JPH0839059A - 有機アルカリを含む半導体洗浄排水の回収方法 - Google Patents
有機アルカリを含む半導体洗浄排水の回収方法Info
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- JPH0839059A JPH0839059A JP6176777A JP17677794A JPH0839059A JP H0839059 A JPH0839059 A JP H0839059A JP 6176777 A JP6176777 A JP 6176777A JP 17677794 A JP17677794 A JP 17677794A JP H0839059 A JPH0839059 A JP H0839059A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体製造工程から排出される有機アルカリ
を含む半導体洗浄排水を強酸性カチオン交換樹脂（Ｓ
Ｃ）塔に通水して有機アルカリを吸着除去する方法にお
いて、ＳＣ塔における有機アルカリの吸着除去を安定か
つ効率的に行う。 【構成】 有機アルカリを含む半導体洗浄排水を活性炭
層１、弱塩基性アニオン交換樹脂層２、強塩基性アニオ
ン交換樹脂層３及び強酸性カチオン交換樹脂層４に順次
通水する。 【効果】 ＳＣ層４の前段にＳＡ層３を設けることによ
り、ＳＣ層流入水のｐＨが安定し、アニオン負荷の変動
に影響されることなく、ＳＣ層流入水のｐＨを常にアル
カリ側に維持することが可能となる。有機アルカリの吸
着除去が安定かつ効率化される。
を含む半導体洗浄排水を強酸性カチオン交換樹脂（Ｓ
Ｃ）塔に通水して有機アルカリを吸着除去する方法にお
いて、ＳＣ塔における有機アルカリの吸着除去を安定か
つ効率的に行う。 【構成】 有機アルカリを含む半導体洗浄排水を活性炭
層１、弱塩基性アニオン交換樹脂層２、強塩基性アニオ
ン交換樹脂層３及び強酸性カチオン交換樹脂層４に順次
通水する。 【効果】 ＳＣ層４の前段にＳＡ層３を設けることによ
り、ＳＣ層流入水のｐＨが安定し、アニオン負荷の変動
に影響されることなく、ＳＣ層流入水のｐＨを常にアル
カリ側に維持することが可能となる。有機アルカリの吸
着除去が安定かつ効率化される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は有機アルカリを含む半導
体洗浄排水の回収方法に係り、特に、半導体製造工程か
ら排出される有機アルカリを含む半導体洗浄排水を強酸
性カチオン交換樹脂で処理して有機アルカリを吸着除去
する方法において、有機アルカリの除去効率を高め、高
水質処理水を回収する方法に関する。
体洗浄排水の回収方法に係り、特に、半導体製造工程か
ら排出される有機アルカリを含む半導体洗浄排水を強酸
性カチオン交換樹脂で処理して有機アルカリを吸着除去
する方法において、有機アルカリの除去効率を高め、高
水質処理水を回収する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体製造工程から排出される半
導体洗浄排水は、活性炭（ＡＣ）塔、弱塩基性アニオン
交換樹脂（ＷＡ）塔、強酸性カチオン交換樹脂（ＳＣ）
塔及び強塩基性アニオン交換樹脂（ＳＡ）塔に順次通水
処理された後、純水製造装置に通水処理され、超純水と
して再使用されている（特公昭６１−１１９２号公
報）。
導体洗浄排水は、活性炭（ＡＣ）塔、弱塩基性アニオン
交換樹脂（ＷＡ）塔、強酸性カチオン交換樹脂（ＳＣ）
塔及び強塩基性アニオン交換樹脂（ＳＡ）塔に順次通水
処理された後、純水製造装置に通水処理され、超純水と
して再使用されている（特公昭６１−１１９２号公
報）。
【０００３】ところで、半導体洗浄排水中には、トリメ
チルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）やコ
リンなどの有機アルカリが含有されているが、上記半導
体洗浄排水の回収方法において、これらの半導体洗浄排
水中の有機アルカリはＳＣ塔で除去される。このＳＣ塔
における有機アルカリの吸着除去効率はＳＣ塔入口水の
ｐＨに影響され、ｐＨアルカリ側において、効率的な吸
着除去がなされる。
チルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）やコ
リンなどの有機アルカリが含有されているが、上記半導
体洗浄排水の回収方法において、これらの半導体洗浄排
水中の有機アルカリはＳＣ塔で除去される。このＳＣ塔
における有機アルカリの吸着除去効率はＳＣ塔入口水の
ｐＨに影響され、ｐＨアルカリ側において、効率的な吸
着除去がなされる。
【０００４】上記従来の半導体洗浄排水の回収方法にお
いては、ＳＣ塔の前段のＷＡ塔におけるアニオン交換反
応で、ＷＡ塔流出水、即ち、ＳＣ塔流入水のｐＨはアル
カリ側となる。
いては、ＳＣ塔の前段のＷＡ塔におけるアニオン交換反
応で、ＷＡ塔流出水、即ち、ＳＣ塔流入水のｐＨはアル
カリ側となる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
方法において、ＷＡ塔のアニオンの負荷が変動し、ＷＡ
塔流入水のアニオンが増加したり、ＷＡ塔のイオン交換
能が低下したりした場合には、ＷＡ塔流出水のｐＨをア
ルカリ側に維持できなくなり、この結果、ＳＣ塔での有
機アルカリの吸着除去効率が低減する。この場合には、
後段の処理装置への負荷が増大して、結果として高純度
の超純水が得られなくなるという問題があった。
方法において、ＷＡ塔のアニオンの負荷が変動し、ＷＡ
塔流入水のアニオンが増加したり、ＷＡ塔のイオン交換
能が低下したりした場合には、ＷＡ塔流出水のｐＨをア
ルカリ側に維持できなくなり、この結果、ＳＣ塔での有
機アルカリの吸着除去効率が低減する。この場合には、
後段の処理装置への負荷が増大して、結果として高純度
の超純水が得られなくなるという問題があった。
【０００６】本発明は上記従来の問題点を解決し、半導
体製造工程から排出される有機アルカリを含む半導体洗
浄排水をＳＣ塔に通水して有機アルカリを吸着除去する
方法において、ＳＣ塔における有機アルカリの吸着除去
を安定かつ効率的に行う方法を提供することを目的とす
る。
体製造工程から排出される有機アルカリを含む半導体洗
浄排水をＳＣ塔に通水して有機アルカリを吸着除去する
方法において、ＳＣ塔における有機アルカリの吸着除去
を安定かつ効率的に行う方法を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の有機アルカリを
含む半導体洗浄排水の回収方法は、有機アルカリを含む
半導体洗浄排水を活性炭（ＡＣ）層、弱塩基性アニオン
交換樹脂（ＷＡ）層、強塩基性アニオン交換樹脂（Ｓ
Ａ）層及び強酸性カチオン交換樹脂（ＳＣ）層に順次通
水することを特徴とする。
含む半導体洗浄排水の回収方法は、有機アルカリを含む
半導体洗浄排水を活性炭（ＡＣ）層、弱塩基性アニオン
交換樹脂（ＷＡ）層、強塩基性アニオン交換樹脂（Ｓ
Ａ）層及び強酸性カチオン交換樹脂（ＳＣ）層に順次通
水することを特徴とする。
【０００８】
【作用】ＳＣ層の前段にＳＡ層を設けることにより、Ｓ
Ｃ層流入水のｐＨが安定し、アニオン負荷の変動やＷＡ
塔のイオン交換能に影響されることなく、ＳＣ層流入水
のｐＨを常にアルカリ側に維持することが可能となる。
Ｃ層流入水のｐＨが安定し、アニオン負荷の変動やＷＡ
塔のイオン交換能に影響されることなく、ＳＣ層流入水
のｐＨを常にアルカリ側に維持することが可能となる。
【０００９】このため、ＳＣ層における有機アルカリの
吸着除去の安定化及び効率化が図れる。
吸着除去の安定化及び効率化が図れる。
【００１０】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の有機アルカリ
を含む半導体洗浄排水の回収方法を詳細に説明する。
を含む半導体洗浄排水の回収方法を詳細に説明する。
【００１１】図１は本発明の有機アルカリを含む半導体
洗浄排水の回収方法の一実施例方法を示す系統図であ
り、１はＡＣ塔、２はＷＡ塔、３はＳＡ塔、４はＳＣ塔
を示し、１１〜１５の各符号は配管を示す。
洗浄排水の回収方法の一実施例方法を示す系統図であ
り、１はＡＣ塔、２はＷＡ塔、３はＳＡ塔、４はＳＣ塔
を示し、１１〜１５の各符号は配管を示す。
【００１２】本実施例の方法においては、半導体製造工
程から排出された有機アルカリを含む半導体洗浄排水
を、まず、配管１１よりＡＣ塔１に下向流通水して有機
物を除去した後、配管１２よりＷＡ塔２に下向流通水し
てフッ素や、硝酸、硫酸等の酸を除去する。
程から排出された有機アルカリを含む半導体洗浄排水
を、まず、配管１１よりＡＣ塔１に下向流通水して有機
物を除去した後、配管１２よりＷＡ塔２に下向流通水し
てフッ素や、硝酸、硫酸等の酸を除去する。
【００１３】このＷＡ塔２の流入水は、通常、ｐＨ２〜
４程度であるが、ＷＡ塔２に通水してフッ素や酸を除去
することにより、ＷＡ塔２の流出水のｐＨは、通常、８
〜１０程度のアルカリ側に高められる。
４程度であるが、ＷＡ塔２に通水してフッ素や酸を除去
することにより、ＷＡ塔２の流出水のｐＨは、通常、８
〜１０程度のアルカリ側に高められる。
【００１４】しかしながら、ＷＡ塔２の流入水のアニオ
ン負荷が増大したり、ＷＡ塔のイオン交換能が低下した
りした場合には、ＷＡ塔２の流出水のｐＨは大きく変動
し、著しい場合にはｐＨ６以下の酸性側となる。
ン負荷が増大したり、ＷＡ塔のイオン交換能が低下した
りした場合には、ＷＡ塔２の流出水のｐＨは大きく変動
し、著しい場合にはｐＨ６以下の酸性側となる。
【００１５】本発明においては、このようなＷＡ塔２の
流出水を配管１３よりＳＡ塔３に通水し、ＷＡ塔２で除
去し得なかった残存フッ素及びアニオン成分を除去す
る。このように、ＷＡ塔２の流出水をＳＡ塔３に通水す
ることにより、ＳＡ塔３からは、常にｐＨ８〜１０程度
のアルカリ側に安定した流出水が得られるようになる。
流出水を配管１３よりＳＡ塔３に通水し、ＷＡ塔２で除
去し得なかった残存フッ素及びアニオン成分を除去す
る。このように、ＷＡ塔２の流出水をＳＡ塔３に通水す
ることにより、ＳＡ塔３からは、常にｐＨ８〜１０程度
のアルカリ側に安定した流出水が得られるようになる。
【００１６】このＳＡ塔３の流出水は、次いで配管１４
よりＳＣ塔４に通水され、このＳＣ塔４において、有機
アルカリ、その他のカチオン成分が吸着除去される。こ
のＳＣ塔４の流入水、即ち、ＳＡ塔３の流出水は、ｐＨ
８〜１０のアルカリ側に常に安定しているため、このＳ
Ｃ塔４において、ＳＣのイオン交換能力が有効に発揮さ
れ、有機アルカリ等が安定かつ効率的に吸着除去される
ようになる。
よりＳＣ塔４に通水され、このＳＣ塔４において、有機
アルカリ、その他のカチオン成分が吸着除去される。こ
のＳＣ塔４の流入水、即ち、ＳＡ塔３の流出水は、ｐＨ
８〜１０のアルカリ側に常に安定しているため、このＳ
Ｃ塔４において、ＳＣのイオン交換能力が有効に発揮さ
れ、有機アルカリ等が安定かつ効率的に吸着除去される
ようになる。
【００１７】このＳＣ塔４の流出水は配管１５より抜き
出され、次工程、通常の場合、純水製造装置に通水処理
され、超純水として再使用される。
出され、次工程、通常の場合、純水製造装置に通水処理
され、超純水として再使用される。
【００１８】このような本発明の有機アルカリを含む半
導体洗浄排水の回収方法は、ＴＭＡＨ、コリン等の有機
アルカリを含むｐＨ５以下の半導体洗浄排水の処理に極
めて有効である。
導体洗浄排水の回収方法は、ＴＭＡＨ、コリン等の有機
アルカリを含むｐＨ５以下の半導体洗浄排水の処理に極
めて有効である。
【００１９】以下に具体的な実施例及び比較例を挙げ
る。
る。
【００２０】実施例１ 図１に示す装置により、下記水質の半導体洗浄排水をＡ
Ｃ塔１，ＷＡ塔２，ＳＡ塔３，ＳＣ塔４にＳＶ＝３０ｈ
ｒ-1で順次通水して処理した。
Ｃ塔１，ＷＡ塔２，ＳＡ塔３，ＳＣ塔４にＳＶ＝３０ｈ
ｒ-1で順次通水して処理した。
【００２１】半導体洗浄排水水質 ｐＨ：２．５〜２．６ ＴＯＣ：１０ｐｐｍ（Ｃ換算）（ＴＯＣの主成分はコリ
ン） コリン：１８ｐｐｍ（コリン換算） 全カチオン：３６ｐｐｍ（ＣａＣＯ3 換算） 全アニオン：１５０ｐｐｍ（ＣａＣＯ3 換算） なお、各塔（いずれもカラム径５０ｍｍ，高さ５００ｍ
ｍ）の充填樹脂の種類及び充填量は次の通りである。
ン） コリン：１８ｐｐｍ（コリン換算） 全カチオン：３６ｐｐｍ（ＣａＣＯ3 換算） 全アニオン：１５０ｐｐｍ（ＣａＣＯ3 換算） なお、各塔（いずれもカラム径５０ｍｍ，高さ５００ｍ
ｍ）の充填樹脂の種類及び充填量は次の通りである。
【００２２】ＡＣ塔：ＡＣ（クリコールＷＧ−１６０
１０Ｘ３２（栗田工業（株）商標））を８００ｍｌ充填 ＷＡ塔：ポーラス型ＷＡ（ダイヤイオンＷＡ３０（三菱
化成（株）商標））を８００ｍｌ充填 ＳＡ塔：ゲル型ＳＡ（ダイヤイオンＳＡ１０Ａ（三菱化
成（株）商標））を８００ｍｌ充填 ＳＣ塔：ゲル型ＳＣ（ダイヤイオンＳＫ１Ｂ（三菱化成
（株）商標））を８００ｍｌ充填 ＳＣ塔４の流入水のｐＨ及び流出水のＴＯＣの推移を図
２に示す。
１０Ｘ３２（栗田工業（株）商標））を８００ｍｌ充填 ＷＡ塔：ポーラス型ＷＡ（ダイヤイオンＷＡ３０（三菱
化成（株）商標））を８００ｍｌ充填 ＳＡ塔：ゲル型ＳＡ（ダイヤイオンＳＡ１０Ａ（三菱化
成（株）商標））を８００ｍｌ充填 ＳＣ塔：ゲル型ＳＣ（ダイヤイオンＳＫ１Ｂ（三菱化成
（株）商標））を８００ｍｌ充填 ＳＣ塔４の流入水のｐＨ及び流出水のＴＯＣの推移を図
２に示す。
【００２３】なお、ＷＡ塔２の流入水のｐＨは図２に示
す如く、ほぼ一定であった。
す如く、ほぼ一定であった。
【００２４】比較例１ 従来法に従って、実施例１で処理したものと同様の半導
体洗浄排水を、ＡＣ塔，ＷＡ塔，ＳＣ塔及びＳＡ塔に順
次通水して処理を行い、ＳＣ塔の流入水のｐＨ及び流出
水のＴＯＣの推移を図２に示した。この比較例１におい
ては、ＷＡ塔のイオン交換能の経時的な劣化により、Ｓ
Ｃ塔流入水のｐＨの低下が認められる。
体洗浄排水を、ＡＣ塔，ＷＡ塔，ＳＣ塔及びＳＡ塔に順
次通水して処理を行い、ＳＣ塔の流入水のｐＨ及び流出
水のＴＯＣの推移を図２に示した。この比較例１におい
ては、ＷＡ塔のイオン交換能の経時的な劣化により、Ｓ
Ｃ塔流入水のｐＨの低下が認められる。
【００２５】なお、用いた各処理塔の仕様は実施例１で
用いたものと同様である。
用いたものと同様である。
【００２６】図２より、本発明の方法によれば、ＳＣ塔
流入水のｐＨがアルカリ側に安定し、ＳＣ塔流出水のＴ
ＯＣも低濃度に安定することが明らかである。
流入水のｐＨがアルカリ側に安定し、ＳＣ塔流出水のＴ
ＯＣも低濃度に安定することが明らかである。
【００２７】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の有機アルカ
リを含む半導体洗浄排水の回収方法によれば、半導体製
造工程から排出される有機アルカリを含む半導体洗浄排
水を、強酸性カチオン交換樹脂層に通水して有機アルカ
リを吸着除去する方法において、強酸性カチオン交換樹
脂層の給水のｐＨをアルカリ側に安定させることによ
り、強酸性カチオン交換樹脂層における有機アルカリの
吸着除去効率を高めると共に安定化し、有機アルカリ濃
度の低い高水質処理水を安定かつ効率的に得ることがで
きる。
リを含む半導体洗浄排水の回収方法によれば、半導体製
造工程から排出される有機アルカリを含む半導体洗浄排
水を、強酸性カチオン交換樹脂層に通水して有機アルカ
リを吸着除去する方法において、強酸性カチオン交換樹
脂層の給水のｐＨをアルカリ側に安定させることによ
り、強酸性カチオン交換樹脂層における有機アルカリの
吸着除去効率を高めると共に安定化し、有機アルカリ濃
度の低い高水質処理水を安定かつ効率的に得ることがで
きる。
【図１】本発明の有機アルカリを含む半導体洗浄排水の
回収方法の一実施例方法を示す系統図である。
回収方法の一実施例方法を示す系統図である。
【図２】実施例１及び比較例１の結果を示すグラフであ
る。
る。
１ 活性炭（ＡＣ）塔 ２ 弱塩基性アニオン交換樹脂（ＷＡ）塔 ３ 強塩基性アニオン交換樹脂（ＳＡ）塔 ４ 強酸性カチオン交換樹脂（ＳＣ）塔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０２Ｆ 9/00 Ｈ ５０３ Ｃ ５０４ Ｂ
Claims (1)
- 【請求項１】 有機アルカリを含む半導体洗浄排水を活
性炭層、弱塩基性アニオン交換樹脂層、強塩基性アニオ
ン交換樹脂層及び強酸性カチオン交換樹脂層に順次通水
することを特徴とする有機アルカリを含む半導体洗浄排
水の回収方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6176777A JPH0839059A (ja) | 1994-07-28 | 1994-07-28 | 有機アルカリを含む半導体洗浄排水の回収方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6176777A JPH0839059A (ja) | 1994-07-28 | 1994-07-28 | 有機アルカリを含む半導体洗浄排水の回収方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0839059A true JPH0839059A (ja) | 1996-02-13 |
Family
ID=16019659
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6176777A Pending JPH0839059A (ja) | 1994-07-28 | 1994-07-28 | 有機アルカリを含む半導体洗浄排水の回収方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0839059A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10176532A (ja) * | 1996-12-16 | 1998-06-30 | Sanshin Seisakusho:Kk | エンジン冷却液の再生方法 |
| JP2002301332A (ja) * | 2001-04-05 | 2002-10-15 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 無機酸を含む気体の処理方法、処理装置、処理システム、及び、洗浄処理装置 |
| JP2008073644A (ja) * | 2006-09-22 | 2008-04-03 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造方法および装置 |
| JP2010125352A (ja) * | 2008-11-25 | 2010-06-10 | Japan Organo Co Ltd | フォトレジスト現像排水の排水処理システム |
-
1994
- 1994-07-28 JP JP6176777A patent/JPH0839059A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10176532A (ja) * | 1996-12-16 | 1998-06-30 | Sanshin Seisakusho:Kk | エンジン冷却液の再生方法 |
| JP2002301332A (ja) * | 2001-04-05 | 2002-10-15 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 無機酸を含む気体の処理方法、処理装置、処理システム、及び、洗浄処理装置 |
| JP2008073644A (ja) * | 2006-09-22 | 2008-04-03 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造方法および装置 |
| JP2010125352A (ja) * | 2008-11-25 | 2010-06-10 | Japan Organo Co Ltd | フォトレジスト現像排水の排水処理システム |
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