JP2629475B2 - 半導体集積回路 - Google Patents
半導体集積回路Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体メモリの不良メ
モリセルを救済するための冗長回路を有する半導体集積
回路に関し、特に、消費電力を低減し、マスクパターン
レイアウト時の占有面積を縮小しつつ、高速に動作する
半導体集積回路に関するものである。
モリセルを救済するための冗長回路を有する半導体集積
回路に関し、特に、消費電力を低減し、マスクパターン
レイアウト時の占有面積を縮小しつつ、高速に動作する
半導体集積回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図5従来の半導体集積回路の回路構成の
一例を示し、図6、図5示す従来の半導体集積回路に於
けるの動作タイミングチャートを示す。
一例を示し、図6、図5示す従来の半導体集積回路に於
けるの動作タイミングチャートを示す。
【0003】図5に於いて、A0、A1、……Anは不良メモ
リセルをアクセスするアドレス信号であり、XA0、XA1、
……XAnはそれぞれA0、A1、……Anと論理的に相補的な
レベルの信号である。200〜207は冗長回路使用時
にレーザ光線によって切断するヒューズであり、ヒュー
ズ200〜207の一端はプリチャージノードPR0に共
通に接続されている。208〜215はゲートにアドレ
ス信号A0〜An、XA0〜XAnを入力し、ソースが接地され、
ドレインがヒューズ200〜207の一端に接続されて
いるNチャネルトランジスタである。216はゲートに
プリチャージ制御信号XPRCを入力し、ソースが電源電圧
Vccに接続され、ドレインがプリチャージノードPR0に
接続されているPチャネルトランジスタである。
リセルをアクセスするアドレス信号であり、XA0、XA1、
……XAnはそれぞれA0、A1、……Anと論理的に相補的な
レベルの信号である。200〜207は冗長回路使用時
にレーザ光線によって切断するヒューズであり、ヒュー
ズ200〜207の一端はプリチャージノードPR0に共
通に接続されている。208〜215はゲートにアドレ
ス信号A0〜An、XA0〜XAnを入力し、ソースが接地され、
ドレインがヒューズ200〜207の一端に接続されて
いるNチャネルトランジスタである。216はゲートに
プリチャージ制御信号XPRCを入力し、ソースが電源電圧
Vccに接続され、ドレインがプリチャージノードPR0に
接続されているPチャネルトランジスタである。
【0004】230は一つの不良メモリセルに対応する
アドレスをプログラムするプログラマブル回路である。
231〜233はプログラマブル回路230が示す破線
で囲まれた回路部分と同様の回路を有するプログラマブ
ル回路であり、それぞれ、プリチャージ制御信号XPRC及
び、アドレス信号A0〜An、XA0〜XAnを入力し、プリチャ
ージノードPR1〜PR3を出力する。
アドレスをプログラムするプログラマブル回路である。
231〜233はプログラマブル回路230が示す破線
で囲まれた回路部分と同様の回路を有するプログラマブ
ル回路であり、それぞれ、プリチャージ制御信号XPRC及
び、アドレス信号A0〜An、XA0〜XAnを入力し、プリチャ
ージノードPR1〜PR3を出力する。
【0005】240はプリチャージノードPR0〜PR3を
入力し、冗長回路活性化信号SPEを出力するORゲートで
ある。241は冗長回路活性化信号SPEを入力し、冗長
回路活性化信号SPEの反転信号を出力するインバータで
ある。242は冗長回路活性化信号SPE及び、クロック
信号CLKを入力し、冗長回路ドライブ信号SPAREを出力す
るドライバである。243は冗長回路活性化信号SPEの
反転信号及び、クロック信号CLKを入力し、通常回路ド
ライブ信号NORMALを出力するドライバである。
入力し、冗長回路活性化信号SPEを出力するORゲートで
ある。241は冗長回路活性化信号SPEを入力し、冗長
回路活性化信号SPEの反転信号を出力するインバータで
ある。242は冗長回路活性化信号SPE及び、クロック
信号CLKを入力し、冗長回路ドライブ信号SPAREを出力す
るドライバである。243は冗長回路活性化信号SPEの
反転信号及び、クロック信号CLKを入力し、通常回路ド
ライブ信号NORMALを出力するドライバである。
【0006】以上の様に構成された従来の半導体集積回
路に於いて、不良メモリセルに対応するアドレスの最下
位ビットが0の場合、同一アドレスがアクセスされる
と、アドレス信号A0がLowレベルになり、アドレス信号X
A0がHighレベルになる。即ち、Nチャネルトランジスタ
208が非導通となり、Nチャネルトランジスタ209
が導通する。従って、冗長回路を使用する場合、ヒュー
ズ201をレーザ光線で切断する。逆に、不良メモリセ
ルに対応するアドレスの最下位ビットが1の場合、同一
アドレスがアクセスされると、アドレス信号A0がHighレ
ベルになり、アドレス信号XA0がLowレベルになる。即
ち、Nチャネルトランジスタ208が導通し、Nチャネ
ルトランジスタ209が非導通となる。従って、冗長回
路を使用する場合、ヒューズ200をレーザ光線で切断
する。
路に於いて、不良メモリセルに対応するアドレスの最下
位ビットが0の場合、同一アドレスがアクセスされる
と、アドレス信号A0がLowレベルになり、アドレス信号X
A0がHighレベルになる。即ち、Nチャネルトランジスタ
208が非導通となり、Nチャネルトランジスタ209
が導通する。従って、冗長回路を使用する場合、ヒュー
ズ201をレーザ光線で切断する。逆に、不良メモリセ
ルに対応するアドレスの最下位ビットが1の場合、同一
アドレスがアクセスされると、アドレス信号A0がHighレ
ベルになり、アドレス信号XA0がLowレベルになる。即
ち、Nチャネルトランジスタ208が導通し、Nチャネ
ルトランジスタ209が非導通となる。従って、冗長回
路を使用する場合、ヒューズ200をレーザ光線で切断
する。
【0007】以下、A1とXA1、A2とXA2、……AnとXAnに
関しても同様にヒューズの切断が行なわれ、2n個のヒ
ューズの内、n個のヒューズが切断されて一つの不良メ
モリセルに対応するアドレスがプログラムされる。従っ
て、図5示す従来の半導体集積回路の一例に於いては、
四つのアドレスに対応する不良メモリセルを冗長メモリ
セルに置換することができる。
関しても同様にヒューズの切断が行なわれ、2n個のヒ
ューズの内、n個のヒューズが切断されて一つの不良メ
モリセルに対応するアドレスがプログラムされる。従っ
て、図5示す従来の半導体集積回路の一例に於いては、
四つのアドレスに対応する不良メモリセルを冗長メモリ
セルに置換することができる。
【0008】図5に示す従来の半導体集積回路が動作す
ると、先ず、図6(a)に示す如く、プリチャージ制御
信号XPRCがLowレベルの期間にPチャネルトランジスタ2
16が導通し、図6(c)に示す如く、プリチャージノ
ードPR0〜PR3がHighレベルに保持される。続いてプリ
チャージ制御信号XPRCがHighレベルに遷移した後、図6
(b)に示す如く、アドレス信号A0〜An、XA0〜XAnがHi
ghレベルもしくはLowレベルのいずれかに確定する。例
えば、プログラマブル回路230に於いてプログラムを
行なった不良メモリセルに対応するアドレスがアクセス
された場合、Nチャネルトランジスタ208〜215の
内、アドレス信号A0〜An、XA0〜XAnによりゲート電位が
Highレベルとなり導通状態のトランジスタのドレインに
接続されるヒューズは全て切断されているため、図6
(c)の破線に示す如く、プリチャージノードPR0はHi
ghレベルに保持される。
ると、先ず、図6(a)に示す如く、プリチャージ制御
信号XPRCがLowレベルの期間にPチャネルトランジスタ2
16が導通し、図6(c)に示す如く、プリチャージノ
ードPR0〜PR3がHighレベルに保持される。続いてプリ
チャージ制御信号XPRCがHighレベルに遷移した後、図6
(b)に示す如く、アドレス信号A0〜An、XA0〜XAnがHi
ghレベルもしくはLowレベルのいずれかに確定する。例
えば、プログラマブル回路230に於いてプログラムを
行なった不良メモリセルに対応するアドレスがアクセス
された場合、Nチャネルトランジスタ208〜215の
内、アドレス信号A0〜An、XA0〜XAnによりゲート電位が
Highレベルとなり導通状態のトランジスタのドレインに
接続されるヒューズは全て切断されているため、図6
(c)の破線に示す如く、プリチャージノードPR0はHi
ghレベルに保持される。
【0009】また、プログラマブル回路230に於いて
プログラムを行なった不良メモリセルに対応するアドレ
ス以外のアドレスがアクセスされた場合、Nチャネルト
ランジスタ208〜215の内、アドレス信号A0〜An、
XA0〜XAnによりゲート電位がHighレベルとなり導通状態
のトランジスタのドレインに接続されているヒューズの
内、切断されていないヒューズを通じて、プリチャージ
ノードPR0に充電されていた電荷が放電され、図6
(c)の実線に示す如く、プリチャージノードPR0はLo
wレベルに遷移する。以下同様に、プログラマブル回路
231、232、233に於いてプログラムを行なった
不良メモリセルに対応するアドレスがアクセスされた場
合、それぞれノードPR1、PR2、PR3が図6(c)の破
線に示す如くHighレベルに保持される。
プログラムを行なった不良メモリセルに対応するアドレ
ス以外のアドレスがアクセスされた場合、Nチャネルト
ランジスタ208〜215の内、アドレス信号A0〜An、
XA0〜XAnによりゲート電位がHighレベルとなり導通状態
のトランジスタのドレインに接続されているヒューズの
内、切断されていないヒューズを通じて、プリチャージ
ノードPR0に充電されていた電荷が放電され、図6
(c)の実線に示す如く、プリチャージノードPR0はLo
wレベルに遷移する。以下同様に、プログラマブル回路
231、232、233に於いてプログラムを行なった
不良メモリセルに対応するアドレスがアクセスされた場
合、それぞれノードPR1、PR2、PR3が図6(c)の破
線に示す如くHighレベルに保持される。
【0010】プログラマブル回路230〜233におい
て、プログラムを行なった不良メモリセルに対応するア
ドレスのいずれかがアクセスされた場合、プリチャージ
ノードPR0〜PR3のいずれかがHighレベルに保持され、
冗長回路活性化信号SPEは図6(d)の破線に示す如
く、Highレベルに保持される。その後、図6(e)に示
す如く、クロック信号CLKがHighレベルに遷移し、冗長
回路ドライブ信号SPAREが図6(f)の破線に示す如
く、Highレベルに遷移し、冗長メモリセル(不図示)を
アクセスする。同時に、通常回路ドライブ信号NORMALが
図6(g)の破線に示す如く、Lowレベルに保持され、
通常メモリセル(不図示)のアクセスは行なわれない。
て、プログラムを行なった不良メモリセルに対応するア
ドレスのいずれかがアクセスされた場合、プリチャージ
ノードPR0〜PR3のいずれかがHighレベルに保持され、
冗長回路活性化信号SPEは図6(d)の破線に示す如
く、Highレベルに保持される。その後、図6(e)に示
す如く、クロック信号CLKがHighレベルに遷移し、冗長
回路ドライブ信号SPAREが図6(f)の破線に示す如
く、Highレベルに遷移し、冗長メモリセル(不図示)を
アクセスする。同時に、通常回路ドライブ信号NORMALが
図6(g)の破線に示す如く、Lowレベルに保持され、
通常メモリセル(不図示)のアクセスは行なわれない。
【0011】また、プログラマブル回路230〜233
において、プログラムを行なった不良メモリセルに対応
するアドレス以外のアドレスがアクセスされた場合、プ
リチャージノードPR0〜PR3は全て図6(c)の実線に
示す如く、Lowレベルに遷移し、冗長回路活性化信号SPE
は図6(d)の実線に示す如く、Lowレベルに遷移す
る。従って、その後、図6(e)に示す如く、クロック
信号CLKがHighレベルに遷移すると、冗長回路ドライブ
信号SPAREは図6(f)の実線に示す如く、Lowレベルに
保持され、冗長メモリセル(不図示)のアクセスは行な
われない。同時に、通常回路ドライブ信号NORMALが図6
(g)の実線に示す如く、Highレベルに遷移し、通常メ
モリセル(不図示)のアクセスが行なわれる。
において、プログラムを行なった不良メモリセルに対応
するアドレス以外のアドレスがアクセスされた場合、プ
リチャージノードPR0〜PR3は全て図6(c)の実線に
示す如く、Lowレベルに遷移し、冗長回路活性化信号SPE
は図6(d)の実線に示す如く、Lowレベルに遷移す
る。従って、その後、図6(e)に示す如く、クロック
信号CLKがHighレベルに遷移すると、冗長回路ドライブ
信号SPAREは図6(f)の実線に示す如く、Lowレベルに
保持され、冗長メモリセル(不図示)のアクセスは行な
われない。同時に、通常回路ドライブ信号NORMALが図6
(g)の実線に示す如く、Highレベルに遷移し、通常メ
モリセル(不図示)のアクセスが行なわれる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の様
な構成では、全メモリセルへのアクセスの内、殆どを占
める通常メモリセルへのアクセスが行なわれる場合、プ
リチャージノードPR0〜PR3は全て、1回のアクセス毎
にPチャネルトランジスタによる充電と、切断されてい
ないヒューズ及び導通しているNチャネルトランジスタ
による放電が繰り返され、実際の回路動作に寄与しない
電力消費が行なわれるという問題点を有していた。
な構成では、全メモリセルへのアクセスの内、殆どを占
める通常メモリセルへのアクセスが行なわれる場合、プ
リチャージノードPR0〜PR3は全て、1回のアクセス毎
にPチャネルトランジスタによる充電と、切断されてい
ないヒューズ及び導通しているNチャネルトランジスタ
による放電が繰り返され、実際の回路動作に寄与しない
電力消費が行なわれるという問題点を有していた。
【0013】また、メモリの大容量化に伴い、メモリセ
ルへのアクセスに使用されるアドレスは増加しており、
不良メモリセルに対応するアドレスをプログラムするた
めのヒューズの本数も増加している。しかしながら、ヒ
ューズのマスクパターンレイアウトは、電気的又は機械
的に切断を行なう都合上、占有面積が大きく上記の様な
回路構成では、プログラムアドレスの増加に伴い、占有
面積が増加すると言う問題点をも有していた。
ルへのアクセスに使用されるアドレスは増加しており、
不良メモリセルに対応するアドレスをプログラムするた
めのヒューズの本数も増加している。しかしながら、ヒ
ューズのマスクパターンレイアウトは、電気的又は機械
的に切断を行なう都合上、占有面積が大きく上記の様な
回路構成では、プログラムアドレスの増加に伴い、占有
面積が増加すると言う問題点をも有していた。
【0014】本発明はかかる点に鑑み、通常メモリセル
へのアクセスの際の消費電力を低減し、マスクパターン
レイアウト時の占有面積を縮小しつつ高速に動作する半
導体集積回路を提供することを目的とする。
へのアクセスの際の消費電力を低減し、マスクパターン
レイアウト時の占有面積を縮小しつつ高速に動作する半
導体集積回路を提供することを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明は、電気的又は機
械的に切断可能な複数のヒューズと、ゲートがメモリセ
ルのアクセスに用いるアドレス信号の一部をデコードし
たアドレスデコード信号に接続され、ドレインが前記複
数のヒューズの一端に接続され、ソースが共通のプリチ
ャージノードに接続された第1のトランジスタを含むプ
ログラマブル回路を複数備え、ゲートが前記メモリセル
のアクセスに用いるアドレス信号の内、前記デコードに
用いたアドレス信号を除いたアドレス信号に接続され、
ソースが第1の電位に接続され、ドレインが前記ヒュー
ズの他端に接続された第2のトランジスタと、ゲートが
プリチャージ制御信号に接続され、ソースが第2の電位
に接続され、ドレインが前記共通のプリチャージノード
に接続された第3のトランジスタとを備えた半導体集積
回路である。
械的に切断可能な複数のヒューズと、ゲートがメモリセ
ルのアクセスに用いるアドレス信号の一部をデコードし
たアドレスデコード信号に接続され、ドレインが前記複
数のヒューズの一端に接続され、ソースが共通のプリチ
ャージノードに接続された第1のトランジスタを含むプ
ログラマブル回路を複数備え、ゲートが前記メモリセル
のアクセスに用いるアドレス信号の内、前記デコードに
用いたアドレス信号を除いたアドレス信号に接続され、
ソースが第1の電位に接続され、ドレインが前記ヒュー
ズの他端に接続された第2のトランジスタと、ゲートが
プリチャージ制御信号に接続され、ソースが第2の電位
に接続され、ドレインが前記共通のプリチャージノード
に接続された第3のトランジスタとを備えた半導体集積
回路である。
【0016】
【作用】本発明は前記した構成により、第3のトランジ
スタがプリチャージ制御信号により共通のプリチャージ
ノードを充電する。続いてプリチャージ制御信号が非活
性化し第3のトランジスタが非導通化した後に、通常メ
モリセルをアクセスするアドレス信号が確定すると、複
数あるプログラマブル回路に含まれる第1のトランジス
タの内、予め一部アドレスをデコードした信号により選
択された第1のトランジスタのみが導通し、切断されて
いないヒューズ及び、第2のトランジスタの内、アドレ
ス信号により導通しているトランジスタを通じて共通の
プリチャージノードの電荷が放電される。この際、充放
電が行なわれるノードは、プログラマブル回路が複数あ
るにも係わらず、共通のプリチャージノードのみとなり
電力消費が低減される。
スタがプリチャージ制御信号により共通のプリチャージ
ノードを充電する。続いてプリチャージ制御信号が非活
性化し第3のトランジスタが非導通化した後に、通常メ
モリセルをアクセスするアドレス信号が確定すると、複
数あるプログラマブル回路に含まれる第1のトランジス
タの内、予め一部アドレスをデコードした信号により選
択された第1のトランジスタのみが導通し、切断されて
いないヒューズ及び、第2のトランジスタの内、アドレ
ス信号により導通しているトランジスタを通じて共通の
プリチャージノードの電荷が放電される。この際、充放
電が行なわれるノードは、プログラマブル回路が複数あ
るにも係わらず、共通のプリチャージノードのみとなり
電力消費が低減される。
【0017】また、プリチャージに用いる第3のトラン
ジスタの数を削減し且つ、予め一部アドレスをデコード
してプログラマブル回路を第一のトランジスタで選択
し、電気的又は機械的な手段によりアドレスプログラム
を行なうヒューズの本数を削減することにより、マスク
パターンレイアウト時の占有面積を縮小する。
ジスタの数を削減し且つ、予め一部アドレスをデコード
してプログラマブル回路を第一のトランジスタで選択
し、電気的又は機械的な手段によりアドレスプログラム
を行なうヒューズの本数を削減することにより、マスク
パターンレイアウト時の占有面積を縮小する。
【0018】
【実施例】(実施例1)図1は本発明の第1の実施例に
於ける半導体集積回路の回路構成図を示し、図2は図1
に示す本発明の第1の実施例に於ける動作タイミングチ
ャートを示す。
於ける半導体集積回路の回路構成図を示し、図2は図1
に示す本発明の第1の実施例に於ける動作タイミングチ
ャートを示す。
【0019】図1に於いて、A0、A1、……An-2、An-1、
Anは不良メモリセルをアクセスするアドレス信号であ
り、XA0、XA1、……XAn-2、XAn-1、XAnはそれぞれA0、A
1、……An-2、An-1、Anと論理的に相補的なレベルの信
号である。100〜103はアドレス信号の上位2ビッ
トの信号An、An-1、XAn、XAn-1の内、2つのアドレス信
号を入力し、アドレスデコード信号BLK0〜BLK3を出力
するANDゲートである。104〜109は冗長回路使用
時にレーザ光線によって切断するヒューズである。11
0はゲートがアドレスデコード信号をBLK0に接続さ
れ、ソースが共通のプリチャージノードPRに接続され、
ドレインがヒューズ104〜109の一端に共通に接続
されている第1のトランジスタである。111〜116
はゲートがアドレス信号A0、A1、……An-2XA0、及びXA
1、……XAn-2に接続され、ソースが第1の電源となる接
地線に接続され、ドレインがヒューズ104〜109の
他端に接続されている第2のトランジスタである。11
7はゲートがプリチャージ制御信号XPRCに接続され、ソ
ースが第2の電源となる外部電源あるいは、内部回路で
発生した前記第1の電源の電位より高い電位を持つ電源
線に接続され、ドレインが共通のプリチャージノードPR
に接続されている第3のトランジスタである。ここで、
第1のトランジスタ110及び、第2のトランジスタ1
11〜116はNチャネルトランジスタであり、第3の
トランジスタ117はPチャネルトランジスタである。
118はヒューズ104〜109、第1のトランジスタ
110から成り、一つの不良メモリセルに対応するアド
レスをプログラムするプログラマブル回路である。
Anは不良メモリセルをアクセスするアドレス信号であ
り、XA0、XA1、……XAn-2、XAn-1、XAnはそれぞれA0、A
1、……An-2、An-1、Anと論理的に相補的なレベルの信
号である。100〜103はアドレス信号の上位2ビッ
トの信号An、An-1、XAn、XAn-1の内、2つのアドレス信
号を入力し、アドレスデコード信号BLK0〜BLK3を出力
するANDゲートである。104〜109は冗長回路使用
時にレーザ光線によって切断するヒューズである。11
0はゲートがアドレスデコード信号をBLK0に接続さ
れ、ソースが共通のプリチャージノードPRに接続され、
ドレインがヒューズ104〜109の一端に共通に接続
されている第1のトランジスタである。111〜116
はゲートがアドレス信号A0、A1、……An-2XA0、及びXA
1、……XAn-2に接続され、ソースが第1の電源となる接
地線に接続され、ドレインがヒューズ104〜109の
他端に接続されている第2のトランジスタである。11
7はゲートがプリチャージ制御信号XPRCに接続され、ソ
ースが第2の電源となる外部電源あるいは、内部回路で
発生した前記第1の電源の電位より高い電位を持つ電源
線に接続され、ドレインが共通のプリチャージノードPR
に接続されている第3のトランジスタである。ここで、
第1のトランジスタ110及び、第2のトランジスタ1
11〜116はNチャネルトランジスタであり、第3の
トランジスタ117はPチャネルトランジスタである。
118はヒューズ104〜109、第1のトランジスタ
110から成り、一つの不良メモリセルに対応するアド
レスをプログラムするプログラマブル回路である。
【0020】119〜121はプログラマブル回路11
8が示す破線で囲まれた回路部分と同様の回路を有する
プログラマブル回路であり、プログラマブル回路119
〜121が有する第1のトランジスタのゲートにはそれ
ぞれアドレスデコード信号BLK1〜BLK3が接続され、ド
レインが共通のプリチャージノードPRに接続されてい
る。また、プログラマブル回路119〜121に含まれ
るヒューズの一端はプログラマブル回路118と同様
に、第2のトランジスタ111〜116のドレインに接
続されている。122は共通のプリチャージノードPRを
入力し、冗長回路活性化信号SPEを出力するバッファで
ある。123は冗長回路活性化信号SPEを入力し冗長回
路活性化信号SPEの反転信号を出力するインバータであ
る。124は冗長回路活性化信号SPEとクロック信号CLK
を入力し、冗長回路ドライブ信号SPAREを出力するドラ
イバである。125は冗長回路活性化信号SPEの反転信
号とクロック信号CLKを入力し、通常回路ドライブ信号N
ORMALを出力するドライバである。
8が示す破線で囲まれた回路部分と同様の回路を有する
プログラマブル回路であり、プログラマブル回路119
〜121が有する第1のトランジスタのゲートにはそれ
ぞれアドレスデコード信号BLK1〜BLK3が接続され、ド
レインが共通のプリチャージノードPRに接続されてい
る。また、プログラマブル回路119〜121に含まれ
るヒューズの一端はプログラマブル回路118と同様
に、第2のトランジスタ111〜116のドレインに接
続されている。122は共通のプリチャージノードPRを
入力し、冗長回路活性化信号SPEを出力するバッファで
ある。123は冗長回路活性化信号SPEを入力し冗長回
路活性化信号SPEの反転信号を出力するインバータであ
る。124は冗長回路活性化信号SPEとクロック信号CLK
を入力し、冗長回路ドライブ信号SPAREを出力するドラ
イバである。125は冗長回路活性化信号SPEの反転信
号とクロック信号CLKを入力し、通常回路ドライブ信号N
ORMALを出力するドライバである。
【0021】以上の様に構成された本発明の第1の実施
例の半導体集積回路について、以下その動作を説明す
る。
例の半導体集積回路について、以下その動作を説明す
る。
【0022】不良メモリセルに対応するアドレスの最下
位ビットが0の場合、同一アドレスがアクセスされる
と、アドレス信号A0がLowレベルになり、アドレス信号X
A0がHighレベルになる。即ち、第2のトランジスタ11
1が非導通となり、第2のトランジスタ112が導通す
る。従って、冗長回路を使用する場合、ヒューズ105
をレーザ光線で切断する。
位ビットが0の場合、同一アドレスがアクセスされる
と、アドレス信号A0がLowレベルになり、アドレス信号X
A0がHighレベルになる。即ち、第2のトランジスタ11
1が非導通となり、第2のトランジスタ112が導通す
る。従って、冗長回路を使用する場合、ヒューズ105
をレーザ光線で切断する。
【0023】逆に、不良メモリセルに対応するアドレス
の最下位ビットが1の場合、同一アドレスがアクセスさ
れると、アドレス信号A0がHighレベルになり、アドレス
信号XA0がLowレベルになる。即ち、第2のトランジスタ
111が導通し、第2のトランジスタ112が非導通と
なる。従って、冗長回路を使用する場合、ヒューズ10
4をレーザ光線で切断する。以下、A1とXA1、A2とXA2、
……An-2とXAn-2に関しても同様にヒューズの切断が行
なわれ、2(n−2)個のヒューズの内、(n−2)個
のヒューズが切断されて一つの不良メモリセルに対応す
るアドレスがプログラムされる。即ち、プログラマブル
回路118に於いて一つの不良メモリセルを冗長メモリ
セルに置換することが可能であり、図1に示す本発明の
第1の実施例の半導体集積回路に於いては、四つの不良
メモリセルを冗長メモリセルに置換することができる。
の最下位ビットが1の場合、同一アドレスがアクセスさ
れると、アドレス信号A0がHighレベルになり、アドレス
信号XA0がLowレベルになる。即ち、第2のトランジスタ
111が導通し、第2のトランジスタ112が非導通と
なる。従って、冗長回路を使用する場合、ヒューズ10
4をレーザ光線で切断する。以下、A1とXA1、A2とXA2、
……An-2とXAn-2に関しても同様にヒューズの切断が行
なわれ、2(n−2)個のヒューズの内、(n−2)個
のヒューズが切断されて一つの不良メモリセルに対応す
るアドレスがプログラムされる。即ち、プログラマブル
回路118に於いて一つの不良メモリセルを冗長メモリ
セルに置換することが可能であり、図1に示す本発明の
第1の実施例の半導体集積回路に於いては、四つの不良
メモリセルを冗長メモリセルに置換することができる。
【0024】図2は同実施例の動作タイミングチャート
である。図1に示す本発明の第1の実施例の半導体集積
回路が動作すると、先ず、図2(a)に示す如く、プリ
チャージ制御信号XPRCがLowレベルの期間に第3のトラ
ンジスタ117が導通し、図2(d)に示す如く、共通
のプリチャージノードPRが充電されてHighレベルに保持
される。続いてプリチャージ制御信号XPRCがHighレベル
に遷移した後、図2(b)に示す如く、アドレス信号A0
〜An-2、An-1、An、XA0〜XAn-2、XAn-1、XAnがHighレベ
ルもしくはLowレベルのいずれかに確定し、図2(c)
に示す如く、アドレス信号の上位2ビットをデコードし
たアドレスデコード信号BLK0〜BLK3の内、一つのアド
レスデコード信号がHighレベルに遷移し、他の3つのア
ドレスデコード信号はLowレベルに保持される。これに
より、Highレベルに遷移したアドレスデコード信号が入
力するプログラマブル回路に含まれる第1のトランジス
タが導通する。例えば、プログラマブル回路118に於
いてプログラムを行なった不良メモリセルに対応するア
ドレスがアクセスされた場合、アドレスデコード信号BL
K0がHighレベルに遷移し、アドレスデコード信号BLK1
〜BLK3はLowレベルに保持される。従って、アドレスデ
コード信号BLK0が入力している第1のトランジスタ1
10が導通し、他のプログラマブル回路119〜121
に含まれる第1のトランジスタは非導通となる。第2の
トランジスタ111〜116の内、アドレス信号A0〜An
-2、XA0〜XAn-2によりゲート電位がHighレベルとなり導
通状態の第2のトランジスタのドレインに接続されるヒ
ューズは全て切断されているため、図2(d)の破線に
示す如く、共通のプリチャージノードPRはHighレベルに
保持される。また、プログラマブル回路118に於いて
プログラムを行なった不良メモリセルに対応するアドレ
ス以外のアドレスがアクセスされた場合、第2のトラン
ジスタ111〜116の内、アドレス信号A0〜An-2、XA
0〜XAn-2によりゲート電位がHighレベルとなり導通状態
のトランジスタのドレインに接続されているヒューズの
内、切断されていないヒューズを通じて、共通のプリチ
ャージノードPRに充電されていた電荷が放電され、共通
のプリチャージノードPRは図2(d)の実線に示す如
く、Lowレベルに遷移する。
である。図1に示す本発明の第1の実施例の半導体集積
回路が動作すると、先ず、図2(a)に示す如く、プリ
チャージ制御信号XPRCがLowレベルの期間に第3のトラ
ンジスタ117が導通し、図2(d)に示す如く、共通
のプリチャージノードPRが充電されてHighレベルに保持
される。続いてプリチャージ制御信号XPRCがHighレベル
に遷移した後、図2(b)に示す如く、アドレス信号A0
〜An-2、An-1、An、XA0〜XAn-2、XAn-1、XAnがHighレベ
ルもしくはLowレベルのいずれかに確定し、図2(c)
に示す如く、アドレス信号の上位2ビットをデコードし
たアドレスデコード信号BLK0〜BLK3の内、一つのアド
レスデコード信号がHighレベルに遷移し、他の3つのア
ドレスデコード信号はLowレベルに保持される。これに
より、Highレベルに遷移したアドレスデコード信号が入
力するプログラマブル回路に含まれる第1のトランジス
タが導通する。例えば、プログラマブル回路118に於
いてプログラムを行なった不良メモリセルに対応するア
ドレスがアクセスされた場合、アドレスデコード信号BL
K0がHighレベルに遷移し、アドレスデコード信号BLK1
〜BLK3はLowレベルに保持される。従って、アドレスデ
コード信号BLK0が入力している第1のトランジスタ1
10が導通し、他のプログラマブル回路119〜121
に含まれる第1のトランジスタは非導通となる。第2の
トランジスタ111〜116の内、アドレス信号A0〜An
-2、XA0〜XAn-2によりゲート電位がHighレベルとなり導
通状態の第2のトランジスタのドレインに接続されるヒ
ューズは全て切断されているため、図2(d)の破線に
示す如く、共通のプリチャージノードPRはHighレベルに
保持される。また、プログラマブル回路118に於いて
プログラムを行なった不良メモリセルに対応するアドレ
ス以外のアドレスがアクセスされた場合、第2のトラン
ジスタ111〜116の内、アドレス信号A0〜An-2、XA
0〜XAn-2によりゲート電位がHighレベルとなり導通状態
のトランジスタのドレインに接続されているヒューズの
内、切断されていないヒューズを通じて、共通のプリチ
ャージノードPRに充電されていた電荷が放電され、共通
のプリチャージノードPRは図2(d)の実線に示す如
く、Lowレベルに遷移する。
【0025】以下同様に、プログラマブル回路119〜
121に於いてプログラムを行なった不良メモリセルに
対応するアドレスがアクセスされた場合、共通のプリチ
ャージノードPRは図2(d)の破線に示す如く、Highレ
ベルに保持される。即ち、プログラマブル回路118〜
121に置いてプログラムを行なった不良メモリセルに
対応するアドレスのいずれかがアクセスされた場合、共
通のプリチャージノードPRがHighレベルに保持され、冗
長回路活性化信号SPEは図2(e)の破線に示す如く、H
ighレベルに保持される。その後、図2(f)に示す如
く、クロック信号CLKがHighレベルに遷移し、冗長回路
ドライブ信号SPAREが図2(g)の破線に示す如く、Hig
hレベルに遷移し、冗長メモリセル(不図示)をアクセ
スする。同時に、通常回路ドライブ信号NORMALが図2
(h)の破線に示す如く、Lowレベルに保持され、通常
メモリセル(不図示)のアクセスは行なわれない。
121に於いてプログラムを行なった不良メモリセルに
対応するアドレスがアクセスされた場合、共通のプリチ
ャージノードPRは図2(d)の破線に示す如く、Highレ
ベルに保持される。即ち、プログラマブル回路118〜
121に置いてプログラムを行なった不良メモリセルに
対応するアドレスのいずれかがアクセスされた場合、共
通のプリチャージノードPRがHighレベルに保持され、冗
長回路活性化信号SPEは図2(e)の破線に示す如く、H
ighレベルに保持される。その後、図2(f)に示す如
く、クロック信号CLKがHighレベルに遷移し、冗長回路
ドライブ信号SPAREが図2(g)の破線に示す如く、Hig
hレベルに遷移し、冗長メモリセル(不図示)をアクセ
スする。同時に、通常回路ドライブ信号NORMALが図2
(h)の破線に示す如く、Lowレベルに保持され、通常
メモリセル(不図示)のアクセスは行なわれない。
【0026】また、プログラマブル回路118〜121
に置いてプログラムを行なった不良メモリセルに対応す
るアドレス以外のアドレスがアクセスされた場合、共通
のプリチャージノードPRは図2(d)の実線に示す如
く、Lowレベルに遷移し、冗長回路活性化信号SPEは図2
(e)の実線に示す如く、Lowレベルに遷移する。従っ
て、その後、図2(f)に示す如く、クロック信号CLK
がHighレベルに遷移すると、冗長回路ドライブ信号SPAR
Eは図2(g)の実線に示す如く、Lowレベルに保持さ
れ、冗長メモリセル(不図示)のアクセスは行なわれな
い。同時に、通常回路ドライブ信号NORMALが図2(h)
の実線に示す如く、Highレベルに遷移し、通常メモリセ
ル(不図示)のアクセスが行なわれる。
に置いてプログラムを行なった不良メモリセルに対応す
るアドレス以外のアドレスがアクセスされた場合、共通
のプリチャージノードPRは図2(d)の実線に示す如
く、Lowレベルに遷移し、冗長回路活性化信号SPEは図2
(e)の実線に示す如く、Lowレベルに遷移する。従っ
て、その後、図2(f)に示す如く、クロック信号CLK
がHighレベルに遷移すると、冗長回路ドライブ信号SPAR
Eは図2(g)の実線に示す如く、Lowレベルに保持さ
れ、冗長メモリセル(不図示)のアクセスは行なわれな
い。同時に、通常回路ドライブ信号NORMALが図2(h)
の実線に示す如く、Highレベルに遷移し、通常メモリセ
ル(不図示)のアクセスが行なわれる。
【0027】以上の様に本発明の第1の実施例によれ
ば、全メモリアクセスの殆どを占める通常メモリアクセ
スの際に、一箇所のノード、即ち、共通のプリチャージ
ノードPRのみで充放電が行なわれる様に回路を構成する
ことにより、消費電力の低減が可能である。
ば、全メモリアクセスの殆どを占める通常メモリアクセ
スの際に、一箇所のノード、即ち、共通のプリチャージ
ノードPRのみで充放電が行なわれる様に回路を構成する
ことにより、消費電力の低減が可能である。
【0028】また、プリチャージを行なう第3のトラン
ジスタが必要である箇所を一箇所のみとし、且つ、アド
レス信号の一部のビットを予めデコードした信号により
第1のトランジスタを選択して、一つの不良メモリセル
に対応するアドレスのプログラムに要するヒューズ本数
を削減することにより、マスクパターンレイアウト時の
占有面積を縮小することが可能である。マスクパターン
レイアウト時の占有面積を縮小することが可能である。
ジスタが必要である箇所を一箇所のみとし、且つ、アド
レス信号の一部のビットを予めデコードした信号により
第1のトランジスタを選択して、一つの不良メモリセル
に対応するアドレスのプログラムに要するヒューズ本数
を削減することにより、マスクパターンレイアウト時の
占有面積を縮小することが可能である。マスクパターン
レイアウト時の占有面積を縮小することが可能である。
【0029】(実施例2)図3本発明の第2の実施例に
於ける半導体集積回路の回路構成図を示し、図4は図3
に示す本発明の第2の実施例に於ける動作タイミングチ
ャートを示す。
於ける半導体集積回路の回路構成図を示し、図4は図3
に示す本発明の第2の実施例に於ける動作タイミングチ
ャートを示す。
【0030】図3に於いて、A0、A1、……An-2、An-1、
Anは不良メモリセルをアクセスするアドレス信号であ
り、XA0、XA1、……XAn-2、XAn-1、XAnはそれぞれA0、A
1、……An-2、An-1、Anと論理的に相補的なレベルの信
号である。150〜153はアドレス信号の上位2ビッ
トの信号An、An-1、XAn、XAn-1の内、2つのアドレス信
号を入力し、アドレスデコード信号BLK0〜BLK3を出力
するANDゲートである。154〜159は冗長回路使用
時にレーザ光線によって切断するヒューズである。16
0はゲートがアドレスデコード信号をBLK0に接続さ
れ、ソースが共通のプリチャージノードPRに接続され、
ドレインがヒューズ154〜159の一端が共通に接続
されるプリチャージノードSPR0に接続されている第1の
トランジスタである。
Anは不良メモリセルをアクセスするアドレス信号であ
り、XA0、XA1、……XAn-2、XAn-1、XAnはそれぞれA0、A
1、……An-2、An-1、Anと論理的に相補的なレベルの信
号である。150〜153はアドレス信号の上位2ビッ
トの信号An、An-1、XAn、XAn-1の内、2つのアドレス信
号を入力し、アドレスデコード信号BLK0〜BLK3を出力
するANDゲートである。154〜159は冗長回路使用
時にレーザ光線によって切断するヒューズである。16
0はゲートがアドレスデコード信号をBLK0に接続さ
れ、ソースが共通のプリチャージノードPRに接続され、
ドレインがヒューズ154〜159の一端が共通に接続
されるプリチャージノードSPR0に接続されている第1の
トランジスタである。
【0031】161〜166はゲートがアドレス信号XA
0、XA1、……XAn-2に接続され、ソースが接地され、ド
レインが第5のトランジスタ170〜175を介してヒ
ューズ154〜159の他端に接続されている第2のト
ランジスタである。167はゲートがプリチャージ制御
信号XPRCに接続され、ソースが電源電位に接続され、ド
レインが共通のプリチャージノードPRに接続されている
第3のトランジスタである。
0、XA1、……XAn-2に接続され、ソースが接地され、ド
レインが第5のトランジスタ170〜175を介してヒ
ューズ154〜159の他端に接続されている第2のト
ランジスタである。167はゲートがプリチャージ制御
信号XPRCに接続され、ソースが電源電位に接続され、ド
レインが共通のプリチャージノードPRに接続されている
第3のトランジスタである。
【0032】168はプリチャージ制御信号XPRCを入力
し、プリチャージ制御信号XPRCの反転信号を出力するイ
ンバータである。169はゲートがプリチャージ制御信
号XPRCの反転信号に接続され、ソースが電源電位に接続
され、ドレインがプリチャージノードSPR0に接続されて
いる第4のトランジスタである。170〜175はゲー
トがアドレスデコード信号BLK0に接続され、ソースが
第2のトランジスタ161〜166のドレインに接続さ
れ、ドレインがヒューズ154〜159の他端に接続さ
れている第5のトランジスタである。ここで、第1のト
ランジスタ160、第2のトランジスタ161〜16
6、第4のトランジスタ169及び、第5のトランジス
タ170〜175はNチャネルトランジスタであり、第
3のトランジスタ167はPチャネルトランジスタであ
る。
し、プリチャージ制御信号XPRCの反転信号を出力するイ
ンバータである。169はゲートがプリチャージ制御信
号XPRCの反転信号に接続され、ソースが電源電位に接続
され、ドレインがプリチャージノードSPR0に接続されて
いる第4のトランジスタである。170〜175はゲー
トがアドレスデコード信号BLK0に接続され、ソースが
第2のトランジスタ161〜166のドレインに接続さ
れ、ドレインがヒューズ154〜159の他端に接続さ
れている第5のトランジスタである。ここで、第1のト
ランジスタ160、第2のトランジスタ161〜16
6、第4のトランジスタ169及び、第5のトランジス
タ170〜175はNチャネルトランジスタであり、第
3のトランジスタ167はPチャネルトランジスタであ
る。
【0033】176はヒューズ154〜159、第1の
トランジスタ160、第4のトランジスタ169及び、
第5のトランジスタ170〜175から成り、一つの不
良メモリセルに対応するアドレスをプログラムするプロ
グラマブル回路である。177〜179はプログラマブ
ル回路176が示す破線で囲まれた回路部分と同様の回
路を有するプログラマブル回路であり、プログラマブル
回路177〜179が有する第1のトランジスタのゲー
トにはそれぞれアドレスデコード信号BLK1〜BLK3が接
続され、ドレインが共通のプリチャージノードPRに接続
されている。また、プログラマブル回路177〜179
が有する第5のトランジスタのソースは第2のトランジ
スタ161〜166のドレインに共通に接続されてい
る。180は共通のプリチャージノードPRを入力し、冗
長回路活性化信号SPEを出力するバッファである。18
1は冗長回路活性化信号SPEを入力し冗長回路活性化信
号SPEの反転信号を出力するインバータである。182
は冗長回路活性化信号SPEとクロック信号CLKを入力し、
冗長回路ドライブ信号SPAREを出力するドライバであ
る。183は冗長回路活性化信号SPEの反転信号とクロ
ック信号CLKを入力し、通常回路ドライブ信号NORMALを
出力するドライバである。
トランジスタ160、第4のトランジスタ169及び、
第5のトランジスタ170〜175から成り、一つの不
良メモリセルに対応するアドレスをプログラムするプロ
グラマブル回路である。177〜179はプログラマブ
ル回路176が示す破線で囲まれた回路部分と同様の回
路を有するプログラマブル回路であり、プログラマブル
回路177〜179が有する第1のトランジスタのゲー
トにはそれぞれアドレスデコード信号BLK1〜BLK3が接
続され、ドレインが共通のプリチャージノードPRに接続
されている。また、プログラマブル回路177〜179
が有する第5のトランジスタのソースは第2のトランジ
スタ161〜166のドレインに共通に接続されてい
る。180は共通のプリチャージノードPRを入力し、冗
長回路活性化信号SPEを出力するバッファである。18
1は冗長回路活性化信号SPEを入力し冗長回路活性化信
号SPEの反転信号を出力するインバータである。182
は冗長回路活性化信号SPEとクロック信号CLKを入力し、
冗長回路ドライブ信号SPAREを出力するドライバであ
る。183は冗長回路活性化信号SPEの反転信号とクロ
ック信号CLKを入力し、通常回路ドライブ信号NORMALを
出力するドライバである。
【0034】以上の様に構成された本発明の第2の実施
例の半導体集積回路について、以下その動作を説明す
る。
例の半導体集積回路について、以下その動作を説明す
る。
【0035】不良メモリセルに対応するアドレスの最下
位ビットが0の場合、同一アドレスがアクセスされる
と、アドレス信号A0がLowレベルになり、アドレス信号X
A0がHighレベルになる。即ち、第2のトランジスタ16
1が非導通となり、第2のトランジスタ162が導通す
る。従って、冗長回路を使用する場合、ヒューズ155
をレーザ光で切断する。逆に、不良メモリセルに対応す
るアドレスの最下位ビットが1の場合、同一アドレスが
アクセスされると、アドレス信号A0がHighレベルにな
り、アドレス信号XA0がLowレベルになる。即ち、第2の
トランジスタ161が導通し、第2のトランジスタ16
2が非導通となる。従って、冗長回路を使用する場合、
ヒューズ154をレーザ光線で切断する。以下、A1とXA
1、A2とXA2、……An-2とXAn-2に関しても同様にヒュー
ズの切断が行なわれ、2(n−2)個のヒューズの内、
(n−2)個のヒューズが切断されて一つの不良メモリ
セルに対応するアドレスがプログラムされる。即ち、プ
ログラマブル回路176に於いて一つの不良メモリセル
を冗長メモリセルに置換することが可能であり、図3に
示す本発明の第2の実施例の半導体集積回路に於いて
は、四つの不良メモリセルを冗長メモリセルに置換する
ことができる。
位ビットが0の場合、同一アドレスがアクセスされる
と、アドレス信号A0がLowレベルになり、アドレス信号X
A0がHighレベルになる。即ち、第2のトランジスタ16
1が非導通となり、第2のトランジスタ162が導通す
る。従って、冗長回路を使用する場合、ヒューズ155
をレーザ光で切断する。逆に、不良メモリセルに対応す
るアドレスの最下位ビットが1の場合、同一アドレスが
アクセスされると、アドレス信号A0がHighレベルにな
り、アドレス信号XA0がLowレベルになる。即ち、第2の
トランジスタ161が導通し、第2のトランジスタ16
2が非導通となる。従って、冗長回路を使用する場合、
ヒューズ154をレーザ光線で切断する。以下、A1とXA
1、A2とXA2、……An-2とXAn-2に関しても同様にヒュー
ズの切断が行なわれ、2(n−2)個のヒューズの内、
(n−2)個のヒューズが切断されて一つの不良メモリ
セルに対応するアドレスがプログラムされる。即ち、プ
ログラマブル回路176に於いて一つの不良メモリセル
を冗長メモリセルに置換することが可能であり、図3に
示す本発明の第2の実施例の半導体集積回路に於いて
は、四つの不良メモリセルを冗長メモリセルに置換する
ことができる。
【0036】図4は同実施例の動作タイミングチャート
である。図3に示す本発明の第2の実施例の半導体集積
回路が動作すると、先ず、図4(a)に示す如く、プリ
チャージ制御信号XPRCがLowレベルの期間に第3のトラ
ンジスタ167が導通し、図4(d)に示す如く、共通
のプリチャージノードPRが充電されてHighレベルに保持
される。同時に、図4(e)に示す如く、インバータ1
68が出力するプリチャージ制御信号XPRCの反転信号に
よりプリチャージノードSPR0が充電されてHighレベル
に保持される。
である。図3に示す本発明の第2の実施例の半導体集積
回路が動作すると、先ず、図4(a)に示す如く、プリ
チャージ制御信号XPRCがLowレベルの期間に第3のトラ
ンジスタ167が導通し、図4(d)に示す如く、共通
のプリチャージノードPRが充電されてHighレベルに保持
される。同時に、図4(e)に示す如く、インバータ1
68が出力するプリチャージ制御信号XPRCの反転信号に
よりプリチャージノードSPR0が充電されてHighレベル
に保持される。
【0037】続いてプリチャージ制御信号XPRCがHighレ
ベルに遷移した後、図4(b)に示す如く、アドレス信
号A0〜An-2、An-1、An、XA0〜XAn-2、XAn-1、XAnがHigh
レベルもしくはLowレベルのいずれかに確定し、図4
(c)に示す如く、アドレス信号の上位2ビットをデコ
ードしたアドレスデコード信号BLK0〜BLK3の内、一つ
のアドレスデコード信号がHighレベルに遷移し、他の3
つのアドレスデコード信号はLowレベルに保持される。
これにより、Highレベルに遷移したアドレスデコード信
号が入力するプログラマブル回路に含まれる第1のトラ
ンジスタと第5のトランジスタが導通する。例えば、プ
ログラマブル回路176に於いてプログラムを行なった
不良メモリセルに対応するアドレスがアクセスされた場
合、アドレスデコード信号BLK0がHighレベルに遷移
し、アドレスデコード信号BLK1〜BLK3はLowレベルに
保持される。従って、アドレスデコード信号BLK0が入
力している第1のトランジスタ160及び、第5のトラ
ンジスタ170〜175が導通し、他のプログラマブル
回路177〜179に含まれる第1のトランジスタ及
び、第5のトランジスタは非導通となる。
ベルに遷移した後、図4(b)に示す如く、アドレス信
号A0〜An-2、An-1、An、XA0〜XAn-2、XAn-1、XAnがHigh
レベルもしくはLowレベルのいずれかに確定し、図4
(c)に示す如く、アドレス信号の上位2ビットをデコ
ードしたアドレスデコード信号BLK0〜BLK3の内、一つ
のアドレスデコード信号がHighレベルに遷移し、他の3
つのアドレスデコード信号はLowレベルに保持される。
これにより、Highレベルに遷移したアドレスデコード信
号が入力するプログラマブル回路に含まれる第1のトラ
ンジスタと第5のトランジスタが導通する。例えば、プ
ログラマブル回路176に於いてプログラムを行なった
不良メモリセルに対応するアドレスがアクセスされた場
合、アドレスデコード信号BLK0がHighレベルに遷移
し、アドレスデコード信号BLK1〜BLK3はLowレベルに
保持される。従って、アドレスデコード信号BLK0が入
力している第1のトランジスタ160及び、第5のトラ
ンジスタ170〜175が導通し、他のプログラマブル
回路177〜179に含まれる第1のトランジスタ及
び、第5のトランジスタは非導通となる。
【0038】第2のトランジスタ161〜166の内、
アドレス信号A0〜An-2、XA0〜XAn-2によりゲート電位が
Highレベルとなり導通状態の第2のトランジスタのドレ
インと第5のトランジスタ170〜175を介して接続
されるヒューズは全て切断されているため、図4(d)
の破線及び、図4(e)の破線に示す如く、共通のプリ
チャージノードPR及び、プリチャージノードSPR0はHig
hレベルに保持される。 ここで、第1のトランジスタ
160がアドレスデコード信号BLK0がHighレベルに遷
移することにより導通し、共通のプリチャージノードPR
に予め充電された電荷の再配分がおこなわれるが、予め
プリチャージノードSPR0を充電することにより、共通
のプリチャージノードPRの一時的な電位降下は生じな
い。
アドレス信号A0〜An-2、XA0〜XAn-2によりゲート電位が
Highレベルとなり導通状態の第2のトランジスタのドレ
インと第5のトランジスタ170〜175を介して接続
されるヒューズは全て切断されているため、図4(d)
の破線及び、図4(e)の破線に示す如く、共通のプリ
チャージノードPR及び、プリチャージノードSPR0はHig
hレベルに保持される。 ここで、第1のトランジスタ
160がアドレスデコード信号BLK0がHighレベルに遷
移することにより導通し、共通のプリチャージノードPR
に予め充電された電荷の再配分がおこなわれるが、予め
プリチャージノードSPR0を充電することにより、共通
のプリチャージノードPRの一時的な電位降下は生じな
い。
【0039】また、プログラマブル回路176に於いて
プログラムを行なった不良メモリセルに対応するアドレ
ス以外のアドレスがアクセスされた場合、第2のトラン
ジスタ161〜166の内、アドレス信号A0〜An-2、XA
0〜XAn-2によりゲート電位がHighレベルとなり導通状態
のトランジスタのドレインと第5のトランジスタ170
〜175を介して接続されているヒューズの内、切断さ
れていないヒューズ及び、第5のトランジスタを通じ
て、共通のプリチャージノードPR及び、プリチャージノ
ードSPR0に充電されていた電荷の放電がおこなわれ、
共通のプリチャージノードPRは図4(d)の実線及び、
図4(e)の実線に示す如く、Lowレベルに遷移する。
プログラムを行なった不良メモリセルに対応するアドレ
ス以外のアドレスがアクセスされた場合、第2のトラン
ジスタ161〜166の内、アドレス信号A0〜An-2、XA
0〜XAn-2によりゲート電位がHighレベルとなり導通状態
のトランジスタのドレインと第5のトランジスタ170
〜175を介して接続されているヒューズの内、切断さ
れていないヒューズ及び、第5のトランジスタを通じ
て、共通のプリチャージノードPR及び、プリチャージノ
ードSPR0に充電されていた電荷の放電がおこなわれ、
共通のプリチャージノードPRは図4(d)の実線及び、
図4(e)の実線に示す如く、Lowレベルに遷移する。
【0040】以下同様に、プログラマブル回路177〜
179に於いてプログラムを行なった不良メモリセルに
対応するアドレスがアクセスされた場合、共通のプリチ
ャージノードPR及び、プリチャージノードSPR0は図4
(d)の破線及び、図4(e)の破線に示す如く、High
レベルに保持される。即ち、プログラマブル回路176
〜179に於いてプログラムを行なった不良メモリセル
に対応するアドレスのいずれかがアクセスされた場合、
共通のプリチャージノードPR及び、プリチャージノード
SPR0がHighレベルに保持され、冗長回路活性化信号SPE
は図4(f)の破線に示す如く、Highレベルに保持され
る。その後、図4(g)に示す如く、クロック信号CLK
がHighレベルに遷移し、冗長回路ドライブ信号SPAREが
図4(h)の破線に示す如く、Highレベルに遷移し、冗
長メモリセル(不図示)をアクセスする。同時に、通常
回路ドライブ信号NORMALが図4(i)の破線に示す如
く、Lowレベルに保持され、通常メモリセル(不図示)
のアクセスは行なわれない。
179に於いてプログラムを行なった不良メモリセルに
対応するアドレスがアクセスされた場合、共通のプリチ
ャージノードPR及び、プリチャージノードSPR0は図4
(d)の破線及び、図4(e)の破線に示す如く、High
レベルに保持される。即ち、プログラマブル回路176
〜179に於いてプログラムを行なった不良メモリセル
に対応するアドレスのいずれかがアクセスされた場合、
共通のプリチャージノードPR及び、プリチャージノード
SPR0がHighレベルに保持され、冗長回路活性化信号SPE
は図4(f)の破線に示す如く、Highレベルに保持され
る。その後、図4(g)に示す如く、クロック信号CLK
がHighレベルに遷移し、冗長回路ドライブ信号SPAREが
図4(h)の破線に示す如く、Highレベルに遷移し、冗
長メモリセル(不図示)をアクセスする。同時に、通常
回路ドライブ信号NORMALが図4(i)の破線に示す如
く、Lowレベルに保持され、通常メモリセル(不図示)
のアクセスは行なわれない。
【0041】また、プログラマブル回路176〜179
に於いてプログラムを行なった不良メモリセルに対応す
るアドレス以外のアドレスがアクセスされた場合、共通
のプリチャージノードPR及び、プリチャージノードSPR
0は図4(d)の実線及び、図4(e)の実線に示す如
く、Lowレベルに遷移し、冗長回路活性化信号SPEは図4
(f)の実線に示す如く、Lowレベルに遷移する。従っ
て、その後、図4(g)に示す如く、クロック信号CLK
がHighレベルに遷移すると、冗長回路ドライブ信号SPAR
Eは図4(h)の実線に示す如く、Lowレベルに保持さ
れ、冗長メモリセル(不図示)のアクセスは行なわれな
い。同時に、通常回路ドライブ信号NORMALが図4(i)
の実線に示す如く、Highレベルに遷移し、通常メモリセ
ル(不図示)のアクセスが行なわれる。
に於いてプログラムを行なった不良メモリセルに対応す
るアドレス以外のアドレスがアクセスされた場合、共通
のプリチャージノードPR及び、プリチャージノードSPR
0は図4(d)の実線及び、図4(e)の実線に示す如
く、Lowレベルに遷移し、冗長回路活性化信号SPEは図4
(f)の実線に示す如く、Lowレベルに遷移する。従っ
て、その後、図4(g)に示す如く、クロック信号CLK
がHighレベルに遷移すると、冗長回路ドライブ信号SPAR
Eは図4(h)の実線に示す如く、Lowレベルに保持さ
れ、冗長メモリセル(不図示)のアクセスは行なわれな
い。同時に、通常回路ドライブ信号NORMALが図4(i)
の実線に示す如く、Highレベルに遷移し、通常メモリセ
ル(不図示)のアクセスが行なわれる。
【0042】以上の様に本発明の第2の実施例によれ
ば、プリチャージノードSPR0を予め充電することによ
り、冗長メモリセルアクセスの際に、アドレス信号確定
後の第1のトランジスタの導通に伴う、共通のプリチャ
ージノードPRの電荷再配分による一時的な電位降下を避
けることが可能であり、図4(b)及び、図4(f)に
示す如く、アドレス確定からクロック信号CLKがHighレ
ベルに遷移するまでの時間間隔が小さい場合にも、冗長
回路ドライブ信号SPARE及び、通常回路ドライブ信号NOR
MALの誤動作を防ぎ、冗長回路の高速動作を可能とす
る。
ば、プリチャージノードSPR0を予め充電することによ
り、冗長メモリセルアクセスの際に、アドレス信号確定
後の第1のトランジスタの導通に伴う、共通のプリチャ
ージノードPRの電荷再配分による一時的な電位降下を避
けることが可能であり、図4(b)及び、図4(f)に
示す如く、アドレス確定からクロック信号CLKがHighレ
ベルに遷移するまでの時間間隔が小さい場合にも、冗長
回路ドライブ信号SPARE及び、通常回路ドライブ信号NOR
MALの誤動作を防ぎ、冗長回路の高速動作を可能とす
る。
【0043】また、全メモリアクセスの殆どを占める通
常メモリアクセスの際に、一箇所のノード、即ち、共通
のプリチャージノードPRおよび、プリチャージノードSP
R0のみで充放電が行なわれる様に回路を構成すること
により、消費電力の低減が可能である。
常メモリアクセスの際に、一箇所のノード、即ち、共通
のプリチャージノードPRおよび、プリチャージノードSP
R0のみで充放電が行なわれる様に回路を構成すること
により、消費電力の低減が可能である。
【0044】また、プリチャージを行なう第3のトラン
ジスタが必要である箇所を一箇所のみとし、且つ、アド
レス信号の一部のビットを予めデコードした信号により
第1のトランジスタを選択して、一つの不良メモリセル
に対応するアドレスのプログラムに要するヒューズ本数
を削減することにより、マスクパターンレイアウト時の
占有面積を縮小することが可能である。
ジスタが必要である箇所を一箇所のみとし、且つ、アド
レス信号の一部のビットを予めデコードした信号により
第1のトランジスタを選択して、一つの不良メモリセル
に対応するアドレスのプログラムに要するヒューズ本数
を削減することにより、マスクパターンレイアウト時の
占有面積を縮小することが可能である。
【0045】尚、第1及び、第2の実施例に於いて、ア
ドレス信号の上位2ビットを予めデコードし、プログラ
マブル回路数を4つとしたが、このデコードに用いるア
ドレスのビット数及び、プログラマブル回路数に何ら制
限は無い。また、第1のトランジスタ、第2のトランジ
スタ、第4のトランジスタ、及び第5のトランジスタを
Nチャンネルトランジスタとし、第3のトランジスタをP
チャンネルトランジスタとしたが、各トランジスタに関
して、NチャンネルもしくはPチャンネルの限定は行なわ
ない。
ドレス信号の上位2ビットを予めデコードし、プログラ
マブル回路数を4つとしたが、このデコードに用いるア
ドレスのビット数及び、プログラマブル回路数に何ら制
限は無い。また、第1のトランジスタ、第2のトランジ
スタ、第4のトランジスタ、及び第5のトランジスタを
Nチャンネルトランジスタとし、第3のトランジスタをP
チャンネルトランジスタとしたが、各トランジスタに関
して、NチャンネルもしくはPチャンネルの限定は行なわ
ない。
【0046】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
複数のプログラマブル回路に共通のプリチャージノード
のみを充電することにより、通常メモリセルアクセスの
際に、放電される電荷量を削減し、消費電力を低減する
ことが可能であり、且つ、プリチャージに用いるトラン
ジスタの削減及び、アドレス信号の一部のビットを予め
デコードしてプログラマブル回路を選択することによる
ヒューズ本数の削減によりマスクパターンレイアウト時
の占有面積を縮小することが可能である。更に、共通の
プリチャージノード以外に一箇所のノードを充電するこ
とにより、冗長メモリセルアクセスの際に、アドレス信
号確定からクロック信号立ち上がりまでの時間間隔が小
さい場合にも冗長回路ドライブ信号及び通常回路ドライ
ブ信号の誤動作を防ぎ、冗長回路の高速動作を可能とし
ており、その実用的効果は大きい。
複数のプログラマブル回路に共通のプリチャージノード
のみを充電することにより、通常メモリセルアクセスの
際に、放電される電荷量を削減し、消費電力を低減する
ことが可能であり、且つ、プリチャージに用いるトラン
ジスタの削減及び、アドレス信号の一部のビットを予め
デコードしてプログラマブル回路を選択することによる
ヒューズ本数の削減によりマスクパターンレイアウト時
の占有面積を縮小することが可能である。更に、共通の
プリチャージノード以外に一箇所のノードを充電するこ
とにより、冗長メモリセルアクセスの際に、アドレス信
号確定からクロック信号立ち上がりまでの時間間隔が小
さい場合にも冗長回路ドライブ信号及び通常回路ドライ
ブ信号の誤動作を防ぎ、冗長回路の高速動作を可能とし
ており、その実用的効果は大きい。
【図1】本発明に於ける一実施例の半導体集積回路の回
路構成図である。
路構成図である。
【図2】同実施例の動作タイミングチャートである。
【図3】本発明の他の実施例の半導体集積回路の回路構
成図である。
成図である。
【図4】同実施例の動作タイミングチャートである。
【図5】従来の半導体集積回路の回路構成図である。
【図6】同従来例の動作タイミングチャートである。
100〜103、150〜153 ANDゲート 104〜109、154〜159 ヒューズ 110、160 第1のトランジスタ 111〜116、161〜166 第2のトランジスタ 117、167 第3のトランジスタ 169 第4のトランジスタ 170〜175 第5のトランジスタ
Claims (3)
- 【請求項1】電気的又は機械的に切断可能な複数のヒュ
ーズと、ゲートがメモリセルのアクセスに用いるアドレ
ス信号の一部をデコードしたアドレスデコード信号に接
続され、ドレインが前記複数のヒューズの一端に接続さ
れ、ソースが共通のプリチャージノードに接続された第
1のトランジスタを含むプログラマブル回路を複数備
え、ゲートが前記メモリセルのアクセスに用いるアドレ
ス信号の内、前記デコードに用いたアドレス信号を除い
たアドレス信号に接続され、ソースが第1の電源に接続
され、ドレインが前記ヒューズの他端に接続された第2
のトランジスタと、ゲートがプリチャージ制御信号に接
続され、ソースが第2の電源に接続され、ドレインが前
記共通のプリチャージノードに接続された第3のトラン
ジスタとを備えたことを特徴とする半導体集積回路。 - 【請求項2】請求項1記載のプログラマブル回路毎に、
ゲートがプリチャージ制御信号に接続され、ソースが第
2の電源に接続され、ドレインが第1のトランジスタの
ドレインが接続するヒューズの一端に接続された第4の
トランジスタと、前記プログラマブル回路毎に、ゲート
がアドレスデコード信号に接続され、ソースが第2のト
ランジスタのドレインに接続され、ドレインが前記ヒュ
ーズの他端に接続される第5のトランジスタとを備えた
ことを特徴とする半導体集積回路。 - 【請求項3】請求項1または請求項2記載の第1の電源
は接地線であり、第2の電源は外部電源あるいは、内部
回路で発生した、前記第1の電源の電位より高い電位を
持つ電源線であることを特徴とする半導体集積回路。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3071581A JP2629475B2 (ja) | 1991-04-04 | 1991-04-04 | 半導体集積回路 |
US07/863,268 US5293339A (en) | 1991-04-04 | 1992-04-03 | Semiconductor integrated circuit containing redundant memory element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3071581A JP2629475B2 (ja) | 1991-04-04 | 1991-04-04 | 半導体集積回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04307498A JPH04307498A (ja) | 1992-10-29 |
JP2629475B2 true JP2629475B2 (ja) | 1997-07-09 |
Family
ID=13464805
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3071581A Expired - Fee Related JP2629475B2 (ja) | 1991-04-04 | 1991-04-04 | 半導体集積回路 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5293339A (ja) |
JP (1) | JP2629475B2 (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5550394A (en) * | 1993-06-18 | 1996-08-27 | Texas Instruments Incorporated | Semiconductor memory device and defective memory cell correction circuit |
JP2734315B2 (ja) * | 1992-09-24 | 1998-03-30 | 日本電気株式会社 | 半導体メモリ装置 |
US5323353A (en) * | 1993-04-08 | 1994-06-21 | Sharp Microelectronics Technology Inc. | Method and apparatus for repair of memory by redundancy |
JPH0785689A (ja) * | 1993-06-28 | 1995-03-31 | Hitachi Ltd | 半導体記憶装置 |
US5384746A (en) * | 1994-01-28 | 1995-01-24 | Texas Instruments Incorporated | Circuit and method for storing and retrieving data |
EP0670548A1 (en) * | 1994-02-28 | 1995-09-06 | STMicroelectronics, Inc. | Method and structure for recovering smaller density memories from larger density memories |
EP0697659B1 (de) * | 1994-08-12 | 1999-12-15 | Siemens Aktiengesellschaft | Redundanz-Schaltungsanordnung für einen integrierten Halbleiterspeicher |
US6445605B1 (en) | 1997-07-11 | 2002-09-03 | Micron Technology, Inc. | Circuit for programming antifuse bits |
US6661693B2 (en) * | 1995-08-31 | 2003-12-09 | Micron Technology | Circuit for programming antifuse bits |
US5689455A (en) * | 1995-08-31 | 1997-11-18 | Micron Technology, Inc. | Circuit for programming antifuse bits |
US6037799A (en) * | 1995-12-29 | 2000-03-14 | Stmicroelectronics, Inc. | Circuit and method for selecting a signal |
US6188239B1 (en) * | 1996-08-12 | 2001-02-13 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor programmable test arrangement such as an antifuse to ID circuit having common access switches and/or common programming switches |
US5859562A (en) * | 1996-12-24 | 1999-01-12 | Actel Corporation | Programming circuit for antifuses using bipolar and SCR devices |
KR100385950B1 (ko) * | 2001-01-15 | 2003-06-02 | 삼성전자주식회사 | 자동 퓨징 회로 |
US7915916B2 (en) * | 2006-06-01 | 2011-03-29 | Micron Technology, Inc. | Antifuse programming circuit with snapback select transistor |
CN113096717B (zh) * | 2020-01-08 | 2024-02-27 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种熔丝存储单元、存储阵列以及存储阵列的工作方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4573146A (en) * | 1982-04-20 | 1986-02-25 | Mostek Corporation | Testing and evaluation of a semiconductor memory containing redundant memory elements |
US4714839A (en) * | 1986-03-27 | 1987-12-22 | Advanced Micro Devices, Inc. | Control circuit for disabling or enabling the provision of redundancy |
US4689494A (en) * | 1986-09-18 | 1987-08-25 | Advanced Micro Devices, Inc. | Redundancy enable/disable circuit |
JPH02310898A (ja) * | 1989-05-25 | 1990-12-26 | Nec Corp | メモリ回路 |
-
1991
- 1991-04-04 JP JP3071581A patent/JP2629475B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-04-03 US US07/863,268 patent/US5293339A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5293339A (en) | 1994-03-08 |
JPH04307498A (ja) | 1992-10-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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