JP3105311B2 - 液晶電気光学装置およびその作製方法 - Google Patents
液晶電気光学装置およびその作製方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は高分子樹脂と液晶材料と
を組み合わせた液晶樹脂複合体または液晶材料中に樹脂
を散在させた液晶樹脂複合体を有する分散型の液晶電気
光学装置に関するものである。
を組み合わせた液晶樹脂複合体または液晶材料中に樹脂
を散在させた液晶樹脂複合体を有する分散型の液晶電気
光学装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の液晶電気光学装置はネマチック液
晶等を使用したＴＮ型やＳＴＮ型のものが広く知られ、
実用化されている。また、最近では強誘電性液晶を使用
したものも知られている。これらの液晶電気光学装置
は、基本的には基板上に電極及びリードを有する第１の
基板と基板上に電極とリードを有する第２の基板によっ
て、液晶組成物を挟持しており、前記基板上の電極によ
って、液晶組成物に電界を加え、液晶材料自身の誘電率
の異方性によって、または強誘電性液晶の場合は自発分
極によって、液晶分子の状態を変化させ、その結果液晶
分子の状態の変化に伴う電気光学効果を利用するもので
ある。
晶等を使用したＴＮ型やＳＴＮ型のものが広く知られ、
実用化されている。また、最近では強誘電性液晶を使用
したものも知られている。これらの液晶電気光学装置
は、基本的には基板上に電極及びリードを有する第１の
基板と基板上に電極とリードを有する第２の基板によっ
て、液晶組成物を挟持しており、前記基板上の電極によ
って、液晶組成物に電界を加え、液晶材料自身の誘電率
の異方性によって、または強誘電性液晶の場合は自発分
極によって、液晶分子の状態を変化させ、その結果液晶
分子の状態の変化に伴う電気光学効果を利用するもので
ある。
【０００３】ＴＮ、ＳＴＮ型の液晶電気光学装置におい
て、液晶分子は、液晶層の両基板接触面では配向処理の
ために行われるラビングによって規制力につられて、ラ
ビング方向に並ぶ。上下基板においては、このラビング
方向が９０゜または２００゜〜２９０゜に位置するよう
にずらせてある。液晶層の中間付近では、９０゜〜２９
０゜に位置する上下の分子の間をエネルギーが一番小さ
くなるように螺旋状に液晶分子が並ぶことになる。この
時、ＳＴＮ型の場合は必要に応じて液晶材料にカイラル
物質を混合している。
て、液晶分子は、液晶層の両基板接触面では配向処理の
ために行われるラビングによって規制力につられて、ラ
ビング方向に並ぶ。上下基板においては、このラビング
方向が９０゜または２００゜〜２９０゜に位置するよう
にずらせてある。液晶層の中間付近では、９０゜〜２９
０゜に位置する上下の分子の間をエネルギーが一番小さ
くなるように螺旋状に液晶分子が並ぶことになる。この
時、ＳＴＮ型の場合は必要に応じて液晶材料にカイラル
物質を混合している。
【０００４】これらの装置はいずれも偏光板を有しかつ
液晶分子を液晶電気光学装置内で一定の方向に規則正し
く配向させる必要があった。この配向処理は、配向膜
（通常は有機膜）を綿やベルベットの布で一定方向に擦
るというもので、この処理がなければ、一定方向に液晶
分子は配列せず、液晶の電気光学効果を利用することは
できない。そのため、装置の構造は、一対の基板によっ
て液晶材料を保持する容器を構成して、その容器内に液
晶を注入し、液晶を配向させてその光学的な効果を利用
していた。
液晶分子を液晶電気光学装置内で一定の方向に規則正し
く配向させる必要があった。この配向処理は、配向膜
（通常は有機膜）を綿やベルベットの布で一定方向に擦
るというもので、この処理がなければ、一定方向に液晶
分子は配列せず、液晶の電気光学効果を利用することは
できない。そのため、装置の構造は、一対の基板によっ
て液晶材料を保持する容器を構成して、その容器内に液
晶を注入し、液晶を配向させてその光学的な効果を利用
していた。
【０００５】一方、これらの偏光板や配向処理等を必要
とせず、画面の明るいコントラストのよい分散型液晶が
知られている。この分散型液晶とは透光性の固相ポリマ
ーが液晶材料を粒状または海面状に保持して調光層を構
成しているものである。またはこれとは逆に液晶材料中
に固相ポリマーを散在させ液晶材料を均一にランダム配
向させた構成を有しているものである。この液晶装置の
作製方法としては、カプセル化された液晶材料をポリマ
ー中に分散させ、そのポリマーをフィルムあるいは基板
上に薄膜として形成されたものが知られている。ここ
で、カプセル化材料してはアラビアゴム、ポリビニルア
ルコール、ゼラチン等が用いられている。
とせず、画面の明るいコントラストのよい分散型液晶が
知られている。この分散型液晶とは透光性の固相ポリマ
ーが液晶材料を粒状または海面状に保持して調光層を構
成しているものである。またはこれとは逆に液晶材料中
に固相ポリマーを散在させ液晶材料を均一にランダム配
向させた構成を有しているものである。この液晶装置の
作製方法としては、カプセル化された液晶材料をポリマ
ー中に分散させ、そのポリマーをフィルムあるいは基板
上に薄膜として形成されたものが知られている。ここ
で、カプセル化材料してはアラビアゴム、ポリビニルア
ルコール、ゼラチン等が用いられている。
【０００６】例えば、ポリビニルアルコールでカプセル
化された液晶分子は、それらが薄膜中で正の誘電異方性
を有するものであるならば電界の存在下でその液晶分子
が液晶分子の長軸を電界に平行になるように配列させ液
晶の屈折率と等しい場合には透明性が発現する。一方電
界がない場合には、液晶は特定の方向に配列せず様々な
方向を向いているので、液晶の屈折率がポリマーの屈折
率との差が大きいために光は散乱され光の透過を妨げ、
白濁状態になる。このような透明性と白濁状態との差を
利用して、各種情報を提供するものである。 分散型液
晶としてはこのようなカプセル化されたもの以外にも液
晶材料がエポキシ樹脂内に分散されたものや、液晶と光
硬化型の樹脂とを混合し、樹脂硬化の為の光を照射し
て、液晶と樹脂との相分離を利用したもの、３次元につ
ながったポリマーの中に液晶を含侵させたものなどが知
られている。本発明においてはこれらを総称して分散型
液晶と呼ぶ。
化された液晶分子は、それらが薄膜中で正の誘電異方性
を有するものであるならば電界の存在下でその液晶分子
が液晶分子の長軸を電界に平行になるように配列させ液
晶の屈折率と等しい場合には透明性が発現する。一方電
界がない場合には、液晶は特定の方向に配列せず様々な
方向を向いているので、液晶の屈折率がポリマーの屈折
率との差が大きいために光は散乱され光の透過を妨げ、
白濁状態になる。このような透明性と白濁状態との差を
利用して、各種情報を提供するものである。 分散型液
晶としてはこのようなカプセル化されたもの以外にも液
晶材料がエポキシ樹脂内に分散されたものや、液晶と光
硬化型の樹脂とを混合し、樹脂硬化の為の光を照射し
て、液晶と樹脂との相分離を利用したもの、３次元につ
ながったポリマーの中に液晶を含侵させたものなどが知
られている。本発明においてはこれらを総称して分散型
液晶と呼ぶ。
【０００７】これらの分散型液晶電気光学装置は、従来
のＴＮ、ＳＴＮ等の電気光学装置に比して偏光板を使用
しないために液晶電気光学装置の光の透過率は格段に高
い。具体的には偏光板一枚の透過率は約５０％であり、
それを組み合わせて使うアクティブマトリクスの場合１
％程度の光しか透過しない、ＳＴＮ系では２０％程度で
あり、そのためこれらの場合は後部照明の照度を高め画
面を明るくする努力をしている。一方、分散型液晶電気
光学装置の場合５０％以上の光が透過する。これは一重
に分散型液晶装置が偏光板を必要としないことによる、
優位性である。
のＴＮ、ＳＴＮ等の電気光学装置に比して偏光板を使用
しないために液晶電気光学装置の光の透過率は格段に高
い。具体的には偏光板一枚の透過率は約５０％であり、
それを組み合わせて使うアクティブマトリクスの場合１
％程度の光しか透過しない、ＳＴＮ系では２０％程度で
あり、そのためこれらの場合は後部照明の照度を高め画
面を明るくする努力をしている。一方、分散型液晶電気
光学装置の場合５０％以上の光が透過する。これは一重
に分散型液晶装置が偏光板を必要としないことによる、
優位性である。
【０００８】前述のように分散型液晶は透明状態と白濁
状態との間で使用し、液晶電気光学装置を透過する光の
量が多いので、通常は透過型の液晶電気光学装置として
研究開発がなされている。特に、透過型の中でも、投影
型の液晶電気光学装置として、開発されている。この投
影型の液晶電気光学装置とは液晶電気光学装置パネルを
光源から発せられる光の光路上に配置させ、パネルに通
過してきた光を一定の角度を有したスリットを通して壁
面上に投影するものである。このパネルの液晶は、印加
電圧に応答しない閾値以下の低電界領域では様々な方向
に向いており、白濁状態となっている。
状態との間で使用し、液晶電気光学装置を透過する光の
量が多いので、通常は透過型の液晶電気光学装置として
研究開発がなされている。特に、透過型の中でも、投影
型の液晶電気光学装置として、開発されている。この投
影型の液晶電気光学装置とは液晶電気光学装置パネルを
光源から発せられる光の光路上に配置させ、パネルに通
過してきた光を一定の角度を有したスリットを通して壁
面上に投影するものである。このパネルの液晶は、印加
電圧に応答しない閾値以下の低電界領域では様々な方向
に向いており、白濁状態となっている。
【０００９】この時に入射してきた光はパネル通過後に
散乱され、入射してきた光の光路を大きく広げることに
なる。そしてその次に配置されたスリットで散乱された
光をカットしてしまうために壁面上にはほとんど光が達
せずに黒状態が得られる。一方、電界印加時で液晶が応
答し電界方向に対して液晶分子が平行に配列するときに
は入射してきた光は散乱することなく直進し、壁面上に
は高輝度の明状態が得られる。
散乱され、入射してきた光の光路を大きく広げることに
なる。そしてその次に配置されたスリットで散乱された
光をカットしてしまうために壁面上にはほとんど光が達
せずに黒状態が得られる。一方、電界印加時で液晶が応
答し電界方向に対して液晶分子が平行に配列するときに
は入射してきた光は散乱することなく直進し、壁面上に
は高輝度の明状態が得られる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】このような分散型の液
晶電気光学装置においては、液晶材料の配向の状態の変
化に基づく光の散乱の程度によって、表示のコントラス
トが決定される為、装置内で液晶材料を微小な液滴にす
る必要がある。この液滴の寸法は最大で１０μｍ最小で
０．０５μｍ程度であり、通常は０．３〜３μｍ程度で
ある。
晶電気光学装置においては、液晶材料の配向の状態の変
化に基づく光の散乱の程度によって、表示のコントラス
トが決定される為、装置内で液晶材料を微小な液滴にす
る必要がある。この液滴の寸法は最大で１０μｍ最小で
０．０５μｍ程度であり、通常は０．３〜３μｍ程度で
ある。
【００１１】分散型液晶電気光学装置ではこの微小な液
滴による光の散乱と直進とを利用するため、液晶電気光
学装置全体にわたって均一な大きさの液滴を形成する必
要がある。しかしながら、このように微小な寸法の液晶
滴を液晶電気光学装置用の基板全面に均一に形成するこ
とは非常に困難であった。すなわち、液晶の微小滴を形
成する方法としては、液晶材料と樹脂材料とを混合し
て、樹脂材料を固める相分離型や液相での反応などによ
り、カプセル化する等の方法が主であり、いずれも樹脂
材料の硬化特性等に左右されるものであり、均一な寸法
に形成することは困難であった。
滴による光の散乱と直進とを利用するため、液晶電気光
学装置全体にわたって均一な大きさの液滴を形成する必
要がある。しかしながら、このように微小な寸法の液晶
滴を液晶電気光学装置用の基板全面に均一に形成するこ
とは非常に困難であった。すなわち、液晶の微小滴を形
成する方法としては、液晶材料と樹脂材料とを混合し
て、樹脂材料を固める相分離型や液相での反応などによ
り、カプセル化する等の方法が主であり、いずれも樹脂
材料の硬化特性等に左右されるものであり、均一な寸法
に形成することは困難であった。
【００１２】
【問題を解決するための手段】本発明は上記のような問
題を解決するものであり、工業的に安価で容易な方法に
より、微小で均一な液晶滴を形成する方法および其を実
現する新規な液晶電気光学装置を提案するものでありま
す。すなわち、本発明の液晶電気光学装置は調光層部分
において、液晶材料と透明支持体とを別々に層状に複数
層積層して形成された構成を有することを特徴とする。
このように複数層の液晶層を有することにより、透明樹
脂中に液晶材料を分散させて、微小な液晶滴を持つ分散
型の液晶電気光学装置と同じ機能をもつことができる。
題を解決するものであり、工業的に安価で容易な方法に
より、微小で均一な液晶滴を形成する方法および其を実
現する新規な液晶電気光学装置を提案するものでありま
す。すなわち、本発明の液晶電気光学装置は調光層部分
において、液晶材料と透明支持体とを別々に層状に複数
層積層して形成された構成を有することを特徴とする。
このように複数層の液晶層を有することにより、透明樹
脂中に液晶材料を分散させて、微小な液晶滴を持つ分散
型の液晶電気光学装置と同じ機能をもつことができる。
【００１３】図１に本発明の液晶電気光学装置の概略断
面図を示す。基板１上の電極２の上に液晶層３、５およ
び７と透明支持体層４、６および８とが交互に積層して
形成されて、調光層を構成している。図では液晶層と透
明支持体層との厚みを同じ間隔で表現しているが、特に
同じである必要はなく、必要とする特性にあわせて、液
晶層の厚みと透明支持体層の厚みを調整して形成する。
面図を示す。基板１上の電極２の上に液晶層３、５およ
び７と透明支持体層４、６および８とが交互に積層して
形成されて、調光層を構成している。図では液晶層と透
明支持体層との厚みを同じ間隔で表現しているが、特に
同じである必要はなく、必要とする特性にあわせて、液
晶層の厚みと透明支持体層の厚みを調整して形成する。
【００１４】この液晶層の厚みとしては、０．３〜５μ
ｍの範囲であり、好ましくは０．５〜３μｍの厚みの範
囲とした際に、液晶電気光学装置に入射してきた光を十
分に散乱させることができる。本発明の液晶電気光学装
置は従来の分散型の液晶電気光学装置とは違い、光を散
乱させるのに都合のよい液晶部分の作製を微小な液晶滴
を作製するのではなく、液晶層の厚みを調整することに
より実現できる。この液晶層の厚みは液晶滴を微小に均
一に形成するのに要する努力に比べて、非常に容易に制
御でき、大面積の基板上に均一に形成することができ
る。
ｍの範囲であり、好ましくは０．５〜３μｍの厚みの範
囲とした際に、液晶電気光学装置に入射してきた光を十
分に散乱させることができる。本発明の液晶電気光学装
置は従来の分散型の液晶電気光学装置とは違い、光を散
乱させるのに都合のよい液晶部分の作製を微小な液晶滴
を作製するのではなく、液晶層の厚みを調整することに
より実現できる。この液晶層の厚みは液晶滴を微小に均
一に形成するのに要する努力に比べて、非常に容易に制
御でき、大面積の基板上に均一に形成することができ
る。
【００１５】さらに、本発明の構成をとることにより、
液晶層は透明支持体層で分離されるために、異なった種
類の液晶材料を一つの液晶電気光学装置に使用すること
が可能となる。ここでいう、異なった種類の液晶材料と
は、例えば、ネマチック液晶とスメクチック液晶という
ように、その物理的な特性が異なり、液晶材料のとる安
定な配向の仕方が全く異なる材料の場合や同じネマチッ
ク液晶であっても、駆動閾値の異なる液晶材料同士の場
合あるいはこれらの組み合わせの場合のことをいう。
液晶層は透明支持体層で分離されるために、異なった種
類の液晶材料を一つの液晶電気光学装置に使用すること
が可能となる。ここでいう、異なった種類の液晶材料と
は、例えば、ネマチック液晶とスメクチック液晶という
ように、その物理的な特性が異なり、液晶材料のとる安
定な配向の仕方が全く異なる材料の場合や同じネマチッ
ク液晶であっても、駆動閾値の異なる液晶材料同士の場
合あるいはこれらの組み合わせの場合のことをいう。
【００１６】本発明の液晶電気光学装置あるいは従来よ
り知られた分散型の液晶電気光学装置の場合、液晶材料
を配向させる処理は通常行わない、しかしながら、液晶
材料の特性として、内部のエネルギーの低い安定な状態
に系全体がなろうとするため、ある状態に液晶分子は配
向しようとする傾向がある。そのため、液晶分子がラン
ダムに配向しているように見えても、実は一定の癖を持
っている。そのため光の散乱も十分でない場合があっ
た。このような時に異なった種類の液晶材料、例えばネ
マチック液晶層とスメクチック液晶層とを使用すること
により、液晶材料特有の癖も異なるので、十分な光の散
乱を実現できるという効果を発揮できる。
り知られた分散型の液晶電気光学装置の場合、液晶材料
を配向させる処理は通常行わない、しかしながら、液晶
材料の特性として、内部のエネルギーの低い安定な状態
に系全体がなろうとするため、ある状態に液晶分子は配
向しようとする傾向がある。そのため、液晶分子がラン
ダムに配向しているように見えても、実は一定の癖を持
っている。そのため光の散乱も十分でない場合があっ
た。このような時に異なった種類の液晶材料、例えばネ
マチック液晶層とスメクチック液晶層とを使用すること
により、液晶材料特有の癖も異なるので、十分な光の散
乱を実現できるという効果を発揮できる。
【００１７】また、駆動閾値電圧の異なる液晶材料を使
用した場合は、ある電圧を液晶電気光学装置の電極間に
印加した際に光を散乱させずに直進させる液晶層と散乱
させる液晶層とが一つの液晶電気光学装置に存在するの
で、この駆動電圧閾値の違いを利用して、光の散乱の程
度を変化でき、階調が可能となる特徴を有する。
用した場合は、ある電圧を液晶電気光学装置の電極間に
印加した際に光を散乱させずに直進させる液晶層と散乱
させる液晶層とが一つの液晶電気光学装置に存在するの
で、この駆動電圧閾値の違いを利用して、光の散乱の程
度を変化でき、階調が可能となる特徴を有する。
【００１８】本発明の別の発明として、調光層の構成と
して、液晶材料と透明支持体とを混合しした層を複数層
積層して構成の液晶電気光学装置を提案する。この場
合、従来の分散型の液晶電気光学装置に一部、似た構成
であるが、この混合物層を複数層積層して、調光層全体
を構成することで大きな違いがある。すなわち、個々の
層の厚みを前述の発明と同様に０．３〜５μｍの範囲、
好ましくは０．５〜３μｍの厚みに任意にその形成する
厚みを制御することにより、容易に実現でき、光を散乱
させるのに都合のよい液晶部分の作製を微小な液晶滴を
作製するのではなく、液晶層の厚みを調整することによ
り実現できる。この液晶層の厚みは液晶滴を微小に均一
に形成するのに要する努力に比べて、非常に容易に制御
でき、大面積の基板上に均一に形成することができる。
して、液晶材料と透明支持体とを混合しした層を複数層
積層して構成の液晶電気光学装置を提案する。この場
合、従来の分散型の液晶電気光学装置に一部、似た構成
であるが、この混合物層を複数層積層して、調光層全体
を構成することで大きな違いがある。すなわち、個々の
層の厚みを前述の発明と同様に０．３〜５μｍの範囲、
好ましくは０．５〜３μｍの厚みに任意にその形成する
厚みを制御することにより、容易に実現でき、光を散乱
させるのに都合のよい液晶部分の作製を微小な液晶滴を
作製するのではなく、液晶層の厚みを調整することによ
り実現できる。この液晶層の厚みは液晶滴を微小に均一
に形成するのに要する努力に比べて、非常に容易に制御
でき、大面積の基板上に均一に形成することができる。
【００１９】図２にこの発明の液晶電気光学装置の概略
断面図を示す。図において、基板１上の電極２と基板１
０上の電極９との間に１１、１２および１３で構成され
る調光層が形成されている。この調光層は液晶材料と透
明支持体との混合物層１１、１２および１３を積層して
形成することにより、構成されている。ここで、透明支
持体と混合する液晶材料の種類を異なる種類の液晶材料
とした際には、先の発明の場合と同様に、十分な光の散
乱や、階調等を行うことができる。また、先の発明とは
異なり、子の場合は各混合層中において、液晶材料は分
散しているため、より光を散乱することができる特徴を
持つ。
断面図を示す。図において、基板１上の電極２と基板１
０上の電極９との間に１１、１２および１３で構成され
る調光層が形成されている。この調光層は液晶材料と透
明支持体との混合物層１１、１２および１３を積層して
形成することにより、構成されている。ここで、透明支
持体と混合する液晶材料の種類を異なる種類の液晶材料
とした際には、先の発明の場合と同様に、十分な光の散
乱や、階調等を行うことができる。また、先の発明とは
異なり、子の場合は各混合層中において、液晶材料は分
散しているため、より光を散乱することができる特徴を
持つ。
【００２０】このよう新規な構造を持つ液晶電気光学装
置を実現する方法として、複数の新規な作製方法を提案
することができる。その一つは、液晶材料層と透明支持
体層とを交互に積層してゆき所定の構想の調光層となっ
た時に全体の透明支持体部を硬化させて、調光層を完成
させる方法である。この方法は最も単純でコスト低い作
製方法である。
置を実現する方法として、複数の新規な作製方法を提案
することができる。その一つは、液晶材料層と透明支持
体層とを交互に積層してゆき所定の構想の調光層となっ
た時に全体の透明支持体部を硬化させて、調光層を完成
させる方法である。この方法は最も単純でコスト低い作
製方法である。
【００２１】次の方法は電極上に液晶層と透明支持体層
とを積層形成した後に透明支持体層を硬化、その後に、
再度液晶層と透明支持体層とを積層形成した後に透明支
持体層を硬化、あるいは液晶材料と透明支持体材料とを
混合した層を電極上に形成した後に透明支持体材料を硬
化し、再度液晶材料と透明支持体材料とを混合した層を
この上に形成した後に透明支持体材料を硬化するように
液晶層と透明支持体層あるいは液晶材料と透明支持体材
料の混合層を一つの単位として、一つの単位を形成、硬
化した後にその上に次の単位を形成し硬化してゆくこと
により、所定の調光層を形成して本発明の構成を実現す
る方法である。
とを積層形成した後に透明支持体層を硬化、その後に、
再度液晶層と透明支持体層とを積層形成した後に透明支
持体層を硬化、あるいは液晶材料と透明支持体材料とを
混合した層を電極上に形成した後に透明支持体材料を硬
化し、再度液晶材料と透明支持体材料とを混合した層を
この上に形成した後に透明支持体材料を硬化するように
液晶層と透明支持体層あるいは液晶材料と透明支持体材
料の混合層を一つの単位として、一つの単位を形成、硬
化した後にその上に次の単位を形成し硬化してゆくこと
により、所定の調光層を形成して本発明の構成を実現す
る方法である。
【００２２】このような作製方法の場合、一つの単位毎
に透明支持体を硬化させてゆくので、異なる特性、異な
る種類の液晶材料を混合することなく、液晶電気光学装
置に使用することができる。これにより、前述のような
十分な光の散乱や階調を可能とすることができる。ここ
で、調光層を構成する液晶層、透明支持体層または液晶
材料と透明支持体材料との混合層の形成手段、方法につ
いて説明する。
に透明支持体を硬化させてゆくので、異なる特性、異な
る種類の液晶材料を混合することなく、液晶電気光学装
置に使用することができる。これにより、前述のような
十分な光の散乱や階調を可能とすることができる。ここ
で、調光層を構成する液晶層、透明支持体層または液晶
材料と透明支持体材料との混合層の形成手段、方法につ
いて説明する。
【００２３】本発明で使用可能なこれらの形成方法とし
ては、印刷法がある、これらの材料は通常は液体または
粘度の低いペースト状態であるので、スクリーン印刷
法、凸版印刷法、グラビア印刷法等が容易に採用でき
る。この場合、印刷条件を変更することにより、容易に
これら層の厚みを制御でき、しかも大面積の基板上に形
成することができる。
ては、印刷法がある、これらの材料は通常は液体または
粘度の低いペースト状態であるので、スクリーン印刷
法、凸版印刷法、グラビア印刷法等が容易に採用でき
る。この場合、印刷条件を変更することにより、容易に
これら層の厚みを制御でき、しかも大面積の基板上に形
成することができる。
【００２４】その他の方法として、ロールコート、スピ
ンコート、ディップといった溶液塗布の手法やスパッタ
リング法、蒸着法、レーザ昇華法といった物理的な薄膜
形成手法を採用することができる。特に物理的な薄膜形
成手法を採用した場合、より精密な膜厚制御が可能で、
層の積層回数を増すことができ、より光を散乱させるこ
とができる特徴を持つ。さらにこの場合、透明支持体と
して、溶液状態ではなく固体上の樹脂材料も採用でき、
材料選択の幅をを広くすることができる。
ンコート、ディップといった溶液塗布の手法やスパッタ
リング法、蒸着法、レーザ昇華法といった物理的な薄膜
形成手法を採用することができる。特に物理的な薄膜形
成手法を採用した場合、より精密な膜厚制御が可能で、
層の積層回数を増すことができ、より光を散乱させるこ
とができる特徴を持つ。さらにこの場合、透明支持体と
して、溶液状態ではなく固体上の樹脂材料も採用でき、
材料選択の幅をを広くすることができる。
【００２５】溶液塗布法や印刷法の場合、液晶材料や透
明支持体材料の粘度を調整して、形成される膜の厚みを
制御し易くすることや、これら材料中に沸点の低いアル
コール等を加えて、溶液の粘度を下げることで、任意の
膜厚を実現することが可能となる。
明支持体材料の粘度を調整して、形成される膜の厚みを
制御し易くすることや、これら材料中に沸点の低いアル
コール等を加えて、溶液の粘度を下げることで、任意の
膜厚を実現することが可能となる。
【００２６】加えて、印刷法の場合、層を印刷転写した
後はその表面が微小な凹凸を持っている。通常の印刷で
はこの凹凸を無くするためにレベリングの為の時間を設
けるが、本発明ではこの凹凸をなくすのではなく、逆に
そのまま残し、利用する。すなわち、層と層の界面を凹
凸化する。この凹凸によっても、光がより散乱されるこ
とになる。特にこの凹凸化はスクリーン印刷にて形成し
た際に顕著な凹凸を実現することができた。
後はその表面が微小な凹凸を持っている。通常の印刷で
はこの凹凸を無くするためにレベリングの為の時間を設
けるが、本発明ではこの凹凸をなくすのではなく、逆に
そのまま残し、利用する。すなわち、層と層の界面を凹
凸化する。この凹凸によっても、光がより散乱されるこ
とになる。特にこの凹凸化はスクリーン印刷にて形成し
た際に顕著な凹凸を実現することができた。
【００２７】図１においては説明の為に概略図を用いた
ものであり、当然ながらこの図面の記載の形状寸法が実
物と同じわけではない。また、図１では電極２、９のみ
を基板上に設けた液晶電気光学装置の概略図を示した
が、一方の基板上に電極を形成すると同時に、金属と絶
縁膜と金属層を積層したＭ−Ｉ−Ｍ型の非線形素子を形
成することができたり、薄膜トランジスタを形成するこ
ともでき、アクティブ型の液晶電気光学装置とすること
もできる。
ものであり、当然ながらこの図面の記載の形状寸法が実
物と同じわけではない。また、図１では電極２、９のみ
を基板上に設けた液晶電気光学装置の概略図を示した
が、一方の基板上に電極を形成すると同時に、金属と絶
縁膜と金属層を積層したＭ−Ｉ−Ｍ型の非線形素子を形
成することができたり、薄膜トランジスタを形成するこ
ともでき、アクティブ型の液晶電気光学装置とすること
もできる。
【００２８】通常、分散型液晶の電界印加時の透過強度
特性の急峻性は、良くなく、多数の電極を有したマトリ
クス駆動を分散型液晶に直接行うことは難しい。従っ
て、非線形素子や薄膜トランジスタを設けて駆動を助け
てやる方がよい。その結果液晶側の急峻性が不足すると
ころを補うことが出来る。つまりマトリクス駆動をしな
がら各画素を独立に散乱状態と透過状態を作り出すこと
ができる。
特性の急峻性は、良くなく、多数の電極を有したマトリ
クス駆動を分散型液晶に直接行うことは難しい。従っ
て、非線形素子や薄膜トランジスタを設けて駆動を助け
てやる方がよい。その結果液晶側の急峻性が不足すると
ころを補うことが出来る。つまりマトリクス駆動をしな
がら各画素を独立に散乱状態と透過状態を作り出すこと
ができる。
【００２９】本発明の液晶電気光学装置において、使用
する液晶材料として、ネマチック、スメクチック、コレ
ステリック等の一般によく使用される液晶を使用でき
る。また、前述の説明においては、透明支持体とは全て
の波長の光に対して透明である必要はなく、液晶電気光
学装置が使用する波長の光に対して少なくとも５０％以
上の透過率を持つ材料であれば、当然使用することがで
きる。さらにこの支持体は樹脂である必要はなく、無機
物またはその他の有機物あるいは天然物でも、液晶を支
持できるものであれば使用可能である。以下に実施例を
示し、本発明を説明する。
する液晶材料として、ネマチック、スメクチック、コレ
ステリック等の一般によく使用される液晶を使用でき
る。また、前述の説明においては、透明支持体とは全て
の波長の光に対して透明である必要はなく、液晶電気光
学装置が使用する波長の光に対して少なくとも５０％以
上の透過率を持つ材料であれば、当然使用することがで
きる。さらにこの支持体は樹脂である必要はなく、無機
物またはその他の有機物あるいは天然物でも、液晶を支
持できるものであれば使用可能である。以下に実施例を
示し、本発明を説明する。
【００３０】
【実施例】『実施例１』本実施例の液晶電気光学装置の
概略作製工程を図３（Ａ）〜（Ｃ）および図４（Ａ）な
らびに（Ｂ）に示す。図３のように、第１の基板（１）
上に公知の蒸着法やスパッタ法にて、透光性の導電膜で
あるインジウムと錫の酸化物（２）（Ｉｎｄｉｕｍｅ−
Ｔｉｎ−Ｏｘｙｄｅ：ＩＴＯ）を５００から２０００Å
の厚さに形成した。この時のシート抵抗は２０から２０
０Ω／ｃｍ２であった。
概略作製工程を図３（Ａ）〜（Ｃ）および図４（Ａ）な
らびに（Ｂ）に示す。図３のように、第１の基板（１）
上に公知の蒸着法やスパッタ法にて、透光性の導電膜で
あるインジウムと錫の酸化物（２）（Ｉｎｄｉｕｍｅ−
Ｔｉｎ−Ｏｘｙｄｅ：ＩＴＯ）を５００から２０００Å
の厚さに形成した。この時のシート抵抗は２０から２０
０Ω／ｃｍ２であった。
【００３１】この電極上に厚み約２μｍの液晶層（３）
と厚み約１μｍの支持体層（４）を形成した。このとき
層形成にはスクリーン印刷法を使用し、スクリーン印刷
による層形成後、表面の凹凸のレベリングの時間を設け
ずに、紫外光を基板全面に照射して、表面の凹凸形状が
残った状態で透明支持体（４）を硬化し、図３（Ａ）の
状態を得た。
と厚み約１μｍの支持体層（４）を形成した。このとき
層形成にはスクリーン印刷法を使用し、スクリーン印刷
による層形成後、表面の凹凸のレベリングの時間を設け
ずに、紫外光を基板全面に照射して、表面の凹凸形状が
残った状態で透明支持体（４）を硬化し、図３（Ａ）の
状態を得た。
【００３２】次に、全く同様にして液晶層（５）と透明
支持体（６）を、さらには液晶層（７）と透明支持体
（８）を形成した。最後の透明支持体（８）を硬化する
前に、第２の電極（９）付き基板（１０）を透明支持体
（８）の上に置き紫外光を照射して、基板も同時に張り
合わせて、図４（Ａ）の状態を得る。
支持体（６）を、さらには液晶層（７）と透明支持体
（８）を形成した。最後の透明支持体（８）を硬化する
前に、第２の電極（９）付き基板（１０）を透明支持体
（８）の上に置き紫外光を照射して、基板も同時に張り
合わせて、図４（Ａ）の状態を得る。
【００３３】この際に使用した液晶としては、屈折率が
１．５８２、Δｎが０．２４０のシアノビフェニルネマ
チック液晶を使用し、２μｍの厚みの形成を容易にする
ため印刷機の周囲の雰囲気温度を室温より１０〜３０
℃、本実施例では２０℃あげて、液晶材料の粘度を低下
させて、形成した。また、透明支持体としては光硬化性
樹脂を用い、屈折率が１．５７３のウレタン系オリゴマ
ーとアクリル系モノマーの混合系を使用した。紫外光の
照射条件は約１０から１００ｍＷ／ｃｍ２のＵＶ照射強
度で約３０〜３００秒間紫外光照射し、透明支持体を硬
化させた。
１．５８２、Δｎが０．２４０のシアノビフェニルネマ
チック液晶を使用し、２μｍの厚みの形成を容易にする
ため印刷機の周囲の雰囲気温度を室温より１０〜３０
℃、本実施例では２０℃あげて、液晶材料の粘度を低下
させて、形成した。また、透明支持体としては光硬化性
樹脂を用い、屈折率が１．５７３のウレタン系オリゴマ
ーとアクリル系モノマーの混合系を使用した。紫外光の
照射条件は約１０から１００ｍＷ／ｃｍ２のＵＶ照射強
度で約３０〜３００秒間紫外光照射し、透明支持体を硬
化させた。
【００３４】次にこの調光層の周囲と上下の基板間に透
明支持体とおなじ樹脂を形成塗布した後、同様の硬化条
件で紫外光を照射して、調光層周囲の封止と基板の貼り
合わせを行い図４（Ｂ）の状態の液晶電気光学装置を完
成した。
明支持体とおなじ樹脂を形成塗布した後、同様の硬化条
件で紫外光を照射して、調光層周囲の封止と基板の貼り
合わせを行い図４（Ｂ）の状態の液晶電気光学装置を完
成した。
【００３５】本実施例の液晶電気光学装置の特性を比較
する為、従来の相分離型の分散型の液晶電気光学装置と
本実施例と同様の構成を持ち、その作製段階で透明支持
体層の表面の凹凸をレベリングさせた場合の液晶電気光
学装置とを比較した。本実施例の液晶電気光学装置の場
合、閾値である３．４ボルト以下の電圧を印可した場
合、その透明率は、０．１〜３％あった。さらに１５ボ
ルトの電圧を印加すると最大透明率７５から８５％を実
現した。また加える電圧値を変化させることにより１６
階調を達成した。ここでいう、透明率とは、本実施例の
液晶電気光学装置を投影型の液晶電気光学装置と同様に
して使用し、投影面上の輝度を測定してその値を代用し
て示している。この時、光源と投影面の間の光路中に液
晶パネルを置かない状態で投影面の輝度を透明率１００
％としている。
する為、従来の相分離型の分散型の液晶電気光学装置と
本実施例と同様の構成を持ち、その作製段階で透明支持
体層の表面の凹凸をレベリングさせた場合の液晶電気光
学装置とを比較した。本実施例の液晶電気光学装置の場
合、閾値である３．４ボルト以下の電圧を印可した場
合、その透明率は、０．１〜３％あった。さらに１５ボ
ルトの電圧を印加すると最大透明率７５から８５％を実
現した。また加える電圧値を変化させることにより１６
階調を達成した。ここでいう、透明率とは、本実施例の
液晶電気光学装置を投影型の液晶電気光学装置と同様に
して使用し、投影面上の輝度を測定してその値を代用し
て示している。この時、光源と投影面の間の光路中に液
晶パネルを置かない状態で投影面の輝度を透明率１００
％としている。
【００３６】一方、従来の液晶電気光学装置の場合は閾
値以下の電圧印可の場合は透明率が２〜１０％であり、
閾値以上の電圧印可のさいには最大透明率７５〜８５％
をえることができ、本実施例と同様の構成を持つが凹凸
化されていない液晶電気光学装置の場合は閾値以下の電
圧印可の場合は同様に２〜１０％であった。このように
本実施例のように作製工程の際に透明支持体表面を凹凸
化した場合液晶分子の動かない状態での光りの散乱の程
度が大きくすることができ、十分な表示コントラストを
実現することができる。
値以下の電圧印可の場合は透明率が２〜１０％であり、
閾値以上の電圧印可のさいには最大透明率７５〜８５％
をえることができ、本実施例と同様の構成を持つが凹凸
化されていない液晶電気光学装置の場合は閾値以下の電
圧印可の場合は同様に２〜１０％であった。このように
本実施例のように作製工程の際に透明支持体表面を凹凸
化した場合液晶分子の動かない状態での光りの散乱の程
度が大きくすることができ、十分な表示コントラストを
実現することができる。
【００３７】『実施例２』 本実施例では図２の構成を
持つ本発明の液晶電気光学装置を作製する。図２の構成
は、液晶材料と透明支持体とが混合された調光層を複数
層形成することにより、作製される。その作製工程とし
ては、実施例１の場合と同様に厚さ２．５μｍの混合層
（１１）を第１の基板（１）の電極（２）上にスクリー
ン印刷技術により形成する。この後、同様に紫外光を照
射してこの混合層（１１）を形成する。
持つ本発明の液晶電気光学装置を作製する。図２の構成
は、液晶材料と透明支持体とが混合された調光層を複数
層形成することにより、作製される。その作製工程とし
ては、実施例１の場合と同様に厚さ２．５μｍの混合層
（１１）を第１の基板（１）の電極（２）上にスクリー
ン印刷技術により形成する。この後、同様に紫外光を照
射してこの混合層（１１）を形成する。
【００３８】次に此の混合層（１１）の上に同様にし
て、混合層（１２）、（１３）を印刷し硬化して形成す
る。最後の混合層（１３）を硬化する前に、第２の基板
（１０）を混合層上に置き、紫外光を照射して、混合層
の硬化と基板との貼り合わせを同時に行う。この時、実
施例１と同様に表面の凹凸化を行ってもよい。
て、混合層（１２）、（１３）を印刷し硬化して形成す
る。最後の混合層（１３）を硬化する前に、第２の基板
（１０）を混合層上に置き、紫外光を照射して、混合層
の硬化と基板との貼り合わせを同時に行う。この時、実
施例１と同様に表面の凹凸化を行ってもよい。
【００３９】本実施例で使用した液晶としては、屈折率
が１．５８２、Δｎが０．２４０のシアノビフェニルネ
マチック液晶、光硬化性樹脂として、屈折率が１．５７
３のウレタン系オリゴマーとアクリル系モノマーの混合
系を使用し、これらを混合物として基板上に印刷形成し
た。この時の混合割合は本実施例では液晶：モノマーの
重量比は６５：３５の割合で混合し、この混合比の場合
のネマチック−等方相（Ｎ−Ｉ）転移点は約４０℃であ
った。
が１．５８２、Δｎが０．２４０のシアノビフェニルネ
マチック液晶、光硬化性樹脂として、屈折率が１．５７
３のウレタン系オリゴマーとアクリル系モノマーの混合
系を使用し、これらを混合物として基板上に印刷形成し
た。この時の混合割合は本実施例では液晶：モノマーの
重量比は６５：３５の割合で混合し、この混合比の場合
のネマチック−等方相（Ｎ−Ｉ）転移点は約４０℃であ
った。
【００４０】液晶混合系のＮ−Ｉ相転移点よりも高温に
印刷形成された混合層を保持し約１０から１００ｍＷ／
ｃｍ２のＵＶ照射強度で約３０〜３００秒間紫外光照射
し、液晶と樹脂の相分離を起こさせながら樹脂を硬化さ
せた。このうような液晶電気光学装置に閾値以下の電圧
を印可した際の透明率は２％以下であり、十分散乱し
て、十分なコントラストを実現することができた。
印刷形成された混合層を保持し約１０から１００ｍＷ／
ｃｍ２のＵＶ照射強度で約３０〜３００秒間紫外光照射
し、液晶と樹脂の相分離を起こさせながら樹脂を硬化さ
せた。このうような液晶電気光学装置に閾値以下の電圧
を印可した際の透明率は２％以下であり、十分散乱し
て、十分なコントラストを実現することができた。
【００４１】『実施例３』 本実施例では実施例１と同
じ構造、同じ工程で作製した液晶電気光学装置で、異な
る種類の液晶材料を使用した例を示す。すなわち、図１
の液晶層（３）と（７）に使用する液晶材料として、屈
折率が１．５８２、Δｎが０．２４０のシアノビフェニ
ルネマチック液晶を使用し、図１の液晶層（５）に使用
する液晶材料として、ほぼ同様の１．６付近の屈折率の
値をもつエステル系のスメクチック液晶を使用した。
じ構造、同じ工程で作製した液晶電気光学装置で、異な
る種類の液晶材料を使用した例を示す。すなわち、図１
の液晶層（３）と（７）に使用する液晶材料として、屈
折率が１．５８２、Δｎが０．２４０のシアノビフェニ
ルネマチック液晶を使用し、図１の液晶層（５）に使用
する液晶材料として、ほぼ同様の１．６付近の屈折率の
値をもつエステル系のスメクチック液晶を使用した。
【００４２】本発明の場合、液晶層と接する界面部分を
従来の液晶電気光学装置のようにラビング処理しないた
め、各層中の液晶材料はその特性に従い異なった液晶分
子の配向状態をとる、これにより、閾値電圧以下の場
合、本実施例の液晶電気光学装置を通過する光りはより
大きく散乱され、透明率も十分低い値（１％）を得るこ
とができた。
従来の液晶電気光学装置のようにラビング処理しないた
め、各層中の液晶材料はその特性に従い異なった液晶分
子の配向状態をとる、これにより、閾値電圧以下の場
合、本実施例の液晶電気光学装置を通過する光りはより
大きく散乱され、透明率も十分低い値（１％）を得るこ
とができた。
【００４３】『実施例４』 本実施例では実施例２と同
じ構造で同じ作製工程により形成され、異なる特性の液
晶材料を使用した例を示す。すなわち、図２の混合層
（１１）（１２）および（１３）に使用する液晶材料と
して、屈折率が１．５８２、Δｎが０．２４０のシアノ
ビフェニルネマチック液晶、光硬化性樹脂として、屈折
率が１．５７３のウレタン系オリゴマーとアクリル系モ
ノマーの混合系を使用した。混合層（１１）および（１
３）の液晶材料と混合層（１２）の液晶材料とは基本的
に同じ材料であるが、そのブレンドの割合を変更して、
駆動閾値電圧が前者は５〜７Ｖ、後者は６〜８Ｖと異な
った特性としている。そのため、５Ｖ〜８Ｖの電圧を印
可することにより、液晶分子が電界方向に揃う割合を容
易に変化することができ、これにより、階調が可能とな
った。
じ構造で同じ作製工程により形成され、異なる特性の液
晶材料を使用した例を示す。すなわち、図２の混合層
（１１）（１２）および（１３）に使用する液晶材料と
して、屈折率が１．５８２、Δｎが０．２４０のシアノ
ビフェニルネマチック液晶、光硬化性樹脂として、屈折
率が１．５７３のウレタン系オリゴマーとアクリル系モ
ノマーの混合系を使用した。混合層（１１）および（１
３）の液晶材料と混合層（１２）の液晶材料とは基本的
に同じ材料であるが、そのブレンドの割合を変更して、
駆動閾値電圧が前者は５〜７Ｖ、後者は６〜８Ｖと異な
った特性としている。そのため、５Ｖ〜８Ｖの電圧を印
可することにより、液晶分子が電界方向に揃う割合を容
易に変化することができ、これにより、階調が可能とな
った。
【００４４】以上の実施例において、層の形成方法とし
て、スクリーン印刷法を主として記載したが、特にこの
印刷法に限定されることなく、他の方法も使用可能であ
る。特に樹脂材料として、固体の樹脂を原料とする場合
はスパッタリング法等の薄膜形成技術を利用でき、より
正確な膜厚制御をすることができた。さらに、調光層周
辺の封止技術として、樹脂封止を示したが、これに限定
されることなく、ラミネート法により液晶電気光学装置
の周囲をフィルムで覆って封止することも可能である。
て、スクリーン印刷法を主として記載したが、特にこの
印刷法に限定されることなく、他の方法も使用可能であ
る。特に樹脂材料として、固体の樹脂を原料とする場合
はスパッタリング法等の薄膜形成技術を利用でき、より
正確な膜厚制御をすることができた。さらに、調光層周
辺の封止技術として、樹脂封止を示したが、これに限定
されることなく、ラミネート法により液晶電気光学装置
の周囲をフィルムで覆って封止することも可能である。
【００４５】
【発明の効果】本発明の構成を採ることにより、分散型
の液晶電気光学装置の液晶層の寸法を十分な散乱の効果
が得られる範囲に、任意に制御して形成することが可能
となった。そのため、液晶材料の分散滴のサイズをより
理想に近い寸法に設定することができ非常に高い表示コ
ントラストを実現することができた。
の液晶電気光学装置の液晶層の寸法を十分な散乱の効果
が得られる範囲に、任意に制御して形成することが可能
となった。そのため、液晶材料の分散滴のサイズをより
理想に近い寸法に設定することができ非常に高い表示コ
ントラストを実現することができた。
【００４６】また、安価な印刷法も採用できるため、大
面積基板を使用した液晶電気光学装置をより低コストで
提供することが可能となった。さらに、偏光板を用いな
いために、光の損失の少ない、表示コントラストの非常
によい液晶ディスプレイを実現できた。
面積基板を使用した液晶電気光学装置をより低コストで
提供することが可能となった。さらに、偏光板を用いな
いために、光の損失の少ない、表示コントラストの非常
によい液晶ディスプレイを実現できた。
【００４７】また異なる種類の液晶材料を一つの液晶電
気光学装置中で使用できるので、光りの散乱を十分に行
う事ができ、さらに階調も可能となった。
気光学装置中で使用できるので、光りの散乱を十分に行
う事ができ、さらに階調も可能となった。
【図１】本発明の液晶電気光学装置の一例の概略断面図
を示す。
を示す。
【図２】本発明の液晶電気光学装置の他の例の概略断面
図を示す。
図を示す。
【図３】本発明の液晶電気光学装置の作製方法の概略工
程図を示す。
程図を示す。
【図４】本発明の液晶電気光学装置の作製方法の概略工
程図を示す。
程図を示す。
１・・・基板 ２・・・電極 ３・・・液晶層 ４・・・透明支持体層 １１・・混合層
Claims (20)
- 【請求項１】 液晶材料と透明支持体とを含む調光層を
有する分散型液晶電気光学装置であって、前記調光層に
は前記液晶材料からなる液晶材料層と前記透明支持体か
らなる透明支持体層とが交互に積層されていることを特
徴とする液晶電気光学装置。 - 【請求項２】 液晶材料と透明支持体とを含む調光層を
有する分散型液晶電気光学装置であって、前記調光層は
前記液晶材料からなる液晶材料層と前記透明支持体から
なる透明支持体層とが交互に積層され、前記液晶材料層
は少なくとも２層以上設けられ、前記複数の液晶材料層
のうち少なくとも１層は他の液晶材料層と異なる液晶材
料からなる層であることを特徴とする液晶電気光学装
置。 - 【請求項３】 請求項１に記載の液晶電気光学装置にお
いて、前記調光層は２層以上の液晶材料層を有すること
を特徴とする液晶電気光学装置。 - 【請求項４】 液晶材料と透明支持体とを含む調光層を
有する分散型液晶電気光学装置であって、前記調光層
は、前記液晶材料と前記透明支持体との混合層を複数有
し、前記複数の混合層は、前記液晶材料の組成が同じで
あり前記液晶材料と前記透明支持体との配合比が等しい
ことを特徴とする液晶電気光学装置。 - 【請求項５】 前記複数の混合層は、凹凸状の表面を有
する請求項４に記載の液晶電気光学装置。 - 【請求項６】 液晶材料と透明支持体とを含む調光層を
有する分散型液晶電気光学装置であって、前記調光層
は、前記液晶材料と前記透明支持体との混合層を複数有
し、前記複数の混合層は、凹凸状の表面を有することを
特徴とする液晶電気光学装置。 - 【請求項７】 少なくとも一方に電極を有する一対の基
板と、 前記一対の基板の間に設けられた調光層と、 を有する分散型液晶電気光学装置であって、 前記調光層は、液晶材料と透明支持体との混合層を複数
有し、前記複数の混合層は、凹凸状の表面を有すること
を特徴とする液晶電気光学装置。 - 【請求項８】 少なくとも一方に電極を有する一対の基
板と、 前記一対の基板の間に設けられ、複数の透明支持体層と
複数の液晶材料層とを含む調光層と、 を有する分散型液晶電気光学装置であって、 前記複数の液晶材料層と前記複数の透明支持体層とが交
互に積層されていることを特徴とする液晶電気光学装
置。 - 【請求項９】 前記複数の液晶材料層は、前記複数の液
晶材料層のうち少なくとも１層は他の液晶材料層と異な
る液晶材料からなる層であることを特徴とする請求項８
に記載の液晶電気光学装置。 - 【請求項１０】 前記複数の液晶材料層は互いに異なる
駆動閾値を有する液晶材料でなることを特徴とする請求
項９に記載の液晶電気光学装置。 - 【請求項１１】 前記複数の液晶材料層または前記複数
の透明支持体層は、凹凸状の表面を有する請求項１乃至
３および８及至１０のいずれか一に記載の液晶電気光学
装置。 - 【請求項１２】 前記複数の混合層のうち少なくとも１
層は他の混合層と異なる液晶材料を含む層であることを
特徴とする請求項６又は７に記載の液晶電気光学装置。 - 【請求項１３】 前記複数の混合層のうち少なくとも１
層は他の混合層と異なる層の厚さであることを特徴とす
る請求項６、７及び１２のいずれか一に記載の液晶電気
光学装置。 - 【請求項１４】 液晶材料と透明支持体とを含む調光層
を有する分散型液晶電気光学装置の作製方法であって、 第１の基板の上方に未硬化の透明支持体材料からなる透
明支持体層と前記未硬化の透明支持体層上に液晶材料層
を交互に積層し、 その後 、 全ての前記透明支持体層を硬化して前記調光層
を形成する ことを特徴とする液晶電気光学装置の作製方
法。 - 【請求項１５】 液晶材料と透明支持体とを含む調光層
を有する分散型液晶電気光学装置の作製方法であって、 第１の基板の上方に液晶材料層と前記液晶材料層上に未
硬化の透明支持体材料からなる透明支持体層を交互に積
層し、 その後 、 全ての前記透明支持体層を硬化して前記調光層
を形成する ことを特徴とする液晶電気光学装置の作製方
法。 - 【請求項１６】 最上層の未硬化の透明支持体層上に、
第２の基板を置き、前記最上層の透明支持体層の硬化と
第１、第２の基板との貼り合わせを同時に行うことを特
徴とする請求項１４又は１５に記載の液晶電気光学装置
の作製方法。 - 【請求項１７】 液晶材料と透明支持体との混合層を複
数含む調光層を有する分散型液晶電気光学装置の作製方
法であって、 第１の基板の上方に液晶材料と未硬化の透明支持体材料
との混合層を設け、前記混合層の透明支持体材料を硬化
させることを複数回繰り返し、 最上層の混合層上に、第２の基板を置き、前記最上層の
混合層の透明支持体材料を硬化させることと前記第１、
第２の基板との貼り合わせを同時に行うことを特徴とす
る液晶電気光学装置の作製方法。 - 【請求項１８】 液晶材料と透明支持体とを含む調光層
を有する分散型液晶電気光学装置の作製方法であって、 第１の液晶材料からなる第１の液晶材料層と未硬化の透
明支持体材料からなる第１の透明支持体材料層とを積層
して、前記第１の透明支持体材料層を硬化させ第１の透
明支持体を設け、前記第１の液晶材料と異なる液晶材料
からなる第２の液晶材料層と未硬化の透明支持体材料か
らなる第２の透明支持体材料層とを積層して、前記第２
の透明支持体材料を硬化させ第２の透明支持体を設ける
ことを特徴とする液晶電気光学装置の作製方法。 - 【請求項１９】 液晶材料と透明支持体との混合層を複
数含む調光層を有する分散型液晶電気光学装置の作製方
法であって、 第１の基板の上方に第１の液晶材料と第１の透明支持体
材料とを混合して層状にし、前記第１の透明支持体材料
を硬化させて第１の透明支持体を設け、前記第１の液晶
材料と前記第１の透明支持体とが混合した層を設け、 前記混合した層上に 前記第１の液晶材料と異なる第２の
液晶材料と第２の透明支持体材料との混合層を設け、前
記混合層上に、第２の基板を置き、前記混合層の透明支
持体材料の硬化と前記第１、第２の基板との貼り合わせ
を同時に行うことを特徴とする液晶電気光学装置の作製
方法。 - 【請求項２０】 前記第１の液晶材料と前記第２の液晶
材料とは互いに異なる駆動閾値を有する液晶材料でなる
ことを特徴とする請求項１８または１９に記載の液晶電
気光学装置の作製方法。
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