JP2839362B2

JP2839362B2 - 液晶パネルの製造方法

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Publication number: JP2839362B2
Application number: JP2317222A
Authority: JP
Inventors: 博司高原; 秀樹大前
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1990-11-20
Filing date: 1990-11-20
Publication date: 1998-12-16
Anticipated expiration: 2013-12-16
Also published as: JPH04208924A

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明はテレビ映像などを表示する液晶パネルの製造
方法に関するものである。

従来の技術液晶パネルはネマチック液晶を使用したツイストネマ
チック型や、ねじれ角度を90゜以上にしたスーパーネマ
チック型のものが、低消費電力，定電圧駆動，軽量化，
薄型化といった特徴を生かしてフラットディスプレイと
してパーソナルワードプロセッサー，ハンドヘルドコン
ピュータ，ポケットテレビ等の表示デバイスとして広く
利用されている。また近年ではカラー化も進み、画素電
極ごとに能動素子を設けたアクティブマトリクス型の液
晶パネルが高コントラストおよび高階調表現が可能であ
るという特徴の故に主流となりつつある。しかしなが
ら、上記のものは全て偏光板を要するものであり、また
配向処理が不可欠のものである。これらを要さず、明る
くコントラストの良い、大型で廉価な液晶パネルという
ことで、散乱−透明の状態の切り換えで表示を行なう方
法が注目されている。以前はこの種類のモードとして動
的散乱型（以後、DSM型と呼ぶ）または相転移型（以
後、PC型と呼ぶ）の液晶を用いた液晶パネルも提案され
ていたが、各々液晶中を流れる電流値が高くて消費電流
が大きいという欠点があったり、液晶層の厚み制御が困
難で色ムラを起こし易いといった欠点があったりして実
用化には至らなかった。

最近ではこういった欠点のない、なおかつ低電力駆動
が可能な液晶パネルとして液晶をカプセル化することに
より、ポリマー中に液晶滴を分散させる方法が知られて
いる。ここでカプセル化物質としては、ゼラチン，アラ
ビアゴム，ポリビニルアルコール等が提案（特表昭58−
501631号、米国特許4435047号）されたり、このほかに
も液晶がエポキシ樹脂中に分散したもの（特表昭61−50
2128号）、液晶が紫外線硬化ポリマー中に分散したもの
（特開昭62−2231号）等が開示されているが、どれも電
界を加えると液晶分子が電界の方向に向きを揃えて配列
し、その際の液晶の屈折率n_o、またはn_eとポリマー屈折
率n_pが等しくなって透明性を有し、電界を除くと液晶分
子はランダムな配列に戻り、この液晶を通過する光を散
乱してしまうという２状態をもって表示を行なう原理に
よるものである。このような原理を用いる液晶パネルを
高分子分散液晶パネルと呼ぶ。この高分子分散液晶パネ
ルには、液晶と高分子の分散状態によって、大きく２つ
のタイプに分けられる。１つは水滴状の液晶が高分子中
に分散しているタイプである。液晶は、高分子中に不連
続な状態で存在する。以後、このような液晶をPDLCと呼
び、また、前記液晶を用いた液晶パネルをPD液晶パネル
と呼ぶ。もう１つは、液晶層に高分子のネットワークを
張り巡らせたような構造を採るタイプである。ちょうど
スポンジに液晶を含ませたような格好になる。液晶は、
水滴状とならず連続に存在する。以後、このような液晶
をPNLCと呼び、また、前記液晶を用いたパネルをPN液晶
パネルと呼ぶ。前記２種類の液晶パネルで画素を表示す
るためには、光の散乱・透過を制御することにより行な
う。PDLCは、液晶が配向している方向で屈折率が異なる
性質を利用する。電圧を印加していない状態では、それ
ぞれの水滴状液晶は不規則な方向に配向している。この
状態では、高分子と液晶に屈折率の差が生じ、入射光は
散乱する。ここで電圧を印加すると液晶の配向方向がそ
ろう。液晶が一定方向に配向したときの屈折率をあらか
じめ高分子の屈折率と合わせておくと、入射光は散乱せ
ずに透過する。これに対して、PNLCは液晶分子の配向の
不規則さそのものを使う。不規則な配向状態、つまり電
圧を印加していない状態では入射した光は散乱する。一
方、電圧を印加し配列状態を規則的にすると光は透過す
る。なお、前述のPDLCおよびPNLCの液晶の動きの説明は
あくまでもモデル的な考え方である。また、高分子分散
液晶パネルに注入する液晶を含有する液体と総称して液
晶溶液または樹脂と呼び、前記樹脂が重合し硬化した状
態のポリマーと呼ぶ。

まず、従来の液晶パネルについて説明する。第５図は
従来の液晶パネルの外観図である。第５図において、11
はスイッチング素子としての薄膜トランジスタ（以後、
TFTと呼ぶ）などが形成されたガラス基板（以後、アレ
イ基板と呼ぶ）、41はITOなどからなる透明電極が形成
された基板（以後、対向基板と呼ぶ）、52は液晶を封止
するための封止樹脂、13はアレイ基板11のゲート信号線
に接続されたTFTのオンオフを制御する信号を印加する
ドライブIC（以後、ゲートドライブICと呼ぶ）、12はア
レイ基板11上のソース信号線にデータ信号を印加するた
めのドライブIC（以後、ソースドライブICと呼ぶ）であ
る。また、第６図は液晶パネルを構成するアレイ基板11
の画像表示部分の等価回路図である。なお、アレイ基板
の構成は従来の液晶パネルも本発明の製造方法で説明す
る液晶パネルでも同様である。

第６図において、G1〜Gmはゲート信号線、S1〜Snはソ
ース信号線、61はTFT、62は付加容量、63は表示画素で
ある。さらに、第７図は一画素の平面図である。第７図
において、71はゲート信号線、22はソース信号線、72は
TFTの形成部分、23はITOからなる画素電極である。ま
た、第８図は、液晶パネルの断面図である。第８図にお
いて、81は所定の液晶層の膜厚を得るためのビーズ、82
は対向電極である。以上のように、従来の液晶パネルは
TFTなどが形成されたアレイ基板11と対向基板41間を通
常10〜20μｍの間隔で配置し、周辺部を封止樹脂で封止
し、前記間隔に液晶が注入された構造となっている。

以下、図面を参照しながら、従来の液晶パネルの製造
方法について第９図（ａ）〜（ｅ）を用いて説明する。
なお、第９図（ａ）〜（ｅ）は従来の液晶パネルの製造
方法を説明するための説明図である。第９図において、
91は封止樹脂である。まず、第９図（ａ）に示すよう
に、TFTおよび複数の信号線が形成されたアレイ基板は
素子面を上に向けて配置される。次に第９図（ｂ）で示
すように、表示領域の周辺部をスクリーン印刷技術など
により封止樹脂が塗布される。一方、対向基板41は第９
図（ｃ）で示すように対向電極上に液晶層の所定ギャッ
プを得るためにビーズ81が散布される。その後、第９図
（ｄ）に示すように、前記対向基板41上にアレイ基板11
を位置決めし、アレイ基板11と対向基板11とをはりあわ
せる。その後、紫外線を照射して封止樹脂91を硬化させ
る。次に、前記基板を真空室に入れ、アレイ基板11と対
向基板41のギャップ内を真空状態にしたのち、液晶の注
入口を液晶溶液に浸す。その後、真空室の真空をやぶる
と、液晶溶液は注入口からギャップ内に注入される。次
に注入口を封止し、第９図（ｅ）に示すように紫外線を
樹脂に照射する。すると樹脂が重合反応を起こしてポリ
マーとなる。一方、液晶は水滴状となる。

発明が解決しようとする課題従来の液晶パネルは、対向基板41とアレイ基板11の２
枚のガラス基板を用いて構成する。そのため重量が大き
いという課題があった。また、前記２枚のガラス基板間
で光の迷光が発生し、表示画像のコントラストを低下さ
せていた。そこでガラス基板を１枚しか用いない液晶パ
ネルを製造できれば、前述の課題を解決できる。

また、従来の液晶パネルではブラックマトリックスと
いう光遮断層を形成することができなかった。なぜなら
ば、対向基板41にブラックマトリックスを形成した場
合、アレイ基板11と対向基板41をはりあわせ、液晶溶液
を注入し紫外線を照射する際、紫外線がブラックマトリ
ックスで遮断されるためである。したがって、ブラック
マトリックスの下層の液晶溶液中の樹脂が重合せず、未
硬化のまま残ってしまう。また、ソース信号線にはたえ
ず液晶パネルに映像を表示するための信号が印加されて
いる。そのため、ソース信号線の近傍の液晶は前記信号
により配向・非配向の動作をたえず行なってしまう。前
記配向・非配向の動作は本来の映像表示とは関係のない
液晶の動きである。したがって、ブラックマトリックス
がないと表示コントラストが低下し、シャープさの欠け
た映像しか表示できない。本発明は前述の課題を解決す
る液晶パネルの製造方法を提供するものである。

課題を解決するための手段上記課題を解決するため、本発明の液晶パネルの製造
方法は、第１の平滑性のある部材と、第２の平滑性のあ
る部材と、液晶と未硬化の樹脂とを含有する液晶溶液を
準備し、前記第１の平滑性のある部材と第２の平滑性の
ある部材間に、前記液晶溶液を狭持させる第１の工程
と、前記液晶溶液からなる液晶溶液層を形成した後、前
記液晶溶液の樹脂を硬化させて高分子分散液晶層を形成
する第２の工程と、前記第２の平滑性のある部材を前記
高分子分散液晶層から剥離させる第３の工程をおこなう
ことを特徴とするものである。さらに、前記高分子分散
液晶層上に電極を形成する第４の工程をおこなうことを
特徴とするものである。

本発明の液晶パネルの製造方法は、アレイ基板と離形
性の良い基板に液晶溶液を配置した後、加圧して液晶溶
液を均一にし、液晶溶液の樹脂を硬化させて光変調層を
形成した後、離形性の良い基板材を前記光変調層から剥
離させるものである。

液晶溶液の樹脂を硬化させて形成する光変調層である
高分子分散液晶層は、固体である。したがって、樹脂が
硬化してしまえば、硬化時の形状が保持される。そのた
め、高分子分散液晶層はアレイ基板と対向基板間に狭持
させておく必要がない。

ツイストネマチック液晶などは液体であるため、アレ
イ基板と対向基板間に液晶を注入して液晶層を形成する
必要がある。この注入工程は長時間を必要とし、また、
製造不良が発生しやすい。

これに対して、本発明の液晶パネルの製造方法は、ア
レイ基板と離形性が良い基板間に液晶溶液を配置し、加
圧し、離形性の良い基板を光変調層から剥離させるだけ
で、容易に平滑性のある液晶層を形成できる。

実施例以下、図面を参照しながら、本発明の液晶パネルにつ
いて説明する。第１図（ａ）は本発明の液晶パネルの外
観図、第１図（ｂ）は第１図（ａ）のＡ−Ａ′線での断
面図である。また、第２図は本発明の液晶パネルの表示
領域の一部断面図である。第１図（ａ），（ｂ）および
第２図において、11はアレイ基板、12はソースドライブ
IC、13はゲートドライブIC、14はITOなどからなる対向
電極、15はSiO₂,SiN_xなどの絶縁物からなる保護膜、16
は映像の表示領域、19は対向電極に所定電圧を印加する
ための配線、17は対向電極14と配線19とを接続するため
の導電ペースト、18,21は液晶溶液が硬化したポリマ
ー、22はソース信号線、23はTFTに接続された画素電
極、25はソース信号線状に形成された絶縁物からなる突
起物（以後、絶縁体と呼ぶ）である。

ポリマー化の前の液晶溶液の液晶材料はネマチック液
晶，スメクチック液晶，コレステリック液晶が好まし
く、単一もしくは２種類以上の液晶性化合物や液晶性化
合物以外の物質も含んだ混合物であっても良い。樹脂材
料としては透明なポリマーが好ましく、熱可塑性樹脂，
熱硬化性樹脂，光硬化性樹脂のいずれであっても良い
が、先に述べたように製造工程の容易さ、液晶層との分
離等の点より紫外線硬化タイプの樹脂を用いるのが好ま
しい。具体的な例として、紫外線硬化性アクリル系樹脂
が例示され、特に紫外線照射によって重合硬化するアク
リルモノマー，アクリルオリゴマーを含有するものが好
ましい。また、紫外線を照射することによって、樹脂の
み重合反応を起こしてポリマーとなり、液晶のみ相分離
して、樹脂分と比較して液晶の量が少ない場合には独立
した粒子状の水滴状液晶が形成されるし、一方液晶の量
が多い場合は樹脂マトリクスが液晶材料中に粒子状また
はネットワーク状に存在し、液晶が連続層に成すように
形成される。この際に水滴状液晶の粒子径、もしくはポ
リマーネットワークの孔径がある程度均一で、なおかつ
大きさとしては0.1μｍ〜数μｍの範囲でなければ入射
光の分散性能力が悪く、コントラストが上がらない。こ
のためにも紫外線硬化樹脂のように短時間で硬化が終了
しうる材料でなければならない。

このような高分子形成性モノマーとしては２−エチル
ヘキルアクリレート,2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト，ネオペンチルグリコールジアクリレート，ヘキサン
ジオールジアクリレート，ジエチレングリコールアクリ
レート，トリプロピレングリコールジアクリレート，ポ
リエチレングリコールジアクリレート，トリメチロール
プロパントリアクリレート，ペンタエリスリトールトリ
アクリレート等々である。オリゴマーもしくはプレポリ
マーとしてはポリエステルアクリレート，エポキシアク
リレート，ポリウレタンアクリレート等が掲げられる。
また重合を速やかに行なうために重合開始剤を用いても
良く、この例として、２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−フェニルプロパン−１−オン（メルク社製「ダロキュ
ア1173」）,1−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒ
ドロキシ−メチルプロパン−１−オン（メルク社製「ダ
ロキュア1116」）,1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン（チバガイキー社製「イルガキュア184」），
ベンジルメチルケタール（チバガイキー社製「イルガキ
ュア651」）等が掲げられる。

液晶溶液中の液晶材料の割合はここでは規定しないが
一般には20％〜95％程度が良く、好ましくは50％前後程
度が良い。また、ソース信号線上のストライプ状の絶縁
体上に光遮断層を配する。遮断層に用いる物質として
は、クロム，酸化クロム，アルミニウム，チタンなどが
該当し、その膜厚は500Å〜2000Åである。また、絶縁
体の厚みは上下基板のギャップ間と等しく形成するた
め、数μｍ〜50μｍ、好ましくは数μｍ〜20μｍ程度が
良い。絶縁体の物質としては好ましくは有機化合物、と
くに感光性有機材料が製造方法上最も好ましい。その一
例として感光性ポリイミドがあげられる。

本発明に従えば、前記絶縁体を電極面側に均一に所定
の厚みにて全面に成膜する。この際の成膜の方法として
は塗布方式が簡便である。例えば、スピンナー，塗布，
ディップ塗布，ロール塗布，キャスト塗布等が掲げられ
るがここでは規定するものではない。また、ペースト17
の材料としては、銀ペーストなどが該当するが、導体線
を超音波にて対向電極14に誘着させて配線19と電気的に
接続をとってもよい。

以上の説明から明らかなように、本発明の液晶パネル
はアレイ基板11の少なくとも、ソース信号線上に絶縁体
が形成され、一方画素電極23上に高分子分散液晶層が形
成されており、前記液晶層上に対向電極14が形成された
ものである。なお、前記実施例では、絶縁体25上にブラ
ックマトリックス24を形成するとしたが、第３図に示す
ように絶縁体25上に対向電極14を形成し、前記対向電極
14の層上にブラックマトリックス24を形成してもよいこ
とは明らかである。

以下、図面と参照しながら、本発明の液晶パネルの製
造方法について説明する。第４図（ａ）〜（ｈ）は本発
明の液晶パネルの製造方法を説明するための説明図であ
る。第４図（ａ）〜（ｈ）において、11はアレイ基板、
50は対向電極、43は画素電極、42はソース信号線、44は
ポリマー、45は絶縁体、46はブラックマトリックスのた
めのクロム薄膜、47はガラス基板48上にコーティングさ
れたフッ素樹脂、49は液晶溶液である。

まず、アレイ基板41上に第４図（ｂ）に示すように感
光性有機材料を前述の技術により塗布する。なお、感光
性有機材料とは光の照射により、以下のような光化学反
応が起こる物質であり、以下の２種類に大別される。

（１）光照射により重合あるいは架橋反応が起こり分
子量が増大する。

（２）光照射により、分解反応が起こり分子量が減少
する。

このうち（１）のものをネガ型、（２）のものをポジ
型と以下では呼ぶことにする。ネガ型の材料としてはメ
チルメタクリレート，トリメチロールプロパントリメタ
クリレート，本発明の液晶溶液の樹脂材料として用いる
ことのできるアクリル系樹脂，ビニルピロリドン，不飽
和ポリエステル,1,2−ポリブタジエン等が掲げられる。
ネガ型の材料を用いる場合の製造方法としては、該ネガ
型材料を前記の手法により全面に成膜し、画素電極間の
みに光照射を行ない硬化させ、他の部分は洗い流し除去
する。さらに画素電極部のみマスクをして、蒸着法等に
より遮断層を形成すれば良い。一方、ポジ型の材料とし
ては例えば、ノボラック＋Ｏ−ナフトキノンジアジド
系，ジアゾ樹脂＋ポリアクリル酸アミド,P−ジアゾフェ
ニルアミン類とパラホルムアルデヒド縮合物等が掲げら
れる。このようなポジ型材料を用いる場合の製造方法と
しては、該ポジ型材料を前記手法により全面に成膜し、
さらにその上に光遮断層を成膜し、画素電極上の遮断層
を取り除いた後に光照射してさらに画素電極上の絶縁層
をアルカリ水溶液等により除去する。以上の工程後の状
態を第４図（ｃ）に示す。

以上の工程により、ソース信号線の上層にブラックマ
トリックスを形成できる。次に前記工程後のアレイ基板
11上に液晶溶液を塗布し、所定時間放置する。なお、液
晶溶液はあらかじめ脱泡しておく。また、液晶溶液の使
用材料としては前述のものを用いる。次にフッ素樹脂47
がコーティングされたガラス基板48を液晶溶液49上に重
ねる。この際、空気がはいりこまないように、アレイ基
板11端より除々に重ねていく。その時の状態を第４図
（ｄ）に示す。次にガラス基板48上から加圧する。その
方法としては、ガラス基板48端からソース信号線42に平
行に、つまりソース信号線42にそってローラなどで加圧
していく。すると余分な液晶溶液は押し出される。フッ
素樹脂47のコーティング面とブラックマトリックス46は
ほぼ密着する。

次に第４図（ｅ）に示すように、紫外線を照射し液晶
溶液49中の樹脂を重合させ硬化させる。以上のように樹
脂を重合させポリマー44化したのち、ガラス基板48を剥
離して取り除く。フッ素樹脂は離形性がよいため容易に
ポリマー44と剥離することができる。前記工程後の状態
を第４図（ｆ）に示す。前記工程後、ポリマー44上に表
示領域以外の不要部分が除去されるようにマスクを形成
する。次に、第４図（ｇ）に示すように前記マスク上か
らO₂アッシャーなどの技術により、表示領域以外のポリ
マー44を除去する。その後前記マスクをエッチングによ
り除去した後ITOを蒸着し、パターニングを行なって対
向電極50を形成する。前記工程後の状態を第４図（ｈ）
に示す。その後対向電極50の保護膜をS_iO₂またはS_iN_x等
により形成する。また必要に応じて対向電極50上にゲー
ト信号線上にもブラックマトリックスをクロム薄膜等に
より形成すればよい。次に第１図（ｂ）に示すように、
対向電極14上にSiO₂、SiN_xなどの絶縁物からなる保護薄
膜を形成する。前記薄膜は対向電極14のITO、ブラック
マトリックス24のクロム薄膜が空気にふれることを防止
し、劣化することを防止する。

なお、前述の製造方法の他に第９図（ａ），（ｂ）お
よび（ｃ）の工程後、光遮断膜46をエッチング等により
除去した後、第９図（ｄ）および第９図（ｅ）の工程を
行なう方法もある。次にポリマー44上にクロム薄膜など
を蒸着し、表示領域以外の不要な部分をパターニングに
よりクロム薄膜を取り除く。その後、O₂アッシャー等の
技術によりクロム薄膜等をマスクにして表示領域以外の
不要な部分のポリマー44を取り除く。なお、ここまでの
工程を便宜上、前工程と呼ぶ。さらに前記クロム薄膜を
ブラックマトリックスにパターニングした後に対向電極
50を形成する方法がある。また第３図に示すように、絶
縁体25上に対向電極14を形成し、前記対向電極14上にブ
ラックマトリックス24を形成する場合は、前工程後クロ
ム薄膜を除去してポリマー44上に対向電極を形成して、
その上にクロム薄膜を形成し、パターニングしてブラッ
クマトリックスを形成する。

また、本発明の実施例においては離形性の良いガラス
基板48を用いるとしたが、これに限定するものではな
く、例えば離形性のよいフィルムを用いてもよい。この
離形性のよいフィルムとは、シリコン樹脂フィルム，フ
ッ素樹脂フィルム，ポリエチレン，ポリプロピレンの如
きオレフィン系樹脂フィルム等が概当する。また、ガラ
ス基板34はフッ素樹脂をコーティングされたものとした
が、フッ素樹脂のみに限定するものではなく、シリコン
樹脂などをコーティングしたものであってもよく、また
ガラス基板は金属基板であってもよいことは言うまでも
ない。

また、本実施例においては液晶パネルはアクティブマ
トリクス液晶パネルで説明したが、これに限定するもの
ではなく、単純マトリクス液晶パネルであってもよい。

また、液晶溶液は紫外線硬化樹脂を主成分とするとし
たが、これに限定するものではなく、光透過性を有する
ものであれば、熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂を用い
てもよく、また、これらの樹脂を組み合せてもよい。

発明の効果本発明の液晶パネルの製造方法は、アレイ基板と離形
性が良い基板間に液晶溶液を配置し、加圧し、離形性の
良い基板を光変調層から剥離させるだけで、容易に平滑
性のある液晶層を形成する。したがって、ツイストネマ
チック液晶パネルの製造方法のように、液晶注入工程の
ような、複雑で、かつ製造不良が発生しやすい工程が不
要で、平滑性のある液晶層を簡単なプロセスで容易に形
成できる。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は液晶パネルの外観図および断面
図、第３図は液晶パネルの断面図、第４図は本発明の液
晶パネルの製造方法の説明図、第５図は従来の液晶パネ
ルの外観図、第６図は液晶パネルの等価回路図、第７図
は一画素の構成図、第８図は従来の液晶パネルの断面
図、第９図は従来の液晶パネルの製造方法の説明図であ
る。 11……アレイ基板、47……フッ素樹脂、12……ソースド
ライブIC、48……ガラス基板、13……ゲートドライブI
C、49……液晶溶液、14,82……対向電極、41,50……対
向電極、15……保護膜、52……封止樹脂、16……表示領
域、G_I〜G_m……ゲートゲート信号線、17……ペースト、
S_I〜S_m……ソース信号線、18,21,44……ポリマー、61…
…TFT、19……配線、62……付加容量、22,42……ソース
信号線、63……表示画素、23,43……画素電極、71……
ゲート信号線、24……ブラックマトリックス、72……TF
T形成部、25,45……絶縁体、81……ビーズ、46……光遮
断膜、91……封止樹脂。

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G02F 1/1333 G02F 1/1335 G02F 1/13

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】第１の平滑性のある部材と、第２の平滑性
のある部材と、液晶と未硬化の樹脂とを含有する液晶溶
液を準備し、前記第１の平滑性のある部材と第２の平滑性のある部材
間に、前記液晶溶液を狭持させる第１の工程と、前記液晶溶液からなる液晶溶液層を形成した後、前記液
晶溶液の樹脂を硬化させて高分子分散液晶層を形成する
第２の工程と、前記第２の平滑性のある部材を前記高分子分散液晶層か
ら剥離させる第３の工程をおこなうことを特徴とする液
晶パネルの製造方法。
【請求項２】第１の平滑性のある部材と、第２の平滑性
のある部材と、液晶と未硬化の樹脂とを含有する液晶溶
液を準備し、前記第１の平滑性のある部材と第２の平滑性のある部材
間に、前記液晶溶液を狭持させる第１の工程と、前記液晶溶液からなる液晶溶液層を形成した後、前記液
晶溶液の樹脂を硬化させて高分子分散液晶層を形成する
第２の工程と、前記第２の平滑性のある部材を前記高分子分散液晶層か
ら剥離させる第３の工程と、前記高分子分散液晶層上に電極を形成する第４の工程を
おこなうことを特徴とする液晶パネルの製造方法。
【請求項３】マトリックス状に画素電極が形成された第
１の基板と、離形性が良好でかつ平滑性のある部材と、
液晶と未硬化の樹脂とを含有する液晶溶液を準備し、前記第１の基板と前記平滑性のある部材間に、前記液晶
溶液を狭持させる第１の工程と、前記第１の基板または前記平滑性のある部材上から押圧
することにより前記液晶溶液を略均一の膜厚にした後、
前記液晶溶液の樹脂を硬化させて高分子分散液晶層を形
成する第２の工程と、前記平滑性のある部材を前記高分子分散液晶層から剥離
させる第３の工程と、前記高分子分散液晶層上に電極を形成する第４の工程
と、前記電極上に膜を形成または配置する第５の工程をおこ
なうことを特徴とする液晶パネルの製造方法。
【請求項４】マトリックス状に配置された画素電極と前
記画素電極に印加する信号を伝達する信号線とが形成さ
れた第１の基板と、平滑性のある部材と、液晶と未硬化
の樹脂とを含有する液晶溶液を準備し、前記第１の基板の信号線上に略ストライプ状の突起物を
形成する第１の工程と、前記第１の基板と前記平滑性のある部材間に、前記液晶
溶液を狭持させる第２の工程と、前記第１の基板または前記平滑性のある部材上から前記
ストライプ状突起物の長手方向に沿って押圧することに
より前記液晶溶液を略均一の膜厚にした後、前記液晶溶
液の樹脂を硬化させて高分子分散液晶層を形成する第３
の工程と、前記平滑性のある部材を前記高分子分散液晶層から剥離
させる第４の工程と、前記高分子分散液晶層上に電極を形成する第４の工程を
おこなうことを特徴とする液晶パネルの製造方法。