JPH0854634A - 液晶光学素子及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 表示品質、均一性、信頼性に優れ、量産可能
な液晶表示素子とその製造方法を提供すること。 【構成】 液晶／高分子複合膜を、少なくとも一方が透
明である一対の電極付基板間に狭持してなる液晶光学素
子において、一方の基板と液晶／高分子複合膜との間に
スペーサーを設けて空隙を形成し、該空隙に液晶層又は
樹脂層を設けたことを特徴とする液晶光学素子、及びそ
の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶／高分子複合膜を
利用する液晶光学素子及びその製造方法に関し、更に詳
しくは電界や熱応答性を有し、情報の表示や記録を行う
ことが出来、調光パネル、ディスプレイ、記録媒体等に
幅広く応用することが出来る液晶光学素子及びその製造
方法を提供する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイは、低消費電力、軽
量、薄型等の特徴を有している為、文字や画像の表示媒
体として、腕時計、電卓、パソコン、テレビ等に幅広く
用いられている。一般的なＴＮ及びＳＴＮ型液晶ディス
プレイは、透明電極を有するガラス板間に所定のシール
等が施された液晶セル中に液晶を封入し、更に両面から
偏光板でサンドイッチされたものである。

【０００３】しかしながら、上記従来の液晶ディスプレ
イは、（１）２枚の偏光板が必要な為に視野角が狭く、
又、輝度が不足している為に高消費電力のバックライト
が必要である、（２）セル厚依存性が大きく大面積化が
困難、（３）構造が複雑でセルへの液晶の封入が困難な
為に、構造コストが高い等の問題があり、液晶ディスプ
レイの軽量化、薄型化、大面積化、低消費電力化及び低
コスト化等に限界がある。この様な問題点を解決する液
晶表示媒体として、液晶を高分子マトリクス中に分散さ
せた液晶／高分子複合膜の応用が期待され、その研究開
発が活発化してきた。既に次に示す様な技術が開示され
ている。

【０００４】液晶／高分子複合膜の製造方法は主として
エマルジョン法と相分離法に分類することが出来る。エ
マルジョン法には、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を
保護コロイドとして液晶を乳化した水溶液から作製する
方法（特表昭５８−５０１６３１号公報）、液晶エマル
ジョンをラテックスと混合して水溶液から作製する方法
（特開昭６０−２５２６８７号公報）、液晶を内包する
カプセルを電着塗布して作製する方法（特開平５−２０
３９３２号公報）等が挙げられる。一方、相分離法は、
液晶とマトリクス樹脂の相分離状態を固定する方法と膜
形成時に液晶をマトリクス樹脂から相分離させる方法に
分類することが出来る。

【０００５】上記エマルジョン法で作製した液晶／高分
子複合膜は、上記相分離法で作製した液晶／高分子複合
膜と比較すると以下の如き利点がある。 （１）液晶が高分子マトリックス中に粒適状に分散した
構造となる為に、膜の光散乱強度を高くすることが出来
る。 （２）液晶中に二色性色素を添加した場合、相分離法で
は高分子マトリックスまでも色素により着色されてしま
い、表示のコントラストが低下するが、エマルジョン法
の場合には、水溶性の高分子マトリックスを使用する為
にこの様な問題は生じない。 （３）大面積のディスプレイを作製することが出来る。

【０００６】

【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、エマ
ルジョン法でディスプレイを作製する場合には、一方の
基板上に液晶／高分子複合膜を形成した後に、対向電極
と液晶／高分子複合膜とを密着させる必要がある。対向
電極と液晶／高分子複合膜の間に空気等の気体が介在す
ると、駆動電圧が著しく高くなるばかりか表示品質も悪
くなる。しかしながら、エマルジョン法で作製された液
晶／高分子複合膜には表面に凹凸があり、対向電極と直
接良好に密着させることは困難であった。

【０００７】この様な問題を解決する方法としては、液
晶／高分子複合膜と対向電極の間に液晶層若しくは高誘
電性液体層を設けることが提案されている（特開平２−
７３２１７号及び特開平２−７３２１８号公報）。この
方法では、対向電極の圧着時に過剰の高誘電性液体若し
くは液晶を、液晶／高分子複合膜を形成した領域から周
辺部にはみ出させ、しかる後に周辺部をシール剤でシー
ルしているが、この様な製造方法では、完全なシールを
行うにははみ出した液体若しくは液晶を取り除く必要が
あるし、シール剤の塗布工程も自動化が困難である為に
極めて量産性が劣っている。

【０００８】従って、本発明の目的は、上記従来技術の
問題点を解決し、表示品質、均一性、信頼性に優れ、量
産可能な液晶表示素子とその製造方法を提供することで
ある。

【０００９】

【問題点を解決する為の手段】上記目的は以下の本発明
によって達成される。即ち、本発明は、液晶／高分子複
合膜を、少なくとも一方が透明である一対の電極付基板
間に狭持してなる液晶光学素子において、一方の基板と
液晶／高分子複合膜との間にスペーサーを設けて空隙を
形成し、該空隙に液晶層又は樹脂層を設けたことを特徴
とする液晶光学素子、及びその製造方法である。

【００１０】

【作用】液晶表示素子の一方の電極付基板に所望粒径の
スペーサーを散布した後、概基板上にスペーサーの粒子
径よりも平均膜厚が小さい液晶／高分子複合膜を形成す
るか、或はスペーサーを分散させてなる液晶／高分子複
合膜形成用塗布液を、一方の電極付基板上に塗布して、
スペーサーの粒子径よりも平均膜厚が小さい液晶／高分
子複合膜を形成し、他方の基板と貼り合わせた後、液晶
／高分子複合膜と上記一方の電極との間隙に液晶又は樹
脂を充填することによって、表示品質、均一性及び信頼
性に優れ、量産可能な液晶表示素子を提供することが出
来る。

【００１１】

【実施例】次に好ましい実施例を挙げて本発明を更に詳
しく説明する。本発明の液晶光学素子の構成は、図１ａ
及び図１ｂに示す様に、基本的には液晶／高分子複合膜
１を、少なくとも一方が透明である一対の電極付基板間
２，３に狭持してなる液晶光学素子Ａにおいて、一方の
基板２と液晶／高分子複合膜１との間にスペーサー７を
設けて空隙４を形成し、該空隙４に液晶層又は樹脂層４
を設けたことを特徴としている。

【００１２】本発明で云う液晶とは、常温付近で液晶状
態を示す有機混合物であって、好ましくはネマチック液
晶若しくはコレステリック液晶が用いられる。これらの
液晶は誘電率異方性が正でも負でもよい。尚、液晶混合
物中には二色性色素を含有させることが出来る。二色性
色素を使用する場合には液晶１００重量部当たり約０．
５〜５重量部の範囲で使用することが好ましい。上記二
色性色素を含有した液晶粒子を分散固定する高分子マト
リクスとして使用される高分子材料としては、液晶及び
二色性色素と相溶性がなく、透明性及び被膜形成能に優
れた高分子材料であればいずれも使用可能である。具体
的には、液晶／高分子複合膜の形成方法に従って適当な
高分子材料が使用される。

【００１３】前記液晶組成物と上記高分子マトリクスの
使用量としては、高分子マトリクス／液晶の混合比（重
量比）が５／９５〜５０／５０であり、望ましくは１０
／９０〜３０／７０である。液晶組成物の使用量が少な
過ぎると、電圧印加時の透明性が不足するだけでなく、
膜を透明状態にする為に多大の電圧を必要とする等の点
で不十分であり、一方、液晶組成物の使用量が多過ぎる
と、電圧印加時の散乱（濁度）が不足するだけでなく、
膜の強度が低下したりするので好ましくない。

【００１４】上記本発明の液晶表示素子において、一方
の電極付基板２としてアクティブ素子基板を使用した実
施例について説明する。このアクティブ素子基板２は信
号電極５を２方向から取出したＴＦＴ基板である。液晶
／高分子複合膜１は、透明電極付基板３上にシール剤６
から形成されたパターンの内側の有効表示領域に形成さ
れている。この液晶／高分子複合膜１とシール剤６との
間には間隙があってもよい。又、液晶／高分子複合膜１
とＴＦＴ基板２の間には間隙（セルギャップ）があり、
このセルギャップはスペーサー７により制御されてい
る。液晶／高分子複合膜１とシール剤６及びＴＦＴ基板
２との間に形成されている空隙には液晶４が充填されて
いる。

【００１５】次に上記本発明の液晶光学素子の製造方法
を説明する。透明電極付基板３にスペーサー７を散布し
た後、該基板３上にスペーサー７の粒子径よりも平均膜
厚が小さい液晶／高分子複合膜１を、例えば、電着塗布
方法により形成し、他方のＴＦＴ基板２と貼り合わせた
後、液晶／高分子複合膜１とＴＦＴ基板２との間隙に液
晶４を注入及び充填する。ここで云うスペーサー７と
は、セルギャップを制御する目的で使用するものであっ
て、一定の径を持つ粒子或は繊維を意味し、液晶光学素
子で一般的に使用されているプラスチック粒子、ガラス
粒子、ガラスファイバー等が好適に用いられる。スペー
サー７の散布方法も同様に一般的に行われている湿式散
布及び乾式散布を使用することが出来る。

【００１６】後に液晶／高分子複合膜１を形成する電着
工程で、スペーサー７が基板３から電着浴中に落下する
ことを防ぐ為に、スペーサー７は、静電気等で基板３に
付着させておいてもよいが、より確実にする為にはホッ
トメルト型の接着剤を用いる等して基板３に固着される
ことが好ましい。液晶／高分子複合膜１は、図１の様に
セルの特定領域のみに電着塗布により形成される。液晶
／高分子複合膜１を形成したくない領域、例えば、電極
端子部には、前もって電気絶縁膜（不図示）を形成して
おけばよい。この電気絶縁膜上には液晶／高分子複合膜
１が形成されないので、該絶縁膜を単に取り除くことに
よって電極端子部を露出させることが出来る。又、電極
端子部以外でも液晶／高分子複合膜１を形成したくない
領域には、同様に絶縁膜を形成したり、電極付基板３の
透明電極をパターニングすることによって、電極が無い
状態にしておいてもよい。

【００１７】ここで云う電着塗布とは、液晶エマルジョ
ン塗工液中に塗布基板となる電極付基板と対向電極とを
配置して通電し、液晶粒子と高分子材料とを電気的に電
極付基板上に吸着若しくは沈着させ、次いで電着塗布さ
れた電極付基板を取り出して溶媒を乾燥除去することに
より液晶／高分子複合膜１を形成するものである。電着
塗布には、陽極上に液晶と高分子材料とを折出させるア
ニオン電着法と、陰極上に折出させるカチオン電着法が
あるが、透明金属酸化物が電極となっている電極付基板
が塗布基板として通常使用される為に、還元による透明
電極の着色を避ける為にアニオン電着法が好ましく用い
られる。液晶／高分子複合膜のポリマーマトリクスとし
て好ましく用いられるアニオン性樹脂としては、例え
ば、マレイン化油樹脂、アニオン変性ポリブタジエン樹
脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂が挙げられる。

【００１８】電着塗布により液晶／高分子複合膜の作製
に使用する塗工液は、上記アニオン性樹脂の水溶液中に
液晶を乳化分散して調製することが出来る。又、形成さ
れる液晶／高分子複合膜の塗膜構造の適正化、及び液晶
／高分子複合膜への電圧配分を適正化する為に、液晶を
予めカプセル化し、これを上記アニオン性樹脂水溶液中
に分散した塗工液を用いることが特に好ましい。マトリ
クス樹脂の溶解性の向上及び平滑な塗膜を得る為に、電
着浴には通常有機溶剤が添加される。ここで用いられる
有機溶剤としてはエタノール、メタノール、イソプロパ
ノール等のアルコール類、メチルセルソルブ、エチルセ
ルノルブ等のセルソルブ類、グリコール、カービトール
等の親水性有機溶剤が好ましく用いられるが、場合によ
りキシロール、トルオール等の疎水性溶剤も使用するこ
とが出来る。

【００１９】又、使用し得る電着助剤としては、液晶粒
子の分散安定性を付与する為の界面活性剤、塗膜の平滑
性を良くする為のレベリング剤、消泡剤等が挙げられ
る。又、カプセル化液晶にカルボキシル基等のアニオン
性基を持たせた場合には、カプセル自体が電気的に泳動
して電極付基板上に沈着する能力がある為にアニオン性
樹脂を使用しなくても電着可能である。この様にして電
極上に付着形成された膜は、水分、有機溶剤等の揮発性
成分を取り除く為に加熱乾燥されて、所望の液晶／高分
子複合膜となる。電極付基板３上のスペーサー７は通常
電気絶縁性である為に、スペーサー７の上には液晶／高
分子複合膜が電着することはない。電着及び乾燥後の液
晶／高分子複合膜１の状態は、図２に示す様にスペーサ
ー７が頭を少し出て埋め込まれた状態になる。

【００２０】次に液晶／高分子複合膜１が形成された透
明電極付基板３とＴＦＴ基板２の２枚の基板を位置合せ
してシール剤により両者を貼り合わせる。一対の基板の
貼り合わせ及びスペーサーによって形成された空間への
液晶の注入工程は、ＴＮ型やＳＴＮ型等の従来型の液晶
素子の組立工程で用いられている方法をそのまま用いる
ことが出来る。即ち、図１ａに示す様に、どちらか一方
の基板（液晶／高分子複合膜１を形成した側か、してい
ない側）に、液晶注入孔８を設けて液晶／高分子複合膜
１を包囲する様にシール剤６を塗布した後、上下基板
２，３を位置合わせして圧着し、シール剤６を熱や紫外
線により硬化させる。しかる後に液晶注入口８から液晶
を注入し、最後に注入口８を封止する。

【００２１】液晶／高分子複合膜１はスペーサー７の粒
子径よりも平均膜厚が小さい為に、セルギャップは液晶
／高分子複合膜１中に散在したスペーサー７により制御
されることになる。２枚の基板の圧着時には、液晶／高
分子複合膜１と対向電極の間には空隙がある。この空隙
は注入された液晶によって満たされる。シール剤６の塗
布は、スクリーン印刷機や、ディスペンサーを用いて行
う。シール剤としては一液硬化性エポキシ樹脂、ＵＶ硬
化性樹脂等が用いられる。シール剤中にはパネルギャッ
プを確保する為に別の径のスペーサーが練り込まれてい
ることが好ましい。

【００２２】液晶の注入は以下の手順で行う。先ず、上
記の組み立てたセルを減圧雰囲気下にしばらく置き、セ
ル内が充分減圧されたところで液晶注入口を液晶溜めに
接触させる。しばらく接触させた後、雰囲気を常圧に戻
していく。液晶は注入口よりセル内に注入され、セル内
の間隙を埋めていく。圧力差により小さくなったパネル
ギャップが均一になるまで数時間放置する。セル厚を制
御する為に、通常弱い圧力を加えて数〜十数時間プレス
する。その後注入口を封止する。封止は通常紫外線硬化
樹脂を用いて紫外線硬化して行う。液晶注入時には、そ
の速度を速める目的で液晶を加温又は加圧等を行っても
よい。本発明の液晶光学素子では、液晶／高分子複合膜
中の液晶が電界によりその配向方向を変化させると共
に、液晶層の液晶もその配向方向を変える。セルはその
双方の効果によりスイッチングされる。

【００２３】例えば、液晶／高分子複合膜中の液晶及び
液晶層を構成する液晶が、双方ともＮｐ液晶であり、そ
れぞれにポジ型の二色性色素が添加されている場合につ
いて説明すると、図３に示す様に電圧無印加時には液晶
／高分子複合膜中の液晶はカプセル壁面により規定され
たランダムな方向に配列している。又、液晶層中の液晶
は、液晶／高分子複合膜表面の凹凸により規定された乱
された配列をしている。液晶の屈折率の空間的ひずみ、
及び高分子マトリクスと液晶の屈折率の不整合により、
入射光は散乱されると共に、液晶中に添加された色素に
より多重に吸収される。

【００２４】電圧印可時には、図４に示す様に液晶／高
分子複合膜中の液晶、及び液晶層中の液晶がいずれも電
界方向に配列する。この状態では、光の散乱効果は低く
なり、ポジ型二色性色素により光吸収は弱くなってい
る。初期状態での液晶層の液晶中の二色性色素による吸
収を高める為には、液晶がホモジニアス配向に近い方が
高くなるが、その為に、液晶／高分子複合膜と密着しな
い側の基板上に、ホモジニアス配向させる為の配向膜を
設けてもよい。本発明によれば、プラスチック基板を用
いた液晶光学素子も製造可能であるが、この場合には、
スペーサー７の散布密度はガラス基板を用いる場合より
も高いことが好ましく、数万個／ｃｍ² が好ましい。ス
ペーサー７の粒子径は５〜１５μｍであり、液晶／高分
子複合膜の平均膜厚は３〜１２μｍで、スペーサー７の
粒子径よりも１〜４μｍ小さい。

【００２５】本発明の別の実施例における液晶光学素子
の構成を図１ａ及び図１ｂに示す。この実施例において
は、前記実施例における液晶層に代えて樹脂層を形成す
る他は、前記実施例とほぼ同様の工程を経て本発明に液
晶光学素子が形成される。即ち、液晶／高分子複合膜１
は、シール剤６で形成されるパターンの内側の有効表示
領域に形成される。液晶／高分子複合膜１とシール剤６
との間には間隙があってもよい。又、液晶／高分子複合
膜１とＴＦＴ基板２の間には間隙があり、セルギャップ
はスペーサー７により制御されている。液晶／高分子複
合膜１とシール剤６、及びＴＦＴ基板２の間の間隙に
は、硬化性の樹脂液４が充填されている。

【００２６】次に上記素子の製造方法について説明す
る。透明電極付基板３に前記スペーサー７を散布した
後、該基板３上にスペーサー７の粒子径よりも平均膜厚
が小さい液晶／高分子複合膜１を電着塗布法により形成
し、他方の基板であるＴＦＴ基板２と貼り合わせた後、
液晶／高分子複合膜１とＴＦＴ電極２の間隙に硬化性の
樹脂液４を充填した後、該硬化性樹脂液４を硬化させ
る。硬化方法としては、熱硬化法、紫外線硬化法、及び
電子線硬化法等の任意の方法が好適に用いられる。

【００２７】硬化性樹脂としては透明性を有し、そのう
え樹脂層による電圧降下を低減する目的から、高誘電性
の樹脂が好適に用いられる。硬化してこの様な高誘電性
の樹脂層を形成するモノマーとしては、シアノエチル基
を有し、反応性不飽和結合を有するものが好ましく用い
られる。例えば、シアノエチルビニルエーテル、シアノ
エチルビニルアクリレート、シアノエチルメタクリレー
ト等があり、これらのモノマーは場合により共重合させ
てもよい。この様なモノマーは、光重合開始剤を添加す
れば、紫外線により重合可能である。尚、電子線により
硬化させる場合には光重合開始剤を用いる必要はない。
スペーサー７の粒子径は５〜１５μｍであり、液晶／高
分子複合膜１の平均膜厚は３〜１２μｍで、スペーサー
７の粒子径よりも１〜４μｍ小さい。

【００２８】更に本発明は、多色の液晶／高分子複合膜
を配置したカラー液晶光学素子を製造する場合にも適用
することが出来る。ここで云う多色の液晶／高分子複合
膜とは、第１に、液晶／高分子複合膜中の液晶に２色以
上の二色性色素が添加された領域が配置されていること
であり、第２には、高分子マトリクス中に２色以上の色
素が添加された領域が配置されていることを意味する。
多色の液晶／高分子複合膜を微細な画素ごとに塗り分け
る方法としては、以下の３つの方法がある。

【００２９】（１）電気絶縁性の基板上に複数の領域に
分割された導電性の膜からなる電極を設け、各電極に選
択して電圧を印加し、電圧の印加された電極上に電着塗
布法により、液晶／高分子複合膜を形成させ、前記操作
を繰り返すことにより各電極上に多色の液晶／高分子複
合膜を塗り分ける方法。 （２）導電性の基板に所定のレジストパターンを形成
し、レジスト開口部に電着塗布法により、液晶／高分子
複合膜を形成し、更にレジストの一部を所定のパターン
に除去して電極を露出させ、該露出された電極上に異な
る色相の液晶／高分子複合膜を形成する方法。 （３）表示電極とは別の基板を用い、上記（１）又は
（２）の方法によりパターニングした液晶／高分子複合
膜を表示電極付基板上に転写する方法。

【００３０】上記（１）又は（２）の方法で作製された
液晶／高分子複合膜では、特に膜の断面形状が台形状に
なる為に、通常のラミネート方法で良好な表示装置を実
現することは不可能であり、本発明の効果が一層良好に
発揮される。多色のカラー液晶表示素子の場合には、光
漏れによるコントラスト低下を防ぐ為に各画素間の間隙
にいわゆるブラックマトリクスを設けてもよい。この場
合におけるブラックマトリクスの形成方法は、マイクロ
カラーフィルターにおけるブラックマトリクスの形成法
として知られている方法がそのまま適用される。

【００３１】更に本発明の別の実施例としては、前記の
如きスペーサーを液晶／高分子複合膜形成用塗布液中に
所定量分散させ、この分散液を一方の電極付基板に塗布
して、スペーサーの粒子径よりも平均膜厚が小さい液晶
／高分子複合膜を形成し、他は前記方法と同様にする実
施例が挙げられる。この方法で使用する液晶／高分子複
合膜形成用塗布液は前記液晶エマルジョンであってもよ
いし、更に別の塗布液、例えば、液晶とモノマーとの混
合溶液中にスペーサーを分散させたものであってもよ
く、この場合には該塗布液を塗布後に紫外線、電子線或
は加熱等の手段でモノマーを重合させ、重合と共に液晶
の液滴を相分離させて液晶／高分子複合膜を形成する。
この場合にも塗布量を調整することによって図２に示す
様に液晶／高分子複合膜中にはこの膜の平均膜厚よりも
粒子径が大であるスペーサーが埋め込まれた状態の液晶
／高分子複合膜が形成される。

【００３２】以上好ましい実施例に基づいて説明した
が、本発明は上記実施例に限定されず、例えば、液晶／
高分子複合膜の形成は電着方法や相分離方法に限定され
ず、図２に示す様に液晶／高分子複合膜中にはこの膜の
平均膜厚よりも粒子径が大であるスペーサーが埋め込ま
れた状態の液晶／高分子複合膜が形成される方法であれ
ばいずれの方法であってもよい。

【００３３】又、液晶／高分子複合膜形成用塗布液の塗
布方法としては、例えば、刷毛塗り、スプレーコーティ
ング、ブレードコーティング、ドクターコーティング、
グラビアコーティング、ナイフコーティング、ワイヤー
バーコーティング等の適当な塗布方法を用いてもよい
又、液晶／高分子複合膜をパターン状に形成する必要が
ある場合には、前記方法以外にも、スクリーン印刷、メ
タルマスクを用いたステンシル印刷方法等も使用するこ
とが出来る。

【００３４】又、素子基板としては、従来公知の液晶表
示素子に一般的に使用されているもの、例えば、ＩＴＯ
系、ＳｎＯ₂ 系、ＺｎＯ系の様な透明導電性材料をガラ
スや高分子フィルム等の様な透明基板に付着させた透明
電極付基板、一方の基板として不透明導電性基板を用い
る場合には、その電極が高反射率の金属、例えば、アル
ミニウム、銀、クロム、ニッケル等で表面凹凸形状を有
する反射型電極を用いることも出来る。その基板自体は
ガラス、高分子フィルム或いはその他のものであっても
よい。

【００３５】

【効果】以上の如き本発明によれば、スペーサーの粒子
径よりも平均膜厚が小さい液晶／高分子複合膜を形成
し、他方の基板と貼り合わせた後、液晶／高分子複合膜
と上記一方の電極との間隙に液晶又は樹脂を充填するこ
とによって、表示品質、均一性及び信頼性に優れ、量産
可能な液晶表示素子を提供することが出来る。

【００３６】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の液晶表示素子を図解的に説明する図。

【図２】本発明の液晶表示素子を図解的に説明する図。

【図３】本発明の液晶表示素子の作動を図解的に説明す
る図。

【図４】本発明の液晶表示素子の作動を図解的に説明す
る図。

【符号の説明】

１：液晶／高分子複合膜 ２：ＴＦＴ基板 ３：透明電極 ４：液晶層 ５：信号電極 ６：シール剤 ７：スペーサー ８：液晶（樹脂液）注入孔

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 液晶／高分子複合膜を少なくとも一方が
   透明である一対の電極付基板間に狭持してなる液晶光学
   素子において、一方の基板と液晶／高分子複合膜との間
   にスペーサーを設けて空隙を形成し、該空隙に液晶層又
   は樹脂層を設けたことを特徴とする液晶光学素子。
2. 【請求項２】 液晶層又は樹脂層の厚みがスペーサーに
   よって規定されている請求項１に記載の液晶光学素子。
3. 【請求項３】 液晶／高分子複合膜を構成する高分子材
   料が、イオン解離性基を有する樹脂を主体とする請求項
   １に記載の液晶光学素子。
4. 【請求項４】 一方の電極付基板上に所望粒径のスペー
   サーを散布した後、該基板上にスペーサーの粒子径より
   も平均膜厚が小さい液晶／高分子複合膜を形成し、他方
   の基板と貼り合わせた後、液晶／高分子複合膜と上記一
   方の電極との間隙に液晶又は樹脂を充填することを特徴
   とする液晶光学素子の製造方法。
5. 【請求項５】 スペーサーを分散させてなる液晶／高分
   子複合膜形成用塗布液を、一方の電極付基板上に塗布し
   て、スペーサーの粒子径よりも平均膜厚が小さい液晶／
   高分子複合膜を形成し、他方の基板と貼り合わせた後、
   液晶／高分子複合膜と上記一方の電極との間隙に液晶又
   は樹脂を充填することを特徴とする液晶光学素子の製造
   方法。
6. 【請求項６】 液晶／高分子複合膜を電着法又は他の塗
   布方法によって形成する請求項４又は５に記載の液晶光
   学素子。
7. 【請求項７】 樹脂層を、硬化性液状樹脂を注入後硬化
   させて形成する請求項４又は５に記載の液晶光学素子の
   製造方法。