JPH08502255A - D‐chiro‐3‐イノソース及び▲(+)▼‐D‐chiro‐イノシトールの合成 - Google Patents
D‐chiro‐3‐イノソース及び▲(+)▼‐D‐chiro‐イノシトールの合成Info
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.以下の式: {式中、X が水素、ハロゲン、1-5 炭素原子のアルキル、アリール又はCNである 。}をもつ、シントンとして有用なエポキシジオールの製造方法であって: 以下の式: {式中、X が先に定義したものと同じである。}により表されるアセトニドを、 過マンガン酸塩と、適当な溶媒中で、約-78 ℃〜約40℃の温度において、約4-8 の間のpHにおいて、反応させることを、含んで成る方法。 2.式中、X がCl、Br、メチル、フェニル又はCNである、請求項1に記載の方法 。 3.溶媒が、水、2-4 炭素原子をもつジアルキルケトン、1-3 炭素原子をもつ低 級アルコール、環式エーテル及びそれらの混合物から 成る群から選ばれる、請求項1に記載の方法。 4.溶媒が水とアセトン又は低級アルコールとの混合物である、請求項3に記載 の方法。 5.pHレンジがMgSO4 の添加により約4-8 の間に維持される、請求項1に記載の 方法。 6.過マンガン酸塩がKMnO4 である、請求項1に記載の方法。 7.アセトニドを少なくとも1.5 当量のKMnO4 と反応させる、請求項6に記載の 方法。 8.約1.5 〜約2.5 当量のKMnO4 が添加される、請求項7に記載の方法。 9.温度が約-15 ℃〜約10℃にある、請求項1に記載の方法。 10.以下の式: {式中、X がH 、ハロゲン、1-5 炭素原子のアルキル、アリール又はCNである。 }をもつジオールの製造方法であって: 以下の式: {式中、X が先に定義したものと同じである。}により表されるアセトニドを、 2.0 当量未満の過マンガン酸塩と、適当な溶媒中で、約10℃〜約50℃の温度にお いて、約4-8 の間のpHにおいて、反応させることを、含んで成る方法。 11.式中、X がCl、Br又はCNである、請求項10に記載の方法。 12.温度が約20℃〜約30℃である、請求項10に記載の方法。 13.過マンガン酸塩がKMnO4 である、請求項10に記載の方法。 14.約0.8 〜約1.8 当量のKMnO4 が添加される、請求項13に記載の方法。 15.D-chiro-イノシトール(6)又は医薬として許容されるその塩の製造方法 であって: a)請求項1に記載のエポキシジオールを還元剤と反応させて、以下の式: により表ざれるエポキシドを得て;そして b)適当な加水分解剤を使用して約-10 ℃〜約110 ℃の温度において適当な溶 媒中でそのエポキシドを開環し、そして段階a)の化合物を脱保護する、 を含んで成る方法。 16.式中、X がCl又はBrである、請求項15に記載の方法。 17.還元剤が、ラジカル開始剤との組み合わせにおいて又は単独でヒドリド試 薬又はトリアルキルシランから成る群から選ばれる、 請求項15に記載の方法。 18.還元剤が、トリブチル・スズ・ヒドリド又はtris(トリメチルシリル)シ ランである、請求項17に記載の方法。 19.加水分解剤が、水、アルカリ若しくは酸触媒、Al2 O 3 又はアルカリ若し くは酸イオン交換樹脂から成る群から選ばれる、請求項15に記載の方法。 20.加水分解剤が、無機酸、有機酸又は酸イオン交換樹脂から成る群から選ば れる、請求項19に記載の方法。 21.温度が、約50゜〜90℃である、請求項15に記載の方法。 22.溶媒が、水、又は水相溶性の溶媒又はその混合物である、請求項15に記 載の方法。 23. D-chiro-3-イノソース(10)又は医薬として許容されるその塩の製造方 法であって、請求項1に記載のエポキシジオールを適当な加水分解剤と約-10 ℃ 〜約110 ℃の間の温度において適当な溶媒中で反応させることを含んで成る方法 。 24.式中、エポキシジオール上の置換基X がCl又はBrである、請求項23に記 載の方法。 25.加水分解剤が、水、アルカリ若しくは酸触媒、Al2 O 3又はアルカリ若し くは酸イオン交換樹脂から成る群から選ばれる、請求項23に記載の方法。 26.加水分解剤が、Al2 O 3 である、請求項25に記載の方法。 27.温度が、約50℃〜約100 ℃の間である、請求項23に記載の方法。 28.溶媒が、水、又は水相溶性の溶媒又はその混合物である、請求項23に記 載の方法。 29. D-chiro-イノシトール(6)の製造方法であって、D-chiro-3-イノソー ス(10)を適当な還元剤により約-10 ℃〜約110 ℃の間の温 度において適当な溶媒中で還元することを含んで成る方法。 30.還元剤がヒドリド試薬である、請求項29に記載の方法。 31.試薬が、亜鉛ボロヒドリド又はナトリウム・ボロヒドリドである、請求項 30に記載の方法。 32.溶媒が、水、又は水相溶性の溶媒又はその混合物である、請求項29に記 載の方法。 33.温度が、約50℃〜約100 ℃の間である、請求項29に記載の方法。 34.以下の式: により表される化合物の製造方法であって:請求項1に記載のエポキシジオール を過マンガン酸塩に適当な溶媒中約-78 ℃〜約50℃の温度において晒すことを含 んで成る方法。 35.過マンガン酸塩がKMnO4である、請求項34に記載の方法。 36.以下の式: により表される化合物の製造方法であって:請求項34に記載の生 成物(27)を加水分解することを含んで成る方法。 37.加水分解を、SiO 2 と水と混合物を使用して行う、請求項36に記載の方 法。 38.以下の式: により表される化合物の製造方法であって:請求項1に記載のエポキシジオール を適当な還元剤により適当な溶媒中約-90 ℃〜約50℃の温度において還元するこ とを含んで成る方法。 39.還元剤が、遷移金属試薬である、請求項38に記載の方法。 40.遷移金属試薬が、SmI 2 である、請求項39に記載の方法。 41.溶媒が、環式エーテル、1-3 炭素原子をもつ低級アルコール又はその混合 物から成る群から選ばれる、請求項38に記載の方法。 42.温度が、約-20 ℃〜約30℃である、請求項38に記載の方法。 43.以下の式: {式中、X がハロゲンである。}により表される化合物の製造方法であって:請 求項1に記載のエポキシジオールを適当な還元剤によ り約-90 ℃〜約110 ℃の温度において処理することを含んで成る方法。 44.還元剤が、ラジカル開始剤との組み合わせにおいて又は単独でSmI 2 、ト リブチル・スズ・ヒドリド又はtris(トリメチルシリル)シランから成る群から 選ばれる、請求項43に記載の方法。 45.以下の式: により表される化合物の製造方法であって:請求項1に記載のエポキシジオール を適当な還元剤により約-90 ℃〜約110 ℃の温度において処理することを含んで 成る方法。 46.還元剤が、トリブチル・スズ・ヒドリドである、請求項45に記載の方法 。 47.以下の式: により表される化合物の製造方法であって:請求項1に記載のエポキシジオール を遷移金属試薬により約-90 ℃〜約50℃の温度において還元することを含んで成 る方法。 48.遷移金属試薬が、SmI 2 である、請求項47に記載の方法。 49.以下の式: {式中、R が1-4 炭素原子のアルキルである。}により表される化合物の製造方 法であって:請求項1に記載のエポキシジオールを亜鉛及び低級アルコールと約 40℃〜約110 ℃の温度において約1-5 時間反応させることを含んで成る方法。 50.反応を、2-3 時間行う、請求項47に記載の方法。 51.以下の式: {式中、R が1-4 炭素原子のアルキルである。}を有する化合物の製造方法であ って:請求項1に記載のエポキシジオールを亜鉛及び低級アルコールと約40℃〜 約110 ℃の温度において約20-30 時間反応させることを含んで成る方法。 52.以下の式: {式中、R 1 が1-3 炭素原子のアルキルである。}により表される化合物の製造 方法であって:請求項1に記載のエポキシジオールをベンジルアミン、オキサル 酸及び適当な低級アルコールと反応させることを含んで成る方法。 53.以下の式: {式中、X が水素、ハロゲン、1-5 炭素原子のアルキル、アリール又はCNである 。}により表される化合物の製造方法であって:請求項1に記載のエポキシジオ ールを酸触媒と適当な溶媒中で反応させることを含んで成る方法。 54.エポキシジオールを、2,2-ジメトキシプロパン/p- トルエンスルホン酸 と反応させる、請求項53に記載の方法。 55.式中、X がCl、 Br、メチル、フェニル又はCNである、請求項51に記載 の方法。 56.以下の式: により表される化合物の製造方法であって:請求項53に記載の生成物をヒドリ ド試薬又はトリアルキルシランによりラジカル開始剤の存在中で処理することを 含んで成る方法。 57.muco- イノシトール(4)又は医薬として許容されるその塩の製造方法で あって: a)請求項1に記載のエポキシジオールを還元剤と反応させて、以下の式: により表されるエポキシドを得て;そして b)適当な加水分解剤を使用して約-10 ℃〜約110 ℃の温度において適当な溶 媒中でそのエポキシドを開環し、そして段階a)の化合物を脱保護する、 を含んで成る方法。 58.式中、請求項1に記載のエポキシジオール上のX がCl又はBrである、請求 項57に記載の方法。 59.還元剤が、ラジカル開始剤との組み合わせにおいて又は単独 でヒドリド試薬又はトリアルキルシランから成る群から選ばれる、請求項57に 記載の方法。 60.還元剤が、トリブチル・スズ・ヒドリド又はtris(トリメチルシリル)シ ランである、請求項59に記載の方法。 61.加水分解剤が、水、アルカリ若しくは酸触媒、Al 2 O 3 又はアルカリ若 しくは酸イオン交換樹脂から成る群から選ばれる、請求項57に記載の方法。 62.neo-イノシトール(5)又は医薬として許容されるその塩の製造方法であ って: a)請求項1に記載のエポキシジオールを還元剤と反応させて、以下の式: により表されるエポキシドを得て;そして b)適当な加水分解剤を使用して約-10 ℃〜約110 ℃の温度において適当な溶 媒中でそのエポキシドを開環し、そして段階a)の化合物を脱保護する、 を含んで成る方法。 63.式中、請求項1に記載のエポキシジオール上のX がCl又はBrである、請求 項62に記載の方法。 64.還元剤が、ラジカル開始剤との組み合わせにおいて又は単独でヒドリド試 薬又はトリアルキルシランから成る群から選ばれる、請求項62に記載の方法。 65.還元剤が、トリブチル・スズ・ヒドリド又はtris(トリメチルシリル)シ ランである、請求項64に記載の方法。 66.加水分解剤が、水、アルカリ若しくは酸触媒、Al2 O 3 又はアルカリ若 しくは酸イオン交換樹脂から成る群から選ばれる、請求項62に記載の方法。 67.allo- イノシトール(3)又は医薬として許容されるその塩の製造方法で あって、D-chiro-イノソース(10)を適当な還元剤により約-10 ℃〜約110 ℃の 温度において適当な溶媒中で還元することを含んで成る方法。 68.還元剤が、ラニー・ニッケルである、請求項67に記載の方法。 69.溶媒が、水、又は水相溶性の溶媒又はその混合物である、請求項67に記 載の方法。 70.その保護又は非保護形態における以下の式: {式中、X が水素、ハロゲン、1-5 炭素原子のアルキル、アリール又はCNである 。}により表される新規化合物。 71.式中、X がCl、Br、メチル、フェニル又はCNである、請求項70に記載の 化合物。 72.請求項67に記載の方法により製造されたallo- イノシトール(3)。 73.請求項57に記載の方法により製造されたmuco- イノシトー ル(4)。 74.請求項62に記載の方法により製造されたneo-イノシトール(5)。 75.請求項15又は29に記載の方法により製造されたD-chiro-イノシトール (6)。 76.請求項23に記載の方法により製造されたD-chiro-3-イノソース(10)。
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