JPH085855B2 - 不飽和ジカルボン酸イミド系化合物および樹脂の製法 - Google Patents
不飽和ジカルボン酸イミド系化合物および樹脂の製法Info
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- JPH085855B2 JPH085855B2 JP3008777A JP877791A JPH085855B2 JP H085855 B2 JPH085855 B2 JP H085855B2 JP 3008777 A JP3008777 A JP 3008777A JP 877791 A JP877791 A JP 877791A JP H085855 B2 JPH085855 B2 JP H085855B2
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- dicarboxylic acid
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Description
【０００１】
【従来の技術】不飽和ジカルボン酸イミド系化合物を製
造する方法の一つに、不飽和ジカルボン酸アミド酸化合
物を閉環させる方法がある。閉環方法の一つに、例え
ば、特開昭５３−２３３９６号公報等に記載の化学閉環
法がある。この化学閉環法は、無水酢酸等の脱水剤を用
いて脱水閉環を行う方法である。この方法では、低温、
短時間で反応を行えるため、得られた不飽和ジカルボン
酸イミド系化合物の純度は９０重量％程度と高く、化合
物中に含まれる高分子成分の量も少ない。
造する方法の一つに、不飽和ジカルボン酸アミド酸化合
物を閉環させる方法がある。閉環方法の一つに、例え
ば、特開昭５３−２３３９６号公報等に記載の化学閉環
法がある。この化学閉環法は、無水酢酸等の脱水剤を用
いて脱水閉環を行う方法である。この方法では、低温、
短時間で反応を行えるため、得られた不飽和ジカルボン
酸イミド系化合物の純度は９０重量％程度と高く、化合
物中に含まれる高分子成分の量も少ない。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】ところが、前述した化
学閉環法の場合には、通常、反応液に水を投入して、反
応生成物を析出させ、濾過・水処理・副生する酸の中和
等を行う。これらの処理工程は、非常に繁雑であり、ま
た、処理中の損失により収量が低くなる、等の問題を有
する。
学閉環法の場合には、通常、反応液に水を投入して、反
応生成物を析出させ、濾過・水処理・副生する酸の中和
等を行う。これらの処理工程は、非常に繁雑であり、ま
た、処理中の損失により収量が低くなる、等の問題を有
する。
【０００３】この発明は、上記事情に鑑みてなされたも
のであって、繁雑な処理工程が不要で高収量、しかも高
純度の不飽和ジカルボン酸イミド系化合物を製造する方
法、および、それを原料として不飽和ジカルボン酸イミ
ド系樹脂を製造する方法を提供することを課題とする。
のであって、繁雑な処理工程が不要で高収量、しかも高
純度の不飽和ジカルボン酸イミド系化合物を製造する方
法、および、それを原料として不飽和ジカルボン酸イミ
ド系樹脂を製造する方法を提供することを課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、この発明にかかる不飽和ジカルボン酸イミド系化合
物の製法は、下記一般式(I) で表される不飽和ジカルボ
ン酸アミド酸化合物を、脱水剤としての酸無水物、塩基
性触媒および金属塩触媒の３者の存在下で脱水閉環した
後、生成する酸と溶媒を減圧蒸留し、その際、まず蒸留
温度７０℃以下で溶液分の５０〜７０％を留去した後、
冷却を行うか、または水等の貧溶媒を加えて固形分を析
出させてから、再度蒸留を行うことにより、下記一般式
(II)で表される不飽和ジカルボン酸イミド系化合物を得
るようにするものである。
め、この発明にかかる不飽和ジカルボン酸イミド系化合
物の製法は、下記一般式(I) で表される不飽和ジカルボ
ン酸アミド酸化合物を、脱水剤としての酸無水物、塩基
性触媒および金属塩触媒の３者の存在下で脱水閉環した
後、生成する酸と溶媒を減圧蒸留し、その際、まず蒸留
温度７０℃以下で溶液分の５０〜７０％を留去した後、
冷却を行うか、または水等の貧溶媒を加えて固形分を析
出させてから、再度蒸留を行うことにより、下記一般式
(II)で表される不飽和ジカルボン酸イミド系化合物を得
るようにするものである。
【０００５】
【化５】
【０００６】
【化６】
【０００７】〔式(I) および(II)中、Ｄは少なくとも１
つの炭素−炭素二重結合を持つ２価の有機基を表し、Ｒ
1 は少なくとも１個の炭素原子を含むｎ価の有機基を表
し、ｎは１以上の整数を表す。〕また、前記課題を解決
するため、この発明にかかる不飽和ジカルボン酸イミド
系樹脂の製法は、上記の製法により得られた不飽和ジカ
ルボン酸イミド系化合物に、ポリアミンと溶剤を添加し
て重合させることにより、不飽和ジカルボン酸イミド系
樹脂を得るようにするものである。
つの炭素−炭素二重結合を持つ２価の有機基を表し、Ｒ
1 は少なくとも１個の炭素原子を含むｎ価の有機基を表
し、ｎは１以上の整数を表す。〕また、前記課題を解決
するため、この発明にかかる不飽和ジカルボン酸イミド
系樹脂の製法は、上記の製法により得られた不飽和ジカ
ルボン酸イミド系化合物に、ポリアミンと溶剤を添加し
て重合させることにより、不飽和ジカルボン酸イミド系
樹脂を得るようにするものである。
【０００８】以下に、この発明を、詳しく説明する。こ
の発明に使用される不飽和ジカルボン酸アミド酸化合物
を得る方法は、この発明では特に限定されないが、例え
ば、下記一般式(III) で表される不飽和ジカルボン酸無
水物と、下記一般式(IV)で表されるアミンまたはポリア
ミンとを、好ましくは、反応系に対して不活性な有機溶
媒等の存在下、あるいは、無溶媒系で、反応させること
により得ることができる。
の発明に使用される不飽和ジカルボン酸アミド酸化合物
を得る方法は、この発明では特に限定されないが、例え
ば、下記一般式(III) で表される不飽和ジカルボン酸無
水物と、下記一般式(IV)で表されるアミンまたはポリア
ミンとを、好ましくは、反応系に対して不活性な有機溶
媒等の存在下、あるいは、無溶媒系で、反応させること
により得ることができる。
【０００９】
【化７】
【００１０】
【化８】
【００１１】〔式（ＩＩＩ） および(IV)中、Ｄは少な
くとも１つの炭素−炭素二重結合を持つ２価の有機基を
表し、Ｒ1 は少なくとも１個の炭素原子を含むｎ価の有
機基を表し、ｎは１以上の整数を表す。〕この反応系に
おいて使用することができる不飽和ジカルボン酸無水物
としては、これらに限定されるものではないが、例え
ば、下記のような化合物が挙げられる。
くとも１つの炭素−炭素二重結合を持つ２価の有機基を
表し、Ｒ1 は少なくとも１個の炭素原子を含むｎ価の有
機基を表し、ｎは１以上の整数を表す。〕この反応系に
おいて使用することができる不飽和ジカルボン酸無水物
としては、これらに限定されるものではないが、例え
ば、下記のような化合物が挙げられる。
【００１２】無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水
イタコン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水ナジック
酸、および、これらのハロゲン置換体、アルキル置換体
等。これらの化合物は単独で、あるいは、複数併せて使
用することができる。アミンまたはポリアミンとして
は、下記の化合物が挙げられるが、これらに限定される
ものではない。下記化合物も単独で、あるいは、複数併
せて使用することができる。
イタコン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水ナジック
酸、および、これらのハロゲン置換体、アルキル置換体
等。これらの化合物は単独で、あるいは、複数併せて使
用することができる。アミンまたはポリアミンとして
は、下記の化合物が挙げられるが、これらに限定される
ものではない。下記化合物も単独で、あるいは、複数併
せて使用することができる。
【００１３】メチルアミン、エチルアミン、１−プロピ
ルアミン、１，２−ジメチルプロピルアミン、３−メト
キシプロピルアミン、３−エトキシプロピルアミン、３
−プロポキシプロピルアミン、３−イソプロポキシプロ
ピルアミン、３−ブトキシプロピルアミン、３−イソブ
トキシプロピルアミン、３−（２−エチルヘキシルオキ
シ）プロピルアミン、３−ラウリオキシプロピルアミ
ン、３−ミリスチルオキシプロピルアミン、メチルアミ
ノプロピルアミン、ジメチルアミノプロピルアミン、ジ
エチルアミノプロピルアミン、ジブチルアミノプロピル
アミン、２−ヒドロキシエチルアミノプロピルアミン、
ジメチルアミノエトキシプロピルアミン、ラウリルアミ
ノプロピルアミン、ジエタノールアミノプロピルアミ
ン、イミノビスプロピルアミン、メチルアミノビスプロ
ピルアミン、n −ブチルアミン、イソブチルアミン、se
c-ブチルアミン、ヘキシルアミン、２−エチルヘキシル
アミン、ドデシルアミン、シクロヘキシルアミン、アリ
−ルアミン、３−デシクロキシアミン、ジメチルアミノ
エチルアミン、ジエチルアミノエチルアミン、エチルア
ミノエチルアミン、α−フェネチルアミン、β−フェネ
チルアミン、ファフリルアミン、メトキシアミン、ｍ−
アミノベンジルアミン、メタフェニレンジアミン、４−
クロルメタフェニレンジアミン、５−ニトロメタフェニ
レンジアミン、４，６−ジメチルメタフェニレンジアミ
ン、パラフェニレンジアミン、２−クロルパラフェニレ
ンジアミン、２−ニトロパラフェニレンジアミン、２−
シアノパラフェニレンジアミン、２，５−ジクロルパラ
フェニレンジアミン、２，６−ジクロルパラフェニレン
ジアミン、２，５−ジエチルパラフェニレンジアミン、
５−クロル−２−メチルパラフェニレンジアミン、テト
ラフルオロフェニレンジアミン、トリレンジアミン、
３，５−ジエチル−２，４−トリレンジアミン、２−ピ
コリルアミン、３−ピコリルアミン、４−ピコリルアミ
ン、メタキシリレンジアミン、パラキシリレンジアミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミ
ン、４，４−ジメチルヘプタメチレンジアミン、ジエチ
レントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチ
レンペンタミン、ペンタアチレンヘキサミン、４，４′
−ジアミノジフェニルメタン、３，４′−ジアミノジフ
ェニルメタン、３，３′−ジアミノジフェニルメタン、
３，３′，４，４′−テトラアミノジフェニルメタン、
４，４′−ジアミノ−３，３′−ジエチルジフェニルメ
タン、４，４′−ジアミノ−３，３′−ジエチル−５，
５′−ジメチルフェニルメタン、４，４′−ビス（ｐ−
アミノフェノキシ）ジフェニルメタン、４，４′−ビス
（ｍ−アミノフェノキシ）ジフェニルメタン、２，２′
３，３′−テトラクロル−４，４′−ジアミノジフェニ
ルメタン、ジアミノジシクロヘキシルメタン、４，４′
−ビス（ｐ−アミノフェノキシ）ジフェニルメタン、
４，４′−ビス（ｍ−アミノフェノキシ）ジフェニルエ
タン、１，２−ビス−（３−アミノプロポキシ）−エタ
ン、２−アミノプロパノール、３−アミノプロパノー
ル、１，２−ジアミノプロパン、１，３−ジアミノプロ
パン、４，４′−ジアミノジフェニルプロパン、３，
３′−ジアミノジフェニルプロパン、１，２−ビス−
（３−アミノプロポキシ）−２，２−ジメチルプロパ
ン、４，４′−ビス（p − アミノフェノキシ）ジフェ
ニルプロパン、４，４′−ビス（ｍ−アミノフェノキ
シ）ジフェニルプロパン、２，２−ビス（４−アミノフ
ェニル）プロパン、１，４−ジアミノブタン、１，４−
ジアミノシクロヘキサン、ビス−（３−アミノプロピ
ル）エ−テル、α，ω−ビス−（３−アミノプロピル）
−ポリエチレングリコールエーテル、３、３′−ジアミ
ノジフェニルエーテル、３，４′−ジアミノジフェニル
エーテル、４，４′−ジアミノジフェニルエーテル、
３，４，４′−トリアミノジフェニルエーテル、３，
３′，４，４′−テトラアミノジフェニルエーテル、ビ
ス（ｐ−βアミノ−tertブチルフェニル）エーテル、ト
ルイジン、４、４′−メチレンジ−ｏ−トルイジン、
４，４′−メチレンジ−６−ブロム−２−トルイジン、
アニリン、エチルアニリン、ジクロロアニリン、４，
４′−メチレンジ−２，６−ジエチルアニリン、４，
４′−メチレンジ−２，６−イソプロピルアニリン、イ
ソプロポキシアニリン、クロロアニリン、ブロモアニリ
ン、ヨードアニリン、ニトロアニリン、４、４’−メチ
レンジ−２，６−ジブロムアニリン、４，４′−メチレ
ンジ−２−ブロム−６−クロルアニリン、ビス−ｐ−ア
ミノフェニルアニリン、メチレンビスアンスラアニリッ
クアシッド、メチレンビスメチルアンスラニレイト、
３，３′−ジアミノジフェニルスルホン、４，４′−ジ
アミノジフェニルスルホン、３，３′，４，４′−テト
ラアミノジフェニルスルホン、ｐ−ビス（４−アミノフ
ェノキシ）ジフェニルスルホン、ｐ−ビス（３−アミノ
フェノキシ）ジフェニルスルホン、２，２−ビス−〔４
−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、オル
トトリジンスルホン、４，４′−ジアミノジフェニルス
ルフィド、ビス−（４−アミノフェニル）ジスルフィ
ド、３，３′，４，４′−テトラアミノジフェニルサル
ファイド、Ｎ−アミノエチルピペリジン、Ｎ−アミノエ
チル−４−ピペコリン、Ｎ−アミノエチルモルホリン、
Ｎ−アミノプロピルピペリジン、Ｎ−アミノプロピル−
２−ピペコリン、Ｎ−アミノプロピル−４−ピペコリ
ン、Ｎ−アミノプロピルモルホリン、２−アミノエチル
ピペリジン、４−アミノメチルピペリジン、Ｎ−アミノ
ピペリジン、１−アミノ−４−メチルピペラジン、１，
４−ビスアミノプロピルピペラジン、Ｎ−アミノプロピ
ルピペラジン、１−アミノ−４−シクロヘキシルピペラ
ジン、２−アミノピラジン、２−アミノピリジン、３−
アミノピリジン、４−アミノピリジン、２，３−ジアミ
ノピリジン、２，５−ジアミノピリジン、２，６−ジア
ミノピリジン、２，３，６−トリアミノピリジン、２−
アミノ−３−メチルピリジン、２−アミノ−４−メチル
ピリジン、２−アミノ−５−メチルピリジン、２−アミ
ノ−６−メチルピリジン、２−アミノ−４−エチルピリ
ジン、２−アミノ−４−プロピルピリジン、２−アミノ
−４，６−ジメチルピリジン、２，６−ジアミノ−４−
メチルピリジン、２−アミノ−３−ニトロピリジン、２
−アミノ−５−ニトロピリジン、２−クロロ−４−アミ
ノピリジン、２−クロロ−５−アミノピリジン、２−ア
ミノ−３，５−ジクロロピリジン、４−アミノ−３，５
−ジクロロピリジン、２−アミノ−３，５−ジクロロ−
６−メチルピリジン、２−アミノ−３，５−ジクロロ−
４−メチルピリジン、２−アミノ−５−クロロ−３−メ
チルピリジン、２−アミノ−３，５−ジクロロ−４，６
−ジメチルピリジン、２，４−ジアミノピリミジン、
２，４−ジアミノ−６−（４−ピリジル）−５−トリア
ジン、ｐ−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、ｍ
−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、ｐ−ビス
（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、ｍ−ビス（３−ア
ミノフェノキシ）ベンゼン、１，３，５−トリアミノベ
ンゼン、４，４′−ジアミノ−３−メトキシアゾベンゼ
ン、１，５−ジアミノナフタレン、１，３，５−トリア
ミノナフタレン、３，３′−ジメチル−４，４′−ジア
ミノビフェニル、４，４′−ジアミノオクタフルオロビ
フェニル、２，５−ジアミノテレフタル酸、３，４′−
ジアミノベンズアニリド、４，４′−ジアミノベンズア
ニリド、４−（ｐ−アミノフェノキシ）−４−アミノベ
ンズアニリド、３，３′−ジメトキシベンジジン、３，
３′−ジメチルベンジジン、３，３′−ジアミノベンジ
ジン、３，３’−ジヒドロキシベンジジン、２，２′−
ジクロロ−５，５′−ジメトキシベンジジン、２，２′
５，５′−テトラクロロベンジジン、２，４−ジアミノ
トルエン、２，４−ビス（βアミノ−tertブチル）トル
エン、４，４′−ジアミノベンゾフェノン、ポリテトラ
メチレンオキシド−ジ−ｐ−アミノベンゾエート、トリ
メチレンビス−（４−アミノベンゾエート）、ビス（４
−アミノフェニル）ジフェニルシラン、ビス（４−アミ
ノフェニル）ジメチルシラン、ビス（４−アミノフェニ
ル）フェニルホスフィンオキサイド、ビス（４−アミノ
フェニル）メチルホスフィンオキサイド、メラミン、
４，４′−ジアミノスチルベン、９，９−ビス（４−ア
ミノフェニル）−１０−ヒドロアントラセン、２，６−
ジアミノアントラキノン、１，５−ジアミノアントラキ
ノン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレ
ン、５−アミノ−１−（４′−アミノフェニル）−１，
３，３−トリメチルインダン、６−アミノ−１−（４’
−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルインダ
ン、アニシジン、フェネチジン、アミノフェノール、２
−アミノチオフェノール、４−アミノチオフェノール、
アミノ安息香酸、２，５−ジアミノ安息香酸、３，５−
ジアミノ安息香酸、キシリジン、４，４’−メチレンジ
−２，６−キシリジン、２，６−ジアミノベンゾチアゾ
ール、ｍ−アミノベンゾイックアシッドヒドラジド、
２，４−ジアミノメシチレン、ヘキサアミノシクロフォ
スファゼン、１，１−ジアミノ−３，３，５，５−テト
ラフェノキシシクロフォスファゼン、１，３，５−トリ
ス（ｐ−アミノフェノキシ）−１，３，５−トリフェノ
キシシクロフォスファゼン、ヘキサキス（ｐ−アミノフ
ェノキシ）−シクロフォスファゼン等。
ルアミン、１，２−ジメチルプロピルアミン、３−メト
キシプロピルアミン、３−エトキシプロピルアミン、３
−プロポキシプロピルアミン、３−イソプロポキシプロ
ピルアミン、３−ブトキシプロピルアミン、３−イソブ
トキシプロピルアミン、３−（２−エチルヘキシルオキ
シ）プロピルアミン、３−ラウリオキシプロピルアミ
ン、３−ミリスチルオキシプロピルアミン、メチルアミ
ノプロピルアミン、ジメチルアミノプロピルアミン、ジ
エチルアミノプロピルアミン、ジブチルアミノプロピル
アミン、２−ヒドロキシエチルアミノプロピルアミン、
ジメチルアミノエトキシプロピルアミン、ラウリルアミ
ノプロピルアミン、ジエタノールアミノプロピルアミ
ン、イミノビスプロピルアミン、メチルアミノビスプロ
ピルアミン、n −ブチルアミン、イソブチルアミン、se
c-ブチルアミン、ヘキシルアミン、２−エチルヘキシル
アミン、ドデシルアミン、シクロヘキシルアミン、アリ
−ルアミン、３−デシクロキシアミン、ジメチルアミノ
エチルアミン、ジエチルアミノエチルアミン、エチルア
ミノエチルアミン、α−フェネチルアミン、β−フェネ
チルアミン、ファフリルアミン、メトキシアミン、ｍ−
アミノベンジルアミン、メタフェニレンジアミン、４−
クロルメタフェニレンジアミン、５−ニトロメタフェニ
レンジアミン、４，６−ジメチルメタフェニレンジアミ
ン、パラフェニレンジアミン、２−クロルパラフェニレ
ンジアミン、２−ニトロパラフェニレンジアミン、２−
シアノパラフェニレンジアミン、２，５−ジクロルパラ
フェニレンジアミン、２，６−ジクロルパラフェニレン
ジアミン、２，５−ジエチルパラフェニレンジアミン、
５−クロル−２−メチルパラフェニレンジアミン、テト
ラフルオロフェニレンジアミン、トリレンジアミン、
３，５−ジエチル−２，４−トリレンジアミン、２−ピ
コリルアミン、３−ピコリルアミン、４−ピコリルアミ
ン、メタキシリレンジアミン、パラキシリレンジアミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミ
ン、４，４−ジメチルヘプタメチレンジアミン、ジエチ
レントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチ
レンペンタミン、ペンタアチレンヘキサミン、４，４′
−ジアミノジフェニルメタン、３，４′−ジアミノジフ
ェニルメタン、３，３′−ジアミノジフェニルメタン、
３，３′，４，４′−テトラアミノジフェニルメタン、
４，４′−ジアミノ−３，３′−ジエチルジフェニルメ
タン、４，４′−ジアミノ−３，３′−ジエチル−５，
５′−ジメチルフェニルメタン、４，４′−ビス（ｐ−
アミノフェノキシ）ジフェニルメタン、４，４′−ビス
（ｍ−アミノフェノキシ）ジフェニルメタン、２，２′
３，３′−テトラクロル−４，４′−ジアミノジフェニ
ルメタン、ジアミノジシクロヘキシルメタン、４，４′
−ビス（ｐ−アミノフェノキシ）ジフェニルメタン、
４，４′−ビス（ｍ−アミノフェノキシ）ジフェニルエ
タン、１，２−ビス−（３−アミノプロポキシ）−エタ
ン、２−アミノプロパノール、３−アミノプロパノー
ル、１，２−ジアミノプロパン、１，３−ジアミノプロ
パン、４，４′−ジアミノジフェニルプロパン、３，
３′−ジアミノジフェニルプロパン、１，２−ビス−
（３−アミノプロポキシ）−２，２−ジメチルプロパ
ン、４，４′−ビス（p − アミノフェノキシ）ジフェ
ニルプロパン、４，４′−ビス（ｍ−アミノフェノキ
シ）ジフェニルプロパン、２，２−ビス（４−アミノフ
ェニル）プロパン、１，４−ジアミノブタン、１，４−
ジアミノシクロヘキサン、ビス−（３−アミノプロピ
ル）エ−テル、α，ω−ビス−（３−アミノプロピル）
−ポリエチレングリコールエーテル、３、３′−ジアミ
ノジフェニルエーテル、３，４′−ジアミノジフェニル
エーテル、４，４′−ジアミノジフェニルエーテル、
３，４，４′−トリアミノジフェニルエーテル、３，
３′，４，４′−テトラアミノジフェニルエーテル、ビ
ス（ｐ−βアミノ−tertブチルフェニル）エーテル、ト
ルイジン、４、４′−メチレンジ−ｏ−トルイジン、
４，４′−メチレンジ−６−ブロム−２−トルイジン、
アニリン、エチルアニリン、ジクロロアニリン、４，
４′−メチレンジ−２，６−ジエチルアニリン、４，
４′−メチレンジ−２，６−イソプロピルアニリン、イ
ソプロポキシアニリン、クロロアニリン、ブロモアニリ
ン、ヨードアニリン、ニトロアニリン、４、４’−メチ
レンジ−２，６−ジブロムアニリン、４，４′−メチレ
ンジ−２−ブロム−６−クロルアニリン、ビス−ｐ−ア
ミノフェニルアニリン、メチレンビスアンスラアニリッ
クアシッド、メチレンビスメチルアンスラニレイト、
３，３′−ジアミノジフェニルスルホン、４，４′−ジ
アミノジフェニルスルホン、３，３′，４，４′−テト
ラアミノジフェニルスルホン、ｐ−ビス（４−アミノフ
ェノキシ）ジフェニルスルホン、ｐ−ビス（３−アミノ
フェノキシ）ジフェニルスルホン、２，２−ビス−〔４
−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、オル
トトリジンスルホン、４，４′−ジアミノジフェニルス
ルフィド、ビス−（４−アミノフェニル）ジスルフィ
ド、３，３′，４，４′−テトラアミノジフェニルサル
ファイド、Ｎ−アミノエチルピペリジン、Ｎ−アミノエ
チル−４−ピペコリン、Ｎ−アミノエチルモルホリン、
Ｎ−アミノプロピルピペリジン、Ｎ−アミノプロピル−
２−ピペコリン、Ｎ−アミノプロピル−４−ピペコリ
ン、Ｎ−アミノプロピルモルホリン、２−アミノエチル
ピペリジン、４−アミノメチルピペリジン、Ｎ−アミノ
ピペリジン、１−アミノ−４−メチルピペラジン、１，
４−ビスアミノプロピルピペラジン、Ｎ−アミノプロピ
ルピペラジン、１−アミノ−４−シクロヘキシルピペラ
ジン、２−アミノピラジン、２−アミノピリジン、３−
アミノピリジン、４−アミノピリジン、２，３−ジアミ
ノピリジン、２，５−ジアミノピリジン、２，６−ジア
ミノピリジン、２，３，６−トリアミノピリジン、２−
アミノ−３−メチルピリジン、２−アミノ−４−メチル
ピリジン、２−アミノ−５−メチルピリジン、２−アミ
ノ−６−メチルピリジン、２−アミノ−４−エチルピリ
ジン、２−アミノ−４−プロピルピリジン、２−アミノ
−４，６−ジメチルピリジン、２，６−ジアミノ−４−
メチルピリジン、２−アミノ−３−ニトロピリジン、２
−アミノ−５−ニトロピリジン、２−クロロ−４−アミ
ノピリジン、２−クロロ−５−アミノピリジン、２−ア
ミノ−３，５−ジクロロピリジン、４−アミノ−３，５
−ジクロロピリジン、２−アミノ−３，５−ジクロロ−
６−メチルピリジン、２−アミノ−３，５−ジクロロ−
４−メチルピリジン、２−アミノ−５−クロロ−３−メ
チルピリジン、２−アミノ−３，５−ジクロロ−４，６
−ジメチルピリジン、２，４−ジアミノピリミジン、
２，４−ジアミノ−６−（４−ピリジル）−５−トリア
ジン、ｐ−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、ｍ
−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、ｐ−ビス
（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、ｍ−ビス（３−ア
ミノフェノキシ）ベンゼン、１，３，５−トリアミノベ
ンゼン、４，４′−ジアミノ−３−メトキシアゾベンゼ
ン、１，５−ジアミノナフタレン、１，３，５−トリア
ミノナフタレン、３，３′−ジメチル−４，４′−ジア
ミノビフェニル、４，４′−ジアミノオクタフルオロビ
フェニル、２，５−ジアミノテレフタル酸、３，４′−
ジアミノベンズアニリド、４，４′−ジアミノベンズア
ニリド、４−（ｐ−アミノフェノキシ）−４−アミノベ
ンズアニリド、３，３′−ジメトキシベンジジン、３，
３′−ジメチルベンジジン、３，３′−ジアミノベンジ
ジン、３，３’−ジヒドロキシベンジジン、２，２′−
ジクロロ−５，５′−ジメトキシベンジジン、２，２′
５，５′−テトラクロロベンジジン、２，４−ジアミノ
トルエン、２，４−ビス（βアミノ−tertブチル）トル
エン、４，４′−ジアミノベンゾフェノン、ポリテトラ
メチレンオキシド−ジ−ｐ−アミノベンゾエート、トリ
メチレンビス−（４−アミノベンゾエート）、ビス（４
−アミノフェニル）ジフェニルシラン、ビス（４−アミ
ノフェニル）ジメチルシラン、ビス（４−アミノフェニ
ル）フェニルホスフィンオキサイド、ビス（４−アミノ
フェニル）メチルホスフィンオキサイド、メラミン、
４，４′−ジアミノスチルベン、９，９−ビス（４−ア
ミノフェニル）−１０−ヒドロアントラセン、２，６−
ジアミノアントラキノン、１，５−ジアミノアントラキ
ノン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレ
ン、５−アミノ−１−（４′−アミノフェニル）−１，
３，３−トリメチルインダン、６−アミノ−１−（４’
−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルインダ
ン、アニシジン、フェネチジン、アミノフェノール、２
−アミノチオフェノール、４−アミノチオフェノール、
アミノ安息香酸、２，５−ジアミノ安息香酸、３，５−
ジアミノ安息香酸、キシリジン、４，４’−メチレンジ
−２，６−キシリジン、２，６−ジアミノベンゾチアゾ
ール、ｍ−アミノベンゾイックアシッドヒドラジド、
２，４−ジアミノメシチレン、ヘキサアミノシクロフォ
スファゼン、１，１−ジアミノ−３，３，５，５−テト
ラフェノキシシクロフォスファゼン、１，３，５−トリ
ス（ｐ−アミノフェノキシ）−１，３，５−トリフェノ
キシシクロフォスファゼン、ヘキサキス（ｐ−アミノフ
ェノキシ）−シクロフォスファゼン等。
【００１４】前記式(I) で表される不飽和ジカルボン酸
アミド酸化合物を脱水閉環する際の脱水剤である酸無水
物としては、これらに限定されるものではないが、例え
ば、下記の化合物が挙げられる。無水酢酸、無水プロピ
オン酸、無水酪酸等の低級モノアルキルカルボン酸無水
物。
アミド酸化合物を脱水閉環する際の脱水剤である酸無水
物としては、これらに限定されるものではないが、例え
ば、下記の化合物が挙げられる。無水酢酸、無水プロピ
オン酸、無水酪酸等の低級モノアルキルカルボン酸無水
物。
【００１５】この脱水剤の使用量は、アミド酸基１当量
当り脱水剤２〜５モル好ましくは２〜３モルの範囲であ
る。また、脱水閉環の際に使用される塩基性触媒として
は、これらに限定されるものではないが、例えば、下記
の化合物が挙げられる。トリメチルアミン、トリエチル
アミン、トリ−ｎ−ブチルアミン等の炭素数１〜１０の
アルキル基を有するトリアルキルアミン類、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルベンジルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８
−ジアザビシクロ［５，４，０］７−ウンデセン等。
当り脱水剤２〜５モル好ましくは２〜３モルの範囲であ
る。また、脱水閉環の際に使用される塩基性触媒として
は、これらに限定されるものではないが、例えば、下記
の化合物が挙げられる。トリメチルアミン、トリエチル
アミン、トリ−ｎ−ブチルアミン等の炭素数１〜１０の
アルキル基を有するトリアルキルアミン類、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルベンジルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８
−ジアザビシクロ［５，４，０］７−ウンデセン等。
【００１６】塩基性触媒の使用量は、アミド酸基１当量
当り塩基性触媒０．０１〜０．５モルであることが好ま
しい。脱水閉環の際に使用される金属塩触媒としては、
これらに限定されるものではないが、例えば、下記の化
合物が挙げられる。塩化コバルト、炭酸コバルト、硫酸
コバルト、ナフテン酸コバルト等の２価または３価のコ
バルト化合物、酢酸ニッケル、ニッケル（アセチルアセ
トナート）、炭酸ニッケル等の２価のニッケル化合物、
塩化マグネシウム、炭酸マグネシウム、酢酸マグネシウ
ム、過塩素酸マグネシウム等の２価のマグネシウム化合
物、酢酸ナトリウム等の１価のナトリウム化合物等。
当り塩基性触媒０．０１〜０．５モルであることが好ま
しい。脱水閉環の際に使用される金属塩触媒としては、
これらに限定されるものではないが、例えば、下記の化
合物が挙げられる。塩化コバルト、炭酸コバルト、硫酸
コバルト、ナフテン酸コバルト等の２価または３価のコ
バルト化合物、酢酸ニッケル、ニッケル（アセチルアセ
トナート）、炭酸ニッケル等の２価のニッケル化合物、
塩化マグネシウム、炭酸マグネシウム、酢酸マグネシウ
ム、過塩素酸マグネシウム等の２価のマグネシウム化合
物、酢酸ナトリウム等の１価のナトリウム化合物等。
【００１７】金属塩触媒の使用量は、アミド酸基１当量
当り０．２〜０．０００１当量の範囲が好ましい。この
反応系において使用される有機溶媒としては、特に限定
されないが、例えば、下記の溶媒が挙げられる。ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスル
ホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトニトリル、ア
セトン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、
シクロヘキサン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、テトラヒドロフラン等。これらの有機溶媒
は、それぞれ、単独で、あるいは、複数併せて使用する
ことができる。
当り０．２〜０．０００１当量の範囲が好ましい。この
反応系において使用される有機溶媒としては、特に限定
されないが、例えば、下記の溶媒が挙げられる。ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスル
ホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトニトリル、ア
セトン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、
シクロヘキサン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、テトラヒドロフラン等。これらの有機溶媒
は、それぞれ、単独で、あるいは、複数併せて使用する
ことができる。
【００１８】有機溶媒の使用量は、不飽和ジカルボン酸
アミド酸化合物の１．０〜４．０重量倍程度になるよう
にすることが好ましい。この脱水閉環反応は、温度２０
〜１００℃で行われることが好ましい。より好ましくは
４０〜７０℃である。このようにして不飽和ジカルボン
酸イミド系化合物を得た場合、副生成物として、アルキ
ルカルボン酸が生成する。そこで、このアルキルカルボ
ン酸を反応に使用した溶媒と共に減圧下で蒸留留去して
不飽和ジカルボン酸イミド系化合物を得るようにするの
である。
アミド酸化合物の１．０〜４．０重量倍程度になるよう
にすることが好ましい。この脱水閉環反応は、温度２０
〜１００℃で行われることが好ましい。より好ましくは
４０〜７０℃である。このようにして不飽和ジカルボン
酸イミド系化合物を得た場合、副生成物として、アルキ
ルカルボン酸が生成する。そこで、このアルキルカルボ
ン酸を反応に使用した溶媒と共に減圧下で蒸留留去して
不飽和ジカルボン酸イミド系化合物を得るようにするの
である。
【００１９】アルキルカルボン酸と溶媒を蒸留留去する
際には、つぎのような条件設定にする必要がある。すな
わち、まず蒸留温度を７０℃以下、好ましくは６０℃以
下に調節して、溶液分の５０〜７０％を留去することで
ある。前記蒸留温度は減圧度に応じて調整する。温度が
７０℃を越えると、蒸留の際中に不飽和ジカルボン酸イ
ミド系化合物の重合反応が起こり、重合物が生成して、
結果として、得られた不飽和ジカルボン酸イミド系化合
物の純度が低くなる。
際には、つぎのような条件設定にする必要がある。すな
わち、まず蒸留温度を７０℃以下、好ましくは６０℃以
下に調節して、溶液分の５０〜７０％を留去することで
ある。前記蒸留温度は減圧度に応じて調整する。温度が
７０℃を越えると、蒸留の際中に不飽和ジカルボン酸イ
ミド系化合物の重合反応が起こり、重合物が生成して、
結果として、得られた不飽和ジカルボン酸イミド系化合
物の純度が低くなる。
【００２０】このようにして、蒸留すべきアルキルカル
ボン酸と溶媒を併せた溶液分の５０〜７０％を留去した
時に、一旦、溶液を好ましくは５０℃以下、より好まし
くは３０℃以下まで冷却して、または、この溶液に水等
の貧溶媒を加えて、不飽和ジカルボン酸イミド系化合物
を析出させ、その後、再度蒸留を行って、不飽和ジカル
ボン酸イミド系化合物を得る。前記初期の蒸留留去にお
いて、溶液分の蒸留留去量が５０％未満の場合には不飽
和ジカルボン酸イミド系化合物が析出しにくい。また、
７０％を越える場合には、溶液分が高濃度溶液となって
いるために、不飽和ジカルボン酸イミド系化合物の重合
反応が起こって重合物が生成し、得られた不飽和ジカル
ボン酸イミド系化合物の純度が低くなる。
ボン酸と溶媒を併せた溶液分の５０〜７０％を留去した
時に、一旦、溶液を好ましくは５０℃以下、より好まし
くは３０℃以下まで冷却して、または、この溶液に水等
の貧溶媒を加えて、不飽和ジカルボン酸イミド系化合物
を析出させ、その後、再度蒸留を行って、不飽和ジカル
ボン酸イミド系化合物を得る。前記初期の蒸留留去にお
いて、溶液分の蒸留留去量が５０％未満の場合には不飽
和ジカルボン酸イミド系化合物が析出しにくい。また、
７０％を越える場合には、溶液分が高濃度溶液となって
いるために、不飽和ジカルボン酸イミド系化合物の重合
反応が起こって重合物が生成し、得られた不飽和ジカル
ボン酸イミド系化合物の純度が低くなる。
【００２１】前記貧溶媒としては、特には限定されない
が、下記の溶媒を単独または併せて使用することができ
る。水、キシレン、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、シ
クロヘキサン等。なお、蒸留は最終的には９３％以上の
溶液分を蒸留留去する程度まで行うことが好ましい。９
３％未満であれば、得られた不飽和ジカルボン酸イミド
系化合物を用いて樹脂を製造した場合、得られた樹脂の
耐熱性を損なう恐れがあるからである。
が、下記の溶媒を単独または併せて使用することができ
る。水、キシレン、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、シ
クロヘキサン等。なお、蒸留は最終的には９３％以上の
溶液分を蒸留留去する程度まで行うことが好ましい。９
３％未満であれば、得られた不飽和ジカルボン酸イミド
系化合物を用いて樹脂を製造した場合、得られた樹脂の
耐熱性を損なう恐れがあるからである。
【００２２】この不飽和ジカルボン酸イミド系化合物を
用いて樹脂を製造する場合には、得られた不飽和ジカル
ボン酸イミド系化合物に他の配合成分を適宜の割合で添
加して、重合を行う。重合条件は従来と同様である。他
の配合成分とは、前記のポリアミンや溶媒等である。こ
の樹脂製造は、単離した不飽和ジカルボン酸イミド系化
合物を用いて行うほか、単離せずに、不飽和ジカルボン
酸イミド系化合物の製造に用いた容器内で引き続き行う
ようにしても良い。
用いて樹脂を製造する場合には、得られた不飽和ジカル
ボン酸イミド系化合物に他の配合成分を適宜の割合で添
加して、重合を行う。重合条件は従来と同様である。他
の配合成分とは、前記のポリアミンや溶媒等である。こ
の樹脂製造は、単離した不飽和ジカルボン酸イミド系化
合物を用いて行うほか、単離せずに、不飽和ジカルボン
酸イミド系化合物の製造に用いた容器内で引き続き行う
ようにしても良い。
【００２３】
【作用】この発明にかかる方法によれば、得られた不飽
和ジカルボン酸イミド系化合物の純度が９０重量％以上
と高く、化合物中に含まれる高分子成分の量が少ない。
そのため、従来のごとく、反応液に水を投入して反応生
成物を析出させ、濾過・水洗浄・副成する酸の中和等な
どの後処理を行う必要がない。
和ジカルボン酸イミド系化合物の純度が９０重量％以上
と高く、化合物中に含まれる高分子成分の量が少ない。
そのため、従来のごとく、反応液に水を投入して反応生
成物を析出させ、濾過・水洗浄・副成する酸の中和等な
どの後処理を行う必要がない。
【００２４】
【実施例】次に、この発明の実施例について、比較例と
併せて説明するが、この発明は下記実施例に限定されな
い。不飽和ジカルボン酸イミド系化合物の製造例 −実施例１．１− 下記構造を有する不飽和ジカルボン酸アミド酸：
併せて説明するが、この発明は下記実施例に限定されな
い。不飽和ジカルボン酸イミド系化合物の製造例 −実施例１．１− 下記構造を有する不飽和ジカルボン酸アミド酸：
【００２５】
【化９】
【００２６】（化合物名：Ｎ，Ｎ′−４，４′−ジフェ
ニルメタンビスマレアミド酸）１９７ｇ（０．５モル）
を、Ｎ，Ｎ′−ジメチルホルムアミド３９４ｇに溶解さ
せ、これに無水酢酸１５３．０ｇ（１．５モル）、トリ
エチルアミン５．１ｇ（０．０５モル）、酢酸ニッケル
０．２ｇ（０．００１モル）を添加した後、反応温度を
６０℃に保ちながら３０分反応させた。反応終了後、徐
々に減圧をしながら蒸留を開始した。真空度１０ｍｍＨ
ｇ、蒸留温度５２℃で１時間蒸留を行った後、蒸留を止
めて、４０℃まで溶液を冷却した。この時の蒸留量は３
４５ｇであり、それは蒸留すべき溶液分の６１％に当た
る。固形分の析出を確認した後、再度、同条件で１時間
蒸留をおこない９７％の溶液分を蒸留し終えて、固形物
を得た。
ニルメタンビスマレアミド酸）１９７ｇ（０．５モル）
を、Ｎ，Ｎ′−ジメチルホルムアミド３９４ｇに溶解さ
せ、これに無水酢酸１５３．０ｇ（１．５モル）、トリ
エチルアミン５．１ｇ（０．０５モル）、酢酸ニッケル
０．２ｇ（０．００１モル）を添加した後、反応温度を
６０℃に保ちながら３０分反応させた。反応終了後、徐
々に減圧をしながら蒸留を開始した。真空度１０ｍｍＨ
ｇ、蒸留温度５２℃で１時間蒸留を行った後、蒸留を止
めて、４０℃まで溶液を冷却した。この時の蒸留量は３
４５ｇであり、それは蒸留すべき溶液分の６１％に当た
る。固形分の析出を確認した後、再度、同条件で１時間
蒸留をおこない９７％の溶液分を蒸留し終えて、固形物
を得た。
【００２７】この固形物の構造を13Ｃ−ＮＭＲで確認し
たところ、この固形物は下記構造を有する不飽和ジカル
ボン酸イミド系化合物（化合物名：Ｎ，Ｎ′−４，４′
−ジフェニルメタンビスマレイミド）であった。
たところ、この固形物は下記構造を有する不飽和ジカル
ボン酸イミド系化合物（化合物名：Ｎ，Ｎ′−４，４′
−ジフェニルメタンビスマレイミド）であった。
【００２８】
【化１０】
【００２９】また、この化合物の純度を液体クロマトグ
ラフで測定したところ、９１．５％であった。 −実施例１．２− 実施例１．１で用いたＮ，Ｎ’−４，４’−ジフェニル
メタンビスマレアミド酸１９７ｇ（０．５モル）を、
Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド３９４ｇに溶解させ、
これに無水酢酸１２７．５ｇ（１．２５モル）、Ｎ−メ
チルモルホリン１０．１ｇ（０．１モル）、酢酸コバル
ト０．２ｇ（０．００１モル）を添加した後、反応温度
を６０℃に保ちながら１時間反応させた。反応終了後、
徐々に減圧をしながら蒸留を開始した。真空度１０ｍｍ
Ｈｇ、蒸留温度５２℃で７５分蒸留をおこなった後、蒸
留を止めて、溶液を４０℃まで冷却した。この時の蒸留
量は３６７ｇであった。これは、蒸留すべき溶液分の６
８％に当たる。固形分の析出を確認した後、再度、同条
件で４５分蒸留を行い、９５％の溶液分を蒸留し終え
て、実施例１．１と同様に、固形のＮ，Ｎ′−４，４′
−ジフェニルメタンビスマレイミドを得た。
ラフで測定したところ、９１．５％であった。 −実施例１．２− 実施例１．１で用いたＮ，Ｎ’−４，４’−ジフェニル
メタンビスマレアミド酸１９７ｇ（０．５モル）を、
Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド３９４ｇに溶解させ、
これに無水酢酸１２７．５ｇ（１．２５モル）、Ｎ−メ
チルモルホリン１０．１ｇ（０．１モル）、酢酸コバル
ト０．２ｇ（０．００１モル）を添加した後、反応温度
を６０℃に保ちながら１時間反応させた。反応終了後、
徐々に減圧をしながら蒸留を開始した。真空度１０ｍｍ
Ｈｇ、蒸留温度５２℃で７５分蒸留をおこなった後、蒸
留を止めて、溶液を４０℃まで冷却した。この時の蒸留
量は３６７ｇであった。これは、蒸留すべき溶液分の６
８％に当たる。固形分の析出を確認した後、再度、同条
件で４５分蒸留を行い、９５％の溶液分を蒸留し終え
て、実施例１．１と同様に、固形のＮ，Ｎ′−４，４′
−ジフェニルメタンビスマレイミドを得た。
【００３０】この化合物の純度を液体クロマトグラフで
測定したところ、９０．３％であった。 −実施例１．３− 下記構造を有する不飽和ジカルボン酸アミド酸：
測定したところ、９０．３％であった。 −実施例１．３− 下記構造を有する不飽和ジカルボン酸アミド酸：
【００３１】
【化１１】
【００３２】（化合物名：Ｎ−フェニルマレアミド酸）
１９１ｇ（１モル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２
８７ｇに溶解させ、これに無水酢酸１５３ｇ（１．５モ
ル）、トリエチルアミン１０．１ｇ（０．１モル）、ナ
フテン酸コバルト０．２ｇ（０．００１モル）を添加し
た後、反応温度を６０℃に保ちながら３０分間反応させ
た。反応終了後、徐々に減圧をしながら蒸留を開始し
た。真空度１０ｍｍＨｇ、蒸留温度５２℃で６０分蒸留
を行った後、蒸留を止めて、溶液を３０℃まで冷却し
た。この時の蒸留量は２７５ｇであった。これは、蒸留
すべき溶液分の６０％に当たる。固形分の析出を確認し
た後、再度、同条件で６０分蒸留をおこない９３％の溶
液分を蒸留して、固形物を得た。
１９１ｇ（１モル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２
８７ｇに溶解させ、これに無水酢酸１５３ｇ（１．５モ
ル）、トリエチルアミン１０．１ｇ（０．１モル）、ナ
フテン酸コバルト０．２ｇ（０．００１モル）を添加し
た後、反応温度を６０℃に保ちながら３０分間反応させ
た。反応終了後、徐々に減圧をしながら蒸留を開始し
た。真空度１０ｍｍＨｇ、蒸留温度５２℃で６０分蒸留
を行った後、蒸留を止めて、溶液を３０℃まで冷却し
た。この時の蒸留量は２７５ｇであった。これは、蒸留
すべき溶液分の６０％に当たる。固形分の析出を確認し
た後、再度、同条件で６０分蒸留をおこない９３％の溶
液分を蒸留して、固形物を得た。
【００３３】この固形物の構造を13Ｃ−ＮＭＲで確認し
たところ、この固形物は下記構造を有する不飽和ジカル
ボン酸イミド系化合物（化合物名：Ｎ−フェニル−マレ
イミド）であった。
たところ、この固形物は下記構造を有する不飽和ジカル
ボン酸イミド系化合物（化合物名：Ｎ−フェニル−マレ
イミド）であった。
【００３４】
【化１２】
【００３５】この化合物の純度を液体クロマトグラフで
測定したところ、９２．１％であった。 −実施例２．１− 実施例１．１で用いたＮ，Ｎ′−４，４′−ジフェニル
メタンビスマレアミド酸１９７ｇ（０．５モル）を、
Ｎ，Ｎ′−ジメチルホルムアミド３９４ｇに溶解させ、
これに無水酢酸１５３．０ｇ（１．５モル）、トリエチ
ルアミン５．１ｇ（０．０５モル）、酢酸ニッケル０．
２ｇ（０．００１モル）を添加した後、反応温度を６０
℃に保ちながら３０分反応させた。反応終了後、徐々に
減圧をしながら蒸留を開始した。真空度１０ｍｍＨｇ、
蒸留温度５２℃で１時間蒸留を行った後、蒸留を止め
て、水を３００ｇ添加した。この時の蒸留量は３４５ｇ
であり、それは蒸留すべき溶液分の６１％に当たる。固
形分の析出を確認した後、再度、同条件で１時間蒸留を
行い９７％の溶液分を蒸留し終えて、実施例１．１と同
様に、固形のＮ，Ｎ′−４，４′−ジフェニルメタンビ
スマレイミドを得た。
測定したところ、９２．１％であった。 −実施例２．１− 実施例１．１で用いたＮ，Ｎ′−４，４′−ジフェニル
メタンビスマレアミド酸１９７ｇ（０．５モル）を、
Ｎ，Ｎ′−ジメチルホルムアミド３９４ｇに溶解させ、
これに無水酢酸１５３．０ｇ（１．５モル）、トリエチ
ルアミン５．１ｇ（０．０５モル）、酢酸ニッケル０．
２ｇ（０．００１モル）を添加した後、反応温度を６０
℃に保ちながら３０分反応させた。反応終了後、徐々に
減圧をしながら蒸留を開始した。真空度１０ｍｍＨｇ、
蒸留温度５２℃で１時間蒸留を行った後、蒸留を止め
て、水を３００ｇ添加した。この時の蒸留量は３４５ｇ
であり、それは蒸留すべき溶液分の６１％に当たる。固
形分の析出を確認した後、再度、同条件で１時間蒸留を
行い９７％の溶液分を蒸留し終えて、実施例１．１と同
様に、固形のＮ，Ｎ′−４，４′−ジフェニルメタンビ
スマレイミドを得た。
【００３６】この化合物の純度を液体クロマトグラフで
測定したところ、９１．５％であった。 −実施例２．２− 実施例１．１で用いたＮ，Ｎ’−４，４’−ジフェニル
メタンビスマレアミド酸１９７ｇ（０．５モル）を、
Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド３９４ｇに溶解させ、
これに無水酢酸１２７．５ｇ（１．２５モル）、Ｎ−メ
チルモルホリン１０．１ｇ（０．１モル）、酢酸コバル
ト０．２ｇ（０．００１モル）を添加した後、反応温度
を６０℃に保ちながら１時間反応させた。反応終了後、
徐々に減圧をしながら蒸留を開始した。真空度１０ｍｍ
Ｈｇ、蒸留温度５２℃で７５分蒸留をおこなった後、蒸
留を止めて、キシレン３００ｇを添加した。この時の蒸
留量は３６７ｇであった。これは、蒸留すべき溶液分の
６８％に当たる。固形分の析出を確認した後、再度、同
条件で４５分蒸留を行い、９５％の溶液分を蒸留し終え
て、実施例１．１と同様に、固形のＮ，Ｎ′−４，４′
−ジフェニルメタンビスマレイミドを得た。
測定したところ、９１．５％であった。 −実施例２．２− 実施例１．１で用いたＮ，Ｎ’−４，４’−ジフェニル
メタンビスマレアミド酸１９７ｇ（０．５モル）を、
Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド３９４ｇに溶解させ、
これに無水酢酸１２７．５ｇ（１．２５モル）、Ｎ−メ
チルモルホリン１０．１ｇ（０．１モル）、酢酸コバル
ト０．２ｇ（０．００１モル）を添加した後、反応温度
を６０℃に保ちながら１時間反応させた。反応終了後、
徐々に減圧をしながら蒸留を開始した。真空度１０ｍｍ
Ｈｇ、蒸留温度５２℃で７５分蒸留をおこなった後、蒸
留を止めて、キシレン３００ｇを添加した。この時の蒸
留量は３６７ｇであった。これは、蒸留すべき溶液分の
６８％に当たる。固形分の析出を確認した後、再度、同
条件で４５分蒸留を行い、９５％の溶液分を蒸留し終え
て、実施例１．１と同様に、固形のＮ，Ｎ′−４，４′
−ジフェニルメタンビスマレイミドを得た。
【００３７】この化合物の純度を液体クロマトグラフで
測定したところ、９０．３％であった。 −実施例２．３− 実施例１．３で用いたＮ−フェニルマレアミド酸１９１
ｇ（１モル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２８７ｇ
に溶解させ、これに無水酢酸１５３ｇ（１．５モル）、
トリエチルアミン１０．１ｇ（０．１モル）、ナフテン
酸コバルト０．２ｇ（０．００１モル）を添加した後、
反応温度を６０℃に保ちながら３０分間反応させた。反
応終了後、徐々に減圧をしながら蒸留を開始した。真空
度１０ｍｍＨｇ、蒸留温度５２℃で６０分蒸留を行った
後、蒸留を止めて、トルエン４００ｇを添加した。この
時の蒸留量は２７５ｇであった。これは、蒸留すべき溶
液分の６０％に当たる。固形分の析出を確認した後、再
度、同条件で６０分蒸留をおこない９３％の溶液分を蒸
留して、実施例１．３と同様に、固形のＮ−フェニル−
マレイミドを得た。
測定したところ、９０．３％であった。 −実施例２．３− 実施例１．３で用いたＮ−フェニルマレアミド酸１９１
ｇ（１モル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２８７ｇ
に溶解させ、これに無水酢酸１５３ｇ（１．５モル）、
トリエチルアミン１０．１ｇ（０．１モル）、ナフテン
酸コバルト０．２ｇ（０．００１モル）を添加した後、
反応温度を６０℃に保ちながら３０分間反応させた。反
応終了後、徐々に減圧をしながら蒸留を開始した。真空
度１０ｍｍＨｇ、蒸留温度５２℃で６０分蒸留を行った
後、蒸留を止めて、トルエン４００ｇを添加した。この
時の蒸留量は２７５ｇであった。これは、蒸留すべき溶
液分の６０％に当たる。固形分の析出を確認した後、再
度、同条件で６０分蒸留をおこない９３％の溶液分を蒸
留して、実施例１．３と同様に、固形のＮ−フェニル−
マレイミドを得た。
【００３８】この化合物の純度を液体クロマトグラフで
測定したところ、９２．１％であった。 −比較例１− 実施例１．１で用いたＮ，Ｎ’−４，４’−ジフェニル
メタンビスマレアミド酸１９７ｇ（０．５モル）を、
Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド３９４ｇに溶解させ、
これに無水酢酸１５３．０ｇ（１．５モル）、トリエチ
ルアミン５．１ｇ（０．０５モル）、酢酸ニッケル０．
２ｇ（０．００１モル）を添加した後、反応温度を６０
℃に保ちながら１時間反応させた。反応終了後、２０℃
に冷却し、反応液に水５００ｇを加えて沈澱を析出させ
た。この沈澱を濾別した後、水洗いし、次に炭酸ソーダ
水溶液で中和を行い、中和終了後、さらに水洗を行い乾
燥し、Ｎ，Ｎ’−４，４’−ジフェニルメタンビスマレ
イミド１６３ｇを得た。この時、約３０００ｇの廃溶液
が出た。この量は、実施例１に比べて約６倍であった。
この化合物の純度を液体クロマトグラフで測定したとこ
ろ、９１．５％であった。
測定したところ、９２．１％であった。 −比較例１− 実施例１．１で用いたＮ，Ｎ’−４，４’−ジフェニル
メタンビスマレアミド酸１９７ｇ（０．５モル）を、
Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド３９４ｇに溶解させ、
これに無水酢酸１５３．０ｇ（１．５モル）、トリエチ
ルアミン５．１ｇ（０．０５モル）、酢酸ニッケル０．
２ｇ（０．００１モル）を添加した後、反応温度を６０
℃に保ちながら１時間反応させた。反応終了後、２０℃
に冷却し、反応液に水５００ｇを加えて沈澱を析出させ
た。この沈澱を濾別した後、水洗いし、次に炭酸ソーダ
水溶液で中和を行い、中和終了後、さらに水洗を行い乾
燥し、Ｎ，Ｎ’−４，４’−ジフェニルメタンビスマレ
イミド１６３ｇを得た。この時、約３０００ｇの廃溶液
が出た。この量は、実施例１に比べて約６倍であった。
この化合物の純度を液体クロマトグラフで測定したとこ
ろ、９１．５％であった。
【００３９】−比較例２− 実施例１．１で用いたＮ，Ｎ’−４，４’−ジフェニル
メタンビスマレアミド酸１９７ｇ（０．５モル）をＮ，
Ｎ’−ジメチルホルムアミド３９４ｇに溶解させ、これ
に無水酢酸１５３．０ｇ（１．５モル）、トリエチルア
ミン５．１ｇ（０．０５モル）、酢酸ニッケル０．２ｇ
（０．００１モル）を添加した後、反応温度を６０℃に
保ちながら３０分反応させた。反応終了後、徐々に減圧
をしながら蒸留を開始した。真空度３０ｍｍＨｇ、蒸留
温度７５℃で１時間蒸留を行った後、蒸留を止めて、溶
液を４０℃まで冷却した。この時の蒸留量は３５６ｇで
あり、それは蒸留すべき溶液分の６３％に当たる。固形
分の析出を確認した後、再度、同条件で１時間蒸留をお
こない９７％の溶液分を蒸留して、固形の化合物を得
た。
メタンビスマレアミド酸１９７ｇ（０．５モル）をＮ，
Ｎ’−ジメチルホルムアミド３９４ｇに溶解させ、これ
に無水酢酸１５３．０ｇ（１．５モル）、トリエチルア
ミン５．１ｇ（０．０５モル）、酢酸ニッケル０．２ｇ
（０．００１モル）を添加した後、反応温度を６０℃に
保ちながら３０分反応させた。反応終了後、徐々に減圧
をしながら蒸留を開始した。真空度３０ｍｍＨｇ、蒸留
温度７５℃で１時間蒸留を行った後、蒸留を止めて、溶
液を４０℃まで冷却した。この時の蒸留量は３５６ｇで
あり、それは蒸留すべき溶液分の６３％に当たる。固形
分の析出を確認した後、再度、同条件で１時間蒸留をお
こない９７％の溶液分を蒸留して、固形の化合物を得
た。
【００４０】この化合物の純度を液体クロマトグラフで
測定したところ、７５．６％であった。 −比較例３− 実施例１．１で用いたＮ，Ｎ’−４，４’−ジフェニル
メタンビスマレアミド酸１９７ｇ（０．５モル）を、
Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド３９４ｇに溶解させ、
これに無水酢酸１２７．５ｇ（１．２５モル）、Ｎ−メ
チルモルホリン１０．１ｇ（０．１モル）、酢酸コバル
ト０．２ｇ（０．００１モル）を添加した後、反応温度
を６０℃に保ちながら１時間反応させた。反応終了後、
徐々に減圧をしながら蒸留を開始した。真空度１０ｍｍ
Ｈｇ、蒸留温度５２℃で２時間蒸留を行い、９７％の溶
液分を蒸留し固形の化合物を得た。
測定したところ、７５．６％であった。 −比較例３− 実施例１．１で用いたＮ，Ｎ’−４，４’−ジフェニル
メタンビスマレアミド酸１９７ｇ（０．５モル）を、
Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド３９４ｇに溶解させ、
これに無水酢酸１２７．５ｇ（１．２５モル）、Ｎ−メ
チルモルホリン１０．１ｇ（０．１モル）、酢酸コバル
ト０．２ｇ（０．００１モル）を添加した後、反応温度
を６０℃に保ちながら１時間反応させた。反応終了後、
徐々に減圧をしながら蒸留を開始した。真空度１０ｍｍ
Ｈｇ、蒸留温度５２℃で２時間蒸留を行い、９７％の溶
液分を蒸留し固形の化合物を得た。
【００４１】この化合物の純度を液体クロマトグラフで
測定したところ、８０．９％であった。不飽和ジカルボン酸イミド系樹脂の製造例 −実施例１．４− 実施例１．１で得られたＮ，Ｎ’−４，４’−ジフェニ
ルメタンビスマレイミド１００ｇを取り出し、別の反応
容器に投入し、さらにＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド
７５ｇを添加し溶解させた後、ジアミノジフェニルメタ
ン２７．７ｇを加え、８０℃で３時間反応を行った。得
られたワニスをガラスクロスに含浸させた後、１５０℃
で５分間乾燥してプリプレグを作製した。このプリプレ
グ４枚を重ね合わせ、さらに、その両外側から銅箔を重
ね合わせ、温度１４０℃、時間６０分間、圧力４０ｋｇ
ｆ／ｃｍ2 で成形を行い、さらに、２３０℃で２時間キ
ュアーを行って、両面銅張積層板を得た。
測定したところ、８０．９％であった。不飽和ジカルボン酸イミド系樹脂の製造例 −実施例１．４− 実施例１．１で得られたＮ，Ｎ’−４，４’−ジフェニ
ルメタンビスマレイミド１００ｇを取り出し、別の反応
容器に投入し、さらにＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド
７５ｇを添加し溶解させた後、ジアミノジフェニルメタ
ン２７．７ｇを加え、８０℃で３時間反応を行った。得
られたワニスをガラスクロスに含浸させた後、１５０℃
で５分間乾燥してプリプレグを作製した。このプリプレ
グ４枚を重ね合わせ、さらに、その両外側から銅箔を重
ね合わせ、温度１４０℃、時間６０分間、圧力４０ｋｇ
ｆ／ｃｍ2 で成形を行い、さらに、２３０℃で２時間キ
ュアーを行って、両面銅張積層板を得た。
【００４２】この積層板のＴｇをＴＭＡ分析により、測
定したところ、２５０℃であった。また、層間（プリプ
レグ同士の間）の接着強度を測定したところ、１．３ｋ
ｇｆ／ｃｍであった。 −実施例１．５− 実施例１．１で得られたＮ，Ｎ’−４，４’−ジフェニ
ルメタンビスマレイミド１７９ｇを単離せず、同一の反
応容器内にＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド１３４ｇを
添加し溶解させた後、ジアミノジフェニルメタン４９．
６ｇを添加し、８０℃で３時間反応を行った。得られた
ワニスをガラスクロスに含浸させた後、１５０℃で５分
間乾燥してプリプレグを作製した。このプリプレグ４枚
を重ね合わせ、その両外側から銅箔を重ね合わせ、温度
１４０℃、時間６０分間、圧力４０ｋｇｆ／ｃｍ2 で成
形を行い、さらに、２３０℃で２時間キュアーを行い、
両面銅張積層板を得た。この積層板のＴｇをＴＭＡ分析
により、測定したところ、２４８℃であった。また、層
間（プリプレグ同士の間）の接着強度を測定したとこ
ろ、１．３ｋｇｆ／ｃｍであった。
定したところ、２５０℃であった。また、層間（プリプ
レグ同士の間）の接着強度を測定したところ、１．３ｋ
ｇｆ／ｃｍであった。 −実施例１．５− 実施例１．１で得られたＮ，Ｎ’−４，４’−ジフェニ
ルメタンビスマレイミド１７９ｇを単離せず、同一の反
応容器内にＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド１３４ｇを
添加し溶解させた後、ジアミノジフェニルメタン４９．
６ｇを添加し、８０℃で３時間反応を行った。得られた
ワニスをガラスクロスに含浸させた後、１５０℃で５分
間乾燥してプリプレグを作製した。このプリプレグ４枚
を重ね合わせ、その両外側から銅箔を重ね合わせ、温度
１４０℃、時間６０分間、圧力４０ｋｇｆ／ｃｍ2 で成
形を行い、さらに、２３０℃で２時間キュアーを行い、
両面銅張積層板を得た。この積層板のＴｇをＴＭＡ分析
により、測定したところ、２４８℃であった。また、層
間（プリプレグ同士の間）の接着強度を測定したとこ
ろ、１．３ｋｇｆ／ｃｍであった。
【００４３】−実施例２．４− 実施例２．１で得られたＮ，Ｎ’−４，４’−ジフェニ
ルメタンビスマレイミド１００ｇを取り出し、別の反応
容器に投入し、さらにＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド
７５ｇを添加し溶解させた後、ジアミノジフェニルメタ
ン２７．７ｇを加え、８０℃で３時間反応を行った。得
られたワニスをガラスクロスに含浸させた後、１５０℃
で５分間乾燥してプリプレグを作製した。このプリプレ
グ４枚を重ね合わせ、さらに、その両外側から銅箔を重
ね合わせ、温度１４０℃、時間６０分間、圧力４０ｋｇ
ｆ／ｃｍ2 で成形を行い、さらに、２３０℃で２時間キ
ュアーを行って、両面銅張積層板を得た。
ルメタンビスマレイミド１００ｇを取り出し、別の反応
容器に投入し、さらにＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド
７５ｇを添加し溶解させた後、ジアミノジフェニルメタ
ン２７．７ｇを加え、８０℃で３時間反応を行った。得
られたワニスをガラスクロスに含浸させた後、１５０℃
で５分間乾燥してプリプレグを作製した。このプリプレ
グ４枚を重ね合わせ、さらに、その両外側から銅箔を重
ね合わせ、温度１４０℃、時間６０分間、圧力４０ｋｇ
ｆ／ｃｍ2 で成形を行い、さらに、２３０℃で２時間キ
ュアーを行って、両面銅張積層板を得た。
【００４４】この積層板のＴｇをＴＭＡ分析により、測
定したところ、２５０℃であった。また、層間（プリプ
レグ同士の間）の接着強度を測定したところ、１．３ｋ
ｇｆ／ｃｍであった。 −実施例２．５− 実施例２．１で得られたＮ，Ｎ’−４，４’−ジフェニ
ルメタンビスマレイミド１７９ｇを単離せず、同一の反
応容器内にＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド１３４ｇを
添加し溶解させた後、ジアミノジフェニルメタン４９．
６ｇを添加し、８０℃で３時間反応を行った。得られた
ワニスをガラスクロスに含浸させた後、１５０℃で５分
間乾燥してプリプレグを作製した。このプリプレグ４枚
を重ね合わせ、その両外側から銅箔を重ね合わせ、温度
１４０℃、時間６０分間、圧力４０ｋｇｆ／ｃｍ2 で成
形を行い、さらに、２３０℃で２時間キュアーを行い、
両面銅張積層板を得た。この積層板のＴｇをＴＭＡ分析
により、測定したところ、２４８℃であった。また、層
間（プリプレグ同士の間）の接着強度を測定したとこ
ろ、１．３ｋｇｆ／ｃｍであった。
定したところ、２５０℃であった。また、層間（プリプ
レグ同士の間）の接着強度を測定したところ、１．３ｋ
ｇｆ／ｃｍであった。 −実施例２．５− 実施例２．１で得られたＮ，Ｎ’−４，４’−ジフェニ
ルメタンビスマレイミド１７９ｇを単離せず、同一の反
応容器内にＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド１３４ｇを
添加し溶解させた後、ジアミノジフェニルメタン４９．
６ｇを添加し、８０℃で３時間反応を行った。得られた
ワニスをガラスクロスに含浸させた後、１５０℃で５分
間乾燥してプリプレグを作製した。このプリプレグ４枚
を重ね合わせ、その両外側から銅箔を重ね合わせ、温度
１４０℃、時間６０分間、圧力４０ｋｇｆ／ｃｍ2 で成
形を行い、さらに、２３０℃で２時間キュアーを行い、
両面銅張積層板を得た。この積層板のＴｇをＴＭＡ分析
により、測定したところ、２４８℃であった。また、層
間（プリプレグ同士の間）の接着強度を測定したとこ
ろ、１．３ｋｇｆ／ｃｍであった。
【００４５】−比較例４− 比較例１で得られたＮ，Ｎ’−４，４’−ジフェニルメ
タンビスマレイミド１００ｇにＮ，Ｎ’−ジメチルアセ
トアミド７５ｇを添加し、溶解させた後、ジアミノジフ
ェニルメタン２７．７ｇを加え、８０℃で３時間反応を
行った。得られたワニスをガラスクロスに含浸させた
後、１５０℃で５分間乾燥してプリプレグを作製した。
このプリプレグ４枚を重ね合わせ、さらに、その両外側
から銅箔を重ね合わせ、温度１４０℃、時間６０分間、
圧力４０ｋｇｆ／ｃｍ2 で 成形を行い、さらに、２３
０℃で２時間キュアーを行って、両面銅張積層板を得
た。
タンビスマレイミド１００ｇにＮ，Ｎ’−ジメチルアセ
トアミド７５ｇを添加し、溶解させた後、ジアミノジフ
ェニルメタン２７．７ｇを加え、８０℃で３時間反応を
行った。得られたワニスをガラスクロスに含浸させた
後、１５０℃で５分間乾燥してプリプレグを作製した。
このプリプレグ４枚を重ね合わせ、さらに、その両外側
から銅箔を重ね合わせ、温度１４０℃、時間６０分間、
圧力４０ｋｇｆ／ｃｍ2 で 成形を行い、さらに、２３
０℃で２時間キュアーを行って、両面銅張積層板を得
た。
【００４６】この積層板のＴｇをＴＭＡ分析により、測
定したところ、２５２℃であった。また、層間（プリプ
レグ同士の間）の接着強度を測定したところ、１．３ｋ
ｇｆ／ｃｍであった。
定したところ、２５２℃であった。また、層間（プリプ
レグ同士の間）の接着強度を測定したところ、１．３ｋ
ｇｆ／ｃｍであった。
【００４７】
【発明の効果】この発明によれば、得られた不飽和ジカ
ルボン酸イミド系化合物の純度が９０重量％以上と高
く、化合物中に含まれる高分子成分の量が少ない。その
ため、この発明の製造方法では、中和・水洗浄等の繁雑
な後処理工程を省くことができ、工程自体を非常に簡素
にすることができて、短時間で不飽和ジカルボン酸イミ
ド系化合物および不飽和ジカルボン酸イミド系樹脂を製
造することができる。
ルボン酸イミド系化合物の純度が９０重量％以上と高
く、化合物中に含まれる高分子成分の量が少ない。その
ため、この発明の製造方法では、中和・水洗浄等の繁雑
な後処理工程を省くことができ、工程自体を非常に簡素
にすることができて、短時間で不飽和ジカルボン酸イミ
ド系化合物および不飽和ジカルボン酸イミド系樹脂を製
造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｇ 73/12 ＮＴＨ Ｃ０８Ｌ 79/08 ＬＲＥ (56)参考文献 特開 昭53−23396（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−69827（ＪＰ，Ａ) 米国特許4855450（ＵＳ，Ａ)
Claims (3)
- 【請求項１】 下記一般式(I) で表される不飽和ジカル
ボン酸アミド酸化合物を、脱水剤としての酸無水物、塩
基性触媒および金属塩触媒の３者の存在下で脱水閉環し
た後、生成する酸と溶媒を減圧蒸留し、その際、まず蒸
留温度７０℃以下で溶液分の５０〜７０％を留去した
後、冷却を行い固形分を析出させてから、再度蒸留を行
うことにより、下記一般式(II)で表される不飽和ジカル
ボン酸イミド系化合物を得るようにする不飽和ジカルボ
ン酸イミド系化合物の製法。 【化１】 【化２】 〔式(I) および(II)中、Ｄは少なくとも１つの炭素−炭
素二重結合を持つ２価の有機基を表し、Ｒ1 は少なくと
も１個の炭素原子を含むｎ価の有機基を表し、ｎは１以
上の整数を表す。〕 - 【請求項２】 下記一般式(I) で表される不飽和ジカル
ボン酸アミド酸化合物を、脱水剤としての酸無水物、塩
基性触媒および金属塩触媒の３者の存在下で脱水閉環し
た後、生成する酸と溶媒を減圧蒸留し、その際、まず蒸
留温度７０℃以下で溶液分の５０〜７０％を留去した
後、貧溶媒を加えて固形分を析出させてから、再度蒸留
を行うことにより、下記一般式(II)で表される不飽和ジ
カルボン酸イミド系化合物を得るようにする不飽和ジカ
ルボン酸イミド系化合物の製法。 【化３】 【化４】 〔式(I) および(II)中、Ｄは少なくとも１つの炭素−炭
素二重結合を持つ２価の有機基を表し、Ｒ1 は少なくと
も１個の炭素原子を含むｎ価の有機基を表し、ｎは１以
上の整数を表す。〕 - 【請求項３】 請求項１および／または２記載の製法に
より得られた不飽和ジカルボン酸イミド系化合物に、ポ
リアミンと溶剤を添加して重合させることにより、不飽
和ジカルボン酸イミド系樹脂を得るようにする不飽和ジ
カルボン酸イミド系樹脂の製法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3008777A JPH085855B2 (ja) | 1991-01-28 | 1991-01-28 | 不飽和ジカルボン酸イミド系化合物および樹脂の製法 |
| CA002059988A CA2059988C (en) | 1991-01-28 | 1992-01-24 | Process for preparing compound of unsaturated dicarboxylic acid imides and resin of the same imides |
| DE4202281A DE4202281C2 (de) | 1991-01-28 | 1992-01-28 | Verfahren zur Herstellung ungesättigter Dicarbonsäureimide und deren Verwendung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3008777A JPH085855B2 (ja) | 1991-01-28 | 1991-01-28 | 不飽和ジカルボン酸イミド系化合物および樹脂の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04243864A JPH04243864A (ja) | 1992-08-31 |
| JPH085855B2 true JPH085855B2 (ja) | 1996-01-24 |
Family
ID=11702316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3008777A Expired - Lifetime JPH085855B2 (ja) | 1991-01-28 | 1991-01-28 | 不飽和ジカルボン酸イミド系化合物および樹脂の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH085855B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI522347B (zh) | 2011-03-24 | 2016-02-21 | Nippon Catalytic Chem Ind | A N-phenylmaleimide compound and a copolymer composition obtained using the same |
-
1991
- 1991-01-28 JP JP3008777A patent/JPH085855B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04243864A (ja) | 1992-08-31 |
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