 A JP H0866720A JP 22573894 A JP22573894 A JP 22573894A JP 22573894 A JP22573894 A JP 22573894A JP H0866720 A JPH0866720 A JP H0866720A
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利雄 川合
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 押出し形材の表面性状を改善する硬質皮膜が
施された押出し加工用ダイスを提供する。 【構成】 熱間工具鋼を基材とし、イオンビーム支援蒸
着法で形成された窒化硼素膜8でベアリング面6をコー
ティングする。窒化硼素膜8は、Sixy 系中間層を
介して形成することもできる。 【効果】 窒化硼素膜8は耐摩耗性,密着性,耐剥離性
に優れていることから、長期間にわたり優れた表面品質
をもつ押出し形材の製造に使用される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、耐剥離性に優れた窒化
硼素硬質皮膜でベアリング面がコーティングされ、耐久
性に優れたアルミニウム押出し加工用ダイスとその製造
及び表面性状に優れたアルミニウム押出し形材に関す
る。
【0002】
【従来の技術】Al,Al合金等の押出し加工に使用さ
れるダイスは、耐摩耗性を向上させるため、窒化処理に
よってベアリング面を表面硬化させている。硬質皮膜
は、ダイスの繰返し使用に伴ってダイス基材から剥離す
る。そのため、所定回数の繰返し使用後に再度の窒化処
理を施し、ダイスを再生している。しかし、再処理の回
数が増えるに従って、押出し形材の品質に悪影響を及ぼ
す欠けや白層等の剥離がベアリング面に生じる。白層
は、窒化層の最表面にあるFe−N系の化合物層であ
り、この層が剥離することによって硬質皮膜本来の機能
が損なわれる。そこで、窒化処理に代え、PVD,CV
D等で硬質皮膜を形成することが検討されている。特
に、PVD,低温CVD,プラズマCVD等による皮膜
形成は、鋼材の変態温度を超えることがない600℃以
下の温度で行われることから、ダイス基材の材質に悪影
響を及ぼすことがない。たとえば、TiN,BN,Si
34 等のセラミックスコーティングをイオンプレーテ
ィング,CVD等で施すことが、特開昭59−1781
22号公報,特開昭59−193713号公報等で紹介
されている。これらの方法で用意されたダイスは、疲労
した硬質薄膜を剥離し、同様な方法で硬質薄膜を形成す
ることにより、ダイス基材等に悪影響を与えず何回でも
使用できる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】PVD,CVD等は、
ダイスの繰返し使用の面で有効であるものの、形成した
セラミックスコーティングの密着性が不足しがちであ
る。そのため、押出し途中にダイス基材からセラミック
スコーティングが剥離し、押出し加工品の表面性状に悪
影響を及ぼす虞れがある。また、密着性に劣ることか
ら、セラミックスコーティングを再生する頻度が高くな
り、結果としてダイスが高価になる。イオンプレーティ
ングに代表されるPVDは、低温処理が可能であるとい
う長所を持っているが、押出し加工用ダイスのベアリン
グ面のようにスリット内部へのコーティングが難しい。
プラズマCVDは、比較的低温で皮膜を形成できるもの
の、製膜可能な種類がTi系の炭窒化物に限られてい
る。本発明は、このような問題を解消すべく案出された
ものであり、窒化硼素膜の密着性を高めることにより、
耐久性に優れ、且つ繰返し使用回数を高めた押出し加工
用ダイスを提供し、且つ該ダイスにより押出された表面
光沢に優れたアルミニウム押出し形材を提供することを
目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の押出し加工用ダ
イスは、その目的を達成するため、熱間工具鋼を基材と
し、イオンビーム支援蒸着法で形成された窒化硼素膜で
ベアリング面がコーティングされていることを特徴とす
る。Sixy 系中間層の上に窒化硼素膜を成形すると
き、窒化硼素膜の密着性が更に向上する。Sixy
中間層は、SiとNとの化合物層であり、化合物Si3
4 が主たる化合物である。x=1〜3,y=2〜4の
範囲にあるSixy 系中間層は、その上に形成される
窒化硼素膜に対する親和性がよく、密着性を効果的に向
上させる。Sixy 系中間層は、本発明を特に拘束す
るものではないが、窒化硼素膜と同様にイオンビーム支
援蒸着法で形成される他、CVDやイオンプレーティン
グ等の方法でも形成できる。しかし、同一装置内で連続
的に処理することを考慮するとき、イオンビーム支援蒸
着法で形成することが好ましい。
【0005】窒化硼素膜は、押出し温度域でアルミニウ
ム材料との摩擦力が低く、耐酸化性や潤滑性に優れてい
る上、アルミニウム材料と反応することがない。そのた
め、窒化硼素膜がコーティングされたダイスは、耐剥離
性が優れていることと相俟つて、良好な表面性状をもつ
押出し形材を製造する機能を長時間持続する。窒化硼素
膜の作用は、膜厚を厚くするほど顕著となる。しかし、
過度に厚い窒化硼素膜は、製膜に時間がかかることは勿
論、ダイス基材からの剥離を促す原因となる。この点か
ら、0.2〜3μmの厚みで窒化硼素膜を形成すること
が好ましい。
【0006】窒化硼素膜は、イオンビーム支援蒸着法
(Ion Beam Assisted Deposi
tion)で形成される。イオンビーム支援蒸着法で
は、10-2〜10-3Paの真空容器内にダイス基材をセ
ットし、電子ビームで金属BからBを蒸発させると同時
に、イオン銃により窒素ガスをイオン化し、0.3〜
1.0KVの加速電圧で窒素イオンビームを発生させ、
B蒸気と共にダイス基材の表面に照射する。すなわち、
イオン注入処理中に製膜速度が早い真空蒸着を併用する
方法であり、基板の表面層を改質しながら異なる特性を
持った化合物薄膜を基板表面に形成することができる。
この方法によるとき、従来のCVDよりも低温で窒化硼
素膜が作製され、しかも従来のイオンプレーティング等
のPVDに比較して密着性及び耐久性に優れた薄膜が形
成される。また、低温での処理が可能なことから、ダイ
ス基材となる熱間工具鋼の材質に悪影響を与えることが
ない。
【0007】窒化硼素膜の形成に先立って、ダイス基材
の表面をSixy でコーティングしておくと、ダイス
基材と窒化硼素膜との間における熱膨張差,内部応力,
格子定数のミスマッチ等が緩和される。その結果、層間
剥離が抑制され、窒化硼素膜の密着性が一層改善され
る。Sixy のコーティングは、イオン銃により窒素
ガスをイオン化し、0.5〜1.5KVの加速電圧で窒
素イオンビームを発生させ、Si蒸気と共に基材表面に
照射する。窒化硼素膜でコーティングしたダイスを使用
して押出し加工するとき、ピックアップ欠陥,巻込み,
ダイライン等の欠陥を抑制でき、しかも表面光沢度が高
く且つ表面平滑度も優れた押出し形材が得られる。これ
は、従来法におけるダイス基材のFeとAlとの間の反
応性や親和性よりもAlとBNとの反応性や親和性より
も大幅に低いことから、Fe−Al−Si系等の化合物
がベアリング表面に生成しないことに起因するものと推
察される。この点、従来の窒化処理によって硬質皮膜を
形成したものでは、押し出されるアルミニウム材とダイ
ス基材表面の窒化膜とが反応し、形材の欠陥を誘発させ
るFe−Al−Si系等の化合物の生成が促進されるも
のと考えられる。また、従来の窒化処理による化合物層
(Fe−N)は、400〜500℃の押出し温度域にお
いて表面が酸化し、Fe23 ,Fe34 等に変化す
る。これら酸化物の生成は、摩擦係数を増加させ、白層
の剥離,耐摩耗性の劣化等の原因となる。これに対し、
本発明に従って形成された窒化硼素膜は、900℃に達
する高温域においても酸化されず、低摩擦係数を維持し
ている。そのため、耐摩耗性も良好で、押出し成形され
た形材に摩耗粉が巻き込まれることもなく、表面光沢の
優れた高品質の押出し形材が得られる。
【0008】
【実施例】熱処理後にHRC48に調質した熱間工具鋼S
KD61をダイス基材として使用し、インサート型ダイ
スを作成した。このダイスは、図1(a)に示すように
分割型となっており、それぞれのダイス部材1,2に固
定用ネジ孔3,4が形成されている。ネジ孔3,4に挿
通した固定ネジ(図示)でダイス部材1,2を組み付け
るとき、図1(b)に示すようにスリット5をもつダイ
スが組み立てられる。本実施例では、スリット5を40
mm×3mmに設定した。スリット5の断面は、図1
(c)に矢印で示す押出し方向に関し上流側をベアリン
グ面6とし、下流側に逃がし面7を形成している。逃が
し面7は、押出し性,押出し形材の表面性状等に重要な
影響を与える。そこで、逃がし面7に、イオンビーム支
援蒸着法で窒化ケイ素を下地として窒化硼素膜8を形成
した。蒸着条件を表1に示す。
【0009】
【表1】
【0010】窒化硼素膜を形成したダイスを600トン
の熱間押出し加工試験機に組み込み、表2に示す条件下
で押出しテストを行った。比較のため、塩浴窒化処理で
ベアリング面に硬質皮膜を形成したダイスを使用し、同
様な条件下で押出しテストした。
【0011】
【表2】
【0012】押出し加工によって得られた形材から20
mごとにサンプリングし、端末部の表面性状について表
面粗さ,光沢度及びダイラインの有無を調査した。表面
粗さは、押出し方向に垂直にRa 及びRmax を右端部,
中央部及び左端部の3か所で測定した平均値で表した。
光沢度は、デジタル変角光沢計を使用し入射角60度で
測定した。ダイラインは、目視観察によってその有無を
判定した。なお、表面性状の調査は、積算押出し長さが
100m,200m及び600mに至った時点でダイス
を洗浄した後に行った。押出し形材の表面粗さは、図2
に示すように押出し長さに応じて変動した。表面粗さR
max は、塩浴窒化処理で硬質皮膜を形成した比較例では
約4μmとなっているのに対し、本発明に従って窒化硼
素膜が形成されたダイスを使用する実施例ではほぼ半分
にあたる2μmとなっている。このことから、本発明に
従ったダイスは、押出し形材の平滑度を非常に向上させ
ていることが確認された。
【0013】押出し形材の光沢度は、図3に示すように
表面粗さの低下に応じて改善されている。すなわち、比
較例の光沢度が約30%であるのに対し、実施例ではこ
れより10%程度高い光沢度40%が示されている。な
お、図3において途中で光沢度の上昇がみられるのは、
ダイスを洗浄した後に押し出された形材の測定結果を示
す。また、ダイスのベアリング面について、押出し前後
の表面粗さを測定することによりダイス摩耗を調査し
た。この場合も、積算押出し長さが100m,200m
及び600mに至った時点でダイスを洗浄し、押出し方
向に垂直な方向に沿って表面粗さRa 及びRmax を測定
した。
【0014】測定結果を、ベアリング面の粗さ増加量と
して図4に示す。図4にみられるように、平均表面粗さ
a に関しては、塩浴窒化処理で形成した硬質皮膜(比
較例)とイオンビーム支援蒸着法で形成した窒化硼素膜
(実施例)との間で、ベアリング面の表面粗さにほとん
ど変化は見られない。しかし、最大表面粗さRmax で比
較すると両者の間に明らかな差異があり、イオンビーム
支援蒸着法で形成した窒化硼素膜が良好な耐摩耗性を呈
していることが判る。このようにイオンビーム支援蒸着
法による窒化硼素膜でベアリング面をコーティングする
ことにより、押出し材の表面品質が向上すると共に、ダ
イスの長寿命化も図られた。
【0015】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明の押出し
成形用ダイスは、イオンビーム支援蒸着法による窒化硼
素膜でベアリング面をコーティングしている。この窒化
硼素膜は、従来法で形成した硬質皮膜に比較して耐摩耗
性,潤滑性等に優れ、押出し成形品の表面性状を改善す
る。また、従来のPVD,CVD等で製膜した薄膜に比
較しても密着性,耐久性が優れていることから、長期間
にわたって高位に安定した製品が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 窒化硼素膜でベアリング面をコーティングし
たダイスのメタル出口からみた分解図(a),メタル入
側からみた組立て図(b)及びスリットの断面(c)
【図2】 押出し長さに応じて押出し材の表面粗さが変
動する状態を表したグラフ
【図3】 押出し長さに応じて押出し材の表面光沢度が
変動する状態を表したグラフ
【図4】 押出し長さに応じてダイスベアリング面の表
面粗さが変動する状態を表したグラ
【符号の説明】
1,2:ダイス部材 3,4:固定用ネジ孔 5:
スリット 6:ベアリング面 7:逃がし面
8:窒化硼素膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川合 利雄 静岡県庵原郡蒲原町蒲原1丁目34番1号 株式会社日軽技研内 (72)発明者 高澤 令子 静岡県庵原郡蒲原町蒲原1丁目34番1号 株式会社日軽技研内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 熱間工具鋼を基材とし、イオンビーム支
    援蒸着法で形成された窒化硼素膜でベアリング面がコー
    ティングされているアルミニウム押出し加工用ダイス。
  2. 【請求項2】 熱間工具鋼を基材とし、Sixy 系中
    間層を介し形成された窒化硼素膜でベアリング面がコー
    ティングされているアルミニウム押出し加工用ダイス。
  3. 【請求項3】 10-2〜10-3Paの真空容器中で電子
    ビームにより金属Siをルツボの中で溶融し、Si蒸気
    として蒸発させ、同時に真空容器中でイオン銃により窒
    素ガスをイオン化して0.5〜1.5KVの加速電圧で
    窒素イオンビームとして発生させ、Si蒸気と同時に熱
    間工具鋼の基材表面上に蒸着させ、前記基材表面上にS
    xy 膜を0.5〜1μmの厚さで下地層として生成
    させた後、前記真空容器中で電子ビームにより金属Bを
    ルツボの中で溶融し、B蒸気として蒸発させ、同時に真
    空容器中でイオン銃により窒素ガスをイオン化して0.
    3〜1.0KVの加速電圧で窒素イオンビームとして発
    生させ、B蒸気と同時に前記Sixy 膜の上に蒸着さ
    せ、BN膜として0.2〜3μmの厚さで生成させるこ
    とを特徴とする請求項1又は2記載のアルミニウム押出
    し加工用ダイスの製造方法。
  4. 【請求項4】 請求項1又は2記載の押出し加工用ダイ
    スにより押出され、表面粗さがRmax 4μm以下及び光
    沢度30%以上の表面光沢に優れたアルミニウム押出し
    形材。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999012671A1 (de) * 1997-09-10 1999-03-18 Wefa Werkzeugfabrik Singen Gmbh Strangpresswerkzeug, verfahren zu dessen herstellung sowie seine verwendung
US6053722A (en) * 1998-07-28 2000-04-25 Consolidated Process Machinery, Inc. Nitrided H13-alloy cylindrical pelleting dies
WO2004004883A1 (de) * 2002-07-09 2004-01-15 Andritz Ag Pelletiermatrize
JP2007307614A (ja) * 2006-04-21 2007-11-29 Riken Light Metal Ind Co Ltd 押出ダイス

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