JPH08340128A - 光電変換回路 - Google Patents

光電変換回路

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JPH08340128A
JPH08340128A JP7169318A JP16931895A JPH08340128A JP H08340128 A JPH08340128 A JP H08340128A JP 7169318 A JP7169318 A JP 7169318A JP 16931895 A JP16931895 A JP 16931895A JP H08340128 A JPH08340128 A JP H08340128A
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photoelectric conversion
conversion circuit
transistor
circuit
compression
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JP7169318A
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Masayuki Uno
正幸 宇野
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Olympus Corp
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Olympus Optical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 CMOSデバイスによっても精度よく動作す
る対数圧縮回路を備えた光電変換回路を提供する。 【構成】 フォトダイオード1と、圧縮ダイオードとし
て動作する一端を電源電圧VDDに接続したコレクタ・ベ
ース短絡型 npnトランジスタ2と、前記フォトダイオー
ド1とコレクタ・ベース短絡型 npnトランジスタ2との
間に配置され、ソースをフォトダイオード1のカソード
に、ドレインを npnトランジスタ2のエミッタに接続さ
れ、ゲートに接地電位VG を印加したnMOSトランジ
スタ3と、npnトランジスタ2のエミッタとnMOSト
ランジスタ3のドレインとの接続点に接続したバッファ
4とで光電変換回路を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、フォトダイオードの
光電流を対数的に圧縮する対数圧縮型の光電変換回路に
関し、特にCMOSデバイス上に精度よく構成すること
が可能な対数圧縮型の光電変換回路に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、フォトダイオードの光電流を対数
的に圧縮する対数圧縮型の光電変換回路は広く知られて
いるが、その代表的な構成を図8に基づいて説明する。
図8において、101 はフォトダイオード、102 はオペア
ンプ、103 は npnトランジスタのコレクタ・ベース短絡
型の圧縮用ダイオードである。そして、フォトダイオー
ド101 のアノードは接地され、カソードはオペアンプ10
2 の負入力端子に接続されており、オペアンプ102 の正
入力端子は接地され、負入力端子と出力端子104間には
対数圧縮用ダイオード103 が接続されている。
【0003】このように構成された対数圧縮型の光電変
換回路においては、オペアンプ102の正入力端子は接地
され、且つ負入力端子と出力端子間には帰還がかかるた
め、負入力端子は仮想接地された状態となり、オペアン
プ102 の入力電流が非常に小さければ、フォトダイオー
ド101 で発生した光電流IPDは、圧縮用ダイオード103
に流れ、出力端子104 には、次式(1)で表される出力
OUT が現れる。 VOUT =VT log (IPD/IS ) ・・・・・・・・(1) ここで、VT =kT/q(k:ボルツマン定数、T:絶
対温度、q:単位電荷)で、IS は圧縮用ダイオードを
構成するコレクタ・ベース短絡型の npnトランジスタの
飽和電流である。上記(1)式からもわかるように、光
電流IPDは対数的に圧縮され、出力される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このような構成の対数
圧縮型の光電変換回路は、バイポーラプロセスによる回
路においては一般的に用いられている。しかしながら、
このような構成の対数圧縮型の光電変換回路を、CMO
Sプロセスによる回路上に形成する場合は、次に述べる
ような問題が生じる。
【0005】図9は、n基板を用いたCMOSデバイス
の断面構成を示す概略図である。なお、ここではMOS
トランジスタのゲート部は図示を省略し、拡散層のみを
示している。通常のCMOSプロセスでは、n基板、p
基板の種類にかかわらず、基板201 上にnウエル202 及
びpウエル203 を形成した後、そのウエル202 ,203上
にMOSトランジスタのソース・ドレインとなるp+
散層204 ,n+ 拡散層205 が形成される。図9よりわか
るように、基板201 がn型ならばnウエル202は基板電
位と共通となり、基板201 がp型ならばpウエル203 は
基板電位と共通となる。
【0006】このような構造上、n型基板の場合は対数
圧縮用のダイオードとして用いるダイオード構造は、p
ウエル−n+ 拡散層部分しか存在しない。またp型基板
の場合は、nウエル−p+ 拡散層部分が対数圧縮用ダイ
オードとして用いられる。そしてn型基板のダイオード
構造を用いて、図8に示した対数圧縮型の光電変換回路
を構成する場合、CMOSデバイス上の上記ダイオード
構造は、n基板をコレクタとした npnトランジスタとし
ての動作をする。しかして、n基板には通常は電源電圧
DDのような最大電圧が印加されるため、pウエル−n
+ 拡散層構造のダイオードを用いた対数圧縮型の光電変
換回路は、図10に示すような等価回路となる。図10にお
いて、301 はフォトダイオード、302 はオペアンプ、30
3 は npnトランジスタを示している。
【0007】図10で示す npnトランジスタ303 のエミッ
タ、ベース、コレクタは、図9におけるn+ 拡散層205
,pウエル203 ,n基板201 にそれぞれ対応する。こ
の等価回路で出力VOUT は、次式(2)で表される。 VOUT =VT log (αIPD/IS ) ・・・・・・・(2) ここで、αはベース接地電流増幅率で、α=IC /IE
=β/(1+β)で表され、βはエミッタ接地電流増幅
率である。このように、出力VOUT は電流増幅率にも依
存し、電流増幅率はトランジスタ303 に流れるバイアス
電流に依存するため、光電流IPDが変化するとαも変化
し、誤差が生じる。また、このトランジスタ303 はCM
OSデバイス上に寄生的に存在する構造であるため、通
常のバイポーラプロセスによるトランジスタと比較する
と、電流増幅率は小さく、また生産工程上の管理が成さ
れているわけでもない。したがって、精度を必要とする
対数圧縮回路には用いることはできない。
【0008】本発明は、光電変換回路の対数圧縮回路を
形成する場合における上記問題点を解消するためになさ
れたもので、請求項1〜6記載の各発明は、CMOSデ
バイスによっても精度よく動作する対数圧縮回路を備え
た光電変換回路を提供することを目的とする。また請求
項7記載の発明は、請求項1〜6のいずれか1項に記載
の対数圧縮型光電変換回路において、圧縮用ダイオード
のプロセスばらつきや温度変動の影響を排除できるよう
に構成することを目的とする。また請求項8記載の発明
は、請求項7記載の対数圧縮型光電変換回路において、
寄生トランジスタ動作によるダイナミックレンジの低下
を抑制できるように構成することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段及び作用】上記問題点を解
決するための請求項1記載の発明は、フォトダイオード
と、該フォトダイオードで発生した光電流を対数的に圧
縮する圧縮ダイオードを有する対数圧縮型の光電変換回
路において、前記フォトダイオードと圧縮ダイオードの
間に、低入力インピーダンスを呈する能動回路を設ける
ものである。また請求項2記載の発明は、請求項1記載
の光電変換回路において、前記能動回路は、ゲート接地
型のMOSトランジスタを含み、該MOSトランジスタ
のソースには前記フォトダイオードを接続するものであ
る。また請求項3記載の発明は、請求項1記載の光電変
換回路において、前記能動回路は、ゲート接地型のMO
Sトランジスタを含み、該MOSトランジスタのソース
には前記フォトダイオードを接続し、ドレインには前記
圧縮ダイオードを接続すると共に、ソース・ゲート間に
反転増幅回路を設けるものである。また請求項4記載の
発明は、請求項3記載の光電変換回路において、前記反
転増幅回路は、ソース接地型の第1のMOSトランジス
タ及び負荷として動作する前記第1のMOSトランジス
タと反対極性の第2のMOSトランジスタとで構成する
ものである。また請求項5記載の発明は、請求項1〜4
記載の光電変換回路において、前記圧縮ダイオード及び
能動回路は、CMOSデバイスにより構成され、前記圧
縮ダイオードは基板の極性と反対の極性のウエルを一方
の端子とし、該ウエル上に形成されるMOSデバイスの
ソース・ドレインとなる拡散層を他方の端子とした構造
を備えるものである。また請求項6記載の発明は、請求
項5記載の光電変換回路において、前記圧縮ダイオード
を構成するウエルの電位は、基板電位と同電位に設定す
るものである。
【0010】このように、フォトダイオードと圧縮ダイ
オードとの間に低入力インピーダンスを呈する能動回路
を設けることにより、フォトダイオードと圧縮ダイオー
ドを分離して電位を設定することが可能となり、CMO
Sデバイス上に形成される寄生トランジスタを圧縮ダイ
オードとして用いる場合には、ベース(ウエル)を基板
(コレクタ)電位と同電位に設定でき、寄生トランジス
タのコレクタ・ベースを短絡した形式が可能となり、電
流増幅率に依存せず精度よく動作する光電変換回路の対
数圧縮回路を、CMOSデバイス上で得ることが可能と
なる。
【0011】請求項7記載の発明は、請求項1〜6のい
ずれか1項に記載の光電変換回路において、前記圧縮ダ
イオードと同様な構造を有し、基準電流が流れる第2の
圧縮ダイオードを設けると共に、これら2つの圧縮ダイ
オードの出力電圧の差分出力を出力する手段を設けるも
のである。このように構成することにより、基準電流が
一定ならば、圧縮ダイオードを構成するトランジスタの
飽和電流等のようにプロセス変動や温度変動により大き
く変化する要因を排除することが可能となる。
【0012】請求項8記載の発明は、請求項7記載の光
電変換回路において、前記2つの圧縮ダイオードは、そ
れぞれCMOSデバイス上に構成されたウエルとソース
・ドレインとなる拡散層の構造で構成され、上記各ウエ
ルはそれぞれ独立して分離されるように構成するもので
ある。このように各圧縮ダイオードを構成するウエルを
独立して分離することにより、寄生の横型トランジスタ
の影響を排除することができ、光電流の広い範囲に対し
て精度のよい圧縮出力を得ることが可能となる。
【0013】
【実施例】次に実施例について説明する。図1は、本発
明に係る光電変換回路の第1実施例を示す回路構成図で
ある。図1において、1はフォトダイオード、2は圧縮
ダイオードとして動作する一端を電源電圧VDDに接続し
たコレクタ・ベース短絡型の npnトランジスタであり、
これらのフォトダイオード1と npnトランジスタ2との
間には、ゲート電位VG を接地電位としたnMOSトラ
ンジスタ3が設けられ、そのソースはフォトダイオード
1のカソードに、ドレインは npnトランジスタ2のエミ
ッタに接続されている。また、nMOSトランジスタ3
のドレインとnpnトランジスタ2のエミッタとの接続点
には、高入力インピーダンスのバッファ4が接続され、
その出力側が出力端子5となっている。
【0014】このように構成した光電変換回路におい
て、nMOSトランジスタ3のゲート電位VG を、nM
OSトランジスタ3が飽和領域で動作するような電位設
定とすることによって、フォトダイオード1の電位はV
G −VGS(VGS:nMOSトランジスタのソース・ゲー
ト間電圧)で、低入力インピーダンスとなり、フォトダ
イオード1で生じた光電流IPDは、nMOSトランジス
タ3を介してコレクタ・ベース短絡型の npnトランジス
タ2に流れる。これにより、バッファ4の入力端には、
次式(3)で示される出力VOUT ′が発生する。 VOUT ′=VDD−VT log (IPD/IS ) ・・・・・(3) 上記(3)式からもわかるように、図1に示した光電変
換回路においては、電源電圧VDDを基準とした光電流I
PDの圧縮出力が得られる。
【0015】このように、フォトダイオード1と圧縮ダ
イオード用のコレクタ・ベース短絡型 npnトランジスタ
2の間に、ゲート接地型のような低入力インピーダンス
を呈する能動回路を設けることにより、フォトダイオー
ド1と圧縮ダイオード用のコレクタ・ベース短絡型 npn
トランジスタ2を分離して電位を設定することが可能と
なる。
【0016】これにより、CMOSデバイスで得られる
寄生的な npnトランジスタのベースすなわちウエルを、
コレクタすなわちn基板と同電位となるように電源電圧
に設定できるため、見かけ上コレクタ・ベース短絡型ト
ランジスタとなり、 npnトランジスタの電流増幅率の影
響を受けない対数圧縮出力が得られる。以上のように、
図1に示した第1実施例によれば、CMOSデバイス上
でも精度のよい対数圧縮回路を備えた光電変換回路が得
られることがわかる。
【0017】次に、上記第1実施例を改善した第2実施
例を、図2に基づいて説明する。フォトダイオード1の
電位は、VG −VGSとなるが、nMOSトランジスタ3
のソース・ゲート間電圧VGSは、バイアス電流すなわち
光電流IPDに依存するため、明るさによりフォトダイオ
ードの逆バイアスが変化する。第2実施例は、この点を
改善するもので、図2に示すように、光電流IPDを圧縮
ダイオード用 npnトランジスタ2に転送するnMOSト
ランジスタ3のソース・ゲート間に、正入力端子を接地
したオペアンプ6を設け、該オペアンプ6を反転増幅器
として動作させるようにしている。
【0018】このように構成した第2実施例において
は、光電流IPDが変化しても、オペアンプ6の負入力端
子が仮想接地されるように、オペアンプ6の出力が変わ
るため、光電流IPDが変化しても、フォトダイオード1
のバイアス電圧は殆ど変化しない。
【0019】また、図2に示した第2実施例において
は、フォトダイオードの印加バイアスを零とするため
に、反転増幅器としてオペアンプを用いたものを示した
が、逆バイアスを印加することが許容されるならば、反
転増幅器としてオペアンプを用いなくてもよい。図3は
反転増幅器として、ソース接地型のCMOS反転回路を
用いた第3実施例を示す回路構成図である。
【0020】図3において、7はソース接地型のnMO
Sトランジスタで、ドレインは負荷として動作するゲー
トがバイアス電位VBIASに接続されたpMOSトランジ
スタ8に接続されている。この回路構成は反転増幅器を
構成しており、その入力すなわちnMOSトランジスタ
7のゲートがnMOSトランジスタ3のソースに接続さ
れ、またその出力すなわちnMOSトランジスタ7のド
レインがnMOSトランジスタ3のゲートに接続されて
いる。
【0021】このように構成された第3実施例において
は、フォトダイオード1にnMOSトランジスタ7のソ
ース・ゲート間電圧VGSが印加されるが、その電圧は光
電流IPDに依存せずほぼ一定となっている。したがっ
て、フォトダイオード1の逆バイアスを零としなくても
よい場合は、オペアンプを用いるより回路規模が小さく
てよいので、有効である。
【0022】図1〜図3に示した各実施例では、フォト
ダイオードのカソード側からの出力を対数圧縮する形式
のものを示したが、アノード側からの出力を圧縮する第
4実施例を図4に基づいて説明する。この実施例におい
ては、転送用のゲート接地型MOSトランジスタとして
pMOSトランジスタ11を用いており、該pMOSトラ
ンジスタ11のソース・ゲート間には反転回路12が接続さ
れている。そして、pMOSトランジスタ11で転送され
た光電流IPDは、nMOSトランジスタ13,14で構成さ
れるカレントミラーで折り返され、圧縮ダイオード用の
コレクタ・ベース短絡型 npnトランジスタ2に供給され
る。
【0023】このように、カレントミラーを用いること
により、アノード側が出力となるフォトダイオードを用
いた光電流変換回路にも、本発明を適用することができ
る。
【0024】また上記図1〜図4に示した各実施例にお
いては、n基板のCMOSデバイスで得られる寄生 npn
トランジスタを利用した圧縮回路を備えた光電変換回路
を示したが、p基板のCMOSデバイスでは、nウエル
をベースとし、p+ 領域をエミッタとし、p基板をコレ
クタとした寄生 pnpトランジスタを利用すればよい。こ
のためには、nウエルをp基板と同電位とし、図1〜図
4に示したnMOSトランジスタをpMOSトランジス
タに、pMOSトランジスタをnMOSトランジスタに
置き換えて構成すればよい。
【0025】次に、第5実施例を図5に基づいて説明す
る。この実施例は、圧縮ダイオード用のコレクタ・ベー
ス短絡型トランジスタの飽和電流IS の影響をなくすよ
うに構成した実施例である。図1に示した第1実施例等
で示したように、対数圧縮出力は前記(3)式で表され
るが、圧縮ダイオードを構成するトランジスタの飽和電
流IS はプロセスにより変動が生じると共に、温度によ
っても変動する。図5に示した第5実施例は、この飽和
電流IS の変動の影響を排除するようにしたものであ
る。
【0026】図5において、15は反転増幅器で、図2に
示したオペアンプや図3に示したCMOS反転回路等で
構成してもよい。16は圧縮ダイオード用のコレクタ・ベ
ース短絡型 npnトランジスタ2と同様な構成の圧縮ダイ
オード用のコレクタ・ベース短絡型 npnトランジスタ
で、そのエミッタには定電流源17が接続されている。そ
して、反転増幅器15を含む圧縮回路の出力V1 と、定電
流源17より発生した定電流Iref をコレクタ・ベース短
絡型 npnトランジスタ16に流して得られる出力V2
を、差分回路18に入力し、その差分出力を出力VOUT
して出力する構成となっている。上記出力V1 ,V
2 は、次式(4),(5)で表される。 V1 =VDD−VT log (IPD/IS ) ・・・・・・・・(4) V2 =VDD−VT log (Iref /IS ) ・・・・・・・(5) V1 ,V2 の差分出力VOUT は、次式(6)で表され
る。 VOUT =V1 −V2 =VT log (IPD/Iref ) ・・・(6)
【0027】上記(6)式からわかるように、定電流I
ref が一定ならば、対数圧縮された光電変換器の出力V
OUT には、トランジスタの飽和電流IS 等のようにプロ
セス変動や温度変動により大きく変わる要因が排除され
る。またVT =kT/qと表されるため、上記(6)式
の出力VOUT は絶対温度に比例するが、バンドギャップ
回路等により絶対温度に比例する電圧出力をIC化回路
で比較的簡単に作り出すことが可能なため、その絶対温
度に比例する出力を基準に割算を行うことによって、温
度の影響を完全に除去することができる。
【0028】次に、上記図5に示すような、圧縮ダイオ
ード用のコレクタ・ベース短絡型トランジスタを複数個
用いる光電変換回路を構成する場合の、CMOSデバイ
スにおけるレイアウトを特定する実施例について説明す
る。図6は、図5に示すような、2つの圧縮ダイオード
用のコレクタ・ベース短絡型 npnトランジスタを用いた
場合のCMOSデバイス上におけるレイアウト例を示す
図である。この2つのコレクタ・ベース短絡型 npnトラ
ンジスタのベースは、共にVDD電位なので、図6に示す
ように、ベースすなわちpウエル23を共通にして、その
上の各トランジスタのエミッタとなるn+ 拡散層21,22
のみを分離する構成が考えられる。なお、図6において
24はn基板である。
【0029】しかしながら、このようにpウエル23を共
通にする構成では、2つのn+ 拡散層21,22をエミッタ
及びコレクタとし、pウエル23をベースとした寄生の横
型 npnトランジスタ25が動作するため、2つのコレクタ
・ベース短絡型 npnトランジスタの光電流IPDと定電流
ref の差が大きな場合に、誤差を生じさせることがあ
る。
【0030】そこで、図5に示すような複数のコレクタ
・ベース短絡型 npnトランジスタを用いる場合には、上
記図6に示したレイアウトとした場合に生じる寄生の横
型 npnトランジスタの影響を排除するために、図7に示
すように、分離したpウエル31,32を用いる必要があ
る。このように分離したpウエル31,32を用いて構成し
た複数のコレクタ・ベース短絡型トランジスタを用いる
ことにより、光電流IPDの広い範囲に対して、精度のよ
い圧縮出力を得ることが可能となる。なお、図7におい
て33,34はn+ 拡散層、35はn基板である。
【0031】
【発明の効果】以上実施例に基づいて説明したように、
請求項1〜6記載の各発明によれば、フォトダイオード
と圧縮ダイオードとの間に低入力インピーダンスを呈す
る能動回路を設けることにより、フォトダイオードと圧
縮ダイオードを分離して電位を設定することが可能であ
り、電流増幅率に依存せず精度よく動作する光電変換回
路の対数圧縮回路をCMOSデバイス上で得ることが可
能となる。また請求項7記載の発明によれば、圧縮ダイ
オードを構成するトランジスタの飽和電流等のようにプ
ロセス変動や温度変動により大きく変化する要因を排除
することができる。また請求項8記載の発明によれば、
寄生横型トランジスタの影響を排除することができ、光
電流の広い範囲に対して精度のよい圧縮出力を得ること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る光電変換回路の第1実施例を示す
回路構成図である。
【図2】本発明の第2実施例を示す回路構成図である。
【図3】本発明の第3実施例を示す回路構成図である。
【図4】本発明の第4実施例を示す回路構成図である。
【図5】本発明の第5実施例を示す回路構成図である。
【図6】図5に示した第5実施例における2つの圧縮ダ
イオード用のコレクタ・ベース短絡型トランジスタを構
成する場合に考えられるCMOSデバイス上のレイアウ
ト例を示す図である。
【図7】本発明の第6実施例のコレクタ・ベース短絡型
トランジスタの構成のレイアウトを示す図である。
【図8】一般的な対数圧縮型の光電変換回路の構成を示
す回路構成図である。
【図9】n基板を用いたCMOSデバイスの断面構成を
示す概略図である。
【図10】図9に示したCMOSデバイスを用いて構成し
た対数圧縮型の光電変換回路の等価回路を示す図であ
る。
【符号の説明】
1 フォトダイオード 2 コレクタ・ベース短絡型 npnトランジスタ 3 nMOSトランジスタ 4 バッファ 5 出力端子 6 オペアンプ 7 nMOSトランジスタ 8 pMOSトランジスタ 11 pMOSトランジスタ 12 反転回路 13,14 nMOSトランジスタ 15 反転回路 16 コレクタ・ベース短絡型 npnトランジスタ 17 定電流源 21,22 n+ 拡散層 23 pウエル 24 n基板 25 寄生横型 npnトランジスタ 31,32 pウエル 33,34 n+ 拡散層 35 n基板

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フォトダイオードと、該フォトダイオー
    ドで発生した光電流を対数的に圧縮する圧縮ダイオード
    を有する対数圧縮型の光電変換回路において、前記フォ
    トダイオードと圧縮ダイオードの間に、低入力インピー
    ダンスを呈する能動回路を設けたことを特徴とする光電
    変換回路。
  2. 【請求項2】 前記能動回路は、ゲート接地型のMOS
    トランジスタを含み、該MOSトランジスタのソースに
    は前記フォトダイオードを接続したことを特徴とする請
    求項1記載の光電変換回路。
  3. 【請求項3】 前記能動回路は、ゲート接地型のMOS
    トランジスタを含み、該MOSトランジスタのソースに
    は前記フォトダイオードを接続し、ドレインには前記圧
    縮ダイオードを接続すると共に、ソース・ゲート間に反
    転増幅回路を設けたことを特徴とする請求項1記載の光
    電変換回路。
  4. 【請求項4】 前記反転増幅回路は、ソース接地型の第
    1のMOSトランジスタ及び負荷として動作する前記第
    1のMOSトランジスタと反対極性の第2のMOSトラ
    ンジスタとで構成されるCMOS型反転回路であること
    を特徴とする請求項3記載の光電変換回路。
  5. 【請求項5】 前記圧縮ダイオード及び能動回路は、C
    MOSデバイスにより構成され、前記圧縮ダイオードは
    基板の極性と反対の極性のウエルを一方の端子とし、該
    ウエル上に形成されるMOSデバイスのソース・ドレイ
    ンとなる拡散層を他方の端子とした構造を備えているこ
    とを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の光
    電変換回路。
  6. 【請求項6】 前記圧縮ダイオードを構成するウエルの
    電位は、基板電位と同電位に設定されていることを特徴
    とする請求項5記載の光電変換回路。
  7. 【請求項7】 前記圧縮ダイオードと同様な構造を有
    し、基準電流が流れる第2の圧縮ダイオードを設けると
    共に、これら2つの圧縮ダイオードの出力電圧の差分出
    力を出力する手段を備えていることを特徴とする請求項
    1〜6のいずれか1項に記載の光電変換回路。
  8. 【請求項8】 前記2つの圧縮ダイオードは、それぞれ
    CMOSデバイス上に構成されたウエルとソース・ドレ
    インとなる拡散層の構造で構成され、上記各ウエルはそ
    れぞれ独立して分離されていることを特徴とする請求項
    7記載の光電変換回路。
JP7169318A 1995-06-13 1995-06-13 光電変換回路 Pending JPH08340128A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005221688A (ja) * 2004-02-05 2005-08-18 Sony Corp 表示装置および表示装置の駆動方法
JP2010004026A (ja) * 2008-05-22 2010-01-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 光電変換装置、及び当該光電変換装置を具備する電子機器
US7683955B2 (en) 2006-11-08 2010-03-23 Sharp Kabushiki Kaisha Photocurrent sensing circuit converting an illumination of visible light into an electric signal as well as photosensor and electronic device with the photocurrent sensing circuit

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