JPH05311444A - 硬質カーボン膜の構造 - Google Patents
硬質カーボン膜の構造Info
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- JPH05311444A JPH05311444A JP4141931A JP14193192A JPH05311444A JP H05311444 A JPH05311444 A JP H05311444A JP 4141931 A JP4141931 A JP 4141931A JP 14193192 A JP14193192 A JP 14193192A JP H05311444 A JPH05311444 A JP H05311444A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】ステンレス鋼、軟鉄鋼系材料、銅合金材料など
からなる軟質基材表面に、基材硬度の影響を受けずに密
着性良く硬質カ−ボン膜を被覆するための膜構造を得る
ため。 【構成】軟質基材であるステンレス鋼基材１の表面に被
覆した硬質化合物膜である窒化チタン層２と、該層の表
面に被覆したシリコン膜のシリコン層３と、該層の表面
に、炭化水素を含むガス雰囲気中で被覆した硬質カ−ボ
ン膜の硬質カ−ボン層４とからなる。 【効果】ステンレス鋼、軟鉄鋼系材料、銅合金材料など
からなる軟質基材表面に対する硬質カ−ボン膜の耐スク
ラッチ性、密着性が飛躍的に向上し、これらが要求され
る機械部品などに施される膜の構造として格別の効果が
ある。
からなる軟質基材表面に、基材硬度の影響を受けずに密
着性良く硬質カ−ボン膜を被覆するための膜構造を得る
ため。 【構成】軟質基材であるステンレス鋼基材１の表面に被
覆した硬質化合物膜である窒化チタン層２と、該層の表
面に被覆したシリコン膜のシリコン層３と、該層の表面
に、炭化水素を含むガス雰囲気中で被覆した硬質カ−ボ
ン膜の硬質カ−ボン層４とからなる。 【効果】ステンレス鋼、軟鉄鋼系材料、銅合金材料など
からなる軟質基材表面に対する硬質カ−ボン膜の耐スク
ラッチ性、密着性が飛躍的に向上し、これらが要求され
る機械部品などに施される膜の構造として格別の効果が
ある。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はステンレス鋼、軟鉄鋼系
材料、銅合金材料などからなる軟質基材表面に被覆した
硬質カ−ボン膜の構造に関するものである。
材料、銅合金材料などからなる軟質基材表面に被覆した
硬質カ−ボン膜の構造に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ステンレス鋼、軟鉄鋼系材料、銅合金材
料などからなる軟質基材表面に直接硬質カ−ボン膜を被
覆形成することは困難で、密着不良から剥離が生ずる。
このため、基材と硬質カ−ボン膜との密着性を向上させ
ることとして、チタンあるいはクロムからなる第１中間
層とシリコンあるいはゲルマニウムからなる第２中間層
の２層構造の中間層を導入することが提案されている。
このような中間層を被覆した後に、炭化水素ガスを導入
し硬質カ−ボン膜を被覆形成するが、マイクロビッカ−
ス硬度が４０００以上のため内部応力が高く、厚さ５μ
ｍ以上にした場合には膜にクラックが発生したり、基材
との膜界面に応力が集中し剥離が生じるなどの欠点があ
るため、通常は５μｍ以下の厚さの硬質カ−ボン膜を成
膜することが多い。このためマイクロビッカ−ス硬度が
１００から４００程度の上記のような軟質基材では、硬
質カ−ボン膜を５μｍ程度形成しても基材硬度の影響を
受けてしまい、衝撃により陥没したり傷が入りやすいな
どの欠点がある。引っかき試験などの摩耗テストでも基
材変形による影響で耐摩耗特性が劣化したり、ときには
剥離が生ずることがある。
料などからなる軟質基材表面に直接硬質カ−ボン膜を被
覆形成することは困難で、密着不良から剥離が生ずる。
このため、基材と硬質カ−ボン膜との密着性を向上させ
ることとして、チタンあるいはクロムからなる第１中間
層とシリコンあるいはゲルマニウムからなる第２中間層
の２層構造の中間層を導入することが提案されている。
このような中間層を被覆した後に、炭化水素ガスを導入
し硬質カ−ボン膜を被覆形成するが、マイクロビッカ−
ス硬度が４０００以上のため内部応力が高く、厚さ５μ
ｍ以上にした場合には膜にクラックが発生したり、基材
との膜界面に応力が集中し剥離が生じるなどの欠点があ
るため、通常は５μｍ以下の厚さの硬質カ−ボン膜を成
膜することが多い。このためマイクロビッカ−ス硬度が
１００から４００程度の上記のような軟質基材では、硬
質カ−ボン膜を５μｍ程度形成しても基材硬度の影響を
受けてしまい、衝撃により陥没したり傷が入りやすいな
どの欠点がある。引っかき試験などの摩耗テストでも基
材変形による影響で耐摩耗特性が劣化したり、ときには
剥離が生ずることがある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】そのため基材の硬度の
影響を受けないようにした硬質カ−ボン膜の構造は、基
材の熱処理による時効硬化処理を行った後あるいは基材
表面に高膜厚の湿式メッキ処理を行った後、前記表面に
形成したシリコン膜あるいはゲルマニウム膜からなる層
と、該層の表面に形成した硬質カ−ボン膜の層とからな
るものがある。しかし熱処理による時効硬化処理を行う
場合には基材材質が限定されてしまうこと、熱処理によ
り基材表面に酸化物などが形成され、耐蝕性を劣化させ
る原因となることがあげられる。また高膜厚の湿式メッ
キでは基材とメッキ膜界面でメッキ浴中の不純物による
腐蝕が発生すること、メッキ膜表面に酸化物層が形成さ
れシリコン膜あるいはゲルマニウム膜からなる層との密
着性を低下させること、膜形成に湿式と乾式の２工程を
通すため連続処理ができないなどの難点がある。
影響を受けないようにした硬質カ−ボン膜の構造は、基
材の熱処理による時効硬化処理を行った後あるいは基材
表面に高膜厚の湿式メッキ処理を行った後、前記表面に
形成したシリコン膜あるいはゲルマニウム膜からなる層
と、該層の表面に形成した硬質カ−ボン膜の層とからな
るものがある。しかし熱処理による時効硬化処理を行う
場合には基材材質が限定されてしまうこと、熱処理によ
り基材表面に酸化物などが形成され、耐蝕性を劣化させ
る原因となることがあげられる。また高膜厚の湿式メッ
キでは基材とメッキ膜界面でメッキ浴中の不純物による
腐蝕が発生すること、メッキ膜表面に酸化物層が形成さ
れシリコン膜あるいはゲルマニウム膜からなる層との密
着性を低下させること、膜形成に湿式と乾式の２工程を
通すため連続処理ができないなどの難点がある。
【０００４】本発明の目的は、上記問題点を解決し、ス
テンレス鋼、軟鉄鋼系材料、銅合金材料などからなる軟
質基材表面に、耐摩耗性に優れた硬質カ−ボン膜を密着
性良く被覆するための膜構造を提供することにある。
テンレス鋼、軟鉄鋼系材料、銅合金材料などからなる軟
質基材表面に、耐摩耗性に優れた硬質カ−ボン膜を密着
性良く被覆するための膜構造を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的のため本発明に
おいては、ステンレス鋼、軟鉄鋼系材料、銅合金材料な
どからなる軟質基材表面に被覆した周期律表第ＩＶａ，
Ｖａ，ＶＩａ族に属する金属の炭化物、窒化物あるいは
窒炭化物からなる硬質化合物膜の層と、該硬質化合物膜
の層の表面に被覆したシリコン膜またはゲルマニウム膜
からなる層と、該シリコン膜またはゲルマニウム膜から
なる層の表面に、炭化水素を含むガス雰囲気中で被覆し
た硬質カ−ボン膜の層とからなるものである。また軟質
基材表面と硬質化合物膜の層との間に、金属膜または金
属合金膜の層を設けても良い。
おいては、ステンレス鋼、軟鉄鋼系材料、銅合金材料な
どからなる軟質基材表面に被覆した周期律表第ＩＶａ，
Ｖａ，ＶＩａ族に属する金属の炭化物、窒化物あるいは
窒炭化物からなる硬質化合物膜の層と、該硬質化合物膜
の層の表面に被覆したシリコン膜またはゲルマニウム膜
からなる層と、該シリコン膜またはゲルマニウム膜から
なる層の表面に、炭化水素を含むガス雰囲気中で被覆し
た硬質カ−ボン膜の層とからなるものである。また軟質
基材表面と硬質化合物膜の層との間に、金属膜または金
属合金膜の層を設けても良い。
【０００６】窒化チタン、炭化タンタル、炭化タングス
テンなどの周期律表第ＩＶａ，Ｖａ，ＶＩａ族に属する
金属の炭化物あるいは窒化物あるいは窒炭化物からなる
硬質化合物膜は、いずれも２０００から３０００程度の
マイクロビッカ−ス硬度を有する高硬度な膜である。ま
た軟質基材とこれら硬質化合物膜との密着は非常に強固
であり、引き続きマイクロビッカ−ス硬度が７００前後
のシリコン膜あるいはゲルマニウム膜からなる軟質の層
を積層することにより、応力を緩和しながら密着性良く
高硬度の硬質カ−ボン膜を被覆することが可能である。
テンなどの周期律表第ＩＶａ，Ｖａ，ＶＩａ族に属する
金属の炭化物あるいは窒化物あるいは窒炭化物からなる
硬質化合物膜は、いずれも２０００から３０００程度の
マイクロビッカ−ス硬度を有する高硬度な膜である。ま
た軟質基材とこれら硬質化合物膜との密着は非常に強固
であり、引き続きマイクロビッカ−ス硬度が７００前後
のシリコン膜あるいはゲルマニウム膜からなる軟質の層
を積層することにより、応力を緩和しながら密着性良く
高硬度の硬質カ−ボン膜を被覆することが可能である。
【０００７】他にもマイクロビッカ−ス硬度２０００以
上の硬度を有する硬質化合物膜には酸化チタン、酸化タ
ンタルなどの周期律表第ＩＶａ，Ｖａ，ＶＩａ族に属す
る金属の酸化物などがあるが、これらを第１中間層とし
て採用して被覆した場合には第２中間層であるシリコン
膜あるいはゲルマニウム膜からなる層との膜界面での密
着性が極端に低下し、硬質カ−ボン膜被覆後に密着性を
テストする引っかき試験を行っても良好な結果は得られ
ず、実際の表面硬化処理の膜構造としての使用には耐え
ない。
上の硬度を有する硬質化合物膜には酸化チタン、酸化タ
ンタルなどの周期律表第ＩＶａ，Ｖａ，ＶＩａ族に属す
る金属の酸化物などがあるが、これらを第１中間層とし
て採用して被覆した場合には第２中間層であるシリコン
膜あるいはゲルマニウム膜からなる層との膜界面での密
着性が極端に低下し、硬質カ−ボン膜被覆後に密着性を
テストする引っかき試験を行っても良好な結果は得られ
ず、実際の表面硬化処理の膜構造としての使用には耐え
ない。
【０００８】
【作用】軟質基材との密着性が強固でマイクロビッカ−
ス硬度が２０００から３０００程度の炭化物、窒化物、
窒炭化物からなる硬質化合物膜を、軟質基材と硬質カー
ボン膜との間に介在させることにより、見かけ上の基材
硬度が上昇し陥没や傷などの基材変形による影響を防止
することが可能である。さらに高硬度の硬質化合物膜に
密着性良く低硬度のシリコン膜あるいはゲルマニウム膜
を積層することで硬質カ−ボン膜の応力を緩和しながら
の被覆が可能で、基材硬度と硬質カ−ボン膜の硬度差が
縮まり、耐スクラッチ性、耐摩耗性が飛躍的に向上し
た。また軟質基材と硬質化合物膜との間に金属膜または
金属合金膜の層を設けることで、更に強固な密着性や耐
蝕性等を得ることできる。このような炭化物、窒化物、
窒炭化物からなる硬質化合物膜を中間層として被覆した
構造により本発明の目的とする機能を果たすものであ
る。
ス硬度が２０００から３０００程度の炭化物、窒化物、
窒炭化物からなる硬質化合物膜を、軟質基材と硬質カー
ボン膜との間に介在させることにより、見かけ上の基材
硬度が上昇し陥没や傷などの基材変形による影響を防止
することが可能である。さらに高硬度の硬質化合物膜に
密着性良く低硬度のシリコン膜あるいはゲルマニウム膜
を積層することで硬質カ−ボン膜の応力を緩和しながら
の被覆が可能で、基材硬度と硬質カ−ボン膜の硬度差が
縮まり、耐スクラッチ性、耐摩耗性が飛躍的に向上し
た。また軟質基材と硬質化合物膜との間に金属膜または
金属合金膜の層を設けることで、更に強固な密着性や耐
蝕性等を得ることできる。このような炭化物、窒化物、
窒炭化物からなる硬質化合物膜を中間層として被覆した
構造により本発明の目的とする機能を果たすものであ
る。
【０００９】
【実施例１】以下図面を参照して本発明の実施例を説明
する。図１は本発明の実施例における層構造を模式的に
示す断面図である。軟質基材であるステンレス鋼基材１
を取り付けた真空装置内に純アルゴンガスを導入して圧
力を２×１０-3Ｔｏｒｒに保持した雰囲気中で、チタン
材を電子ビ−ムで溶解して蒸発させ、それと同時に窒素
ガスを導入し厚さ１μｍ以上の硬質化合物膜である窒化
チタン層２をステンレス鋼基材１の表面に被覆する。
（反応性イオンプレ−ティング法）次いで、モノシラン
１０％、アルゴン９０％からなる混合ガスを導入した雰
囲気中でガス圧力を１×１０-1Ｔｏｒｒに保持し、１
３．５６ＭＨｚの高周波電力を３００Ｗ程度印加しプラ
ズマＣＶＤ法により、シリコン膜からなるシリコン層３
を前記窒化チタン層２の表面に厚さ０．２μｍ以上被覆
し、引き続き純メタンガスを導入した雰囲気中でガス圧
力を１×１０-1Ｔｏｒｒに保持し、同様に１３．５６Ｍ
Ｈｚの高周波電力を３００Ｗ程度印加しプラズマＣＶＤ
法により、硬質カ−ボン膜からなる硬質カ−ボン層４を
厚さ１μｍ以上被覆形成した。
する。図１は本発明の実施例における層構造を模式的に
示す断面図である。軟質基材であるステンレス鋼基材１
を取り付けた真空装置内に純アルゴンガスを導入して圧
力を２×１０-3Ｔｏｒｒに保持した雰囲気中で、チタン
材を電子ビ−ムで溶解して蒸発させ、それと同時に窒素
ガスを導入し厚さ１μｍ以上の硬質化合物膜である窒化
チタン層２をステンレス鋼基材１の表面に被覆する。
（反応性イオンプレ−ティング法）次いで、モノシラン
１０％、アルゴン９０％からなる混合ガスを導入した雰
囲気中でガス圧力を１×１０-1Ｔｏｒｒに保持し、１
３．５６ＭＨｚの高周波電力を３００Ｗ程度印加しプラ
ズマＣＶＤ法により、シリコン膜からなるシリコン層３
を前記窒化チタン層２の表面に厚さ０．２μｍ以上被覆
し、引き続き純メタンガスを導入した雰囲気中でガス圧
力を１×１０-1Ｔｏｒｒに保持し、同様に１３．５６Ｍ
Ｈｚの高周波電力を３００Ｗ程度印加しプラズマＣＶＤ
法により、硬質カ−ボン膜からなる硬質カ−ボン層４を
厚さ１μｍ以上被覆形成した。
【００１０】
【比較例１】実施例１と同様に、軟質基材であるステン
レス鋼基材を取り付けた真空装置内に純アルゴンガスを
導入した雰囲気中で、ステンレス鋼基材表面に厚さ０．
１μｍ以上の金属チタン層を被覆する。次いでモノシラ
ン１０％、アルゴン９０％からなる混合ガスを導入した
雰囲気中でシリコン膜からなるシリコン層を厚さ０．２
μｍ以上被覆し、引き続き純メタンガスを導入した雰囲
気中で硬質カ−ボン膜からなる硬質カ−ボン層を厚さ１
μｍ以上被覆形成した。
レス鋼基材を取り付けた真空装置内に純アルゴンガスを
導入した雰囲気中で、ステンレス鋼基材表面に厚さ０．
１μｍ以上の金属チタン層を被覆する。次いでモノシラ
ン１０％、アルゴン９０％からなる混合ガスを導入した
雰囲気中でシリコン膜からなるシリコン層を厚さ０．２
μｍ以上被覆し、引き続き純メタンガスを導入した雰囲
気中で硬質カ−ボン膜からなる硬質カ−ボン層を厚さ１
μｍ以上被覆形成した。
【００１１】
【比較例２】軟質基材であるステンレス鋼基材表面に予
め下地メッキ処理として厚さ５μｍ以上のニッケルメッ
キ膜を湿式無電解メッキ法により施す。続いて比較例１
と同様にシリコン層を厚さ０．２μｍ以上と被覆し、引
き続き純メタンガスを導入した雰囲気中で硬質カ−ボン
層を厚さ１μｍ以上被覆形成した。
め下地メッキ処理として厚さ５μｍ以上のニッケルメッ
キ膜を湿式無電解メッキ法により施す。続いて比較例１
と同様にシリコン層を厚さ０．２μｍ以上と被覆し、引
き続き純メタンガスを導入した雰囲気中で硬質カ−ボン
層を厚さ１μｍ以上被覆形成した。
【００１２】実施例１、比較例１、比較例２、で得られ
た硬質カ−ボン膜の密着性、耐スクラッチ性、耐摩耗性
の試験結果を下記表１に示す。密着性は引っかき試験を
行い、剥離開始荷重を測定した。耐スクラッチ性は圧痕
試験を行い、先端角５０μｍの曲率半径を有するスタイ
ラスに荷重を印加して膜表面に当て、圧痕が観察され始
める開始荷重を測定した。耐摩耗性は摩耗試験機で荷重
３００ｇｆを印加した炭化けい素＃６００の研磨紙によ
る２００回往復テストにより摩耗した膜厚を測定した。
硬質カ−ボン膜の膜陥没による耐スクラッチ性と耐摩耗
性を改善する上で、従来膜（比較例１）は効果が無く、
無電解ニッケルメッキ膜の介在（比較例２）では、耐ス
クラッチ性および耐摩耗性が窒化物の硬質化合物膜を介
在（実施例１）させた場合と同様に著しく改善される
が、硬質カ−ボン膜の密着性が従来膜（比較例１）より
も低下することが認められる。無電解ニッケルメッキ膜
を第１中間層として被覆し、シリコン膜を第２中間層と
し、その表面に硬質カ−ボン膜を被覆形成した後の引っ
かき試験による剥離界面を測定したところ、第１中間層
である無電解ニッケルメッキ膜と第２中間層であるシリ
コン層の膜界面であることが判明した。本発明の方法に
より耐スクラッチ性、耐摩耗性、密着性ともに飛躍的に
向上することが明らかに認められる。
た硬質カ−ボン膜の密着性、耐スクラッチ性、耐摩耗性
の試験結果を下記表１に示す。密着性は引っかき試験を
行い、剥離開始荷重を測定した。耐スクラッチ性は圧痕
試験を行い、先端角５０μｍの曲率半径を有するスタイ
ラスに荷重を印加して膜表面に当て、圧痕が観察され始
める開始荷重を測定した。耐摩耗性は摩耗試験機で荷重
３００ｇｆを印加した炭化けい素＃６００の研磨紙によ
る２００回往復テストにより摩耗した膜厚を測定した。
硬質カ−ボン膜の膜陥没による耐スクラッチ性と耐摩耗
性を改善する上で、従来膜（比較例１）は効果が無く、
無電解ニッケルメッキ膜の介在（比較例２）では、耐ス
クラッチ性および耐摩耗性が窒化物の硬質化合物膜を介
在（実施例１）させた場合と同様に著しく改善される
が、硬質カ−ボン膜の密着性が従来膜（比較例１）より
も低下することが認められる。無電解ニッケルメッキ膜
を第１中間層として被覆し、シリコン膜を第２中間層と
し、その表面に硬質カ−ボン膜を被覆形成した後の引っ
かき試験による剥離界面を測定したところ、第１中間層
である無電解ニッケルメッキ膜と第２中間層であるシリ
コン層の膜界面であることが判明した。本発明の方法に
より耐スクラッチ性、耐摩耗性、密着性ともに飛躍的に
向上することが明らかに認められる。
【００１３】また、硬質化合物膜として炭化タンタル膜
を被覆し、他は実施例１と同様に膜を積層した場合も、
同様に極めて強固な密着性と飛躍的な耐スクラッチ性の
向上が認められた。また、上記実施例中では硬質化合物
膜の層の表面にシリコン膜の層を設けたが、ゲルマニウ
ム膜の層を設けても同様の効果が得られることは言うま
でもない。
を被覆し、他は実施例１と同様に膜を積層した場合も、
同様に極めて強固な密着性と飛躍的な耐スクラッチ性の
向上が認められた。また、上記実施例中では硬質化合物
膜の層の表面にシリコン膜の層を設けたが、ゲルマニウ
ム膜の層を設けても同様の効果が得られることは言うま
でもない。
【００１４】また、上記実施例中では基材表面上に直接
金属の炭化物、窒化物、窒炭化物の硬質化合物膜を被覆
したが、軟質基材の材質によっては例えば、軟質基材が
銅合金材料である黄銅の場合、軟質基材表面と硬質化合
物膜との間に、金属膜または金属合金膜であるニッケル
層またはニッケル−リン層を設けることにより、より強
固な密着性，耐蝕性等を得ることができる。また、その
他の金属膜または金属合金膜として、チタン、チタン合
金等がある。
金属の炭化物、窒化物、窒炭化物の硬質化合物膜を被覆
したが、軟質基材の材質によっては例えば、軟質基材が
銅合金材料である黄銅の場合、軟質基材表面と硬質化合
物膜との間に、金属膜または金属合金膜であるニッケル
層またはニッケル−リン層を設けることにより、より強
固な密着性，耐蝕性等を得ることができる。また、その
他の金属膜または金属合金膜として、チタン、チタン合
金等がある。
【００１５】
【表１】
【００１６】以上の実施例は硬質化合物膜として窒化チ
タンあるいは炭化チタンを被覆した後、シリコン膜を主
体とする層を被覆し、その表面に硬質カ−ボン膜を被覆
形成したものであるが、本発明の方法は周期律表第ＩＶ
ａ，Ｖａ，ＶＩａ族に属する金属の炭化物あるいは窒化
物あるいは窒炭化物被膜に対して有効である。硬質化合
物膜の厚みは１μｍ以上あれば効果が現われるが、２μ
ｍから１０μｍの範囲が望ましい。
タンあるいは炭化チタンを被覆した後、シリコン膜を主
体とする層を被覆し、その表面に硬質カ−ボン膜を被覆
形成したものであるが、本発明の方法は周期律表第ＩＶ
ａ，Ｖａ，ＶＩａ族に属する金属の炭化物あるいは窒化
物あるいは窒炭化物被膜に対して有効である。硬質化合
物膜の厚みは１μｍ以上あれば効果が現われるが、２μ
ｍから１０μｍの範囲が望ましい。
【００１７】
【発明の効果】本発明によれば見かけ上の下地硬度を上
昇させるために硬質化合物膜を介在させてシリコン膜ま
たはゲルマニウム膜からなる層と硬質カ−ボン膜を被覆
形成することにより耐スクラッチ性、密着性が飛躍的に
向上し、これらが要求される機械部品などに施される膜
の構造として格別の効果がある。また一連の工程を同一
の真空装置を用いて連続的に処理することが可能であ
る。
昇させるために硬質化合物膜を介在させてシリコン膜ま
たはゲルマニウム膜からなる層と硬質カ−ボン膜を被覆
形成することにより耐スクラッチ性、密着性が飛躍的に
向上し、これらが要求される機械部品などに施される膜
の構造として格別の効果がある。また一連の工程を同一
の真空装置を用いて連続的に処理することが可能であ
る。
【図１】本発明の実施例における層構造を示す模式的断
面図である。
面図である。
１ ステンレス鋼基材 ２ 窒化チタン層 ３ シリコン層 ４ 硬質カ−ボン層
Claims (2)
- 【請求項１】 ステンレス鋼、軟鉄鋼系材料、銅合金材
料などからなる軟質基材表面に被覆した周期律表第ＩＶ
ａ，Ｖａ，ＶＩａ族に属する金属の炭化物、窒化物ある
いは窒炭化物からなる硬質化合物膜の層と、該硬質化合
物膜の層の表面に被覆したシリコン膜またはゲルマニウ
ム膜からなる層と、該シリコン膜またはゲルマニウム膜
からなる層の表面に、炭化水素を含むガス雰囲気中で被
覆した硬質カ−ボン膜の層とからなることを特徴とする
硬質カ−ボン膜の構造。 - 【請求項２】 軟質基材表面と硬質化合物膜の層との間
に形成した、金属膜または金属合金膜の層とからなるこ
とを特徴とする請求項１記載の硬質カ−ボン膜の構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4141931A JPH05311444A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 硬質カーボン膜の構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4141931A JPH05311444A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 硬質カーボン膜の構造 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05311444A true JPH05311444A (ja) | 1993-11-22 |
Family
ID=15303485
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4141931A Pending JPH05311444A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 硬質カーボン膜の構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05311444A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008010747A1 (en) * | 2006-07-19 | 2008-01-24 | Sandvik Intellectual Property Ab | Method of producing a rough surface on a substrate |
| JP2012121786A (ja) * | 2010-12-07 | 2012-06-28 | Samsung Electronics Co Ltd | グラフェン構造物及びその製造方法 |
-
1992
- 1992-05-08 JP JP4141931A patent/JPH05311444A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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