JPH0850800A - 高密度メモリから小密度メモリを回復する方法及び構成体 - Google Patents

高密度メモリから小密度メモリを回復する方法及び構成体

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JPH0850800A
JPH0850800A JP7040880A JP4088095A JPH0850800A JP H0850800 A JPH0850800 A JP H0850800A JP 7040880 A JP7040880 A JP 7040880A JP 4088095 A JP4088095 A JP 4088095A JP H0850800 A JPH0850800 A JP H0850800A
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memory
address buffer
fuse
memory device
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JP7040880A
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David Charles Mcclure
シー. マククルーア デイビッド
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STMicroelectronics lnc USA
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SGS Thomson Microelectronics Inc
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 大きな密度のメモリから小さな密度のメモリ
を回復することを可能とする。 【構成】 ボンドパッド上の信号をアドレスバッファが
選択的に無視することを可能とする選択回路によって、
メモリ装置の1つ又はそれ以上のボンドパッドを対応す
る1個又は複数個のアドレスバッファへ接続させる。小
さな密度のメモリ装置を画定するためには、ボンドパッ
ド上の信号を無視させ、且つ選択回路が内部的に所望の
小さな密度のメモリ装置へ指向する論理状態をアドレス
バッファ上で強制させる。メモリ装置及びそれより小さ
な密度のメモリ装置が同一の態様でパッケージされ且つ
ボンディングされ、次いで種類分け及びブランド付けが
行なわれる。従って、従来技術におけるようなダブルイ
ンク技術を使用することは必要ではない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、大略、集積回路メモリ
に関するものであって、更に詳細には、大きな密度の即
ち集積度の高いメモリから小さいな密度の即ち集積度の
低いメモリを回復する方法及び構成体に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】複数個の小さな密度のメモリ装置は、複
数個の大きな密度のメモリ装置として同数のピン及び別
の物理的寸法を有する同一のパッケージタイプ内にパッ
ケージされることが多々ある。このことは、SRAM
(スタティックランダムアクセスメモリ)、FIFO
(先入先出)メモリ、及びタグRAM等の多くのメモリ
装置にとって言えることである。例えば、64K(8K
×8)SRAMは、典型的に、256K(32K×8)
SRAMとして同一のパッケージ内にパッケージされ
る。又、1MegバーストRAM(64K×18)、S
GS−トムソンマイクロエレクトロニクスインコーポレ
イテッドによって製造されているデータキャッシュSR
AMメモリも512KバーストRAM(32K×18)
として同一のパッケージ内にパッケージされている。
【0003】集積回路メモリ装置の現在の製造業者は、
同一のパッケージ内のより小さな密度のメモリ装置とし
てメモリ装置の歩留まり低下を回復する満足のいく方法
を有するものではない。例えば、大きな密度のメモリ装
置と小さな密度のメモリ装置とを同一のパッケージ内に
収納することが可能であるが、これら2つのメモリ装置
に対するボンディングは通常一例として、256K S
RAMと64K SRAMとの場合について考える。通
常、256K及び64Kの両方のSRAMは図1a及び
2aに夫々示した如く、28ピンDIP又はSOJパッ
ケージにパッケージされる。図1a及び2aの28ピン
パッケージのピンの名称は夫々図1b及び2bに示して
ある。図2a及び2bの64K SRAMは13個のア
ドレスピンを有しており、図1a及び1bの256K
SRAMの15個のアドレスピンよりも2個少ない。図
2a及び2bによれば、ピン1はアドレスピンではなく
ノーコネクション(NC)即ち非接続ピンであり、かつ
ピン26はアドレスピンではなくチップイネーブル(E
2)ピンであるという点において、64K SRAMは
256K SRAMと異なっている。64K及び256
KのSRAMのピン1及び26は異なる目的とために使
用されるので、それらは異なるボンディング接続を要求
している。その他は、これら2つの装置のその他の全て
のピンは同一の機能を有しており、従って同一のボンデ
ィング接続を有している。
【0004】64K及び256KのSRAMが異なるボ
ンディング接続を有するという事実に一部起因して、今
日までのところ、これら2つの装置が同一のパッケージ
内に収納されているにも拘らず、256K SRAMの
歩留まり低下は完全に機能的な64K SRAMとして
容易に回復可能なものではない。更に、歩留まり低下を
救済することが可能であったとしても、256K SR
AMか又は64K SRAMのいずれかとしてメモリ装
置を種類分けする場合に遭遇する種類分けの問題が歩留
まり低下を救済することを実際的なものでないものとす
る場合がある。その結果、例えば256K SRAMと
しての大きな密度のメモリ装置から発生すると、完全に
回復可能なより小さな密度の装置として回復するのでは
なく通常スクラップとして廃棄されるものである。
【0005】大きな密度のメモリ装置の歩留まり低下を
小さな密度のメモリ装置として回復させる一方法として
検討された1つの可能な解決策はダブルインク技術を使
用するものである。このダブルインク技術によれば、典
型的に、大きな密度のメモリ装置として回復可能な装置
はマークを付けることはなく、回復不可能な装置には1
個のインクスポットでマークを付け、かつ小さな密度の
装置として回復可能な装置には2個のインクスポットを
マークとして付けるものであり、このようなマーク付け
をウエハテスト期間中に行なうものである。従って、2
56K SRAMウエハにおいて64K SRAM装置
として回復可能な装置は1個のインクマークを付けるか
又はインクマークを付けない場合と異なり2個のインク
マークを付けることによって他の装置から区別される。
次いで、装置の組立ステップにおいて、これらの2個の
インクマークを付けた装置はウエハの256K装置から
分離され且つ小さな密度の64K SRAMのボンディ
ング条件に従って異なった態様でボンディングされる。
【0006】このダブルインク技術の場合の懸念は、そ
れが多数のバックエンドステップを有し、高価であり、
且つ従来の装置取扱い技術と比較して時間がかかり且つ
エラーを発生しやすいということである。又、半導体製
造業者が多数の組立用の下請けを使用する場合には二重
インク技術は更に複雑なものとなり、このことは勿論製
造プロセスを複雑なものとさせ且つ装置のコスト高を招
来する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】大きな密度のメモリ装
置の修復可能な部分を小さな密度のメモリ装置として回
復させることの可能な技術を提供することを目的とす
る。その場合に、大きな密度のメモリ装置と小さな密度
のメモリ装置とは各々同一のパッケージ内に収納されて
おり且つ同一のボンディング接続を有するものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、メモリ
装置の1個又はそれ以上のボンドパッドは、該ボンドパ
ッド上の信号をアドレスバッファが選択的に無視するこ
とを許容する選択回路によって、対応する1個又は複数
個のアドレスバッファへ接続される。小さな密度のメモ
リ装置を画定するためには、該ボンドパッド上の信号が
無視され、且つ該選択回路は、内部的に、所望の小さな
密度のメモリ装置へ指向するアドレスバッファ上の論理
状態に強制させる。メモリ装置及びより小さな密度のメ
モリ装置がパッケージされ且つ同一の態様でボンディン
グされ、次いで種類分けがされ且つブランド付けがされ
る。従って、ダブルインク技術を使用することは必要で
はない。本発明は、複数個のボンドパッド及び対応する
アドレスバッファへ適用することが可能である。本発明
の好適実施態様によれば、該選択回路は複数個のヒュー
ズから構成されており、該複数個のヒューズは選択的に
焼切されてアドレスバッファをしてボンドパッド上の信
号を無視させる。例えばEPROM、EEPROM、フ
ラッシュEPROM又はPROM装置等の非揮発性装置
をヒューズの代わりに使用することが可能である。本発
明は、ESDトランジスタ、又は非揮発性装置、及びヒ
ューズを利用することが可能である。
【0009】
【実施例】本発明は大きな密度のメモリ装置から小さな
密度のメモリ装置を回復することの可能な技術を提供し
ており、その場合に、大きな密度のメモリ装置及び小さ
な密度のメモリ装置は同一のパッケージ及びボンディン
グ仕様を有している。従来廃棄されていたメモリ装置
は、該メモリ装置と同一のパッケージング及びボンディ
ング接続を有するより小さな密度のメモリ装置として回
復することが可能である。メモリ装置内に存在する選択
する回路を適宜動作させることにより、より小さな密度
のメモリ装置としての集積度を選択することが可能であ
る。本発明は、任意の数のメモリ装置に対して適用する
ことが可能であり、その場合に、大きな密度及び小さな
密度のメモリ装置は、通常、各々同一のパッケージタイ
プ内に収納されている。SRAM、FIFO、タグRA
Mは、全て、本発明を使用することの可能なメモリ装置
の例である。
【0010】説明の便宜上使用する例として、両方とも
28ピンパッケージ内に収納されている256K SR
AMと64K SRAMとについて考える。修復するこ
との不可能な256K SRAMは、種類分けプロセス
期間中に発生する複雑性のために廃棄されていた。然し
ながら、本発明によれば、両方の装置に対するパッケー
ジ及びボンディング接続が同一なものである場合には、
256K SRAMの歩留まり低下は64K SRAM
として回復させることが可能である。図3及び4の回路
は、同一のボンディング接続を維持しながら、大きな密
度のメモリ装置から小さな密度のメモリ装置を回復する
好適実施例を示している。
【0011】図3を参照すると、回路10は、ボンドパ
ッド12を、図1aの256K SRAMのアドレスピ
ン1に類似したアドレスボンドパッドとして使用する
か、又は図2aの64K SRAMのノーコネクション
(非接続)ピン1に類似したノーコネクション(非接
続)ボンドパッドとして使用するかのいずれかを選択し
て使用することを可能とする。ボンドパッド12は、回
路10が例えば256KSRAM等の大きな密度のメモ
リ装置か、又は例えば64K SRAM等の小さな密度
のメモリ装置と関連するかに拘らず、ピン1に対する同
一のボンディング接続を確立する。ボンドパッド12
は、図1a及び1bの256Kアドレスピン1として使
用することが可能であり、又ボンドパッド12は図2a
及び2bの64Kノーコネクション(NC)ピン1とし
て使用することが可能であり、その場合の機能の振り分
けは図3に点線で示したヒューズ回路16によって規定
される。同様に、図4の回路40を参照すると、ピン2
6に対するボンドパッド42のボンディング接続は、本
装置が256Kとして使用されるか又は64Kとして使
用されるかに拘らず、同一である。ボンドパッド42
は、図1aの256Kアドレスピン26として使用する
か、又は図2aの64KチップイネーブルピンE2とし
て使用することが可能である。どのようにしてボンドパ
ッド42が使用されるかということは、図4に点線の内
側に示したヒューズ回路46の機能によって決定され
る。
【0012】多数の256K SRAM装置をテストし
た後に、どの装置が完全に機能的であるか又は256K
SRAMとして回復可能であるかを決定することが可
能である。これらの装置の場合には、図3のヒューズ回
路16のヒューズ及び図4のヒューズ回路46のヒュー
ズは不変のままとされ、図3のボンドパッド12はアド
レスボンドパッドであり且つ図4のボンドパッド42は
アドレスボンドパッドである。然しながら、256K装
置として回復不可能な装置は、そのメモリ装置の一部、
例えば4分の1の部分が64K SRAMとして救済す
ることが可能であるかを決定するために更なるテストが
行なわれる。64K SRAMとして回復可能な装置の
場合には、図3及び4のヒューズを適宜焼切せねばなら
ない。
【0013】図3のヒューズ回路16は、ヒューズ1
8,20,28と、トランジスタ26,32,34,3
6と、インバータ22,24,30とから構成されてい
る。ヒューズ18は、ボンドパッド12へ接続している
第一端子と、ノード38へ接続している第二端子とを有
しており、ノード38は、ヒューズ18の第二端子と、
トランジスタ34の第一ソース/ドレイン端子と、トラ
ンジスタ36の第一ソース/ドレイン端子と、アドレス
バッファ14とに接続している。ヒューズ20の第一端
子はインバータ22の第一端子及びトランジスタ26の
第一ソース/ドレイン端子へ接続している。インバータ
22の第二端子はインバータ24の第一端子及びトラン
ジスタ26のゲート端子へ接続している。インバータ2
4の第二端子はトランジスタ34のゲート端子へ接続し
ている。最後に、ヒューズ28の第一端子はトランジス
タ32の第一ソース/ドレイン端子及びインバータ30
の第一端子へ接続している。インバータ30の第二端子
はトランジスタ32のゲート端子及びトランジスタ36
のゲート端子へ接続している。ヒューズ20の第二端
子、トランジスタ34の第二ソース/ドレイン端子、ヒ
ューズ20の第二端子は電源VCCへ接続している。ト
ランジスタ26の第二ソース/ドレイン端子、トランジ
スタ32の第二ソース/ドレイン端子、トランジスタ3
6の第二ソース/ドレイン端子は電源VSSへ接続して
いる。
【0014】トランジスタ26,32,36はNチャン
ネルトランジスタと示してあり、且つトランジスタ34
はPチャンネルトランジスタとして示してあるが、当業
者にとって明らかな如く、これらのトランジスタのタイ
プは本発明の技術的範囲を逸脱することなしに回路10
をわずかに修正することにより適宜異なるものとするこ
とが可能である。
【0015】図4のヒューズ回路46及びヒューズ回路
70はボンドパッド42を256Kアドレスピンとして
又は64Kチップイネーブルピンとして選択的に使用す
ることを許容する。ヒューズ回路46は、ヒューズ4
8,50,58、トランジスタ56,62,64,6
6、インバータ52,54,60から構成されている。
ヒューズ48はボンドパッド42へ接続している第一端
子と、ノード68へ接続している第二端子とを有してお
り、ノード68は、ヒューズ48の第二端子と、トラン
ジスタ64の第一ソース/ドレイン端子と、トランジス
タ66の第一ソース/ドレイン端子と、アドレスバッフ
ァ44とに接続している。ヒューズ50の第一端子はイ
ンバータ52の第一端子及びトランジスタ56の第一ソ
ース/ドレイン端子へ接続している。インバータ52の
第二端子はインバータ54の第一端子及びトランジスタ
56のゲート端子へ接続している。インバータ54の第
二端子はトランジスタ64のゲート端子へ接続してい
る。最後に、ヒューズ58の第一端子はトランジスタ6
2の第一ソース/ドレイン端子及びインバータ60の第
一端子へ接続している。インバータ60の第二端子はイ
ンバータ62のゲート端子及びトランジスタ66のゲー
ト端子へ接続している。ヒューズ50の第二端子と、ト
ランジスタ64の第二ソース/ドレイン端子と、ヒュー
ズ58の第二端子とは電源VCCへ接続している。トラ
ンジスタ56の第二ソース/ドレイン端子と、トランジ
スタ62の第二ソース/ドレイン端子と、トランジスタ
66の第二ソース/ドレイン端子とは電源VSSへ接続
している。
【0016】ヒューズ回路70は、ヒューズ72と、N
チャンネルトランジスタ74と、インバータ76及び7
8とから構成されている。図4に示した如く、ヒューズ
72の第一端子はトランジスタ74の第一ソース/ドレ
イン端子とインバータ76の第一端子とに接続してい
る。ヒューズ72の第二端子及びトランジスタ74の第
二ソース/ドレイン端子は電源VCC及びVSSへ夫々
接続している。インバータ76の第二端子はインバータ
78の第一端子及びトランジスタ74のゲート端子へ接
続している。インバータ78の第二端子は入力バッファ
ブロック80へ接続しており、入力バッファブロック8
0は、例えばTTL論理等のスタンダードな論理から構
成されており且つ入力信号として、チップイネーブルE
1(反転)信号88と、インバータ出力信号86と、チ
ップイネーブルE2信号84とを受取る。
【0017】入力バッファブロック80は信号84,8
6,88に関して論理的処理を行ない、ヒューズ48,
50,58,72の関数として、チップイネーブルE2
信号84及びチップイネーブルE1(反転)信号88、
又はチップイネーブルE1(反転)信号88がチップイ
ネーブル信号90として入力バッファブロック80を介
して通過されるか否かを決定する。入力バッファブロッ
ク80は、NORゲート91と、NANDゲート94
と、インバータゲート92,93,95とから構成され
ている。チップイネーブルE2信号84及びインバータ
出力信号86はNORゲート91への入力信号であり、
NORゲート91は、これらの信号に関してNOR論理
を実行し信号91aを発生し、その信号91aはインバ
ータ92によって反転されて信号92aを発生する。チ
ップイネーブルE1(反転)信号88はインバータ93
により反転されて信号93aを発生する。信号84及び
86をNOR処理し次いで反転させて得られる信号92
aと、信号88の反転したものである信号93aとがN
ANDゲート94へ導入され、NANDゲート94は信
号94aを発生する。信号94aはインバータ95によ
って反転されて図示した如くチップイネーブル信号90
を発生させる。当業者にとって明らかな如く、入力バッ
ファブロック80の論理はその他の論理回路によって実
施することも可能である。
【0018】再度図3を参照すると、ボンドパッド12
を図2aの64K SRAMのピン1に類似したノーコ
ネクション(非接続)ピンとして確立するためには、ヒ
ューズ回路16の適宜のヒューズを焼切させねばならな
い。アドレスバッファ14のどの論理状態が完全に機能
的であるか又は修復可能な64K SRAMメモリとな
るかに依存してヒューズ18が焼切され次いでヒューズ
20又はヒューズ28のいずれかが焼切される。アドレ
スバッファ14が機能的又は修復可能なメモリを得るた
めに高論理レベルでなければならない場合には、ヒュー
ズ18に加えてヒューズ20が焼切され且つトランジス
タ34がターンオンしてアドレスバッファ14を供給電
圧VCCへプルアップする。然しながら、アドレスバッ
ファ14が機能的であるか又は修復可能なメモリを得る
ために低論理レベルでなければならない場合には、ヒュ
ーズ18に加えてヒューズ28が焼切され且つトランジ
スタ36がターンオンしてアドレスバッファ14を接地
へプルダウンする。ボンドパッド12が256K SR
AMのアドレスピンとして使用されるか又は64KSR
AMのノーコネクション(非接続)ピンとして使用され
るかに拘らず、ボンドパッド12はメモリ装置のピン1
へボンディングされ、且つ該メモリ装置は例えば28ピ
ンSOJパッケージ等の同一のパッケージタイプにパッ
ケージされる。
【0019】図4のボンドパッド42を図2aの64K
SRAMのピン26に類似したチップイネーブルE2
ピンとして確立するためには、ヒューズ回路46及びヒ
ューズ回路70の適宜のヒューズを焼切せねばならな
い。ヒューズ48及びヒューズ72が焼切され、次いで
アドレスバッファ44のどの論理状態が完全に機能的で
あるか又は修復可能な64K SRAMメモリとなるか
に依存してヒューズ50又はヒューズ58のいずれかが
焼切される。機能的又は修復可能な64Kメモリを得る
ためにはアドレスバッファ44が高論理レベルでなけれ
ばならない場合には、ヒューズ50が焼切され且つトラ
ンジスタ54がターンオンしてアドレスバッファ44を
供給電圧VCCへプルアップする。然しながら、機能的
であるか又は修復可能な64Kメモリを得るためにはア
ドレスバッファ44が低論理レベルでなければならない
場合には、ヒューズ58が焼切され且つトランジスタ6
6がターンオンしてアドレスバッファ44を接地へプル
ダウンする。ボンドパッド42が256K SRAMの
アドレスピンとして使用するか又は64K SRAMの
チップイネーブル制御ピンとして使用するかに拘らず、
ボンドパッド42はメモリ装置のピン26へボンディン
グされ、且つ該メモリ装置は例えば28ピンSOJパッ
ケージ等の同一のパッケージタイプ内にパッケージされ
る。
【0020】従って、図3及び4の適宜のヒューズを上
述した如くに焼切することによって、内部的に、256
K SRAMの修復可能な部分(この場合には64K
SRAM)が画定され且つチップイネーブルE2がイネ
ーブルされるようにアドレスバッファ14及び44に関
する論理状態が強制的に決定される。
【0021】図3aを参照すると、図3のヒューズ回路
16に対してヒューズ回路16bを置換させることが可
能である。回路16bは、ボンドパッド12bを、25
6KSRAMのアドレスピン1に類似したアドレスボン
ドパッドとして使用するか、又は64K SRAMのノ
ーコネクション(非接続)ピン1に類似したノーコネク
ション(非接続)ボンドパッドとして使用するかのいず
れかとして選択的に使用することを可能とする。ボンド
パッド12bは256K又は64KのSRAM装置のピ
ン1へボンディングされており且つそれがアドレスピン
又はノーコネクションピンと関連するか否かはヒューズ
回路16bの機能によって決定される。
【0022】ヒューズ回路16bは、ヒューズ18b,
20b,24bと、抵抗22b,26bとから構成され
ている。ヒューズ18bはボンドパッド12bへ接続し
た第一端子と、ノード28bへ接続した第二端子とを有
しており、ノード28bは、ヒューズ18bの第二端子
と、ヒューズ20bの第一端子と、ヒューズ24bの第
一端子と、アドレスバッファ14bとに接続している。
ヒューズ20bの第二端子は抵抗22bの第一端子へ接
続しており、且つヒューズ24bの第二端子は抵抗26
bの第一端子へ接続している。抵抗22bの第二端子は
電源VCCへ接続しており且つ抵抗26bの第二端子は
電源VSSへ接続している。
【0023】ボンドパッド12bを64K SRAMの
ピン1に類似したノーコネクション(非接続)ピンとし
て確立するためには、ヒューズ回路16bの適宜のヒュ
ーズを焼切せねばならない。ヒューズ18bを焼切し、
次いでアドレスバッファ14bのどの論理状態が完全に
機能的であるか又は修復可能な64K SRAMメモリ
となるかに依存してヒューズ20b又は24bのいずれ
かが焼切される。機能的であるか又は修復可能な64K
SRAMメモリを得るためにはアドレスバッファ14
bが高論理レベルでなければならない場合には、ヒュー
ズ18bに加えてヒューズ24bが焼切され且つプルア
ップ抵抗22bがアドレスバッファ14bを電源VCC
へプルアップする。然しながら、機能的であるか又は修
復可能な64K SRAMメモリを得るためにはアドレ
スバッファ14bが低論理レベルでなければならない場
合には、ヒューズ18bに加えてヒューズ20bが焼切
され且つプルダウン抵抗26bがアドレスバッファ14
bを電源VSSへプルダウンする。プルアップ抵抗22
b及びプルダウン抵抗26bに対して選択される値は、
メモリ装置の入力リークを超えることがないように高い
ものであり、抵抗22b及び26bの典型的な値はギガ
オーム範囲である。
【0024】図3aの回路13bは特にESD環境に対
して適している。ヒューズ回路16bは図3に示したト
ランジスタを有するものではないので、ラッチアップ及
びトランジスタに関するその他のESD懸念事項は存在
しない。
【0025】本発明は、図3及び4のトランジスタをバ
イポーラトランジスタと置換させることも可能である。
図3bを参照すると、ベースと、コレクタと、エミッタ
とを有するバイポーラトランジスタが示されている。当
業者にとって明らかな如く、図3bのバイポーラトラン
ジスタは、本発明の技術的範囲を逸脱することなしに、
回路にわずかな変更を施すだけで、図3及び4のMOS
トランジスタに置換させることが可能である。
【0026】例えばESDトランジスタ等のESD保護
装置を使用し且つボンドパッドをESD構成体から切断
させることによって、図3,3a,4の回路をESD環
境において動作を向上させることが可能である。図5を
参照すると、図3の回路10に類似した回路100が示
されている。然しながら、図5は既存のESD保護装置
を利用することによりESDトランジスタ124及び1
26と複数個のヒューズ108とを使用している。ボン
ドパッド102が図示した如くヒューズ回路106を介
してアドレスバッファ104へボンディングされてい
る。ヒューズ回路106は、ESD保護を与えることに
より図3のヒューズ回路16と異なっている。ヒューズ
110及び118に加えて、ヒューズ回路106は図示
した如く複数個のヒューズ108b,180c,180
d,...,108zへ並列接続したヒューズ180a
を有している。これらの並列接続された複数個のヒュー
ズ108は、ESD条件において大量の電流を放電させ
ることが可能であり、且つ並列接続されているヒューズ
の数は回路10に関する予測されるESD要求の関数と
して変化することが可能である。互いに並列接続されて
いるヒューズ108の数が多ければ多いほど、回路10
0が処理可能な電流の大きさは一層大きい。
【0027】ヒューズ108a,108b,108c,
108d,...,108zの各々の第一端子は直列的
にボンドパッド12へ接続しており且つヒューズ108
a,...,108zは互いに並列接続されている。ヒ
ューズ108a,...,108zの各々の第二端子は
ノード128へ接続しており、ノード128はヒューズ
108a,108b,108c,108d,...,1
08zの第二端子と、トランジスタ124の第一ソース
/ドレイン端子と、トランジスタ126の第一ソース/
ドレイン端子と、アドレスバッファ104とに接続して
いる。ヒューズ110の第一端子はインバータ112の
第一端子及びトランジスタ116の第一ソース/ドレイ
ン端子へ接続している。インバータ112の第二端子は
インバータ114の第一端子及びトランジスタ116の
ゲート端子へ接続している。インバータ114の第二端
子はESDトランジスタ124のゲート端子へ接続して
いる。最後に、ヒューズ118の第一端子はトランジス
タ122の第一ソース/ドレイン端子及びインバータ1
20の第一端子へ接続している。インバータ120の第
二端子はトランジスタ122のゲート端子及びESDト
ランジスタ126のゲート端子へ接続している。ESD
トランジスタ124の第二ソース/ドレイン端子と、ヒ
ューズ110の第二端子と、ヒューズ118の第二端子
とは電源VCCへ接続している。トランジスタ116の
第二ソース/ドレイン端子と、トランジスタ122の第
二ソース/ドレイン端子と、ESDトランジスタ126
の第二ソース/ドレイン端子は電源VSSへ接続してい
る。
【0028】図3における如く、焼切されるべきヒュー
ズ回路106のヒューズは、ボンドパッド102が25
6K SRAMに対して適したアドレスパッドとして使
用するか又は64K SRAMに適したノーコネクショ
ン(非接続)パッドとして使用するかのいずれかによっ
て決定される。256K SRAMの場合には、ヒュー
ズ回路106のヒューズは不変のままとされる。ボンド
パッド102を64Kノーコネクション(非接続)ボン
ドパッドとして使用するためには、ヒューズ108a及
び例えばヒューズ108b,108c,108
d,...,108z等のヒューズ108aと並列接続
されている全てのヒューズが焼切される。次いで、ヒュ
ーズ108a,...,108zに加えてヒューズ11
0又はヒューズ118のいずれかが、アドレスバッファ
104のどの論理状態が完全に機能的であるか又は修復
可能な64Kメモリとなるかに依存して焼切される。機
能的であるか又は修復可能なメモリを得るためにはアド
レスバッファ104が高論理レベルでなければならない
場合には、ヒューズ108及び110が焼切され且つE
SDトランジスタ124がターンオンしてアドレスバッ
ファ104を電源電圧VCCへプルアップする。然しな
がら、機能的であるか又は修復可能な64Kメモリを得
るためにはアドレスバッファ104が低論理レベルでな
ければならない場合には、ヒューズ108及び118が
焼切され且つNチャンネルトランジスタ126がターン
オンしてアドレスバッファ104を接地へプルダウンす
る。
【0029】図5のヒューズ回路106に示したESD
トランジスタは、既存のESD回路を利用し且つボンド
パッド42及び82をESD回路から切断させるため
に、図4のヒューズ回路46及びヒューズ回路70へ同
様に適用させることが可能である。
【0030】図6を参照すると、本発明の別の好適な実
施形態が示されている。回路130は、ボンドパッド1
32を256K SRAMアドレスボンドパッドとして
使用するか又は64K SRAMノーコネクション(非
接続)ボンドパッドとして使用するかのいずれかとして
選択的に使用するために、ヒューズ回路をトランジスタ
142,144,154,156から構成される入力バ
ッファ回路と結合させている。ボンドパッド132はト
ランジスタ144及び156のゲート端子へ接続してお
り、且つ信号134は、図示した如く、トランジスタ1
44の第二ソース/ドレイン端子と、トランジスタ15
6の第一ソース/ドレイン端子と、トランジスタ158
の第一ソース/ドレイン端子と、トランジスタ160の
第一ソース/ドレイン端子とに接続した共通ノード14
5へ接続される。ヒューズ136の第一端子はトランジ
スタ138の第一ソース/ドレイン端子及びインバータ
140の第一端子へ接続されている。インバータ140
の第二端子はトランジスタ138のゲート端子及びトラ
ンジスタ142及び160のゲート端子へ接続してい
る。トランジスタ142の第一ソース/ドレイン端子は
トランジスタ144の第一ソース/ドレイン端子へ接続
している。ヒューズ146の第一端子はトランジスタ1
48の第一ソース/ドレイン端子及びインバータ150
の第一端子へ接続している。インバータ150の第二端
子はインバータ148のゲート端子及びインバータ15
2の第一端子へ接続している。インバータ152の第二
端子はトランジスタ154及び158のゲート端子へ接
続している。トランジスタ154の第一ソース/ドレイ
ン端子はトランジスタ156の第二ソース/ドレイン端
子へ接続している。ヒューズ136の第二端子と、ヒュ
ーズ146の第二端子と、トランジスタ142の第二ソ
ース/ドレイン端子と、トランジスタ158の第二ソー
ス/ドレイン端子とが電源VCCへ接続している。トラ
ンジスタ138の第二ソース/ドレイン端子と、トラン
ジスタ148の第二ソース/ドレイン端子と、トランジ
スタ154の第二ソース/ドレイン端子と、トランジス
タ160の第二ソース/ドレイン端子とが、電源VSS
へ接続している。
【0031】回路130の適宜のヒューズが焼切され
て、信号134が高又は低の論理状態へロックされた状
態をエミュレートする。ヒューズ136又はヒューズ1
46を選択的に焼切することによって、トランジスタ1
42,144,154,156から構成される入力バッ
ファ回路を制御するためにヒューズ136及び146を
使用することが可能である。ヒューズ136が焼切され
るとボンドパッド132が高論理状態にロックされた状
態をエミュレートし、一方ヒューズ146が焼切される
と、ボンドパッド132が低論理状態にロックされた状
態をエミュレートする。回路130が図3,4,5の場
合よりもより少ない数のヒューズを使用するものである
が、それは、又、より多くのトランジスタ及びトランジ
スタを包含する直列装置を使用しており、そのことは回
路130を介しての信号伝播を遅滞化する場合がある。
【0032】図3,4,5,6に示した実施例は、ボン
ドパッドが、アドレスボンドパッドであるか、チップイ
ネーブルボンドパッドであるか、又はノーコネクション
(非接続)ボンドパッドであるかの機能性を選択的に決
定するためにヒューズ及びヒューズ回路を使用すること
が可能であることを示している。ヒューズに加えて、本
発明は、例えばPROM(書込可能リードオンリーメモ
リ)、EPROM(消去可能書込可能リードオンリーメ
モリ)、EEPROM(電気的に消去可能書込可能リー
ドオンリーメモリ)、及びフラッシュEPROM装置等
の非揮発性要素を使用することが可能である。
【0033】次に7a及び7bを参照すると、図3,3
a,4,5,6のヒューズ回路の代わりに使用すること
の可能なEEPROMトランジスタ回路の実施例が示さ
れている。図7aは、図3,3a,4,5,6において
使用したヒューズ回路と一貫した、ヒューズ172と、
トランジスタ174とインバータ176とから構成され
るヒューズ回路170を示している。本発明によれば、
ヒューズ回路170は、抵抗182と、EEPROMト
ランジスタ184と、インバータ186とを有する図7
bに示した簡単なEEPROMトランジスタ回路180
と置換させることが可能である。抵抗182の第一端子
はEEPROMトランジスタ184の第一ソース/ドレ
イン端子及びインバータ186の第一端子へ接続してい
る。EEPROMトランジスタ184のゲート端子及び
抵抗182の第二端子は電源VCCへ接続している。E
EPROMトランジスタ184の第二ソース/ドレイン
端子は電源VSSへ接続している。ヒューズを焼切する
ことと同一の機能として、EEPROMトランジスタ回
路180は低スレッシュホールド電圧でプログラミング
即ち書込みが行なわれる。
【0034】図8aは図3,3a,4,5,6のヒュー
ズ回路と一貫性のあるヒューズ回路190を示してい
る。ヒューズ回路190は、図3,3a,4,5,6の
ヒューズ回路と同様に、ヒューズ192とトランジスタ
194と、インバータ196とを有しており、且つ図8
bのEEPROMトランジスタ回路200と置換させる
ことが可能である。EEPROMトランジスタ回路20
0はトランジスタ202と、EEPROMトランジスタ
204と、インバータ206とから構成されている。ト
ランジスタ202の第一ソース/ドレイン端子はインバ
ータ206の第一端子及びEEPROMトランジスタ2
04の第一ソース/ドレイン端子へ接続している。トラ
ンジスタ202のゲート端子は図示した如くインバータ
206の第二端子へ接続している。トランジスタ202
の第二ソース/ドレイン端子及びEEPROMトランジ
スタ204のゲート端子は電源VCCへ接続しており、
一方EEPROMトランジスタ204の第二ソース/ド
レイン端子は図示した如く電源VSSへ接続している。
EEPROMトランジスタ204は、通常、トランジス
タ202よりも一層強いトランジスタであり、従ってよ
り多くの電流を取扱うことが可能である。EEPROM
トランジスタ204は、ヒューズを焼切することと同一
の機能を得るために低スレッシュホールド電圧でプログ
ラミング即ち書込みが行なわれる。
【0035】本発明の主要な利点としては、修復不可能
な大きな密度のメモリ装置を小さな密度のメモリ装置と
して利用する場合に、所要の論理状態に強制されるヒュ
ーズによって制御されるアドレスが使用可能な冗長要素
の数を減少させるものでない場合には、使用可能な冗長
要素の量が大量して減少することはない。従って、25
6K SRAMメモリの冗長要素はそれから回復される
64K SRAMに対して使用することが可能である。
【0036】上述した如く、メモリ装置が256K装置
として修復可能ではないが64KSRAMとして修復可
能であることが決定された後に、適宜のヒューズが焼切
されて256K SRAMと同一のパッケージング及び
ボンディングを有する64K SRAMが画定される。
次いで、本発明に基づく選択回路を有するメモリ装置が
テスト期間中に、即ち典型的には焼切前/速度種類分け
期間中に種類分けされ、該メモリ装置がオリジナルの密
度を維持するものであるか又はそれがより小さなメモリ
装置へ密度が減少されたものであるかを決定する。例え
ば、256KSRAMをテストして、それが256K
SRAMであるか又は256K SRAMから回復され
る64K SRAMであるかを決定する。図3及び4の
256K又は64KのSRAMの実施例の場合には、最
初に、E(反転)ピン20が低論理状態でアドレス13
ピン26が低論理レベルとしたイネーブル状態で256
K装置がテストされる。図1aに示した出力ピンDQ0
−DQ7がリークし低インピーダンス条件であることを
表わす場合には、その装置は256K SRAMであ
り、又これらの出力ピンがリークすることがなく、高イ
ンピーダンス条件であることを表わす場合には、ピン2
6が該装置をディスエーブル即ち動作不能状態とさせる
低論理レベル(E2)にあるので、該装置は64K S
RAMである。次いで、それが256K SRAM又は
64K SRAMであるか否かに基づいて該装置をテス
トし、所定のビンへ類分けし且つ適宜ブランド付けを行
なう。従って、本発明によれば、問題のあるダブルイン
ク技術やその他の複雑な方法を使用することなしに、メ
モリ装置のダイを正確に識別し、次いでテストを行なっ
てパッケージングした後にソーティング即ち種類分けを
行なう。全ての装置が同一のパッケージング及びボンデ
ィングを使用するのでパッケージングは簡単である。従
来技術においては、64K SRAM用のノーコネクシ
ョン(非接続)ピンは全くボンディングされておらず且
つ64K SRAM用のチップイネーブルピンは256
K SRAMのものとは異なるボンドパッドへボンディ
ングされていた。本発明は、64K SRAMのピン
1、ノーコネクション(非接続)ピン、256K SR
AMのピン1、アドレスピンを同一のボンドパッドへボ
ンディングさせることを可能としている。
【0037】以上、本発明の具体的実施の態様について
詳細に説明したが、本発明は、これら具体例にのみ限定
されるべきものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱す
ることなしに種々の変形が可能であることは勿論であ
る。例えば、本発明は、SGS−トムソンマイクロエレ
クトロニクスインコーポレイテッドによって製造されて
いる1MegバーストRAM及び512バーストRAM
にとっても適用可能なものである。256K SRAM
及び64K SRAMと類似して、1つのピンがアドレ
スピンではなくノーコネクション(非接続)ピンという
点を除いて、512バーストRAMは1Megバースト
RAMと同一である。バーストRAMの場合には、1M
egバーストRAMからより小さな密度の512バース
トRAMを画定するためには、1個のアドレスを制御す
ることが必要であるに過ぎない。バーストRAMは本明
細書において説明した256K又は64KのSRAMよ
りも一層密度の大きい装置であるので、本発明を使用し
て歩留まり低下を防止することの利点はより大きなもの
である。
【図面の簡単な説明】
【図1a】 従来の28ピン256K SRAMを示し
たパッケージの概略図。
【図1b】 従来の28ピン256K SRAMのピン
名称を示した説明図。
【図2a】 従来の28ピン64K SRAMを示した
パッケージの概略図。
【図2b】 従来の28ピン64K SRAMのピン名
称を示した説明図。
【図3】 本発明の好適実施例に基づいて構成した第一
選択回路を示した概略図。
【図3a】 本発明の別の実施例に基づいて構成した第
一選択回路を示した概略図。
【図3b】 バイポーラトランジスタを示した概略図。
【図4】 本発明の第一好適実施例に基づいて構成した
第二選択回路を示した概略図。
【図5】 ESD回路を使用する図3,3a,4の変形
例を示した概略図。
【図6】 本発明の別の好適実施例に基づいて構成した
選択回路を示した概略図。
【図7a】 ヒューズ回路を示した概略図。
【図7b】 図7aのヒューズ回路と置換させることの
可能な抵抗要素を具備するEEPROMトランジスタ回
路を示した概略図。
【図8a】 ヒューズ回路を示した概略図。
【図8b】 図8aのヒューズ回路と置換させることの
可能な抵抗性トランジスタ要素を有するEEPROMト
ランジスタ回路を示した概略図。
【符号の説明】
10 選択回路 12 ボンドパッド 14 アドレスバッファ 16 ヒューズ回路 18,20,28 ヒューズ 22,24,30 インピーダンス 26,32,34,36 トランジスタ 38 ノード

Claims (60)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 大密度メモリから小密度メモリを回復す
    る方法において、 メモリ装置がより小さな密度のメモリ装置として回復さ
    れることを決定するためにメモリ装置をテストし、 前記メモリ装置の第一ボンドパッドへ接続した少なくと
    も第一アドレスバッファに対して適宜の論理状態を決定
    し、尚前記第一アドレスバッファに対する前記適宜の論
    理状態は前記より小さな密度のメモリ装置を画定し、 前記第一アドレスバッファに対する適宜の論理状態を前
    記第一アドレスバッファ上に維持し且つ前記より小さな
    密度のメモリ装置が画定されるように前記第一アドレス
    バッファをして選択的に前記第一ボンドパッド上の第一
    信号を無視させる、上記各ステップを有することを特徴
    とする方法。
  2. 【請求項2】 請求項1において、前記選択的に無視さ
    せるステップの後に、 前記メモリ装置と同一の態様で前記より小さな密度のメ
    モリ装置をパッケージング及びボンディングし、 各メモリ装置を前記メモリ装置として又は前記より小さ
    な密度のメモリ装置として画定するかにしたがって複数
    個のメモリ装置を種類分けし、 各メモリ装置が前記メモリ装置としてか又は前記より小
    さな密度のメモリ装置として定義されるかにしたがって
    前記メモリ装置の各々にブランド付けする、上記各ステ
    ップを有することを特徴とする方法。
  3. 【請求項3】 請求項1において、第一選択回路が、選
    択的に前記第一アドレスバッファをして前記第一ボンド
    パッド上の第一信号を無視させるために前記第一ボンド
    パッドと直列接続した切断手段を有すると共に、プルア
    ップ/プルダウンコンポーネントへ接続されており選択
    的に前記第一アドレスバッファをして前記第一ボンドパ
    ッド上の第一信号を無視させる場合に前記第一アドレス
    バッファ上の適宜の論理状態を維持するためのプログラ
    マブル手段を有することを特徴とする方法。
  4. 【請求項4】 請求項3において、前記切断手段が第一
    ヒューズであり、且つ前記プログラマブル手段が第二ヒ
    ューズであり、且つ前記第一ヒューズが焼切されると前
    記第一アドレスバッファをして前記第一ボンドパッド上
    の第一信号を無視させ、且つ前記第二ヒューズが焼切さ
    れると前記第一アドレスバッファ上に適宜の論理状態を
    維持することを特徴とする方法。
  5. 【請求項5】 請求項3において、前記切断手段がヒュ
    ーズであり且つ前記プログラマブル手段がEEPROM
    トランジスタであり、且つ前記ヒューズが焼切されると
    前記第一アドレスバッファをして前記第一ボンドパッド
    上の第一信号を無視させ、且つ前記EEPROMトラン
    ジスタがプログラムされて前記第一アドレスバッファ上
    の適宜の論理状態を維持することを特徴とする方法。
  6. 【請求項6】 請求項3において、前記切断手段がEE
    PROMトランジスタであり、且つ前記EEPROMト
    ランジスタは前記第一アドレスバッファをして前記第一
    ボンドパッド上の第一信号を無視させるべくプログラム
    されることを特徴とする方法。
  7. 【請求項7】 請求項3において、前記プルアップ/プ
    ルダウンコンポーネントがトランジスタであることを特
    徴とする方法。
  8. 【請求項8】 請求項7において、前記プルアップ/プ
    ルダウンコンポーネントがMOSトランジスタであるこ
    とを特徴とする方法。
  9. 【請求項9】 請求項7において、前記プルアップ/プ
    ルダウンコンポーネントがバイポーラトランジスタであ
    ることを特徴とする方法。
  10. 【請求項10】 請求項7において、前記プルアップ/
    プルダウンコンポーネントがESDトランジスタである
    ことを特徴とする方法。
  11. 【請求項11】 請求項3において、前記プルアップ/
    プルダウンコンポーネントが抵抗であることを特徴とす
    る方法。
  12. 【請求項12】 請求項3において、前記第一選択回路
    が、選択的に前記第一アドレスバッファをして前記第一
    ボンドパッド上の第一信号を無視させる複数個の非揮発
    性装置を有することを特徴とする方法。
  13. 【請求項13】 請求項12において、前記非揮発性装
    置がEPROM(消去可能書込可能リードオンリーメモ
    リ)、EEPROM(電気的に消去可能プログラム可能
    リードオンリーメモリ)、フラッシュEPROM(消去
    可能書込可能リードオンリーメモリ)、又はPROM
    (書込可能リードオンリーメモリ)装置とすることが可
    能であることを特徴とする方法。
  14. 【請求項14】 請求項3において、前記第一選択回路
    がESD保護を与え且つ少なくとも第一ESD保護装置
    を有することを特徴とする方法。
  15. 【請求項15】 請求項1において、前記選択的に無視
    させるステップが、更に、前記第一ボンドパッドが制御
    バッファを制御することを許容することを特徴とする方
    法。
  16. 【請求項16】 請求項15において、前記第一選択回
    路が選択的に前記第一アドレスバッファをして前記第一
    ボンドパッド上の第一信号を無視させるために前記第一
    ボンドパッドと直列接続した切断手段を有すると共に、
    プルアップ/プルダウンコンポーネントに接続されてお
    り前記第一アドレスバッファ上の適宜の論理状態を維持
    するためのプログラマブル手段を有することを特徴とす
    る方法。
  17. 【請求項17】 請求項16において、前記切断手段が
    第一ヒューズであり、且つ前記プログラマブル手段が第
    二ヒューズであり、且つ前記第一ヒューズが焼切される
    と前記第一アドレスバッファをして前記第一ボンドパッ
    ド上の第一信号を無視させ、且つ前記第二ヒューズが焼
    切されると前記第一アドレスバッファ上の適宜の論理状
    態を維持することを特徴とする方法。
  18. 【請求項18】 請求項17において、第三ヒューズを
    焼切することにより前記ボンドパッドが前記制御バッフ
    ァを制御することが可能となることを特徴とする方法。
  19. 【請求項19】 請求項16において、前記第一選択回
    路が、選択的に前記第一アドレスバッファをして前記第
    一ボンドパッド上の前記第一信号を無視させる複数個の
    非揮発性装置を有することを特徴とする方法。
  20. 【請求項20】 請求項19において、前記非揮発性装
    置が、EPROM(消去可能書込可能リードオンリーメ
    モリ)、EEPROM(電気的に消去可能書込可能リー
    ドオンリーメモリ)、フラッシュEPROM(消去可能
    書込可能リードオンリーメモリ)、又はPROM(書込
    可能リードオンリーメモリ)装置とすることが可能であ
    ることを特徴とする方法。
  21. 【請求項21】 請求項16において、前記第一選択回
    路がESD保護を与え、且つ少なくとも第一ESD保護
    装置を有することを特徴とする方法。
  22. 【請求項22】 請求項1において、前記第一ボンドパ
    ッドが前記メモリ装置及び前記より小さな密度のメモリ
    装置の両方に対して前記第一アドレスバッファへ接続し
    ており、且つプログラミング手段が選択的に前記第一ア
    ドレスバッファをして前記第一ボンドパッド上の第一信
    号を無視させ且つ前記メモリ装置の出力上に適宜の論理
    状態を維持することを特徴とする方法。
  23. 【請求項23】 請求項22において、前記プログラミ
    ング手段がヒューズであり、且つ前記ヒューズを焼切す
    ることによって前記第一アドレスバッファをして前記第
    一ボンドパッド上の第一信号を無視させることを特徴と
    する方法。
  24. 【請求項24】 請求項1において、前記メモリ装置に
    対して、前記第一ボンドパッドはアドレスピンを表わし
    ており、且つ前記より小さな密度の装置に対して前記第
    一ボンドパッドは制御ピンを表わしていることを特徴と
    する方法。
  25. 【請求項25】 請求項24において、前記制御ピンが
    チップイネーブルピンであることを特徴とする方法。
  26. 【請求項26】 請求項1において、前記メモリ装置の
    場合には、前記第一ボンドパッドがアドレスピンを表わ
    しており、且つ前記より小さな密度の装置の場合には、
    前記第一ボンドパッドが非接続ピンを表わしていること
    を特徴とする方法。
  27. 【請求項27】 請求項26において、前記メモリ装置
    が256K SRAMであり且つ前記より小さな密度の
    メモリ装置が64K SRAMであることを特徴とする
    方法。
  28. 【請求項28】 請求項26において、前記メモリ装置
    が1MegバーストRAMであり、且つ前記より小さな
    密度のメモリ装置が512KバーストRAMであること
    を特徴とする方法。
  29. 【請求項29】 請求項1において、前記より小さな密
    度のメモリ装置を画定する第一アドレスバッファ用の適
    宜の論理状態が前記メモリ装置の複数個の冗長要素への
    アクセスを制限するものではないことを特徴とする方
    法。
  30. 【請求項30】 メモリ装置のボンドパッド上の入力信
    号を選択的に無視するメモリ構成体において、 入力信号を受取るボンドパッドが設けられており、 前記ボンドパッドはメモリ装置のパッケージへボンドさ
    れており、 アドレスバッファが設けられており、 前記アドレスバッファが前記ボンドパッド上の入力信号
    を選択的に無視することを許容する選択回路が設けられ
    ている、ことを特徴とするメモリ構成体。
  31. 【請求項31】 請求項30において、前記ボンドパッ
    ド上の信号が無視される場合には、前記選択回路が前記
    アドレスバッファ上の論理状態を強制し、且つ前記アド
    レスバッファの論理状態が前記メモリ装置の回復可能な
    部分へ指向することを特徴とするメモリ構成体。
  32. 【請求項32】 請求項31において、前記選択回路
    が、前記アドレスバッファをして前記ボンドパッド上の
    入力信号を無視させるために選択的に焼切される複数個
    のヒューズを有することを特徴とするメモリ構成体。
  33. 【請求項33】 メモリ装置からより小さな密度のメモ
    リ装置を回復するメモリ構成体において、 第一信号を受取りパッケージへボンドされている第一ボ
    ンドパッドが設けられており、 第一アドレスバッファが設けられており、 前記第一ボンドパッドと前記第一アドレスバッファとに
    接続され且つそれらの間に存在しており且つ選択的に前
    記第一アドレスバッファをして前記第一ボンドパッド上
    の第一信号を無視させる第一選択回路が設けられてお
    り、従って前記第一アドレスバッファに対する適宜の論
    理状態が前記第一アドレスバッファ上に維持され且つよ
    り小さいな密度のメモリ装置が画定されることを特徴と
    するメモリ構成体。
  34. 【請求項34】 請求項33において、第一選択回路が
    選択的に前記第一アドレスバッファをして前記第一ボン
    ドパッド上の第一信号を無視させるために前記第一ボン
    ドパッドと直列接続した切断手段を有しており、且つプ
    ルアップ/プルダウンコンポーネントへ接続されており
    選択的に前記第一アドレスバッファをして前記第一ボン
    ドパッド上の第一信号を無視させると前記第一アドレス
    バッファ上に適宜の論理状態を維持するプログラマブル
    手段を有することを特徴とするメモリ構成体。
  35. 【請求項35】 請求項34において、前記切断手段が
    第一ヒューズであり、且つ前記プログラマブル手段が第
    二ヒューズであり、且つ前記第一ヒューズが焼切される
    と前記第一アドレスバッファをして前記第一ボンドパッ
    ド上の第一信号を無視させ、且つ前記第二ヒューズが焼
    切されると前記第一アドレスバッファ上に適宜の論理状
    態が維持されることを特徴とするメモリ構成体。
  36. 【請求項36】 請求項33において、前記切断手段が
    ヒューズであり且つ前記プログラマブル手段がEEPR
    OMトランジスタであり、且つ前記ヒューズが焼切され
    ると、前記第一アドレスバッファをして前記第一ボンド
    パッド上の第一信号が無視され、且つ前記第一EEPR
    OMトラジスタがプログラムされて前記第一アドレスバ
    ッファ上に前記適宜の論理状態を維持することを特徴と
    するメモリ構成体。
  37. 【請求項37】 請求項34において、前記切断手段が
    EEPROMトランジスタであり、且つ前記EEPRO
    Mトランジスタがプログラムされて前記第一アドレスバ
    ッファをして前記第一ボンドパッド上の第一信号を無視
    させることを特徴とするメモリ構成体。
  38. 【請求項38】 請求項34において、前記プルアップ
    /プルダウンコンポーネントがトランジスタであること
    を特徴とするメモリ構成体。
  39. 【請求項39】 請求項38において、前記プルアップ
    /プルダウンコンポーネントがMOSトランジスタであ
    ることを特徴とするメモリ構成体。
  40. 【請求項40】 請求項38において、前記プルアップ
    /プルダウンコンポーネントがバイポーラトランジスタ
    であることを特徴とするメモリ構成体。
  41. 【請求項41】 請求項38において、前記プルアップ
    /プルダウンコンポーネントがESDトランジスタであ
    ることを特徴とするメモリ構成体。
  42. 【請求項42】 請求項34において、前記プルアップ
    /プルダウンコンポーネントが抵抗であることを特徴と
    するメモリ構成体。
  43. 【請求項43】 請求項34において、前記第一選択回
    路が、選択的に前記第一アドレスバッファをして前記第
    一ボンドパッド上の第一信号を無視させる複数個の非揮
    発性装置を有することを特徴とするメモリ構成体。
  44. 【請求項44】 請求項43において、前記非揮発性装
    置が、EPROM(消去可能書込可能リードオンリーメ
    モリ)、EEPROM(電気的に消去可能書込可能リー
    ドオンリーメモリ)、フラッシュEPROM(消去可能
    書込可能リードオンリーメモリ)、又はPROM(書込
    可能リードオンリーメモリ)装置とすることが可能であ
    ることを特徴とするメモリ構成体。
  45. 【請求項45】 請求項34において、前記第一選択回
    路がESD保護を与え且つ少なくとも第一ESD保護装
    置を有することを特徴とするメモリ構成体。
  46. 【請求項46】 請求項33において、前記選択的に無
    視させるステップが、更に、前記第一ボンドパッドをし
    て制御バッファを制御することを許容することを特徴と
    するメモリ構成体。
  47. 【請求項47】 請求項46において、前記第一選択回
    路が選択的に前記第一アドレスバッファをして前記第一
    ボンドパッド上の第一信号を無視させるために前記第一
    ボンドパッドと直列接続した切断手段を有すると共に、
    プルアップ/プルダウンコンポーネントへ接続されてお
    り前記第一アドレスバッファ上に適宜の論理状態を維持
    するためのプログラマブル手段を有することを特徴とす
    るメモリ構成体。
  48. 【請求項48】 請求項47において、前記切断手段が
    第一ヒューズであり且つ前記プログラマブル手段が第二
    ヒューズであり、且つ前記第一ヒューズが焼切されると
    前記第一アドレスバッファをして前記第一ボンドパッド
    上の第一信号を無視させ、且つ前記第二ヒューズが焼切
    されると前記第一アドレスバッファ上に適宜の論理状態
    を維持することを特徴とするメモリ構成体。
  49. 【請求項49】 請求項48において、第三ヒューズを
    焼切することにより前記ボンドパッドが前記制御バッフ
    ァを制御することを可能とすることを特徴とするメモリ
    構成体。
  50. 【請求項50】 請求項47において、前記第一選択回
    路が、選択的に前記第一アドレスバッファをして前記第
    一ボンドパッド上の第一信号を無視させる複数個の非揮
    発性装置を有することを特徴とするメモリ構成体。
  51. 【請求項51】 請求項50において、前記非揮発性装
    置がEPROM(消去可能書込可能リードオンリーメモ
    リ)、EEPROM(電気的に消去可能書込可能リード
    オンリーメモリ)、フラッシュEPROM(消去可能書
    込可能リードオンリーメモリ)、又はPROM(書込可
    能リードオンリーメモリ)装置とすることが可能である
    ことを特徴とするメモリ構成体。
  52. 【請求項52】 請求項47において、前記第一選択回
    路がESD保護を与え且つ少なくとも第一ESD保護装
    置を有することを特徴とするメモリ構成体。
  53. 【請求項53】 請求項33において、前記第一ボンド
    パッドが前記メモリ装置及び前記より小さな密度のメモ
    リ装置の両方に対して前記第一アドレスバッファへ接続
    しており、且つプログラミング手段が選択的に前記第一
    アドレスバッファをして前記第一ボンドパッド上の第一
    信号を無視させ且つ前記メモリ装置の出力上に適宜の論
    理状態を維持することを特徴とするメモリ構成体。
  54. 【請求項54】 請求項53において、前記書込手段が
    ヒューズであり且つ前記ヒューズを焼切することによっ
    て前記第一アドレスバッファをして前記第一ボンドパッ
    ド上の第一信号を無視させることを特徴とするメモリ構
    成体。
  55. 【請求項55】 請求項33において、前記メモリ装置
    の場合には、前記第一ボンドパッドがアドレスピンを表
    わしており、且つ前記より小さな密度の装置の場合に
    は、前記第一ボンドパッドが制御ピンを表わしているこ
    とを特徴とするメモリ構成体。
  56. 【請求項56】 請求項55において、前記制御ピンが
    チップイネーブルピンであることを特徴とするメモリ構
    成体。
  57. 【請求項57】 請求項33において、前記メモリ装置
    の場合には、前記第一ボンドパッドがアドレスピンを表
    わしており、且つ前記より小さな密度の装置の場合に
    は、前記第一ボンドパッドが非接続ピンを表わしている
    ことを特徴とするメモリ構成体。
  58. 【請求項58】 請求項57において、前記メモリ装置
    が256K SRAMであり且つ前記より小さな密度の
    メモリ装置が64K SRAMであることを特徴とする
    メモリ構成体。
  59. 【請求項59】 請求項57において、前記メモリ装置
    が1MegバーストRAMであり且つ前記より小さな密
    度のメモリ装置が512KバーストRAMであることを
    特徴とするメモリ構成体。
  60. 【請求項60】 請求項33において、前記より小さな
    密度のメモリ装置を画定する前記第一アドレスバッファ
    に対する適宜の論理状態が前記メモリ装置の複数個の冗
    長要素へのアクセスを制限するものではないことを特徴
    とするメモリ構成体。
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10332786A (ja) * 1997-05-27 1998-12-18 Nec Kyushu Ltd 半導体装置
US5920227A (en) * 1997-06-16 1999-07-06 Advanced Micro Devices, Inc. Zero current draw circuit for use during a bonding option
US6330635B1 (en) * 1999-04-16 2001-12-11 Intel Corporation Multiple user interfaces for an integrated flash device
KR100372248B1 (ko) * 2000-08-03 2003-02-17 삼성전자주식회사 메모리 셀 구제 장치 및 방법
JP4726334B2 (ja) * 2001-06-13 2011-07-20 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
JP2003257196A (ja) * 2002-02-28 2003-09-12 Sharp Corp 半導体メモリ
JP3966747B2 (ja) * 2002-03-13 2007-08-29 ローム株式会社 半導体集積回路装置
US7055069B2 (en) 2002-08-23 2006-05-30 Infineon Technologies Ag Spare input/output buffer
KR100576824B1 (ko) * 2003-11-27 2006-05-10 삼성전자주식회사 반도체 메모리 집적회로 및 이 회로의 배치방법
KR100621773B1 (ko) * 2005-02-07 2006-09-14 삼성전자주식회사 전기적 퓨즈 회로 및 레이아웃 방법
US7359173B2 (en) * 2005-07-26 2008-04-15 Texas Instruments Incorporated System and method for protecting IC components
KR101046229B1 (ko) * 2009-03-17 2011-07-04 주식회사 하이닉스반도체 퓨즈를 포함하는 반도체 장치

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4446534A (en) * 1980-12-08 1984-05-01 National Semiconductor Corporation Programmable fuse circuit
US4476546A (en) * 1982-03-19 1984-10-09 Fairchild Camera & Instrument Corp. Programmable address buffer for partial products
US4489401A (en) * 1982-04-12 1984-12-18 Seeq Technology, Inc. Electrical partitioning scheme for improving yields during the manufacture of semiconductor memory arrays
JPH0793037B2 (ja) * 1988-11-21 1995-10-09 三菱電機株式会社 半導体記憶装置
JPH02285589A (ja) * 1989-04-27 1990-11-22 Nec Corp 半導体メモリ
JPH07105159B2 (ja) * 1989-11-16 1995-11-13 株式会社東芝 半導体記憶装置の冗長回路
US5270983A (en) * 1990-09-13 1993-12-14 Ncr Corporation Single element security fusible link
JP2629475B2 (ja) * 1991-04-04 1997-07-09 松下電器産業株式会社 半導体集積回路
FR2684206B1 (fr) * 1991-11-25 1994-01-07 Sgs Thomson Microelectronics Sa Circuit de lecture de fusible de redondance pour memoire integree.
JP2923114B2 (ja) * 1992-02-18 1999-07-26 株式会社沖マイクロデザイン宮崎 冗長デコーダ回路
US5327381A (en) * 1992-06-03 1994-07-05 Mips Computer Systems, Inc. Redundancy selection apparatus and method for an array
US5355344A (en) * 1992-11-13 1994-10-11 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Structure for using a portion of an integrated circuit die
US5319592A (en) * 1992-11-25 1994-06-07 Fujitsu Limited Fuse-programming circuit
US5471431A (en) * 1993-04-22 1995-11-28 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Structure to recover a portion of a partially functional embedded memory

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