JPH08501225A - 高指向性技術で光量子移動を用いた対象物の検査 - Google Patents
高指向性技術で光量子移動を用いた対象物の検査Info
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.対象物に適用される分光システムの入力ポートと検出ポート間に位置した 対象物の分光検査の方法、前記方法において: (a)対象物の選択特質を探るために対象物上の選択場所に配置した複数の入 力ポートを提供する、 (b)対象物内で移動する間に分散されて、吸収されるように選択された波長 の電磁非電離放射線を、前記入力ポートにおいて、対象物内に導入する、各々の 前記入力ポートにおける前記放射線は光量子密度の既知の時間で変動するパター ンを有する、 (c)前記パターンの時間関係は前記入力ポートから生じる導入パターンの相 互作用の結果として光量子密度の十分な勾配を有する結果として生じる放射線を 形成するように選択されている、前記の結果として生じる放射線は対象物内の移 動行路内で分散されて、吸収される、 (d)対象物上の選択場所に配置された検出ポートにおいて、対象物内を移動 している前記放射線を経時検出する、 (e)光量子密度の前記勾配への前記対象物の影響を示す処理されたデータを 作るために前記導入放射に関して前記検出放射線の信号を処理する、そして (f)前記処理データを前記の入力ポートと出力ポートとの場所に関連させる ことにより前記対象物を検査す るステップとから構成されることを特徴とする。 2.(a)前記入力ポートまたは前記検出ポートを所定形状パターン上の異な る場所に同時に移動させる、 (b)前記の異なる場所において、対象物内で移動する間に分散され、そして 吸収されるように選択された波長の電磁非電離放射線を、前記入力ポートにおい て、対象物内に更に導入する、前記入力ポートの各々における前記放射線は光量 子密度の既知の時間で変動するパターンを有する、 (c)前記パターンの時間関係は前記入力ポートから生じる導入パターンの相 互作用の結果として光量子密度の十分な勾配を有する結果として生じる放射線を 形成するように選択されている、前記の結果として生じる放射線は対象物内の移 動行路内で分散されて、吸収される、 (d)対象物上の選択場所に配置された検出ポートにおいて、対象物内で移動 している前記の更に導入された放射線を経時検出する、 (e)光量子密度の前記勾配への前記対象物の影響を示す処理されたデータを 作るために前記導入放射線に関して前記の検出された更に導入された放射線の信 号を処理するステップから構成されることを特徴とする請求の範囲第1項に記載 の方法。 3.対象物に適用される分光システムの入力ポートと検出ポート間に位置した 対象物の分光検査の方法、前記 方法において: (a)対象物の選択特質を探るために対象物上の選択場所に配置した複数の入 力ポートを提供する、 (b)対象物内で移動する間に分散されて、吸収されるように選択された波長 の電磁非電離放射線を、前記入力ポートにおいて、対象物内に導入する、各々の 前記入力ポートにおける前記放射線は光量子密度の既知の時間で変動するパター ンを有する、 (c)前記パターンの時間関係は前記入力ポートから生じる導入パターンの相 互作用の結果として光量子密度の十分な勾配を有する結果として生じる放射線を 形成するように選択されている、前記の結果として生じる放射線は対象物内の移 動行路内で分散されて、吸収される、 (d)対象物上の選択場所に配置された検出ポートにおいて、対象物内を移動 している前記放射線を経時検出する、 (e)光量子密度の前記勾配への前記対象物の影響を示す処理されたデータを 作るために前記導入放射線に関して前記の検出された放射線の信号を処理する、 (f)前記検出ポートを対象物上の第二場所に移動する、 (g)対象物上の前記第二場所に配置された前記検出ポートにおいて、対象物 内を移動している前記放射線を経時検出する、 (h)光量子密度の前記勾配への前記対象物の影響を示す処理されたデータを 作るために前記導入放射に関して、第二場所において検出された前記放射線の信 号を処理する、そして (i)前記処理データを前記の入力ポートと出力ポートとの場所に関連させる ことにより前記対象物を検査するステップとから構成されることを特徴とする。 4.(a)前記検出ポートを所定形状パターン上の異なる場所に移動させる、 (b)対象物上の選択場所に配置された前記検出ポートにおいて、対象物内で 移動している前記放射線を経時検出する、そして (c)光量子密度の前記勾配への前記対象物の影響を示す処理されたデータを 作るために前記導入放射線に関して、前記の異なる場所において検出された前記 放射線の信号を処理するステップを更に包含することを特徴とする請求の範囲第 3項に記載の方法。 5.前記時間関係は光量子密度の前記勾配の空間的方位が変るように更に選択 される、そして前記検出ポートの前記運動は光量子密度の前記勾配の前記変動方 位に対する前記検出ポートの固定関係を維持することを特徴とする請求の範囲第 2、3、4のいずれかの項に記載の方法。 6.対象物に適用される分光システムの入力ポートと 検出ポート間に位置した対象物の分光検査の方法、前記方法において: (a)対象物の選択特質を探るために対象物上の選択場所に配置した複数の入 力ポートを提供する、 (b)対象物内で移動する間に分散されて、吸収されるように選択された波長 の電磁非電離放射線を、前記入力ポートにおいて、対象物内に導入する、各々の 前記入力ポートにおける前記放射線は光量子密度の既知の時問で変動するパター ンを有する、 (c)前記パターンの時間関係は前記入力ポートから生じる導入パターンの相 互作用の結果として光量子密度の十分な勾配を有する結果として生じる放射線を 形成するように選択されている、前記の結果として生じる放射線は対象物内の移 動行路内で分散されて、吸収される、 (d)対象物の選択特質を探るために対象物上の選択場所に配置した複数の入 力ポートを提供する、 (e)前記検出ポートにおいて、対象物内で移動している前記放射線を経時検 出する、 (f)光量子密度の前記勾配への前記対象物の影響を示す処理されたデータを 作るために前記導入放射線に関して前記の検出された放射線の信号を処理する、 そして (f)前記処理データを前記の入力ポートと出力ポートとの場所に関連させる ことにより前記対象物を検査するステップとから構成されることを特徴とする。 7.(a)少なくとも一つ以上の前記検出ポートを所定形状パターン上の異な る場所に移動させる、 (b)対象物上の前記の異なる場所において、対象物内で移動している放射線 を経時検出する、そして (c)光量子密度の前記勾配への前記対象物の影響を示す処理されたデータを 作るために前記導入放射線に関して前記の異なる場所において検出された前記放 射線の信号を処理するステップを更に含むことを特徴とする請求の範囲第6項に 記載の方法。 8.前記対象物上に配置された前記入力ポートは列状に配列される、そして: (a)前記放射を前記入力ポートにおける対象物内に導入しながら入力ポート の前記列を回転させる、 (b)前記検出ポートにおいて、対象物内で移動している前記の結果として生 じる放射線を経時検出する、そして (c)光量子密度の前記勾配への前記対象物の影響を示す処理されたデータを 作るために前記導入放射線に関して前記の検出された放射線の信号を処理するス テップを更に含むことを特徴とする請求の範囲第6項に記載の方法。 9.前記対象物は蛍光を発する成分を含む、前記導入放射線の前記波長は前記 蛍光成分内で吸収されるように選択される、前記の検出された放射線は前記蛍光 成分か ら放出され、そして前記蛍光成分の場所を決定するために処理されることを特徴 とする請求の範囲第1、2、3、4、5、6、7、8のいずれかの項に記載の方 法。 10.対象物に適用される分光システムの入力ポートと検出ポート間に位置し た対象物の分光検査の方法、前記方法において: (a)対象物の選択特質を探るために対象物上の選択場所に配置した入力ポー トを提供する、 (b)対象物内で移動する間に分散されて、吸収されるように選択された波長 の電磁非電離放射線を前記入力ポートにおいて、対象物内に導入する、前記放射 線は光量子密度の既知の時間で変動するパターンを有する、 (c)対象物の選択特質を探るために対象物上の選択場所に配置した複数の検 出ポートを提供する、 (d)対象物内で移動している放射線を経時検出する、前記検出ポートにおけ る、前記経時検出の時間関係は導入放射線と対象物との相互作用の結果として形 成された光量子密度の勾配を観察するように選択される、 (e)光量子密度の前記勾配への前記対象物の影響を示す処理されたデータを 作るために前記導入放射線に関して前記の検出された放射線の信号を処理する、 そして (f)前記処理データを前記の入力ポートと出力ポートとの場所に関連させる ことにより前記対象物を検査するステップとから構成されることを特徴とする。 11.(a)前記検出ポートを所定形状パターン上の異なる場所に移動させる 、 (b)対象物内で移動している結果として生じる放射線を経時検出する、前記 検出ポートにおける、前記経時検出の時間関係は導入放射線と対象物との相互作 用の結果として形成された光量子密度の勾配を観察するように選択される、そし て (c)光量子密度の前記勾配への前記対象物の影響を示す処理されたデータを 作るために前記導入放射線に関して前記の検出された放射線の信号を処理するス テップとを更に包含することを特徴とする請求の範囲第10項に記載の方法。 12.対象物に適用される分光システムの入力ポートと検出ポート間に位置し た対象物の分光検査の方法、前記方法において: (a)対象物内の蛍光成分を突き止めるために対象物上の選択場所に配置した 入力ポートを提供する、 (b)対象物内で移動する間に分散されて、吸収されるように選択された波長 の電磁非電離放射線を前記入力ポートにおいて、対象物内に導入する、前記放射 線は光量子密度の既知の時間で変動するパターンを有する、 (c)対象物の蛍光成分を突き止めるために対象物上の選択場所に配置した複 数の検出ポートを提供する、 (d)対象物内で移動している蛍光放射線を経時検出 する、 (e)対象物の前記蛍光成分の場所を示す処理されたデータを作るために前記 導入放射線に関して前記の検出された放射線の信号を処理する、そして (f)前記処理データを前記の入力ポートと出力ポートとの場所に関連させる ことにより対象物の前記蛍光成分の場所を判定するステップとから構成されるこ とを特徴とする。 13.(a)前記検出ポートを所定形状パターン上の異なる場所に移動させる 、 (b)対象物内で移動している前記蛍光放射線を経時検出する、そして (c)対象物の前記蛍光成分の場所を示す処理されたデータを作るために前記 導入放射線に関して前記の異なる場所で検出された前記放射線の信号を処理する ステップとを更に包含することを特徴とする請求の範囲第12項に記載の方法。 14.前記の時間で変動するパターンは選択周波数において変調された前記選 択波長強度の放射線を含む、前記入力ポートの各々から導入される時に前記変調 放射は少なくとも一つ以上の方向に前記放射線の急峻な位相変化と強度の鋭い最 小限度とを生成する選択位相関係を有することを特徴とする請求の範囲第1、2 、3、4、5、6、7、8項のいずれかに記載の方法。 15.前記位相関係は180度であることを特徴とする請求の範囲第14項に 記載の方法。 16.前記導入放射パターンの全てに同一の時間で変動する位相成分を課す、 それにより前記放射線の前記の急峻な位相変化の前記方向の空間的方位と強度に おける前記の鋭い最小限度とを変更するステップを更に包含することを特徴とす る請求の範囲第14、15項のいずれかに記載の方法。 17.前記の時間で変動するパターンは選択周波数において変調された前記選 択波長強度の放射線を含む、前記入力ポートの各々から導入される時に前記変調 放射線は少なくとも一つ以上の方向に前記放射線の急峻な位相変化と強度の鋭い 最小限度とを生成する選択周波数関係を有することを特徴とする請求の範囲第1 、2、3、4、5、6、7、8項のいずれかに記載の方法。 18.前記の時間で変動するパターンは選択周波数において変調された前記選 択波長強度の放射線を含む、前記入力ポートの各々から導入される時に前記変調 放射線は少なくとも一つ以上の方向に前記放射線の急峻な位相変化と強度の鋭い 最小限度とを生成する選択振幅関係を有することを特徴とする請求の範囲第1、 2、3、4、5、6、7、8項のいずれかに記載の方法。 19.前記導入放射パターンの全てに同一の時間で変動する位相成分を課す、 それにより前記放射線の前記の 急峻な位相変化の前記方向の空間的方位と強度における前記の鋭い最小限度とを 変更するステップを更に包含することを特徴とする請求の範囲第18項に記載の 方法。 20.前記放射線は対象物内での光量子の移動中に始まる移相の分解能を使用 可能にする周波数において変調されることを特徴とする請求の範囲第14、15 、16、17、18、19項のいずれかに記載の方法。 21.前記周波数は108Hz程度であることを特徴とする請求の範囲第20 項に記載の方法。 22.前記処理方法は対象物内での分散と吸収とにより変化する前記放射線の 位相または振幅を決定するステップを含むことを特徴とする請求の範囲第1、2 、3、4、6、7、9、10、11、12、13項のいずれかに記載の方法。 23.前記位相または前記振幅は前記対象物内の隠れた目標物を突き止めるた めの前記検査ステップで使用されることを特徴とする請求の範囲第22項に記載 の方法。 24.前記位相また、は前記振幅は前記対象物の要素を映すための前記検査ス テップで使用されることを特徴とする請求の範囲第22項に記載の方法。 25.前記放射線の前記波長は対象物の内因性または外因性の組織色素の変化 に影響され易いことを特徴とする請求の範囲第1、2、3、4、5、6、7、9 、10項に記載の方法。 26.対象物に適用される分光システムの入力ポートと検出ポート間に位置し た対象物の分光検査のシステム、前記システムにおいて: 対象物内で移動する間に分散されて、吸収されるように選択された光量子密度 の既知の時間で変動するパターンと波長との電磁非電離放射線を、複数の入力ポ ートにおいて、導入するように適応された少なくとも一つ以上の光源、前記入力 ポートは対象物の選択特質を探るために対象物上の選択場所に配置されている、 前記入力ポートから生じる導入パターンの相互作用の結果として光量子密度の 十分な勾配を有する結果として生じる放射線を形成するために前記導入パターン の選択時間関係を達成するように適応された放射パターン制御手段、前記放射線 は対象物内の移動行路内で分散されて、吸収される、 対象物上の選択場所に配置した検出ポートにおいて、対象物内で移動している 前記放射線を経時検出するように適応された検出器、 光量子密度の前記勾配への前記対象物の影響を示す処理されたデータを作るため に前記導入放射線に関して前記の検出された放射線の信号を処理するように適応 された処理手段、そして 前記の処理されたデータを前記入力ポートと出力ポートとの場所に関連させる ことにより対象物を検査するよ うに適応された評価手段とを含むことを特徴とする。 27.前記光ポートと前記検出ポートとを所定形状パターン上の他の場所に同 時に移動させるように適応された変位手段を更に含む、前記の他の場所は対象物 の前記検査を実行するために使用されることを特徴とする請求の範囲第26項に 記載のシステム。 28.対象物に適用される分光システムの入力ポートと検出ポート間に位置し た対象物の分光検査のシステムにおいて: 対象物内で移動する間に分散されて、吸収されるように選択された光量子密度 の既知の時間で変動するパターンと波長との電磁非電離放射線を、複数の入力ポ ートにおいて、導入するように適応された少なくとも一つ以上の光源、前記入力 ポートは対象物の選択特質を探るために対象物上の選択場所に配置される、 前記入力ポートから生じる導入パターンの相互作用の結果として光量子密度の 十分な勾配を有する結果として生じる放射線を形成するために前記導入パターン の選択時間関係を達成するように適応された放射パターン制御手段、前記放射線 は対象物内の移動行路内で分散されて、吸収される、 対象物上の選択場所に配置した検出ポートにおいて、対象物内で移動している 前記放射線を経時検出するように適応された検出器、 前記検出ポートを所定形状パターン上の種々の場所に移動させるように適応さ れた変位手段、前記の種々の場所は対象物内で移動している放射線を経時検出す るために使用される、 光量子密度の前記勾配への前記対象物の影響を示す処理されたデータを作るた めに前記導入放射線に関して前記の検出された放射線の信号を処理するように適 応された処理手段、そして 前記の処理されたデータを前記入力ポートと出力ポートとの場所に関連させる ことにより対象物を検査するように適応された評価手段とを含むことを特徴とす る。 29.前記放射パターン制御手段は光量子密度の前記勾配の空間的方位を変更 するために前記時間関係を修正するように更に適応され、そして前記変位手段は 光量子密度の前記勾配の前記変更方位に対して前記検出ポートの固定関係を維持 するように更に適応されることを特徴とする請求の範囲第27、28項のいずれ かに記載のシステム。 30.対象物に適用される分光システムの入力ポートと検出ポート間に位置し た対象物の分光検査のシステムにおいて: 対象物内で移動する間に分散されて、吸収されるように選択された光量子密度 の既知の時間で変動するパターンと波長との電磁非電離放射線を、複数の入力ポ ートに おいて、導入するように適応された少なくとも一つ以上の光源、前記入力ポート は対象物の選択特質を探るために対象物上の選択場所に配置されている、 前記入力ポートから生じる導入パターンの相互作用の結果として光量子密度の 十分な勾配を有する結果として生じる放射線を形成するために前記導入パターン の選択時間関係を達成するように適応された放射パターン制御手段、前記放射線 は対象物内の移動行路内で分散されて、吸収される、 対象物上の選択場所に配置した複数の検出ポートにおいて、対象物内で移動し ている前記放射線を経時検出するように適応された少なくとも一つ以上の検出器 、 光量子密度の前記勾配への前記対象物の影響を示す処理されたデータを作るた めに前記導入放射線に関して前記の検出された放射線の信号を処理するように適 応された処理手段、そして 前記の処理されたデータを前記入力ポートと出力ポートとの場所に関連させる ことにより対象物を検査するように適応された評価手段とを含むことを特徴とす る。 31.少なくとも一つ以上の前記検出ポートを所定形状パターン上の他の場所 に移動させるように適応された変位手段を更に含む、前記の他の場所は対象物の 前記検査を実行するために使用されることを特徴とする請求の範囲第30項に記 載のシステム。 32.所定形状パターンに沿って前記の結果として生じる放射線を導入しなが ら同時に前記光入力ポートを回転させるように適応された回転手段を更に含む、 前記入力ポートの回転は対象物の領域の前記検査を実行するために使用されるこ とを特徴とする請求の範囲第30項に記載のシステム。 33.対象物は関心の蛍光成分を含む、前記導入放射線の前記波長は前記蛍光 成分内で吸収されるように選択される、前記の検出された放射線は前記蛍光成分 から放出されて、前記蛍光成分の場所を判定するために処理されることを特徴と する請求の範囲第26、27、28、29、30、31、32項のいずれかに記 載のシステム。 34.対象物に適用される分光システムの入力ポートと検出ポート間に位置し た対象物の分光検査のシステムにおいて: 対象物内で移動する間に分散されて、吸収されるように選択された光量子密度 の既知の時間で変動するパターンと波長との電磁非電離放射線を、入力ポートに おいて、導入するように適応された光源、前記入力ポートは対象物の選択特質を 探るために対象物上の選択場所に配置されている、 対象物上の選択された場所に配置した複数の検出ポートにおいて、対象物内で 移動している前記放射線を経時検出するように適応された検出器、前記検出ポー トにお ける、前記経時検出の時間関係は導入放射と対象物との相互作用の結果として形 成された光量子密度の勾配を観察するように選択される、 光量子密度の前記勾配への前記対象物の影響を示す処理されたデータを作るた めに前記導入放射線に関して前記の検出された放射線の信号を処理するように適 応された処理手段、そして 前記の処理されたデータを前記入力ポートと出力ポートとの場所に関連させる ことにより前記対象物を検査するように適応された評価手段とを含むことを特徴 とする。 35.少なくとも一つ以上の前記検出ポートを所定形状パターン上の他の場所 に移動させるように適応された変位手段を更に含む、前記の他の場所は対象物の 前記検査を実行するために使用されることを特徴とする請求の範囲第34項に記 載のシステム。 36.対象物に適用される分光システムの入力ポートと検出ポート間に位置し た対象物の分光検査のシステムにおいて: 対象物内で移動する間に蛍光成分により分散されて、吸収されるように選択さ れた光量子密度の既知の時間で変動するパターンと波長との電磁非電離放射線を 、入力ポートにおいて、導入するように適応された光源、前記入力ポートは対象 物の前記蛍光成分を突き止めるために対象物上の選択された場所として配置され る、 対象物上の選択場所に配置した複数の検出ポートにおいて、対象物内で移動し ている蛍光放射線を経時検出するように適応された検出器、対象物の前記蛍光成 分の場所を示す処理されたデータを作るために前記導入放射線に関して前記の検 出された放射線の信号を処理するように適応された処理手段、そして 前記の処理されたデータを前記入力ポートと出力ポートとの場所に関連させる ことにより前記対象物を検査するように適応された評価手段とを含むことを特徴 とする。 37.少なくとも一つ以上の前記検出ポートを所定形状パターン上の他の場所 に移動させるように適応された変位手段を更に含む、前記の他の場所は対象物の 前記蛍光成分を突き止めるために使用されることを特徴とする請求の範囲第36 項に記載のシステム。 38.前記の時間で変動するパターンは前記選択周波数において変調された選 択波長強度の放射線を含む、そして前記放射パターン制御手段は少なくとも一つ 以上の方向に前記放射線の急峻な位相変化と強度の鋭い最小限度とを生成しなけ ればならない前記入力ポートの各々から導入される前記変調放射パターン間の選 択位相関係を制御するように更に適応されることを特徴とする請求の範囲第26 、27、27、29、30、31、32項のいずれかに記載のシステム。 39.前記位相関係は180度であることを特徴とす る請求の範囲第38項に記載のシステム。 40.前記放射パターン制御手段は、前記放射線の前記の急峻な位相変化の前 記方向の空間的方位と放射強度の前記の鋭い最小限度とを変更できるように導入 放射パターンの全てに同一の時間で変動する位相成分を課すように更に適応され ることを特徴とする請求の範囲第38、39項に記載のシステム。 41.前記の時間で変動するパターンは前記選択周波数において変調された選 択波長強度の放射線を含む、そして前記放射パターン制御手段は少なくとも一つ 以上の方向に前記放射線の急峻な位相変化と強度の鋭い最小限度とを生成しなけ ればならない前記入力ポートの各々から導入される前記変調放射パターン間の選 択周波数関係を制御するように更に適応されることを特徴とする請求の範囲第2 6、27,, 27、29、30、31、32項のいずれかに記載のシステム。 42.前記の時間で変動するパターンは前記選択周波数において変調された選 択.波長強度の放射線を含む、そして前記放射パターン制御手段は少なくとも一 つ以上の方向に前記放射線の急峻な位相変化と強度の鋭い最小限度とを生成しな ければならない前記入力ポートの各々から導入される前記変調放射パターン間の 選択振幅関係を制御するように更に適応されることを特徴とする請求の範囲第2 6、27、27、29、30、31、32項の いずれかに記載のシステム。 43.前記放射パターン制御手段は、前記放射線の前記の急峻な位相変化の前 記方向の空間的方位と放射強度の前記の鋭い最小限度とを変更できるように前記 導入放射パターンの全てに同一の時間で変動する振幅成分を加えるように更に適 応されることを特徴とする請求の範囲第42項に記載のシステム。 44.前記放射線は対象物内の光量子の移動中に始まる移相の分解能を使用可 能にする周波数において変調されることを特徴とする請求の範囲第38から43 項のいずれかに記載のシステム。 45.前記周波数は108Hz程度であることを特徴とする請求の範囲第44 項に記載のシステム。 46.前記処理手段は対象物内での分散と、吸収により変る前記放射線の位相 または強度を決定するように更に適応されることを特徴とする請求の範囲第26 、27、28、29、30、31、32、34、35項のいずれかに記載のシス テム。 47.前記放射線の前記波長は対象物の内因性または外因性の組織色素の変化 に影響され易いことを特徴とする請求の範囲第26、27、28、29、30、 31、32、34、35項のいずれかに記載のシステム。
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