JPH085839A - 位相差フィルムとその製造方法および液晶表示装置 - Google Patents
位相差フィルムとその製造方法および液晶表示装置Info
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- JPH085839A JPH085839A JP7026984A JP2698495A JPH085839A JP H085839 A JPH085839 A JP H085839A JP 7026984 A JP7026984 A JP 7026984A JP 2698495 A JP2698495 A JP 2698495A JP H085839 A JPH085839 A JP H085839A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】組合わせて使用する液晶表示セルの温度変化率
に応じて容易に温度変化率を適合させることができる位
相差フィルムと、高温での熱処理が不要な該位相差フィ
ルムの製造方法および該位相差フィルムを用いた高温で
の表示特性の優れた液晶表示装置を提供する。 【構成】正の固有複屈折を有し、ガラス転移温度が５０
℃以下であるネマチック相またはスメクチック相を示す
液晶オリゴマーの重合物を含むフィルムであり、該フィ
ルムの光学軸がフィルム面内にあり、該フィルムの屈折
率異方性Δｎと膜厚ｄの積であるレターデーションの３
０℃における値が１００ｎｍ以上であり、かつレターデ
ーションの３０℃における値に対する８０℃における値
の比が０．９５〜０．５であることを特徴とする位相差
フィルム。
に応じて容易に温度変化率を適合させることができる位
相差フィルムと、高温での熱処理が不要な該位相差フィ
ルムの製造方法および該位相差フィルムを用いた高温で
の表示特性の優れた液晶表示装置を提供する。 【構成】正の固有複屈折を有し、ガラス転移温度が５０
℃以下であるネマチック相またはスメクチック相を示す
液晶オリゴマーの重合物を含むフィルムであり、該フィ
ルムの光学軸がフィルム面内にあり、該フィルムの屈折
率異方性Δｎと膜厚ｄの積であるレターデーションの３
０℃における値が１００ｎｍ以上であり、かつレターデ
ーションの３０℃における値に対する８０℃における値
の比が０．９５〜０．５であることを特徴とする位相差
フィルム。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はスーパーツイストネマチ
ック（以下、ＳＴＮということがある。）型液晶表示素
子などに用いられる位相差フィルムとその製造方法およ
び該位相差フィルムを用いた液晶表示装置に関するもの
である。
ック（以下、ＳＴＮということがある。）型液晶表示素
子などに用いられる位相差フィルムとその製造方法およ
び該位相差フィルムを用いた液晶表示装置に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置は軽くて薄い平面ディスプ
レイとして、パーソナルコンピュータや各種装置の表示
部に使用されている。その特性の向上に伴い、販売量と
ともに使用される分野も拡大している。それに伴い、使
用される環境も広がり、高温や低温で作動することが要
望されている。液晶表示装置としてはＳＴＮ型のもの
が、ワードプロセッサやパーソナルコンピュータの表示
に広く使用されている。現在のＳＴＮ型液晶表示装置で
は液晶層の複屈折性を位相差フィルムで補償し（一般に
色補償と呼ばれている）、白黒あるいはカラー表示を実
現したものが使用されている。初期には位相差補償のた
めに、補償用の液晶層を用いることが行われたが、現在
では一軸配向させた高分子フィルムが一般的に使用され
ている。しかし、ＳＴＮ型液晶表示素子でも使用分野の
拡大があり、素子を使用する環境が広がっている。それ
に伴い、新たな特性の改良の要望が出ている。その一つ
は温度変化に対する表示の質の変動が小さいことであ
る。例えば、車では季節により車内温度が大きく変化す
る。この場合、液晶セルと位相差フィルムのそれぞれの
レターデーション（光学的位相差）が高温や低温で異な
り表示特性が悪くなる問題があった。
レイとして、パーソナルコンピュータや各種装置の表示
部に使用されている。その特性の向上に伴い、販売量と
ともに使用される分野も拡大している。それに伴い、使
用される環境も広がり、高温や低温で作動することが要
望されている。液晶表示装置としてはＳＴＮ型のもの
が、ワードプロセッサやパーソナルコンピュータの表示
に広く使用されている。現在のＳＴＮ型液晶表示装置で
は液晶層の複屈折性を位相差フィルムで補償し（一般に
色補償と呼ばれている）、白黒あるいはカラー表示を実
現したものが使用されている。初期には位相差補償のた
めに、補償用の液晶層を用いることが行われたが、現在
では一軸配向させた高分子フィルムが一般的に使用され
ている。しかし、ＳＴＮ型液晶表示素子でも使用分野の
拡大があり、素子を使用する環境が広がっている。それ
に伴い、新たな特性の改良の要望が出ている。その一つ
は温度変化に対する表示の質の変動が小さいことであ
る。例えば、車では季節により車内温度が大きく変化す
る。この場合、液晶セルと位相差フィルムのそれぞれの
レターデーション（光学的位相差）が高温や低温で異な
り表示特性が悪くなる問題があった。
【０００３】すなわち、温度が高くなると液晶分子や高
分子の配向の緩和にともないレターデーションが小さく
なるが、液晶セルに使われている低分子液晶の配向緩和
の方が位相差フィルムに使われている高分子の配向緩和
より一般に大きく、レターデーションの変化も大きい。
このため室温で最適化されていた両者のレターデーショ
ンが高温では最適条件からずれてしまい、液晶セルの色
補償が不完全になり着色が生じるなどの問題が生じ、表
示特性が低下する。このように高分子フィルムを用いた
位相差フィルムは色補償の観点を除けば、必ずしも、液
晶セルの特性改良に最適のものではなかった。このため
に、液晶材料を位相差フィルムに使用する試みも報告さ
れている。
分子の配向の緩和にともないレターデーションが小さく
なるが、液晶セルに使われている低分子液晶の配向緩和
の方が位相差フィルムに使われている高分子の配向緩和
より一般に大きく、レターデーションの変化も大きい。
このため室温で最適化されていた両者のレターデーショ
ンが高温では最適条件からずれてしまい、液晶セルの色
補償が不完全になり着色が生じるなどの問題が生じ、表
示特性が低下する。このように高分子フィルムを用いた
位相差フィルムは色補償の観点を除けば、必ずしも、液
晶セルの特性改良に最適のものではなかった。このため
に、液晶材料を位相差フィルムに使用する試みも報告さ
れている。
【０００４】特開平３−２９１６０１号公報には、実質
的にオルソ置換芳香族単位を含むポリエステルからなる
液晶性高分子を溶解した溶液を公知の配向膜を有する基
板上に塗布し、液晶性高分子のガラス転移温度以上、液
晶相−等方相転移温度以下で熱処理を行うことにより、
水平配向させ、ガラス転移温度以下に冷却させ、配向を
固定したものが例示されている。この中で、ガラス転移
温度が使用する温度以上の液晶性高分子材料が例示され
ている。特表平４−５００２８４号公報には、直鎖また
は環状の主鎖を有する側鎖型液晶ポリマーやエラストマ
ーを用いて、５０℃を越えるガラス転移温度以上でフィ
ルムを延伸し、あるいはガラス転移点以上で磁場や電場
を印加し、メソゲン基を配向させた後、ガラス転移温度
以下で配向を固定して位相差フィルムが得られることが
開示されている。さらに、ＷＯ９２／１４１８０号公報
には、室温以上に、好ましくは使用温度の上限より高い
温度域にガラス転移温度を有するシロキサン鎖、アクリ
ル鎖、あるいはメタアクリル鎖を骨格とする液晶高分子
を加熱して一軸配向させ、急冷する方法で得た光学異方
体が開示されている。
的にオルソ置換芳香族単位を含むポリエステルからなる
液晶性高分子を溶解した溶液を公知の配向膜を有する基
板上に塗布し、液晶性高分子のガラス転移温度以上、液
晶相−等方相転移温度以下で熱処理を行うことにより、
水平配向させ、ガラス転移温度以下に冷却させ、配向を
固定したものが例示されている。この中で、ガラス転移
温度が使用する温度以上の液晶性高分子材料が例示され
ている。特表平４−５００２８４号公報には、直鎖また
は環状の主鎖を有する側鎖型液晶ポリマーやエラストマ
ーを用いて、５０℃を越えるガラス転移温度以上でフィ
ルムを延伸し、あるいはガラス転移点以上で磁場や電場
を印加し、メソゲン基を配向させた後、ガラス転移温度
以下で配向を固定して位相差フィルムが得られることが
開示されている。さらに、ＷＯ９２／１４１８０号公報
には、室温以上に、好ましくは使用温度の上限より高い
温度域にガラス転移温度を有するシロキサン鎖、アクリ
ル鎖、あるいはメタアクリル鎖を骨格とする液晶高分子
を加熱して一軸配向させ、急冷する方法で得た光学異方
体が開示されている。
【０００５】しかしながら、これまで開示された高分子
液晶材料を用いた位相差フィルムでは高分子液晶のメソ
ゲン基を、加熱下で配向させ、ガラス転移温度以下に冷
却して、配向を固定させる必要があった。さらに、使用
温度より高いガラス転移温度を有する高分子材料を用い
る必要もあった。ガラス転移点が室温より高いために、
液晶高分子の光学軸を面内に配向させるために高温での
熱処理が必要である。また、使用する温度領域では高分
子液晶はガラス状態であるために、複屈折率の温度依存
性が液晶セルと異なり、液晶セルのレターデーションの
温度変化に必ずしもよく追随しない問題を有している。
一方、ガラス転移温度の低い材料、例えば、液晶オリゴ
マーでは機械的強度が充分な位相差フィルムを得ること
が困難であり、工業的に取り扱うことが困難であるなど
の欠点を有していた。このように、表示用液晶セルのレ
ターデーションの温度依存性により近い温度依存性を示
す位相差フィルムが求められていた。
液晶材料を用いた位相差フィルムでは高分子液晶のメソ
ゲン基を、加熱下で配向させ、ガラス転移温度以下に冷
却して、配向を固定させる必要があった。さらに、使用
温度より高いガラス転移温度を有する高分子材料を用い
る必要もあった。ガラス転移点が室温より高いために、
液晶高分子の光学軸を面内に配向させるために高温での
熱処理が必要である。また、使用する温度領域では高分
子液晶はガラス状態であるために、複屈折率の温度依存
性が液晶セルと異なり、液晶セルのレターデーションの
温度変化に必ずしもよく追随しない問題を有している。
一方、ガラス転移温度の低い材料、例えば、液晶オリゴ
マーでは機械的強度が充分な位相差フィルムを得ること
が困難であり、工業的に取り扱うことが困難であるなど
の欠点を有していた。このように、表示用液晶セルのレ
ターデーションの温度依存性により近い温度依存性を示
す位相差フィルムが求められていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、組合
わせて使用する液晶表示セルの温度変化率に応じて容易
に温度変化率を適合させることができる位相差フィルム
と、高温での熱処理が不要な該位相差フィルムの製造方
法および該位相差フィルムを用いた高温での表示特性の
優れた液晶表示装置を提供することにある。
わせて使用する液晶表示セルの温度変化率に応じて容易
に温度変化率を適合させることができる位相差フィルム
と、高温での熱処理が不要な該位相差フィルムの製造方
法および該位相差フィルムを用いた高温での表示特性の
優れた液晶表示装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の問題
を解決するために鋭意検討した結果、正の固有複屈折を
有し、ネマチック相またはスメクチック相を示し、かつ
重合性のメソゲン基を分子内に有する液晶オリゴマーを
ホモジニアス配向（水平配向）させた後、メソゲン基を
重合することにより、基材や高分子フィルムの上でフィ
ルム面内に光学軸を有する位相差フィルムを得ることが
でき、高温で使用しても白黒レベルに優れた液晶表示装
置が得られることを見出して本発明を完成するに至っ
た。
を解決するために鋭意検討した結果、正の固有複屈折を
有し、ネマチック相またはスメクチック相を示し、かつ
重合性のメソゲン基を分子内に有する液晶オリゴマーを
ホモジニアス配向（水平配向）させた後、メソゲン基を
重合することにより、基材や高分子フィルムの上でフィ
ルム面内に光学軸を有する位相差フィルムを得ることが
でき、高温で使用しても白黒レベルに優れた液晶表示装
置が得られることを見出して本発明を完成するに至っ
た。
【０００８】すなわち本発明は、次に記す発明からな
る。 （１）正の固有複屈折を有し、ガラス転移温度が５０℃
以下であるネマチック相またはスメクチック相を示す液
晶オリゴマーの重合物を含むフィルムであり、該フィル
ムの光学軸がフィルム面内にあり、該フィルムの屈折率
異方性Δｎと膜厚ｄの積であるレターデーションの３０
℃における値が１００ｎｍ以上であり、かつレターデー
ションの３０℃における値に対する８０℃における値の
比が０．９５〜０．５であることを特徴とする位相差フ
ィルム。
る。 （１）正の固有複屈折を有し、ガラス転移温度が５０℃
以下であるネマチック相またはスメクチック相を示す液
晶オリゴマーの重合物を含むフィルムであり、該フィル
ムの光学軸がフィルム面内にあり、該フィルムの屈折率
異方性Δｎと膜厚ｄの積であるレターデーションの３０
℃における値が１００ｎｍ以上であり、かつレターデー
ションの３０℃における値に対する８０℃における値の
比が０．９５〜０．５であることを特徴とする位相差フ
ィルム。
【０００９】（２）液晶オリゴマーが下記反復単位
（Ｉ）および（ＩＩ）を主たる構成単位とする直鎖また
は環状の液晶オリゴマーから選ばれ、該オリゴマー１分
子中の反復単位（Ｉ）および（ＩＩ）の数をそれぞれｎ
およびｎ’とするとき、ｎおよびｎ’はそれぞれ独立に
１〜２０の整数であり、４≦ｎ＋ｎ’≦２１であり、
ｎ：ｎ’の比は２０：１〜１：３であり、反復単位（Ｉ
Ｉ）の末端基が重合していることを特徴とする（１）記
載の位相差フィルム。
（Ｉ）および（ＩＩ）を主たる構成単位とする直鎖また
は環状の液晶オリゴマーから選ばれ、該オリゴマー１分
子中の反復単位（Ｉ）および（ＩＩ）の数をそれぞれｎ
およびｎ’とするとき、ｎおよびｎ’はそれぞれ独立に
１〜２０の整数であり、４≦ｎ＋ｎ’≦２１であり、
ｎ：ｎ’の比は２０：１〜１：３であり、反復単位（Ｉ
Ｉ）の末端基が重合していることを特徴とする（１）記
載の位相差フィルム。
【化６】
【化７】 〔式中、Ａは下式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）で表される
基であり、式（ＩＩＩ）において−Ｓｉ−Ｏ−は式
（Ｉ）または（ＩＩ）の主鎖であり、式（ＩＶ）におい
て−Ｃ−ＣＨ2 −は式（Ｉ）または（ＩＩ）の主鎖であ
り、ＣＯＯ基は（ＣＨ2 ）グループに結合する。式
（Ｉ）においてＡが式（ＩＩＩ）のとき、および式（Ｉ
Ｉ）においてＡが式（ＩＩＩ）のとき、Ｒ1 およびＲ2
はそれぞれ独立に水素、炭素数１〜６のアルキル基また
はフェニル基である。式（Ｉ）においてＡが式（ＩＶ）
のとき、および式（ＩＩ）においてＡが式（ＩＶ）のと
き、Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ独立に水素または炭素数１〜
６のアルキル基である。
基であり、式（ＩＩＩ）において−Ｓｉ−Ｏ−は式
（Ｉ）または（ＩＩ）の主鎖であり、式（ＩＶ）におい
て−Ｃ−ＣＨ2 −は式（Ｉ）または（ＩＩ）の主鎖であ
り、ＣＯＯ基は（ＣＨ2 ）グループに結合する。式
（Ｉ）においてＡが式（ＩＩＩ）のとき、および式（Ｉ
Ｉ）においてＡが式（ＩＩＩ）のとき、Ｒ1 およびＲ2
はそれぞれ独立に水素、炭素数１〜６のアルキル基また
はフェニル基である。式（Ｉ）においてＡが式（ＩＶ）
のとき、および式（ＩＩ）においてＡが式（ＩＶ）のと
き、Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ独立に水素または炭素数１〜
６のアルキル基である。
【化８】
【化９】 ｋとｋ’はそれぞれ独立に２〜１０の整数を表し、ｍと
ｍ’はそれぞれ独立に０または１であり、Ａｒ1 、Ａｒ
2 、Ａｒ3 およびＡｒ4 はそれぞれ独立に１，４−フェ
ニレン基、１，４−シクロヘキサン基、ピリジン−２，
５−ジイル基またはピリミジン−２、５−ジイル基であ
り、ＬとＬ’はそれぞれ独立に−ＣＨ2−Ｏ−、−Ｏ−
ＣＨ2 −、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 −ＣＨ2
−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−または
ｍ’はそれぞれ独立に０または１であり、Ａｒ1 、Ａｒ
2 、Ａｒ3 およびＡｒ4 はそれぞれ独立に１，４−フェ
ニレン基、１，４−シクロヘキサン基、ピリジン−２，
５−ジイル基またはピリミジン−２、５−ジイル基であ
り、ＬとＬ’はそれぞれ独立に−ＣＨ2−Ｏ−、−Ｏ−
ＣＨ2 −、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 −ＣＨ2
−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−または
【化１０】 で示される２価の基であり、ｐとｐ’はそれぞれ独立に
０または１であり、Ｒはハロゲン、シアノ基、炭素数１
〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ
基であり、Ｒ’は水素または炭素数１〜５のアルキル基
である。〕
０または１であり、Ｒはハロゲン、シアノ基、炭素数１
〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ
基であり、Ｒ’は水素または炭素数１〜５のアルキル基
である。〕
【００１０】（３）位相差フィルムが、透明または半透
明な基材上に成膜されてなることを特徴とする（１）記
載の位相差フィルム。
明な基材上に成膜されてなることを特徴とする（１）記
載の位相差フィルム。
【００１１】（４）位相差フィルムが、透明または半透
明な基材上に成膜されてなることを特徴とする（２）記
載の位相差フィルム。
明な基材上に成膜されてなることを特徴とする（２）記
載の位相差フィルム。
【００１２】（５）基材がフィルム面内に光学軸を有
し、かつ正の固有複屈折を有する、熱可塑性高分子から
なる一軸配向した位相差フィルムであることを特徴とす
る（３）または（４）記載の位相差フィルム。
し、かつ正の固有複屈折を有する、熱可塑性高分子から
なる一軸配向した位相差フィルムであることを特徴とす
る（３）または（４）記載の位相差フィルム。
【００１３】（６）前記（２）記載の液晶オリゴマー
を、表面に配向手段を有する（３）または（４）記載の
基材上に成膜後、熱処理を行ない、光学軸をフィルム面
内にあるようにし、反復単位（ＩＩ）の末端基を重合す
ることを特徴とする（１）、（２）、（３）または
（４）記載の位相差フィルムの製造方法
を、表面に配向手段を有する（３）または（４）記載の
基材上に成膜後、熱処理を行ない、光学軸をフィルム面
内にあるようにし、反復単位（ＩＩ）の末端基を重合す
ることを特徴とする（１）、（２）、（３）または
（４）記載の位相差フィルムの製造方法
【００１４】（７）前記（２）記載の液晶オリゴマー
を、表面に配向手段を有する基材上に成膜後、熱処理を
行ない、光学軸をフィルム面内にあるようにし、反復単
位（ＩＩ）の末端基を重合した後、表面に配向手段を有
する基材から剥離し、（３）または（４）記載の基材に
転写することを特徴とする（１）、（２）、（３）また
は（４）記載の位相差フィルムの製造方法。
を、表面に配向手段を有する基材上に成膜後、熱処理を
行ない、光学軸をフィルム面内にあるようにし、反復単
位（ＩＩ）の末端基を重合した後、表面に配向手段を有
する基材から剥離し、（３）または（４）記載の基材に
転写することを特徴とする（１）、（２）、（３）また
は（４）記載の位相差フィルムの製造方法。
【００１５】（８）前記（１）、（２）、（３）または
（４）記載の位相差フィルムと、フィルム面内に光学軸
を有し、かつ正の固有複屈折を有する熱可塑性高分子か
らなる一軸配向した位相差フィルムとが貼合または積層
されてなる位相差フィルム。
（４）記載の位相差フィルムと、フィルム面内に光学軸
を有し、かつ正の固有複屈折を有する熱可塑性高分子か
らなる一軸配向した位相差フィルムとが貼合または積層
されてなる位相差フィルム。
【００１６】（９）電極を有する基板に挟持された、正
の誘電率異方性を有し、電圧無印加時にほぼ水平にかつ
螺旋軸を基板に垂直方向にねじれ配向した液晶層からな
る液晶セルと、その外側に配置される偏光フィルムと、
該液晶セルと該偏光フィルムとの間に配置された、
（１）、（２）、（３）、（４）、（５）または（８）
記載の位相差フィルムから選ばれた少なくとも一つを用
いることを特徴とする液晶表示装置。
の誘電率異方性を有し、電圧無印加時にほぼ水平にかつ
螺旋軸を基板に垂直方向にねじれ配向した液晶層からな
る液晶セルと、その外側に配置される偏光フィルムと、
該液晶セルと該偏光フィルムとの間に配置された、
（１）、（２）、（３）、（４）、（５）または（８）
記載の位相差フィルムから選ばれた少なくとも一つを用
いることを特徴とする液晶表示装置。
【００１７】次に、本発明を詳細に説明する。本発明の
位相差フィルムはガラス転移温度が５０℃以下であり、
ネマチック相またはスメクチック相を示す液晶オリゴマ
ーにおいて、それを構成するメソゲン基の末端で重合さ
れている液晶オリゴマー重合物を含むフィルムである。
これらの液晶オリゴマーとしては重合性のメソゲン基を
有しておれば、特に制限はないが、反復単位（Ｉ）およ
び（ＩＩ）からなる重合性基を有する液晶オリゴマーで
あり、かつ液晶状態で正の固有複屈折を有し、ネマチッ
ク相またはスメクチック相をとる側鎖型液晶オリゴマー
が好ましい。側鎖型液晶オリゴマーの骨格鎖としてはポ
リ−１−アルキルアクリル酸エステル、ポリシロキサン
などが例示され、直鎖または環状のものが利用できる
が、液晶オリゴマーの化学的安定性の観点から、環状の
構造が好ましい。ポリ−１−アルキルアクリル酸エステ
ルの中では、ポリメタクリル酸エステルまたはポリアク
リル酸エステルが好ましく、さらに好ましくはポリメタ
クリル酸エステルである。これらの中で、ポリシロキサ
ン系の側鎖型液晶オリゴマーが好ましい。液晶性を与え
る基（以下、メソゲン基ということがある。）は屈曲鎖
（以下、スペーサーということがある。）を介して、主
鎖と結合したものが一般的に使用できる。
位相差フィルムはガラス転移温度が５０℃以下であり、
ネマチック相またはスメクチック相を示す液晶オリゴマ
ーにおいて、それを構成するメソゲン基の末端で重合さ
れている液晶オリゴマー重合物を含むフィルムである。
これらの液晶オリゴマーとしては重合性のメソゲン基を
有しておれば、特に制限はないが、反復単位（Ｉ）およ
び（ＩＩ）からなる重合性基を有する液晶オリゴマーで
あり、かつ液晶状態で正の固有複屈折を有し、ネマチッ
ク相またはスメクチック相をとる側鎖型液晶オリゴマー
が好ましい。側鎖型液晶オリゴマーの骨格鎖としてはポ
リ−１−アルキルアクリル酸エステル、ポリシロキサン
などが例示され、直鎖または環状のものが利用できる
が、液晶オリゴマーの化学的安定性の観点から、環状の
構造が好ましい。ポリ−１−アルキルアクリル酸エステ
ルの中では、ポリメタクリル酸エステルまたはポリアク
リル酸エステルが好ましく、さらに好ましくはポリメタ
クリル酸エステルである。これらの中で、ポリシロキサ
ン系の側鎖型液晶オリゴマーが好ましい。液晶性を与え
る基（以下、メソゲン基ということがある。）は屈曲鎖
（以下、スペーサーということがある。）を介して、主
鎖と結合したものが一般的に使用できる。
【００１８】重合性液晶オリゴマーの、液晶状態を示す
上限の温度について特に制限はないが、基材との積層時
の乾燥や配向処理のために、液晶相から等方相への転移
温度（以下、液晶相／等方相の転移温度と記すことがあ
る。）が、好ましくは２００℃以下になるように、さら
に好ましくは１７０℃以下となるように、特に好ましく
は１５０℃以下となるようにスペーサーの長さやメソゲ
ン基の種類、反復単位数を選択することが望ましい。ま
た、結晶相またはガラス相と液晶相との転移温度（以
下、ガラス転移点と記すことがある。）については、液
晶セルの複屈折の温度依存性との適合性から低い方が好
ましく、具体的には５０℃以下が好ましく、さらに好ま
しくは３０℃以下である。
上限の温度について特に制限はないが、基材との積層時
の乾燥や配向処理のために、液晶相から等方相への転移
温度（以下、液晶相／等方相の転移温度と記すことがあ
る。）が、好ましくは２００℃以下になるように、さら
に好ましくは１７０℃以下となるように、特に好ましく
は１５０℃以下となるようにスペーサーの長さやメソゲ
ン基の種類、反復単位数を選択することが望ましい。ま
た、結晶相またはガラス相と液晶相との転移温度（以
下、ガラス転移点と記すことがある。）については、液
晶セルの複屈折の温度依存性との適合性から低い方が好
ましく、具体的には５０℃以下が好ましく、さらに好ま
しくは３０℃以下である。
【００１９】本発明で用いる重合性液晶オリゴマーの反
復単位の数ｎとｎ’は、それぞれ独立に１から２０まで
の整数であり、ｎとｎ’の合計が４から２１となるよう
に選ぶ。液晶オリゴマーの配向性と重合後の配向の固定
の観点から、ｎとｎ’の比は２０：１から１：３の範囲
であり、好ましくは３：１から１：３、さらに好ましく
は３：１から１：２である。ｎとｎ’の比の制御は後述
のようにこれら液晶オリゴマーを合成するときに行なう
ことができる。
復単位の数ｎとｎ’は、それぞれ独立に１から２０まで
の整数であり、ｎとｎ’の合計が４から２１となるよう
に選ぶ。液晶オリゴマーの配向性と重合後の配向の固定
の観点から、ｎとｎ’の比は２０：１から１：３の範囲
であり、好ましくは３：１から１：３、さらに好ましく
は３：１から１：２である。ｎとｎ’の比の制御は後述
のようにこれら液晶オリゴマーを合成するときに行なう
ことができる。
【００２０】該液晶オリゴマーは主鎖とメソゲン基を結
ぶスペーサーによっても、液晶転移温度、配向性が影響
される。短いスペーサーではメソゲン基の配向性が良好
でなく、また長いスペーサーではメソゲン基の配向後の
緩和が起こりやすいことから、スペーサーとして、炭素
数２から１０までのアルキレン基またはアルキレンオキ
シ基が好ましい。特に高配向性の観点から炭素数２から
６までのアルキレン基またはアルキレンオキシ基が好ま
しい。また、合成の容易さから、アルキレンオキシ基が
より好ましい。具体的に好ましい基として−（ＣＨ2 ）
2 −、−（ＣＨ 2 ）3 −、−（ＣＨ2 ）4 −、−（ＣＨ
2 ）5 −、−（ＣＨ2 ）6 −、−（ＣＨ 2 ）3 −Ｏ−、
−（ＣＨ2 ）4 −Ｏ−、−（ＣＨ2 ）5 −Ｏ−、−（Ｃ
Ｈ2 ）6−Ｏ−が例示される。
ぶスペーサーによっても、液晶転移温度、配向性が影響
される。短いスペーサーではメソゲン基の配向性が良好
でなく、また長いスペーサーではメソゲン基の配向後の
緩和が起こりやすいことから、スペーサーとして、炭素
数２から１０までのアルキレン基またはアルキレンオキ
シ基が好ましい。特に高配向性の観点から炭素数２から
６までのアルキレン基またはアルキレンオキシ基が好ま
しい。また、合成の容易さから、アルキレンオキシ基が
より好ましい。具体的に好ましい基として−（ＣＨ2 ）
2 −、−（ＣＨ 2 ）3 −、−（ＣＨ2 ）4 −、−（ＣＨ
2 ）5 −、−（ＣＨ2 ）6 −、−（ＣＨ 2 ）3 −Ｏ−、
−（ＣＨ2 ）4 −Ｏ−、−（ＣＨ2 ）5 −Ｏ−、−（Ｃ
Ｈ2 ）6−Ｏ−が例示される。
【００２１】本発明の配向した液晶オリゴマー重合物を
含む位相差フィルムでは、屈折率の異方性が大きいこと
が工業上有利である。このためには、メソゲン基は屈折
率異方性の大きな基が好ましい。このようなメソゲン基
を与える構造としては、反復単位（Ｉ）または（ＩＩ）
式中のＡｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 、Ａｒ4 が、それぞれ独
立に１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキサン
基、ピリジン−２，５−ジイル基またはピリミジン−
２，５−ジイル基のものが挙げられる。また、Ａｒ 1 と
Ａｒ2 を、またはＡｒ3 とＡｒ4 を結合する２価の基Ｌ
が、−ＣＨ2 −Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ2 −、−ＣＯＯ−、−
ＯＣＯ−、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝
ＣＨ−または
含む位相差フィルムでは、屈折率の異方性が大きいこと
が工業上有利である。このためには、メソゲン基は屈折
率異方性の大きな基が好ましい。このようなメソゲン基
を与える構造としては、反復単位（Ｉ）または（ＩＩ）
式中のＡｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 、Ａｒ4 が、それぞれ独
立に１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキサン
基、ピリジン−２，５−ジイル基またはピリミジン−
２，５−ジイル基のものが挙げられる。また、Ａｒ 1 と
Ａｒ2 を、またはＡｒ3 とＡｒ4 を結合する２価の基Ｌ
が、−ＣＨ2 −Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ2 −、−ＣＯＯ−、−
ＯＣＯ−、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝
ＣＨ−または
【００２２】
【化１１】 で示される２価の基が挙げられる。また、Ａｒ1 とＡｒ
2 が直接結合した基（ｐ＝０のとき）もしくはＡｒ3 と
Ａｒ4 が直接結合した基（ｐ’＝０のとき）が挙げられ
る。これらの中で好ましくは、Ａｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3
およびＡｒ4 がそれぞれ独立に１，４−フェニレン基、
ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジ
イル基であり、さらに好ましくは１，４−フェニレン基
である。また結合基Ｌ、Ｌ' はそれぞれ独立に−ＣＨ2
−ＣＨ2 −、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−基が好ましく、さ
らに好ましくは−ＣＯＯ−基である。
2 が直接結合した基（ｐ＝０のとき）もしくはＡｒ3 と
Ａｒ4 が直接結合した基（ｐ’＝０のとき）が挙げられ
る。これらの中で好ましくは、Ａｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3
およびＡｒ4 がそれぞれ独立に１，４−フェニレン基、
ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジ
イル基であり、さらに好ましくは１，４−フェニレン基
である。また結合基Ｌ、Ｌ' はそれぞれ独立に−ＣＨ2
−ＣＨ2 −、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−基が好ましく、さ
らに好ましくは−ＣＯＯ−基である。
【００２３】反復単位（Ｉ）におけるＲ基は、メソゲン
基の誘電率異方性や配向性に影響するので、屈折率異方
性の高い液晶オリゴマーフィルムを得る観点から、ハロ
ゲン、シアノ基、炭素数１〜１０のアルキル基、または
炭素数１〜１０のアルコキシ基が選ばれる。好ましく
は、シアノ基、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素
数１〜１０のアルコキシ基であり、さらに好ましくはシ
アノ基または炭素数１〜１０のアルコキシ基である。
基の誘電率異方性や配向性に影響するので、屈折率異方
性の高い液晶オリゴマーフィルムを得る観点から、ハロ
ゲン、シアノ基、炭素数１〜１０のアルキル基、または
炭素数１〜１０のアルコキシ基が選ばれる。好ましく
は、シアノ基、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素
数１〜１０のアルコキシ基であり、さらに好ましくはシ
アノ基または炭素数１〜１０のアルコキシ基である。
【００２４】反復単位（ＩＩ）における末端基は、液晶
オリゴマーの配向を重合により固定するための基であ
る。重合基としては−ＯＣＯ−Ｃ（Ｒ’）＝ＣＨ
2 （Ｒ’は水素または炭素数１〜５のアルキル基を表
す。）であり、アクリレート基、メタアクリレート基が
例示される。これらの基の重合方法には特に制限はない
が、ラジカル開始剤による光重合や熱重合が例示され、
操作の簡便さや配向の固定の効率の観点から、光重合が
好ましい。光重合の開始剤としては公知のものが利用で
きる。
オリゴマーの配向を重合により固定するための基であ
る。重合基としては−ＯＣＯ−Ｃ（Ｒ’）＝ＣＨ
2 （Ｒ’は水素または炭素数１〜５のアルキル基を表
す。）であり、アクリレート基、メタアクリレート基が
例示される。これらの基の重合方法には特に制限はない
が、ラジカル開始剤による光重合や熱重合が例示され、
操作の簡便さや配向の固定の効率の観点から、光重合が
好ましい。光重合の開始剤としては公知のものが利用で
きる。
【００２５】反復単位（Ｉ）に示される繰り返し単位を
持つ直鎖状もしくは環状の液晶オリゴマーに用いられる
非重合性のメソゲン基を以下に例示する。なお、たとえ
ば、表１において、番号１はＡｒ1 −（Ｌ）p −Ａｒ2
がジフェニル基であり、Ｒ基が−ＣＮ基であり、スペー
サーとして−（ＣＨ2 ）3 −基である非重合性のメソゲ
ン基を示す。以下も同様の意味である。
持つ直鎖状もしくは環状の液晶オリゴマーに用いられる
非重合性のメソゲン基を以下に例示する。なお、たとえ
ば、表１において、番号１はＡｒ1 −（Ｌ）p −Ａｒ2
がジフェニル基であり、Ｒ基が−ＣＮ基であり、スペー
サーとして−（ＣＨ2 ）3 −基である非重合性のメソゲ
ン基を示す。以下も同様の意味である。
【００２６】
【表１】
【００２７】
【表２】
【００２８】
【表３】
【００２９】
【表４】
【００３０】これらのメソゲン基のなかで、シアノ基を
有する番号１〜６、３１〜３６、６１〜６６、１８１〜
１８６、２１１〜２１６の基が好ましく、さらに好まし
くは番号３１〜３６である。これらのメソゲン基はポリ
シロキサン系主鎖に結合したものが高い配向性を示すこ
とから好ましく、環状シロキサンに結合したものが特に
好ましい。
有する番号１〜６、３１〜３６、６１〜６６、１８１〜
１８６、２１１〜２１６の基が好ましく、さらに好まし
くは番号３１〜３６である。これらのメソゲン基はポリ
シロキサン系主鎖に結合したものが高い配向性を示すこ
とから好ましく、環状シロキサンに結合したものが特に
好ましい。
【００３１】また、反復単位（ＩＩ）を持つ直鎖状もし
くは環状の液晶オリゴマーに用いられる重合性のメソゲ
ン基を以下に例示する。
くは環状の液晶オリゴマーに用いられる重合性のメソゲ
ン基を以下に例示する。
【００３２】
【表５】
【００３３】
【表６】
【００３４】
【表７】
【００３５】これらの重合性のメソゲン基の中で、メタ
クリレート基を有する番号２４７〜２５２、２５９〜２
６４、２７１〜２７６、３１９〜３２４、３３１〜３３
６の基が好ましく、さらに好ましくは番号２５９〜２６
４の基である。これらのメソゲン基は直鎖、または環状
ポリシロキサン系主鎖に結合したものが、良好な特性を
示すことから好ましく、環状ポリシロキサンに結合した
ものがさらに好ましい。
クリレート基を有する番号２４７〜２５２、２５９〜２
６４、２７１〜２７６、３１９〜３２４、３３１〜３３
６の基が好ましく、さらに好ましくは番号２５９〜２６
４の基である。これらのメソゲン基は直鎖、または環状
ポリシロキサン系主鎖に結合したものが、良好な特性を
示すことから好ましく、環状ポリシロキサンに結合した
ものがさらに好ましい。
【００３６】これら液晶オリゴマーの合成方法として
は、特公昭６３−４７７５９号公報や特開平２−１４９
５４４号公報に記載の方法が採用できる。例えば、ポリ
シロキサン鎖に該側鎖のメソゲン基を付加させる方法や
メソゲン基を屈曲性のスペーサー基を介して有するアク
リル酸エステルやメタクリル酸エステルを重合する方法
が例示される。ポリシロキサン鎖にメソゲン基を付加す
る場合には、反復単位（Ｉ）または（ＩＩ）の側鎖のメ
ソゲン基と同じ構造を有し、スペーサーであるアルキレ
ンオキシ基を生成する末端に不飽和２重結合を有するω
−アルケニルオキシ基を有する反応原料をポリシロキサ
ンと白金触媒下に反応させることで得られる。この反応
時に、非重合性のメソゲン基と重合性のメソゲン基に対
応する反応原料仕込み比率で２種類のメソゲン基の結合
比率を制御することができる。同様に、主鎖がアクリル
酸エステル系またはα−アルキル−アクリル酸エステル
系では相当するメソゲン基を有する２種類のモノマーを
共重合する際にモノマーの仕込み比率を制御することで
重合性メソゲン基と非重合性のメソゲン基の比率を制御
できる。このようにして得られた液晶オリゴマーは、ネ
マチック相またはスメクチック相を示すものが好ましく
用いられる。該液晶オリゴマーは、単独で用いてもよ
く、２種以上を混合して用いてもよい。さらに、反復単
位（Ｉ）のみからなる液晶オリゴマーや低分子液晶化合
物を混合して用いてもよい。しかし、この場合、機械的
な強度を大幅に低下させない含有量が好ましく、５０重
量％以下が例示される。さらに好ましくは３０重量％以
下である。液晶オリゴマーの重合物を含む位相差フィル
ムの屈折率異方性（Δｎ）とフィルム厚み（ｄ）の積で
あるレターデーション（Ｒ）の３０℃における値は、１
００ｎｍ以上であり、好ましくは２００ｎｍ以上３００
０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは３００ｎｍ以上１
５００ｎｍ以下の範囲である。さらに、この位相差フィ
ルムのレターデションの温度依存性も液晶セルの温度依
存性に追随する必要があるので、３０℃におけるＲ値
（Ｒ30）に対する８０℃における値（Ｒ80）の比、すな
わちＲ80／Ｒ30の値が、０．９５〜０．５であり、好ま
しくは０．９〜０．７である。
は、特公昭６３−４７７５９号公報や特開平２−１４９
５４４号公報に記載の方法が採用できる。例えば、ポリ
シロキサン鎖に該側鎖のメソゲン基を付加させる方法や
メソゲン基を屈曲性のスペーサー基を介して有するアク
リル酸エステルやメタクリル酸エステルを重合する方法
が例示される。ポリシロキサン鎖にメソゲン基を付加す
る場合には、反復単位（Ｉ）または（ＩＩ）の側鎖のメ
ソゲン基と同じ構造を有し、スペーサーであるアルキレ
ンオキシ基を生成する末端に不飽和２重結合を有するω
−アルケニルオキシ基を有する反応原料をポリシロキサ
ンと白金触媒下に反応させることで得られる。この反応
時に、非重合性のメソゲン基と重合性のメソゲン基に対
応する反応原料仕込み比率で２種類のメソゲン基の結合
比率を制御することができる。同様に、主鎖がアクリル
酸エステル系またはα−アルキル−アクリル酸エステル
系では相当するメソゲン基を有する２種類のモノマーを
共重合する際にモノマーの仕込み比率を制御することで
重合性メソゲン基と非重合性のメソゲン基の比率を制御
できる。このようにして得られた液晶オリゴマーは、ネ
マチック相またはスメクチック相を示すものが好ましく
用いられる。該液晶オリゴマーは、単独で用いてもよ
く、２種以上を混合して用いてもよい。さらに、反復単
位（Ｉ）のみからなる液晶オリゴマーや低分子液晶化合
物を混合して用いてもよい。しかし、この場合、機械的
な強度を大幅に低下させない含有量が好ましく、５０重
量％以下が例示される。さらに好ましくは３０重量％以
下である。液晶オリゴマーの重合物を含む位相差フィル
ムの屈折率異方性（Δｎ）とフィルム厚み（ｄ）の積で
あるレターデーション（Ｒ）の３０℃における値は、１
００ｎｍ以上であり、好ましくは２００ｎｍ以上３００
０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは３００ｎｍ以上１
５００ｎｍ以下の範囲である。さらに、この位相差フィ
ルムのレターデションの温度依存性も液晶セルの温度依
存性に追随する必要があるので、３０℃におけるＲ値
（Ｒ30）に対する８０℃における値（Ｒ80）の比、すな
わちＲ80／Ｒ30の値が、０．９５〜０．５であり、好ま
しくは０．９〜０．７である。
【００３７】以下に本発明で用いる部材を順に説明す
る。本発明の位相差フィルムの液晶オリゴマーの重合物
は薄膜で用いることが好ましく、通常は基材上に成膜さ
れる。このとき使用する基材としてはガラスなどの無機
質基板や、高分子フィルム、または正の固有複屈折を有
する熱可塑性高分子からなる位相差フィルムが用いられ
る。無機質基板としては透明もしくは半透明のガラス
板、または液晶セルに使用されるガラス板の外側や、Ｓ
ｉ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｚｒなどの酸化物やフッ化物などの無
機化合物やセラミックスなどが例示される。
る。本発明の位相差フィルムの液晶オリゴマーの重合物
は薄膜で用いることが好ましく、通常は基材上に成膜さ
れる。このとき使用する基材としてはガラスなどの無機
質基板や、高分子フィルム、または正の固有複屈折を有
する熱可塑性高分子からなる位相差フィルムが用いられ
る。無機質基板としては透明もしくは半透明のガラス
板、または液晶セルに使用されるガラス板の外側や、Ｓ
ｉ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｚｒなどの酸化物やフッ化物などの無
機化合物やセラミックスなどが例示される。
【００３８】高分子フィルムとしては、ポリカーボネー
ト、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルスル
ホン、２酢酸セルロース、３酢酸セルロース、ポリスチ
レン、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどが例
示され、好ましくはポリカーボネート、ポリスルホン、
３酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
スチレンが例示される。
ト、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルスル
ホン、２酢酸セルロース、３酢酸セルロース、ポリスチ
レン、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどが例
示され、好ましくはポリカーボネート、ポリスルホン、
３酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
スチレンが例示される。
【００３９】本発明の位相差フィルムの製造方法では、
液晶オリゴマーの光学軸をフィルム面内に配置するため
に熱処理を行うが、熱処理温度で光学的性質や形状の変
化が起こらない基材が好ましく、高分子材料ではガラス
転移温度が高い熱可塑性エンジニアリング高分子、また
は可塑材が添加されている高分子では流動温度が高い高
分子が挙げられる。高分子のガラス転移温度は特に制限
はないが、好ましくは１００℃以上、さらに好ましくは
１１０℃以上である。この条件を満たす高分子として３
酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポ
リエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレートが好
ましい。
液晶オリゴマーの光学軸をフィルム面内に配置するため
に熱処理を行うが、熱処理温度で光学的性質や形状の変
化が起こらない基材が好ましく、高分子材料ではガラス
転移温度が高い熱可塑性エンジニアリング高分子、また
は可塑材が添加されている高分子では流動温度が高い高
分子が挙げられる。高分子のガラス転移温度は特に制限
はないが、好ましくは１００℃以上、さらに好ましくは
１１０℃以上である。この条件を満たす高分子として３
酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポ
リエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレートが好
ましい。
【００４０】これらの基板に用いる高分子フィルムの厚
みとして、１μｍ以上５００μｍ以下が好ましく、さら
に好ましくは１０μｍ以上３００μｍ以下、特に好まし
くは４０μｍ以上２００μｍ以下である。
みとして、１μｍ以上５００μｍ以下が好ましく、さら
に好ましくは１０μｍ以上３００μｍ以下、特に好まし
くは４０μｍ以上２００μｍ以下である。
【００４１】これらの高分子フィルムの製造方法として
は、溶剤キャスト法、押出成形法、カレンダ成型法、プ
レス成形法などの成形方法を用いればよい。
は、溶剤キャスト法、押出成形法、カレンダ成型法、プ
レス成形法などの成形方法を用いればよい。
【００４２】後述するように、高分子フィルム上に液晶
オリゴマーを成膜するために、該液晶オリゴマーを溶媒
に溶解し塗布することも可能であるが、塗布の際に高分
子フィルムに耐溶剤性を付与するために表面に公知の耐
溶剤性膜を形成してもよい。具体的に耐溶剤性膜の形成
方法としては、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｚｒなどの酸化物や
フッ化物などの無機化合物を表面に蒸着する方法；ポリ
ビニルアルコール・ポリエチレンビニルアルコール共重
合体、プルラン、デキストリンなどの水溶性の高分子を
塗布する方法；またはポリウレタン系、アクリルオリゴ
マー系、アクリル−シリコン系もしくはオルガノポリシ
ロキサン系樹脂などのモノマーを塗布した後、熱重合や
光重合にてモノマー間を三次元的に架橋する方法などが
例示される。
オリゴマーを成膜するために、該液晶オリゴマーを溶媒
に溶解し塗布することも可能であるが、塗布の際に高分
子フィルムに耐溶剤性を付与するために表面に公知の耐
溶剤性膜を形成してもよい。具体的に耐溶剤性膜の形成
方法としては、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｚｒなどの酸化物や
フッ化物などの無機化合物を表面に蒸着する方法；ポリ
ビニルアルコール・ポリエチレンビニルアルコール共重
合体、プルラン、デキストリンなどの水溶性の高分子を
塗布する方法；またはポリウレタン系、アクリルオリゴ
マー系、アクリル−シリコン系もしくはオルガノポリシ
ロキサン系樹脂などのモノマーを塗布した後、熱重合や
光重合にてモノマー間を三次元的に架橋する方法などが
例示される。
【００４３】これらの表面処理膜と液晶オリゴマーの溶
媒の濡れ性が悪く、塗布膜の膜質に問題がある場合は、
表面処理膜に表面改質手法を施し改質して用いてもよ
い。改質法としては酸素などのプラズマにて処理する方
法、波長が３００ｎｍ以下の紫外線を照射する方法やコ
ロナ処理する方法が例示される。
媒の濡れ性が悪く、塗布膜の膜質に問題がある場合は、
表面処理膜に表面改質手法を施し改質して用いてもよ
い。改質法としては酸素などのプラズマにて処理する方
法、波長が３００ｎｍ以下の紫外線を照射する方法やコ
ロナ処理する方法が例示される。
【００４４】本発明におけるレターデーションの３０℃
における値が１００ｎｍ以下の基材として、上記したガ
ラスやセラミックスなどの無機基材や上述した高分子フ
ィルムが使用できる。高分子フィルムとしては、特にフ
ィルムに成膜直後で延伸されていない３酢酸セルロー
ス、ポリカーボネート、ポリスルホンまたはポリエーテ
ルスルホンが好ましい。これらの光学的に等方的とみな
せる基材のレターデーションは小さい方が好ましいが、
０ｎｍにすることは技術的にも製造コストの観点からも
困難であるので、１００ｎｍ以下の基材が好ましく、よ
り好ましくは７０ｎｍ以下の基材が好適に使用できる。
における値が１００ｎｍ以下の基材として、上記したガ
ラスやセラミックスなどの無機基材や上述した高分子フ
ィルムが使用できる。高分子フィルムとしては、特にフ
ィルムに成膜直後で延伸されていない３酢酸セルロー
ス、ポリカーボネート、ポリスルホンまたはポリエーテ
ルスルホンが好ましい。これらの光学的に等方的とみな
せる基材のレターデーションは小さい方が好ましいが、
０ｎｍにすることは技術的にも製造コストの観点からも
困難であるので、１００ｎｍ以下の基材が好ましく、よ
り好ましくは７０ｎｍ以下の基材が好適に使用できる。
【００４５】また、液晶オリゴマーの重合物を含む位相
差フィルムを転写する場合には、液晶オリゴマーを成
膜、配向に用いる基材は透明または半透明である必要は
なく、表面に配向手段を有する基材として、上記したガ
ラス、セラミックスなどの無機基板以外に金属を用いる
ことも可能である。金属としては表面を研磨したアルミ
ニウム、ステンレスなどの板やこれらの金属をベルト状
に加工したものが例示される。
差フィルムを転写する場合には、液晶オリゴマーを成
膜、配向に用いる基材は透明または半透明である必要は
なく、表面に配向手段を有する基材として、上記したガ
ラス、セラミックスなどの無機基板以外に金属を用いる
ことも可能である。金属としては表面を研磨したアルミ
ニウム、ステンレスなどの板やこれらの金属をベルト状
に加工したものが例示される。
【００４６】次に、液晶オリゴマーの重合物を含む位相
差フィルムの基材または積層する際に用いる正の固有複
屈折を有する熱可塑性の高分子としては、ポリカーボネ
ート、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルス
ルホン、２酢酸セルロース、３酢酸セルロース、ポリビ
ニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール共重合
体、ポリエチレンテレフタレートなどが挙げられる。該
熱可塑性高分子を延伸して、一軸配向させて位相差フィ
ルムとして用いる。これらの熱可塑性高分子からなる位
相差フィルムは液晶オリゴマーの基材として用いてもよ
いし、液晶オリゴマーと貼合または積層して用いてもよ
い。
差フィルムの基材または積層する際に用いる正の固有複
屈折を有する熱可塑性の高分子としては、ポリカーボネ
ート、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルス
ルホン、２酢酸セルロース、３酢酸セルロース、ポリビ
ニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール共重合
体、ポリエチレンテレフタレートなどが挙げられる。該
熱可塑性高分子を延伸して、一軸配向させて位相差フィ
ルムとして用いる。これらの熱可塑性高分子からなる位
相差フィルムは液晶オリゴマーの基材として用いてもよ
いし、液晶オリゴマーと貼合または積層して用いてもよ
い。
【００４７】これらの熱可塑性高分子からなる位相差フ
ィルムの原料として用いるフィルム（以下、原反フィル
ムということがある。）の製造方法としては、溶剤キャ
スト法、押出成形法、プレス成形法などの成形方法を用
いればよい。該原反フィルムを、フィルム面内に光学軸
を持つ一軸配向した位相差フィルムとする延伸方法とし
ては、テンター延伸法、ロール間延伸法、ロール間圧縮
延伸法などが例示される。均質な位相差フィルムを得る
には、溶剤キャスト法により成膜したフィルムをテンタ
ー延伸法またはロール間延伸法により延伸することが好
ましい。
ィルムの原料として用いるフィルム（以下、原反フィル
ムということがある。）の製造方法としては、溶剤キャ
スト法、押出成形法、プレス成形法などの成形方法を用
いればよい。該原反フィルムを、フィルム面内に光学軸
を持つ一軸配向した位相差フィルムとする延伸方法とし
ては、テンター延伸法、ロール間延伸法、ロール間圧縮
延伸法などが例示される。均質な位相差フィルムを得る
には、溶剤キャスト法により成膜したフィルムをテンタ
ー延伸法またはロール間延伸法により延伸することが好
ましい。
【００４８】位相差フィルムの膜厚などは後述する液晶
オリゴマーと位相差フィルムのレターデーションの温度
変化量に応じて適宜選択すればよいが、均一な位相差フ
ィルムを得ることおよび生産性の観点から膜厚は５０〜
２００μｍが好ましい。
オリゴマーと位相差フィルムのレターデーションの温度
変化量に応じて適宜選択すればよいが、均一な位相差フ
ィルムを得ることおよび生産性の観点から膜厚は５０〜
２００μｍが好ましい。
【００４９】次に本発明で用いる配向手段としては配向
膜を用いる方法や、配向膜を用いず基材の表面を直接ラ
ビングする方法が例示される。配向膜としては液晶オリ
ゴマーを水平配向するものであれば公知のものが使用可
能である。例えば、ポリイミドやポリアミドなどの熱硬
化性の樹脂、アクリルオリゴマーなどの光硬化性樹脂を
光硬化したもの、ポリビニルアルコールなどの親水性高
分子、シリカやアルミナなどの無機物が例示される。こ
れらの材料の薄膜を基板上に形成した後ラビングするこ
とにより重合性液晶オリゴマーを水平配向させることが
できる。また、別の種類の配向膜としては、Ｓｉ、Ａ
ｌ、Ｍｇ、Ｚｒなどの酸化物やフッ化物などの無機化合
物などを斜方蒸着した斜方蒸着膜も例示される。
膜を用いる方法や、配向膜を用いず基材の表面を直接ラ
ビングする方法が例示される。配向膜としては液晶オリ
ゴマーを水平配向するものであれば公知のものが使用可
能である。例えば、ポリイミドやポリアミドなどの熱硬
化性の樹脂、アクリルオリゴマーなどの光硬化性樹脂を
光硬化したもの、ポリビニルアルコールなどの親水性高
分子、シリカやアルミナなどの無機物が例示される。こ
れらの材料の薄膜を基板上に形成した後ラビングするこ
とにより重合性液晶オリゴマーを水平配向させることが
できる。また、別の種類の配向膜としては、Ｓｉ、Ａ
ｌ、Ｍｇ、Ｚｒなどの酸化物やフッ化物などの無機化合
物などを斜方蒸着した斜方蒸着膜も例示される。
【００５０】配向膜の膜厚については、一般的に０. ０
１μｍ以上であれば配向性能を発揮するが、配向膜が厚
すぎると作業性が悪くなることから、０. ０１〜５. ０
μｍが好ましく、さらに好ましくは０. ０２〜３. ０μ
ｍである。耐溶剤性を付与するための表面処理膜を配向
膜として用いる場合には薄すぎると耐溶剤性がなくなる
のでこの場合の配向膜の膜厚は０．１〜１０. ０μｍが
好ましく、さらに好ましくは０．５〜５. ０μｍであ
る。
１μｍ以上であれば配向性能を発揮するが、配向膜が厚
すぎると作業性が悪くなることから、０. ０１〜５. ０
μｍが好ましく、さらに好ましくは０. ０２〜３. ０μ
ｍである。耐溶剤性を付与するための表面処理膜を配向
膜として用いる場合には薄すぎると耐溶剤性がなくなる
のでこの場合の配向膜の膜厚は０．１〜１０. ０μｍが
好ましく、さらに好ましくは０．５〜５. ０μｍであ
る。
【００５１】さらに、上述した高分子フィルムの耐溶剤
性の向上のための表面処理膜を配向膜として用いてもよ
く、例えば無機化合物を表面に蒸着する場合には斜方蒸
着をしたり、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂の場合硬化し
た後に、また水溶性の高分子膜の場合、水が蒸発した後
に樹脂膜をラビングしてもよい。また、表面処理膜と溶
媒に溶解した液晶オリゴマーの濡れ性の向上のために表
面改質法を使用してもよいことは既に述べたが、これら
の表面改質は表面処理膜をラビングする前に行う方が液
晶オリゴマーの配向性の観点から好ましい。
性の向上のための表面処理膜を配向膜として用いてもよ
く、例えば無機化合物を表面に蒸着する場合には斜方蒸
着をしたり、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂の場合硬化し
た後に、また水溶性の高分子膜の場合、水が蒸発した後
に樹脂膜をラビングしてもよい。また、表面処理膜と溶
媒に溶解した液晶オリゴマーの濡れ性の向上のために表
面改質法を使用してもよいことは既に述べたが、これら
の表面改質は表面処理膜をラビングする前に行う方が液
晶オリゴマーの配向性の観点から好ましい。
【００５２】次に、本発明のフィルム面内に光学軸を有
する液晶オリゴマー重合物からなる位相差フィルムの製
造方法を液晶オリゴマーを基材上に成膜する場合を例に
とって述べる。
する液晶オリゴマー重合物からなる位相差フィルムの製
造方法を液晶オリゴマーを基材上に成膜する場合を例に
とって述べる。
【００５３】まず上記した基材上へ配向膜を作製する。
基材上への配向膜の作製法は、配向膜に応じた公知の方
法が使える。無機物の配向膜の場合、成膜は斜方蒸着法
で行うことが好ましい。具体的には蒸着源に対して基板
を適当な角度で傾斜する治具を用いる方法や、蒸発源と
基板との間に邪魔板を設け蒸発物の方向を変える方法を
用いて、抵抗加熱蒸着法、電子線加熱蒸着法またはスパ
ッタリング法などにより成膜する方法が挙げられる。こ
れらの中でも電子線加熱蒸着法やスパッタリング法が好
ましい。
基材上への配向膜の作製法は、配向膜に応じた公知の方
法が使える。無機物の配向膜の場合、成膜は斜方蒸着法
で行うことが好ましい。具体的には蒸着源に対して基板
を適当な角度で傾斜する治具を用いる方法や、蒸発源と
基板との間に邪魔板を設け蒸発物の方向を変える方法を
用いて、抵抗加熱蒸着法、電子線加熱蒸着法またはスパ
ッタリング法などにより成膜する方法が挙げられる。こ
れらの中でも電子線加熱蒸着法やスパッタリング法が好
ましい。
【００５４】樹脂の配向膜の場合、基材上に塗布した後
にラビングを行う。基材として高分子フィルムを用いる
場合、配向膜の均一性を向上する観点から、高分子フィ
ルムまたは上述した表面処理した高分子フィルムの表面
をプラズマ処理、コロナ処理、紫外線照射、酸やアルカ
リを用いた処理など公知の表面改質技術によりこれら高
分子フィルムの表面張力を大きくする処理を施してもよ
い。配向膜の塗布法としてはロールコート法、グラビア
コート法、バーコート法、スピンコート法、スプレーコ
ート法、プリント法、デッピング法などが例示される。
この中でも生産性良く均一な膜厚が得られることからロ
ールコート法、グラビアコート法、バーコート法が好ま
しい。
にラビングを行う。基材として高分子フィルムを用いる
場合、配向膜の均一性を向上する観点から、高分子フィ
ルムまたは上述した表面処理した高分子フィルムの表面
をプラズマ処理、コロナ処理、紫外線照射、酸やアルカ
リを用いた処理など公知の表面改質技術によりこれら高
分子フィルムの表面張力を大きくする処理を施してもよ
い。配向膜の塗布法としてはロールコート法、グラビア
コート法、バーコート法、スピンコート法、スプレーコ
ート法、プリント法、デッピング法などが例示される。
この中でも生産性良く均一な膜厚が得られることからロ
ールコート法、グラビアコート法、バーコート法が好ま
しい。
【００５５】配向膜として熱硬化性樹脂を用いる場合、
熱処理を行う。熱処理温度は使われる基材の軟化点およ
び生産性を考慮して適宜選択することができる。配向膜
として光硬化性樹脂を用いる場合は紫外線硬化など公知
の硬化方法が使われる。ラビングはバフ布や植毛ローラ
ーで配向膜表面を擦ることにより行われる。布やローラ
ーの種類やこれらのラビング材に加える圧力については
特に制限はない。また、基材としてガラスやセラミック
スや金属を用いる場合、これらの基材上に上記の配向膜
を設けてもよいし、これらの基材表面を直接ラビングし
てもよい。ラビングに用いる材質は上述したバフ布や植
毛ローラーのほかに、１０００番以上のサンドペーパー
や、粒径の細かいアルミナなどの懸濁液を染み込ませた
布などを用いてもよい。
熱処理を行う。熱処理温度は使われる基材の軟化点およ
び生産性を考慮して適宜選択することができる。配向膜
として光硬化性樹脂を用いる場合は紫外線硬化など公知
の硬化方法が使われる。ラビングはバフ布や植毛ローラ
ーで配向膜表面を擦ることにより行われる。布やローラ
ーの種類やこれらのラビング材に加える圧力については
特に制限はない。また、基材としてガラスやセラミック
スや金属を用いる場合、これらの基材上に上記の配向膜
を設けてもよいし、これらの基材表面を直接ラビングし
てもよい。ラビングに用いる材質は上述したバフ布や植
毛ローラーのほかに、１０００番以上のサンドペーパー
や、粒径の細かいアルミナなどの懸濁液を染み込ませた
布などを用いてもよい。
【００５６】次いで、配向膜を有する基材上に液晶オリ
ゴマーを成膜する。液晶オリゴマーの成膜方法として、
液晶オリゴマーを溶液状態で塗布する方法、等方相状態
で塗布する方法が例示され、溶液状態から塗布する方法
が好ましい。塗布方法としては通常のロールコート法、
グラビアコート法、バーコート法、スピンコート法、ス
プレーコート法、プリント法、デッピング法などが例示
される。この中でも生産性良く均一な膜厚が得られるこ
とからロールコート法、グラビアコート法、バーコート
法が好ましい。
ゴマーを成膜する。液晶オリゴマーの成膜方法として、
液晶オリゴマーを溶液状態で塗布する方法、等方相状態
で塗布する方法が例示され、溶液状態から塗布する方法
が好ましい。塗布方法としては通常のロールコート法、
グラビアコート法、バーコート法、スピンコート法、ス
プレーコート法、プリント法、デッピング法などが例示
される。この中でも生産性良く均一な膜厚が得られるこ
とからロールコート法、グラビアコート法、バーコート
法が好ましい。
【００５７】液晶オリゴマーフィルムの厚みとしては、
０. １〜２０μｍが好ましく、さらに好ましくは０. ５
〜１０μｍであり、特に好ましくは１〜７μｍである。
０.１μｍより薄いと光学的な特性の発現の程度が小さ
くなり、２０μｍを超えると配向しにくいので好ましく
ない。
０. １〜２０μｍが好ましく、さらに好ましくは０. ５
〜１０μｍであり、特に好ましくは１〜７μｍである。
０.１μｍより薄いと光学的な特性の発現の程度が小さ
くなり、２０μｍを超えると配向しにくいので好ましく
ない。
【００５８】次いで液晶オリゴマーの熱処理を行なう。
熱処理温度は液晶オリゴマーが液晶相を示す温度以上で
あれば特に制限はないが、熱処理温度が低くガラス相ま
たは結晶相転移温度に近いと配向に時間がかかり工業的
な観点から好ましくなく、また熱処理温度が高すぎ、用
いる基材のガラス転移温度または添加材が添加されてい
る基材では基材の流動温度以上になると基材や配向膜の
変形するなどの問題が生じるので好ましくない。液晶オ
リゴマーの液晶相／等方相転移温度をＴｉと書き、基材
や配向膜の変形が生ずる温度をＴｓと書くことにする
と、熱処理温度として（Ｔｉ−６０）℃〜（Ｔｓ−３
０）℃が好ましく、さらに好ましくは（Ｔｉ−５０）℃
〜（Ｔｓ−４０）℃である。また、熱処理における昇温
速度、冷却速度については、昇温・冷却速度が小さいと
工業的に不利なので大きい方が好ましく、具体的には１
０℃／分以上が好ましく、１００℃／分以上がさらに好
ましい。熱処理時間についても特に制限はないが、あま
り短いと配向性が十分でなく、あまり長いと工業的に好
ましくないので、０．２分以上２０時間以下が好まし
く、１分以上１時間以下がさらに好ましい。以上の熱処
理により、液晶オリゴマーのメソゲン基はフィルム面内
で配向し、フィルム面内に光学軸を持つようになる。
熱処理温度は液晶オリゴマーが液晶相を示す温度以上で
あれば特に制限はないが、熱処理温度が低くガラス相ま
たは結晶相転移温度に近いと配向に時間がかかり工業的
な観点から好ましくなく、また熱処理温度が高すぎ、用
いる基材のガラス転移温度または添加材が添加されてい
る基材では基材の流動温度以上になると基材や配向膜の
変形するなどの問題が生じるので好ましくない。液晶オ
リゴマーの液晶相／等方相転移温度をＴｉと書き、基材
や配向膜の変形が生ずる温度をＴｓと書くことにする
と、熱処理温度として（Ｔｉ−６０）℃〜（Ｔｓ−３
０）℃が好ましく、さらに好ましくは（Ｔｉ−５０）℃
〜（Ｔｓ−４０）℃である。また、熱処理における昇温
速度、冷却速度については、昇温・冷却速度が小さいと
工業的に不利なので大きい方が好ましく、具体的には１
０℃／分以上が好ましく、１００℃／分以上がさらに好
ましい。熱処理時間についても特に制限はないが、あま
り短いと配向性が十分でなく、あまり長いと工業的に好
ましくないので、０．２分以上２０時間以下が好まし
く、１分以上１時間以下がさらに好ましい。以上の熱処
理により、液晶オリゴマーのメソゲン基はフィルム面内
で配向し、フィルム面内に光学軸を持つようになる。
【００５９】フィルム面内に光学軸を持つように配向処
理したのち、重合性液晶オリゴマーを重合する。重合方
法としては配向を保持したままで重合することが必要で
あるから、光重合、γ線などの放射線重合、熱重合が例
示される。光重合や熱重合では公知の重合開始剤を用い
ることができる。これらの重合方法の中で工程の簡単さ
から、光重合と熱重合が好ましく、さらに、配向の保持
の良好さから光重合がより好ましい。
理したのち、重合性液晶オリゴマーを重合する。重合方
法としては配向を保持したままで重合することが必要で
あるから、光重合、γ線などの放射線重合、熱重合が例
示される。光重合や熱重合では公知の重合開始剤を用い
ることができる。これらの重合方法の中で工程の簡単さ
から、光重合と熱重合が好ましく、さらに、配向の保持
の良好さから光重合がより好ましい。
【００６０】光重合に用いる光の照射光量は、光量が少
なすぎると配向の保持が完全でなく、光量が多すぎると
生産性が悪くなることから、５０〜１００００ｍＪ／ｃ
ｍ2が好ましく、より好ましくは１００〜５０００ｍＪ
／ｃｍ2 が好ましい。
なすぎると配向の保持が完全でなく、光量が多すぎると
生産性が悪くなることから、５０〜１００００ｍＪ／ｃ
ｍ2が好ましく、より好ましくは１００〜５０００ｍＪ
／ｃｍ2 が好ましい。
【００６１】また、本発明の位相差フィルムの製造方法
では、液晶オリゴマーを配向手段を有する基材（以下、
基材Ａと呼ぶ。）上にフィルムに成膜し、熱処理、重合
した後に基材から剥離し他の基材（以下、基材Ｂと呼
ぶ。）に転写することも可能である。基材Ａから基材Ｂ
への液晶オリゴマーの転写は粘着剤を用いるのが好まし
く、粘着剤がついた基材Ｂを液晶オリゴマーフィルムが
ついた基材Ａ上にラミネートし液晶オリゴマーフィルム
を基材Ａから剥離する方法や、２枚のセパレーター（離
型性の基材）に粘着剤が挾持されたノンキャリアタイプ
の粘着剤の片側のセパレーターを剥がした後基材Ａ（ま
たは基材Ｂ）にラミネートし、残る片側のセパレーター
を剥がし基材Ｂ（または基材Ａ）にラミネートした後基
材Ａ（または基材Ｂ）から液晶オリゴマーフィルムを剥
離する方法が例示される。
では、液晶オリゴマーを配向手段を有する基材（以下、
基材Ａと呼ぶ。）上にフィルムに成膜し、熱処理、重合
した後に基材から剥離し他の基材（以下、基材Ｂと呼
ぶ。）に転写することも可能である。基材Ａから基材Ｂ
への液晶オリゴマーの転写は粘着剤を用いるのが好まし
く、粘着剤がついた基材Ｂを液晶オリゴマーフィルムが
ついた基材Ａ上にラミネートし液晶オリゴマーフィルム
を基材Ａから剥離する方法や、２枚のセパレーター（離
型性の基材）に粘着剤が挾持されたノンキャリアタイプ
の粘着剤の片側のセパレーターを剥がした後基材Ａ（ま
たは基材Ｂ）にラミネートし、残る片側のセパレーター
を剥がし基材Ｂ（または基材Ａ）にラミネートした後基
材Ａ（または基材Ｂ）から液晶オリゴマーフィルムを剥
離する方法が例示される。
【００６２】本発明の液晶オリゴマー重合物からなる位
相差フィルムまたは液晶オリゴマー重合物と基材とを有
する位相差フィルムのレターデーションの温度変化率
は、液晶オリゴマーの反復単位やスペーサー長を適宜選
ぶことが可能なので、組合わせて使用するＳＴＮセルの
温度変化率に応じて最適になるように選択することがで
きることを特徴とする。すなわち、ＳＴＮセルの温度変
化率が大きい場合には、位相差フィルムの温度変化率も
それに合わせて大きくし、ＳＴＮセルの温度変化率が小
さい場合には、位相差フィルムの温度変化率もそれに合
わせて小さくすればよい。液晶オリゴマー重合物からな
る位相差フィルムのレターデーションの温度変化を大き
くするためには、液晶オリゴマーの反復単位数を小さく
したり、主鎖とメソゲンを結ぶスペーサー長を長くして
該液晶オリゴマーの粘度を下げる方法が例示される。ま
た、重合性液晶オリゴマーの架橋度を低くする方法も有
効である。逆に、液晶オリゴマー重合物からなる位相差
フィルムのレターデーションの温度変化を小さくするに
は、液晶オリゴマーの反復単位数を大きくしたり、主鎖
とメソゲンを結ぶスペーサー長を短かくして該液晶オリ
ゴマーの粘度を上げる方法が例示される。また、重合性
液晶オリゴマーの架橋度を高くする方法が例示される。
相差フィルムまたは液晶オリゴマー重合物と基材とを有
する位相差フィルムのレターデーションの温度変化率
は、液晶オリゴマーの反復単位やスペーサー長を適宜選
ぶことが可能なので、組合わせて使用するＳＴＮセルの
温度変化率に応じて最適になるように選択することがで
きることを特徴とする。すなわち、ＳＴＮセルの温度変
化率が大きい場合には、位相差フィルムの温度変化率も
それに合わせて大きくし、ＳＴＮセルの温度変化率が小
さい場合には、位相差フィルムの温度変化率もそれに合
わせて小さくすればよい。液晶オリゴマー重合物からな
る位相差フィルムのレターデーションの温度変化を大き
くするためには、液晶オリゴマーの反復単位数を小さく
したり、主鎖とメソゲンを結ぶスペーサー長を長くして
該液晶オリゴマーの粘度を下げる方法が例示される。ま
た、重合性液晶オリゴマーの架橋度を低くする方法も有
効である。逆に、液晶オリゴマー重合物からなる位相差
フィルムのレターデーションの温度変化を小さくするに
は、液晶オリゴマーの反復単位数を大きくしたり、主鎖
とメソゲンを結ぶスペーサー長を短かくして該液晶オリ
ゴマーの粘度を上げる方法が例示される。また、重合性
液晶オリゴマーの架橋度を高くする方法が例示される。
【００６３】本発明の別の形態である、基材に熱可塑性
高分子からなる位相差フィルムを用いた液晶オリゴマー
重合物と基材を有する位相差フィルムや、液晶オリゴマ
ー重合物からなる位相差フィルムと熱可塑性高分子から
なる位相差フィルムとを貼合または積層した位相差フィ
ルムの場合、該位相差フィルムのレターデーションの温
度変化を大きくするために、上述した方法以外に、熱可
塑性高分子からなる位相差フィルムの膜厚を小さくし、
液晶オリゴマー位相差フィルムの膜厚を大きくする方法
や、熱可塑性高分子からなる位相差フィルムの延伸倍率
を大きくする方法などが例示される。また該位相差フィ
ルムのレターデーションの温度変化を小さくするため
に、上述した方法と逆の方法が例示される。
高分子からなる位相差フィルムを用いた液晶オリゴマー
重合物と基材を有する位相差フィルムや、液晶オリゴマ
ー重合物からなる位相差フィルムと熱可塑性高分子から
なる位相差フィルムとを貼合または積層した位相差フィ
ルムの場合、該位相差フィルムのレターデーションの温
度変化を大きくするために、上述した方法以外に、熱可
塑性高分子からなる位相差フィルムの膜厚を小さくし、
液晶オリゴマー位相差フィルムの膜厚を大きくする方法
や、熱可塑性高分子からなる位相差フィルムの延伸倍率
を大きくする方法などが例示される。また該位相差フィ
ルムのレターデーションの温度変化を小さくするため
に、上述した方法と逆の方法が例示される。
【００６４】本発明の液晶表示装置において、液晶オリ
ゴマー重合物からなる位相差フィルム、液晶オリゴマー
重合物と基材を有する位相差フィルムを配置する位置
は、液晶ディスプレーの偏光板と液晶セルの間であれば
特に制限はない。
ゴマー重合物からなる位相差フィルム、液晶オリゴマー
重合物と基材を有する位相差フィルムを配置する位置
は、液晶ディスプレーの偏光板と液晶セルの間であれば
特に制限はない。
【００６５】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。得られた
液晶オリゴマーのガラス転移点や液晶相と等方相との転
移温度は偏光顕微鏡観察と示差走査熱量計（ＤＳＣ）に
よって評価した。液晶オリゴマーを走査速度１０℃／分
で走査し、２回目以降のデータから転移温度を評価し
た。Ｔｇについては昇温時の吸熱カーブの一次微分のピ
ークをＴｇとみなし、Ｔｉについては液晶相／等方相転
移によると思われる吸熱ピークをＴｉとみなした。
が、本発明はこれに限定されるものではない。得られた
液晶オリゴマーのガラス転移点や液晶相と等方相との転
移温度は偏光顕微鏡観察と示差走査熱量計（ＤＳＣ）に
よって評価した。液晶オリゴマーを走査速度１０℃／分
で走査し、２回目以降のデータから転移温度を評価し
た。Ｔｇについては昇温時の吸熱カーブの一次微分のピ
ークをＴｇとみなし、Ｔｉについては液晶相／等方相転
移によると思われる吸熱ピークをＴｉとみなした。
【００６６】位相差フィルムのレターデーションは、セ
ナルモンコンペンセーターを装備した偏光顕微鏡を用い
てセナルモンの複屈折測定法にて測定した。測定波長は
５４６ｎｍである。
ナルモンコンペンセーターを装備した偏光顕微鏡を用い
てセナルモンの複屈折測定法にて測定した。測定波長は
５４６ｎｍである。
【００６７】実施例１ ポリアミク酸をＮ−メチルピロリドンに溶解し３％溶液
としガラス板上にスピンコートしたのち基板ごとに２０
０℃で３時間熱処理し、厚さ０. ０２μｍのポリイミド
膜を得た。さらに得られたポリイミド膜をナイロン植毛
ローラーでラビングした。特公昭６３−４１４００号公
報記載の方法と同様にして、４−（アリル−オキシ）−
安息香酸−４’−シアノフェニルエステルと４−（アリ
ルオキシ）−安息香酸−（４’−メタクロイルオキシ−
フェニル）エステルとを１：１の混合比でペンタメチル
シクロペンタシロキサンと反応させ、非重合性メソゲン
基と重合性メソゲン基を有する環状ペンタシロキサン液
晶オリゴマーを得た。この液晶オリゴマーは元素分析、
赤外吸収スペクトル、 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルから構造
を確認した。
としガラス板上にスピンコートしたのち基板ごとに２０
０℃で３時間熱処理し、厚さ０. ０２μｍのポリイミド
膜を得た。さらに得られたポリイミド膜をナイロン植毛
ローラーでラビングした。特公昭６３−４１４００号公
報記載の方法と同様にして、４−（アリル−オキシ）−
安息香酸−４’−シアノフェニルエステルと４−（アリ
ルオキシ）−安息香酸−（４’−メタクロイルオキシ−
フェニル）エステルとを１：１の混合比でペンタメチル
シクロペンタシロキサンと反応させ、非重合性メソゲン
基と重合性メソゲン基を有する環状ペンタシロキサン液
晶オリゴマーを得た。この液晶オリゴマーは元素分析、
赤外吸収スペクトル、 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルから構造
を確認した。
【００６８】また、得られた重合性液晶オリゴマーのＴ
ｇは１８．７℃であり、Ｔｉは１１７．５℃であった。
この重合性液晶オリゴマーをトルエンに２０ｗｔ％にな
るよう溶解し、さらに光重合開始材として商品名イルガ
キュアー９０７（チバガイギー社製）を液晶オリゴマー
に対して２ｗｔ％になるよう混合した。ラビングしたポ
リイミド配向膜を付けたガラス基板上にこの重合性液晶
オリゴマー溶液をスピンコート法を用いて塗布した。得
られたガラス／ポリイミド／液晶オリゴマー（／は積層
されていることを表す。）を１５０℃に加熱したホット
プレート上で１分間加熱し、冷却した。
ｇは１８．７℃であり、Ｔｉは１１７．５℃であった。
この重合性液晶オリゴマーをトルエンに２０ｗｔ％にな
るよう溶解し、さらに光重合開始材として商品名イルガ
キュアー９０７（チバガイギー社製）を液晶オリゴマー
に対して２ｗｔ％になるよう混合した。ラビングしたポ
リイミド配向膜を付けたガラス基板上にこの重合性液晶
オリゴマー溶液をスピンコート法を用いて塗布した。得
られたガラス／ポリイミド／液晶オリゴマー（／は積層
されていることを表す。）を１５０℃に加熱したホット
プレート上で１分間加熱し、冷却した。
【００６９】得られた重合性液晶オリゴマー膜をクロス
ニコル下でラビング方向が偏光板の吸収軸に平行になる
ように置いたところ消光し、ラビング方向を偏光板の吸
収軸に平行でない方向に配置したところレターデーショ
ンを示したことから重合性液晶オリゴマーは水平配向し
ていることがわかった。さらに、高圧水銀ランプの紫外
線を得られた重合性液晶オリゴマー膜に積算照射光量が
１０００ｍＪ／ｃｍ2 になるように照射した。得られた
液晶オリゴマー重合物膜のレターデーションの温度変化
を測定したところ図１に示すようになりレターデーショ
ンの温度変化は測定誤差の範囲内で可逆的であることが
わかった。なお、図中の矢印は温度変化の順を示す（以
下、同じである。）。
ニコル下でラビング方向が偏光板の吸収軸に平行になる
ように置いたところ消光し、ラビング方向を偏光板の吸
収軸に平行でない方向に配置したところレターデーショ
ンを示したことから重合性液晶オリゴマーは水平配向し
ていることがわかった。さらに、高圧水銀ランプの紫外
線を得られた重合性液晶オリゴマー膜に積算照射光量が
１０００ｍＪ／ｃｍ2 になるように照射した。得られた
液晶オリゴマー重合物膜のレターデーションの温度変化
を測定したところ図１に示すようになりレターデーショ
ンの温度変化は測定誤差の範囲内で可逆的であることが
わかった。なお、図中の矢印は温度変化の順を示す（以
下、同じである。）。
【００７０】ＳＴＮパネルに正面コントラストが最大に
なるよう液晶オリゴマー重合物膜を積層する。得られた
ＳＴＮディスプレイを６０℃に加熱しても白黒表示が可
能になる。
なるよう液晶オリゴマー重合物膜を積層する。得られた
ＳＴＮディスプレイを６０℃に加熱しても白黒表示が可
能になる。
【００７１】比較例１ 紫外線を照射しない以外は実施例１と同様にして重合性
液晶オリゴマー膜を得た。得られた重合性液晶オリゴマ
ー膜は水平配向していたが、レターデーションの温度変
化は図２に示すようになり可逆的でなかった。
液晶オリゴマー膜を得た。得られた重合性液晶オリゴマ
ー膜は水平配向していたが、レターデーションの温度変
化は図２に示すようになり可逆的でなかった。
【００７２】比較例２ フィルム面内に光学軸を有し、かつ正の固有複屈折を有
する、熱可塑性高分子からなる一軸配向した位相差フィ
ルムとして、ポリカーボネート製の位相差フィルム〔商
品名スミカライト（ＳＥＦ−４００４２６）住友化学工
業（株）製、レターデーション３８０ｎｍ、視野角３９
°〕のレターデーションの温度依存性を測定したとこ
ろ、図３に示すような変化を示し実施例１に記載された
液晶オリゴマー重合物からなる位相差フィルムよりレタ
ーデーションの温度変化の割合が小さかった。
する、熱可塑性高分子からなる一軸配向した位相差フィ
ルムとして、ポリカーボネート製の位相差フィルム〔商
品名スミカライト（ＳＥＦ−４００４２６）住友化学工
業（株）製、レターデーション３８０ｎｍ、視野角３９
°〕のレターデーションの温度依存性を測定したとこ
ろ、図３に示すような変化を示し実施例１に記載された
液晶オリゴマー重合物からなる位相差フィルムよりレタ
ーデーションの温度変化の割合が小さかった。
【００７３】実施例２ 光架橋性ハードコート剤［商品名スミフレックスＸＲ−
１１：住友化学工業（株）製］をガラス基板上にスピン
コートした後、高圧水銀とランプの紫外線を積算照射光
量が１０００ｍＪ／ｃｍ2 になるよう照射し、ハードコ
ート膜を得た。得られたハードコート膜付きガラス基板
を酸素プラズマ処理した（圧力０. ０５Ｔｏｒｒ、ＲＦ
周波数１３. ５６ＭＨｚにて５０ｍＷ印加）。プラズマ
処理後実施例１と同様にラビングを行い配向膜を有する
基板を得た。得られた基板上に実施例１と同様に液晶オ
リゴマーを成膜し、熱処理を行い、紫外線を照射し位相
差フィルムを得た。得られた位相差フィルムは１３３.
６ｎｍのレターデーションを示し、かつクロスニコル下
でラビング方向が偏光板の吸収軸に平行になるように配
置したところ消光したことから重合性液晶オリゴマーは
水平配向していることがわかった。
１１：住友化学工業（株）製］をガラス基板上にスピン
コートした後、高圧水銀とランプの紫外線を積算照射光
量が１０００ｍＪ／ｃｍ2 になるよう照射し、ハードコ
ート膜を得た。得られたハードコート膜付きガラス基板
を酸素プラズマ処理した（圧力０. ０５Ｔｏｒｒ、ＲＦ
周波数１３. ５６ＭＨｚにて５０ｍＷ印加）。プラズマ
処理後実施例１と同様にラビングを行い配向膜を有する
基板を得た。得られた基板上に実施例１と同様に液晶オ
リゴマーを成膜し、熱処理を行い、紫外線を照射し位相
差フィルムを得た。得られた位相差フィルムは１３３.
６ｎｍのレターデーションを示し、かつクロスニコル下
でラビング方向が偏光板の吸収軸に平行になるように配
置したところ消光したことから重合性液晶オリゴマーは
水平配向していることがわかった。
【００７４】比較例３ ハードコート膜付きガラス基板をラビングした後プラズ
マ処理した以外は実施例２と同様に重合性液晶オリゴマ
ー膜を得た。得られた重合性液晶オリゴマー膜をクロス
ニコル下に置き水平面内で回転したが全方位で消光し
た。次に任意の軸の回りで傾斜したころレターデーショ
ンが現われたことから重合性液晶オリゴマーは垂直配向
していることがわかった。
マ処理した以外は実施例２と同様に重合性液晶オリゴマ
ー膜を得た。得られた重合性液晶オリゴマー膜をクロス
ニコル下に置き水平面内で回転したが全方位で消光し
た。次に任意の軸の回りで傾斜したころレターデーショ
ンが現われたことから重合性液晶オリゴマーは垂直配向
していることがわかった。
【００７５】実施例３ 実施例１のポリイミドの代わりにポリビニルアルコール
を配向膜として用い、１３０℃で３分間熱処理した以外
は実施例１と同様にしてガラス／ポリビニルアルコール
／重合性液晶オリゴマーを得た。得られた重合性液晶オ
リゴマー膜は２０８．５ｎｍのレターデーションを示
し、クロスニコル下で消光位があることから水平配向し
ていることがわかった。得られた重合性液晶オリゴマー
膜に高圧水銀ランプからの紫外線を積算光量で１０００
ｍＪ／ｃｍ2 になるよう照射した。液晶オリゴマー膜上
に粘着剤を貼り付け、３酢酸セルロースフィルムと貼合
した後、６０℃に加熱した水中でポリビニルアルコール
を溶かし、液晶オリゴマー膜を３酢酸セルロースフィル
ムに転写する。得られた３酢酸セルロース／粘着剤／液
晶オリゴマーのレターデーションを測定すると可逆的な
温度変化を示す。
を配向膜として用い、１３０℃で３分間熱処理した以外
は実施例１と同様にしてガラス／ポリビニルアルコール
／重合性液晶オリゴマーを得た。得られた重合性液晶オ
リゴマー膜は２０８．５ｎｍのレターデーションを示
し、クロスニコル下で消光位があることから水平配向し
ていることがわかった。得られた重合性液晶オリゴマー
膜に高圧水銀ランプからの紫外線を積算光量で１０００
ｍＪ／ｃｍ2 になるよう照射した。液晶オリゴマー膜上
に粘着剤を貼り付け、３酢酸セルロースフィルムと貼合
した後、６０℃に加熱した水中でポリビニルアルコール
を溶かし、液晶オリゴマー膜を３酢酸セルロースフィル
ムに転写する。得られた３酢酸セルロース／粘着剤／液
晶オリゴマーのレターデーションを測定すると可逆的な
温度変化を示す。
【００７６】実施例４ 実施例３のガラス板の代わりにポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）フィルムやステンレスなどの金属製のベ
ルトを基板として用いる以外は実施例３と同様にして水
平配向する重合性液晶オリゴマー膜を得て、３酢酸セル
ロールなどの光学的に等方的なフィルムや正の固有複屈
折を有する熱可塑性高分子を一軸配向した位相差フィル
ムなどの上に転写する。得られた３酢酸セルロース／粘
着剤／液晶オリゴマーのレターデーションは可逆的な温
度変化を示す。
ート（ＰＥＴ）フィルムやステンレスなどの金属製のベ
ルトを基板として用いる以外は実施例３と同様にして水
平配向する重合性液晶オリゴマー膜を得て、３酢酸セル
ロールなどの光学的に等方的なフィルムや正の固有複屈
折を有する熱可塑性高分子を一軸配向した位相差フィル
ムなどの上に転写する。得られた３酢酸セルロース／粘
着剤／液晶オリゴマーのレターデーションは可逆的な温
度変化を示す。
【００７７】
【発明の効果】本発明の位相差フィルムは、レターデー
ションの温度依存性がＳＴＮセルに近い位相差フィルム
を得ることができるので、組合わせて使用する液晶表示
セルの温度変化率に応じて容易に温度変化率を適合させ
ることができる。本発明の位相差フィルムの製造方法
は、高温での熱処理が不要であり、工業的に有利であ
る。また、本発明の位相差フィルムを用いた液晶表示装
置は、高温での表示特性を著しく向上させることができ
る。
ションの温度依存性がＳＴＮセルに近い位相差フィルム
を得ることができるので、組合わせて使用する液晶表示
セルの温度変化率に応じて容易に温度変化率を適合させ
ることができる。本発明の位相差フィルムの製造方法
は、高温での熱処理が不要であり、工業的に有利であ
る。また、本発明の位相差フィルムを用いた液晶表示装
置は、高温での表示特性を著しく向上させることができ
る。
【図１】実施例１記載の液晶オリゴマー重合物のレター
デーションの温度依存性を示す図。
デーションの温度依存性を示す図。
【図２】比較例１記載の重合性液晶オリゴマーのレター
デーションの温度依存性を示す図。
デーションの温度依存性を示す図。
【図３】比較例２記載のポリカーボネート位相差フィル
ムのレターデーションの温度依存性を示す図。
ムのレターデーションの温度依存性を示す図。
Claims (9)
- 【請求項１】正の固有複屈折を有し、ガラス転移温度が
５０℃以下であるネマチック相またはスメクチック相を
示す液晶オリゴマーの重合物を含むフィルムであり、該
フィルムの光学軸がフィルム面内にあり、該フィルムの
屈折率異方性Δｎと膜厚ｄの積であるレターデーション
の３０℃における値が１００ｎｍ以上であり、かつレタ
ーデーションの３０℃における値に対する８０℃におけ
る値の比が０．９５〜０．５であることを特徴とする位
相差フィルム。 - 【請求項２】液晶オリゴマーが下記反復単位（Ｉ）およ
び（ＩＩ）を主たる構成単位とする直鎖または環状の液
晶オリゴマーから選ばれ、該オリゴマー１分子中の反復
単位（Ｉ）および（ＩＩ）の数をそれぞれｎおよびｎ’
とするとき、ｎおよびｎ’はそれぞれ独立に１〜２０の
整数であり、４≦ｎ＋ｎ’≦２１であり、ｎ：ｎ’の比
は２０：１〜１：３であり、反復単位（ＩＩ）の末端基
が重合していることを特徴とする請求項１記載の位相差
フィルム。 【化１】 【化２】 〔式中、Ａは下式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）で表される
基であり、式（ＩＩＩ）において−Ｓｉ−Ｏ−は式
（Ｉ）または（ＩＩ）の主鎖であり、式（ＩＶ）におい
て−Ｃ−ＣＨ2 −は式（Ｉ）または（ＩＩ）の主鎖であ
り、ＣＯＯ基は（ＣＨ2 ）グループに結合する。式
（Ｉ）においてＡが式（ＩＩＩ）のとき、および式（Ｉ
Ｉ）においてＡが式（ＩＩＩ）のとき、Ｒ1 およびＲ2
はそれぞれ独立に水素、炭素数１〜６のアルキル基また
はフェニル基である。式（Ｉ）においてＡが式（ＩＶ）
のとき、および式（ＩＩ）においてＡが式（ＩＶ）のと
き、Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ独立に水素または炭素数１〜
６のアルキル基である。 【化３】 【化４】 ｋとｋ’はそれぞれ独立に２〜１０の整数を表し、ｍと
ｍ’はそれぞれ独立に０または１であり、Ａｒ1 、Ａｒ
2 、Ａｒ3 およびＡｒ4 はそれぞれ独立に１，４−フェ
ニレン基、１，４−シクロヘキサン基、ピリジン−２，
５−ジイル基またはピリミジン−２、５−ジイル基であ
り、ＬとＬ’はそれぞれ独立に−ＣＨ2−Ｏ−、−Ｏ−
ＣＨ2 −、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 −ＣＨ2
−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−または 【化５】 で示される２価の基であり、ｐとｐ’はそれぞれ独立に
０または１であり、Ｒはハロゲン、シアノ基、炭素数１
〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ
基であり、Ｒ’は水素または炭素数１〜５のアルキル基
である。〕 - 【請求項３】位相差フィルムが、透明または半透明な基
材上に成膜されてなることを特徴とする請求項１記載の
位相差フィルム。 - 【請求項４】位相差フィルムが、透明または半透明な基
材上に成膜されてなることを特徴とする請求項２記載の
位相差フィルム。 - 【請求項５】基材がフィルム面内に光学軸を有し、かつ
正の固有複屈折を有する、熱可塑性高分子からなる一軸
配向した位相差フィルムであることを特徴とする請求項
３または４記載の位相差フィルム。 - 【請求項６】請求項２記載の液晶オリゴマーを、表面に
配向手段を有する請求項３または４記載の基材上に成膜
後、熱処理を行ない、光学軸をフィルム面内にあるよう
にし、反復単位（ＩＩ）の末端基を重合することを特徴
とする請求項１、２、３または４記載の位相差フィルム
の製造方法 - 【請求項７】請求項２記載の液晶オリゴマーを、表面に
配向手段を有する基材上に成膜後、熱処理を行ない、光
学軸をフィルム面内にあるようにし、反復単位（ＩＩ）
の末端基を重合した後、表面に配向手段を有する基材か
ら剥離し、請求項３または４記載の基材に転写すること
を特徴とする請求項１、２、３または４記載の位相差フ
ィルムの製造方法。 - 【請求項８】請求項１、２、３、または４記載の位相差
フィルムと、フィルム面内に光学軸を有し、かつ正の固
有複屈折を有する熱可塑性高分子からなる一軸配向した
位相差フィルムとが貼合または積層されてなる位相差フ
ィルム。 - 【請求項９】電極を有する基板に挟持された、正の誘電
率異方性を有し、電圧無印加時にほぼ水平にかつ螺旋軸
を基板に垂直方向にねじれ配向した液晶層からなる液晶
セルと、その外側に配置される偏光フィルムと、該液晶
セルと該偏光フィルムとの間に配置された、請求項１、
２、３、４、５または８記載の位相差フィルムから選ば
れた少なくとも一つを用いることを特徴とする液晶表示
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02698495A JP3934692B2 (ja) | 1994-04-22 | 1995-02-15 | 位相差フィルムとその製造方法および液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-84684 | 1994-04-22 | ||
| JP8468494 | 1994-04-22 | ||
| JP02698495A JP3934692B2 (ja) | 1994-04-22 | 1995-02-15 | 位相差フィルムとその製造方法および液晶表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH085839A true JPH085839A (ja) | 1996-01-12 |
| JP3934692B2 JP3934692B2 (ja) | 2007-06-20 |
Family
ID=26364849
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02698495A Expired - Fee Related JP3934692B2 (ja) | 1994-04-22 | 1995-02-15 | 位相差フィルムとその製造方法および液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3934692B2 (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10293210A (ja) * | 1997-04-21 | 1998-11-04 | Nippon Oil Co Ltd | 光学フィルムの製造法 |
| JP2000235184A (ja) * | 1999-02-12 | 2000-08-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 液晶表示装置 |
| JP2000512768A (ja) * | 1995-12-22 | 2000-09-26 | アクゾ ノーベル ナムローゼ フェンノートシャップ | 温度整合レターデーション層 |
| JP2000347157A (ja) * | 1999-06-04 | 2000-12-15 | Seiko Epson Corp | 投射型表示装置 |
| JP2001500276A (ja) * | 1996-07-26 | 2001-01-09 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | 光学素子の組み合わせ体 |
| JP2002098830A (ja) * | 2000-09-21 | 2002-04-05 | Nitto Denko Corp | 光学フィルム素材の製造方法およびそれにより得られる光学フィルム素材 |
| JP2002202408A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Hayashi Telempu Co Ltd | 位相差フィルムおよびその製造方法 |
| JP2007506121A (ja) * | 2003-09-16 | 2007-03-15 | レオンハード クルツ ゲーエムベーハー ウント コー．カーゲー | 個別化された、光学的に可変な素子を製造するプロセス及びフィルムシステム |
| JP2007086511A (ja) * | 2005-09-22 | 2007-04-05 | Fujifilm Corp | 光学機能材料並びにその製造方法、光学補償シート、偏光板、および液晶表示装置 |
| JP2007121490A (ja) * | 2005-10-26 | 2007-05-17 | Optrex Corp | 液晶表示素子 |
| WO2008099879A1 (ja) * | 2007-02-16 | 2008-08-21 | Toppan Printing Co., Ltd. | リターデイション基板、その製造方法及び液晶表示装置 |
| JP2008287274A (ja) * | 2007-02-16 | 2008-11-27 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ及びその製造方法及び液晶表示装置 |
| JP2016053712A (ja) * | 2014-09-02 | 2016-04-14 | 小池 康博 | 光学樹脂材料、該光学樹脂材料の製造方法、該材料からなる光学樹脂部材及び該部材からなる偏光板 |
-
1995
- 1995-02-15 JP JP02698495A patent/JP3934692B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US7771629B2 (en) | 2003-09-16 | 2010-08-10 | Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg | Method and film system for producing a personalised, optically variable element |
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| JP4740854B2 (ja) * | 2003-09-16 | 2011-08-03 | レオンハード クルツ ゲーエムベーハー ウント コー．カーゲー | 個別化された、光学的に可変な素子を製造するプロセス及びフィルムシステム |
| JP2007086511A (ja) * | 2005-09-22 | 2007-04-05 | Fujifilm Corp | 光学機能材料並びにその製造方法、光学補償シート、偏光板、および液晶表示装置 |
| JP4659575B2 (ja) * | 2005-09-22 | 2011-03-30 | 富士フイルム株式会社 | 光学補償シート、偏光板、液晶表示装置、および光学補償シートの製造方法 |
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| JP2008225437A (ja) * | 2007-02-16 | 2008-09-25 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ及びその製造方法及び液晶表示装置 |
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| JP2016053712A (ja) * | 2014-09-02 | 2016-04-14 | 小池 康博 | 光学樹脂材料、該光学樹脂材料の製造方法、該材料からなる光学樹脂部材及び該部材からなる偏光板 |
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