JPH08337438A - 紫外線吸収被膜形成用中間層組成物及び紫外線吸収ガラス - Google Patents
紫外線吸収被膜形成用中間層組成物及び紫外線吸収ガラスInfo
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- JPH08337438A JPH08337438A JP14158995A JP14158995A JPH08337438A JP H08337438 A JPH08337438 A JP H08337438A JP 14158995 A JP14158995 A JP 14158995A JP 14158995 A JP14158995 A JP 14158995A JP H08337438 A JPH08337438 A JP H08337438A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 保存安定性に優れ、コーティング時の白化し
にくいジルコニウムアルコキシドを含有する紫外線吸収
被膜形成用中間層組成物およびニュートラルな反射色を
有する紫外線吸収ガラスを提供する。 【構成】 β-ケトエステル化合物でキレート化したジ
ルコニウムアルコキシドと有機シリコン化合物を含有す
る紫外線吸収被膜形成用中間層組成物である。
にくいジルコニウムアルコキシドを含有する紫外線吸収
被膜形成用中間層組成物およびニュートラルな反射色を
有する紫外線吸収ガラスを提供する。 【構成】 β-ケトエステル化合物でキレート化したジ
ルコニウムアルコキシドと有機シリコン化合物を含有す
る紫外線吸収被膜形成用中間層組成物である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、紫外線吸収被膜形成用
中間層組成物、特に自動車などの車両用や建築物の窓な
どに使用される紫外線吸収薄膜を形成するための下地層
の被膜を形成する保存安定性に優れた組成物に関するも
のである。
中間層組成物、特に自動車などの車両用や建築物の窓な
どに使用される紫外線吸収薄膜を形成するための下地層
の被膜を形成する保存安定性に優れた組成物に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】湿式法により、ガラスに紫外線吸収被
膜、熱線反射被膜などの機能性薄膜を形成する方法が提
案されてきている。例えば、特開平６−１９２５９８に
は、可視光線の透過率を低下することなく反射色の着色
を抑えた紫外線吸収膜被覆ガラスが提案されている。ま
た、特開平６−３４５４８８には、熱線反射膜被覆ガラ
スの製造方法が開示されている。これらの発明は、ガラ
ス基板（屈折率ｎg ）上に光学膜厚が可視光線の１／４
波長となるような中間層（屈折率ｎ1 ）を形成させた
後、その上に屈折率がｎ2＝ｎ1 2／ｎgとなるような紫外
線吸収性能を持つ高屈折率層を形成する。高屈折率層と
中間層の界面で反射した可視光と中間層とガラスの界面
で反射した可視光とを打ち消す無反射条件を設定するこ
とにより反射光の着色を抑えている。そして赤外線領域
ではこの無反射条件から外れるので、赤外光（熱線）が
反射することが示されている。
膜、熱線反射被膜などの機能性薄膜を形成する方法が提
案されてきている。例えば、特開平６−１９２５９８に
は、可視光線の透過率を低下することなく反射色の着色
を抑えた紫外線吸収膜被覆ガラスが提案されている。ま
た、特開平６−３４５４８８には、熱線反射膜被覆ガラ
スの製造方法が開示されている。これらの発明は、ガラ
ス基板（屈折率ｎg ）上に光学膜厚が可視光線の１／４
波長となるような中間層（屈折率ｎ1 ）を形成させた
後、その上に屈折率がｎ2＝ｎ1 2／ｎgとなるような紫外
線吸収性能を持つ高屈折率層を形成する。高屈折率層と
中間層の界面で反射した可視光と中間層とガラスの界面
で反射した可視光とを打ち消す無反射条件を設定するこ
とにより反射光の着色を抑えている。そして赤外線領域
ではこの無反射条件から外れるので、赤外光（熱線）が
反射することが示されている。
【０００３】いずれの場合も、中間層として二酸化珪素
と高屈折率を有する酸化物、例えばチタン、セリウム、
酸化亜鉛、ジルコニウムなどの酸化物を用いて、ガラス
の屈折率と高屈折率層のそれとの中間の値の屈折率を有
する中間層を得ている。
と高屈折率を有する酸化物、例えばチタン、セリウム、
酸化亜鉛、ジルコニウムなどの酸化物を用いて、ガラス
の屈折率と高屈折率層のそれとの中間の値の屈折率を有
する中間層を得ている。
【０００４】シリコンアルコキシドとチタンアルコキシ
ドを成分とした中間層組成物では、加水分解のための酸
や水が、シリコンアルコキシドよりも反応性の高いチタ
ンアルコキシドと反応し加水分解されることにより急速
にゲル化して組成物の粘度が急に上昇するため、コーテ
ィング作業が困難となるという不都合が生じる。
ドを成分とした中間層組成物では、加水分解のための酸
や水が、シリコンアルコキシドよりも反応性の高いチタ
ンアルコキシドと反応し加水分解されることにより急速
にゲル化して組成物の粘度が急に上昇するため、コーテ
ィング作業が困難となるという不都合が生じる。
【０００５】また、中間層組成物にセリウム化合物を使
用する場合は中間層の膜強度が弱くなったり、コーティ
ング時に白化しやすいなどの問題がある。また、酸化亜
鉛化合物は耐酸性に問題があり実用的な使用は困難であ
る。
用する場合は中間層の膜強度が弱くなったり、コーティ
ング時に白化しやすいなどの問題がある。また、酸化亜
鉛化合物は耐酸性に問題があり実用的な使用は困難であ
る。
【０００６】シリコンアルコキシドとジルコニウムアル
コキシドを成分とした中間層組成では、ジルコニウムア
ルコキシドは反応性が高いためゲル化が早く、粘度が急
に上昇するため、調合後短期間内に使用しない限りコー
ティング作業が困難となり、保存安定性が劣るという問
題がある。
コキシドを成分とした中間層組成では、ジルコニウムア
ルコキシドは反応性が高いためゲル化が早く、粘度が急
に上昇するため、調合後短期間内に使用しない限りコー
ティング作業が困難となり、保存安定性が劣るという問
題がある。
【０００７】以上のように従来の中間層組成物では、保
存安定性が劣ったり、コーティング時に白化するなどの
問題があった。
存安定性が劣ったり、コーティング時に白化するなどの
問題があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の従来技
術の問題を解決して、保存安定性に優れ、コーティング
時の白化しにくい紫外線吸収被膜形成用中間層組成物を
提供することを目的とするものであり、さらには、この
被膜形成用組成物から得られる中間層の上に紫外線吸収
層を形成することにより、ニュートラルな反射色を有す
る紫外線吸収ガラスを提供することを目的とする。
術の問題を解決して、保存安定性に優れ、コーティング
時の白化しにくい紫外線吸収被膜形成用中間層組成物を
提供することを目的とするものであり、さらには、この
被膜形成用組成物から得られる中間層の上に紫外線吸収
層を形成することにより、ニュートラルな反射色を有す
る紫外線吸収ガラスを提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、β
−ケトエステル化合物でキレート化したジルコニウムア
ルコキシドと、有機シリコン化合物を含有する紫外線吸
収被膜形成用中間層組成物である。
−ケトエステル化合物でキレート化したジルコニウムア
ルコキシドと、有機シリコン化合物を含有する紫外線吸
収被膜形成用中間層組成物である。
【００１０】本発明で使用されるジルコニウムアルコキ
シドとして、テトラメトキシジルコニウム、テトラエト
キシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウ
ム、テトラｎ−プロポキシジルコニウム、テトライソブ
トキシジルコニウム、テトラｎ−ブトキシジルコニウ
ム、テトラsecブトキシジルコニウム 、テトラｔ−ブト
キシジルコニウムのようなジルコニウムテトラアルコキ
シドが好適に使用することができる。
シドとして、テトラメトキシジルコニウム、テトラエト
キシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウ
ム、テトラｎ−プロポキシジルコニウム、テトライソブ
トキシジルコニウム、テトラｎ−ブトキシジルコニウ
ム、テトラsecブトキシジルコニウム 、テトラｔ−ブト
キシジルコニウムのようなジルコニウムテトラアルコキ
シドが好適に使用することができる。
【００１１】上記ジルコニウムアルコキシドをキレート
化するためのキレート剤としてのβ−ケトエステル化合
物としては、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ア
セト酢酸プロピル、アセト酢酸ブチルのような、ＣＨ3
ＣＯＣＨ3ＣＯＯＲ、（ここでＲはＣＨ3、Ｃ2Ｈ5、Ｃ3
Ｈ7、またはＣ4Ｈ9 ）で表されるアセト酢酸エステルを
列挙することができ、これらの中でアセト酢酸アルキル
エステル、特にアセト酢酸メチルおよびアセト酢酸エチ
ルが、比較的に安価で入手できるので、好適である。ジ
ルコニウムアルコキシドのキレート化の程度は一部また
は全部でもよいが、モル比で（β−ケトエステル）／
（ジルコニウムアルコキシド）＝２の割合でキレート化
させるのが、キレート化合物が安定であるので、好まし
い。 β-ケトエステル化合物以外のキレート剤例えばア
セチルアセトンでキレート化したジルコニウムアルコキ
シドはアルコール等の溶媒に不溶であるため沈殿してし
まって塗布溶液を調製することができない。
化するためのキレート剤としてのβ−ケトエステル化合
物としては、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ア
セト酢酸プロピル、アセト酢酸ブチルのような、ＣＨ3
ＣＯＣＨ3ＣＯＯＲ、（ここでＲはＣＨ3、Ｃ2Ｈ5、Ｃ3
Ｈ7、またはＣ4Ｈ9 ）で表されるアセト酢酸エステルを
列挙することができ、これらの中でアセト酢酸アルキル
エステル、特にアセト酢酸メチルおよびアセト酢酸エチ
ルが、比較的に安価で入手できるので、好適である。ジ
ルコニウムアルコキシドのキレート化の程度は一部また
は全部でもよいが、モル比で（β−ケトエステル）／
（ジルコニウムアルコキシド）＝２の割合でキレート化
させるのが、キレート化合物が安定であるので、好まし
い。 β-ケトエステル化合物以外のキレート剤例えばア
セチルアセトンでキレート化したジルコニウムアルコキ
シドはアルコール等の溶媒に不溶であるため沈殿してし
まって塗布溶液を調製することができない。
【００１２】β−ケトエステル化合物でキレート化した
ジルコニウムアルコキシドは例えば固形分１０％の中間
層の組成物とした場合には、４０℃の恒温槽に６０日以
上保存してもゲル化せず非常に安定性がよい。長期保存
後に、ガラス基板上にコーティングして中間膜としたも
のは長期保存しないものの性能と光学的、膜強度におい
てなんら変化が無い。
ジルコニウムアルコキシドは例えば固形分１０％の中間
層の組成物とした場合には、４０℃の恒温槽に６０日以
上保存してもゲル化せず非常に安定性がよい。長期保存
後に、ガラス基板上にコーティングして中間膜としたも
のは長期保存しないものの性能と光学的、膜強度におい
てなんら変化が無い。
【００１３】本発明で使用される有機シリコン化合物と
しては、Ｓｉ（ＯＲ）4 、（ここでＲはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、またはブチル基）で表されるテトラ
アルコキシシラン、および ＳｉＲ' 4-n（ＯＲ）n、（こ
こでＲはメチル基、エチル基、プロピル基、またはブチ
ル基、Ｒ' はメチル基、エチル基、プロピル基、ビニル
基、γ−クロロプロピル基、γ−アミノプロピル基、γ
−メタクリロキシプロピル基、またはγ−メルカプトプ
ロピル基、ｎは１〜３の整数）のような、いわゆるシラ
ンカップリング剤などが好適に使用される。
しては、Ｓｉ（ＯＲ）4 、（ここでＲはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、またはブチル基）で表されるテトラ
アルコキシシラン、および ＳｉＲ' 4-n（ＯＲ）n、（こ
こでＲはメチル基、エチル基、プロピル基、またはブチ
ル基、Ｒ' はメチル基、エチル基、プロピル基、ビニル
基、γ−クロロプロピル基、γ−アミノプロピル基、γ
−メタクリロキシプロピル基、またはγ−メルカプトプ
ロピル基、ｎは１〜３の整数）のような、いわゆるシラ
ンカップリング剤などが好適に使用される。
【００１４】本発明の紫外線吸収被膜形成用中間層組成
物は、前記有機シリコン化合物と前記ジルコニウムアル
コキシドとを含有するが、その割合は、後述のように、
珪素とジルコニウムのモル比Ｓｉ／Ｚｒで表して、０．
２〜２の割合で含有することが好ましい。そしてこの中
間層の組成物は高い湿度例えば相対湿度７０％の雰囲気
中でコーティングしても白化することなく、膜の透明性
が損なわれることがない。
物は、前記有機シリコン化合物と前記ジルコニウムアル
コキシドとを含有するが、その割合は、後述のように、
珪素とジルコニウムのモル比Ｓｉ／Ｚｒで表して、０．
２〜２の割合で含有することが好ましい。そしてこの中
間層の組成物は高い湿度例えば相対湿度７０％の雰囲気
中でコーティングしても白化することなく、膜の透明性
が損なわれることがない。
【００１５】中間層組成物中のジルコニウムアルコキシ
ドのキレート化物および有機シリコン化合物の全固形分
は、３〜１５％の範囲内に入るように有機溶媒で希釈す
ることにより、コーティング液の粘度を調節して使用さ
れる。
ドのキレート化物および有機シリコン化合物の全固形分
は、３〜１５％の範囲内に入るように有機溶媒で希釈す
ることにより、コーティング液の粘度を調節して使用さ
れる。
【００１６】中間層組成物に用いられる有機溶媒は、コ
ーティング方法に依存するが、例えば、グラビアコーテ
ィング法、フレキソ印刷法、ロールコート法の有機溶媒
としては、１００℃以上の沸点を有するアルコール類、
エーテルアルコール類、及びグリコール類等の、中沸点
（１００〜１５０℃の沸点）または高沸点（１５０℃を
越える沸点）を有する溶媒を少なくとも１種を含むこと
が望ましい。溶媒により保存安定性が異なるため、上記
溶媒の中でも、ジアセトンアルコール、テトラヒドロフ
ルフリルアルコール、エチルセルソルブ、ブチルセルソ
ルブ、セルソルブアセテート、ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、へキシレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリプロピレングリコールが好適である。グラビア
コーティング法やフレキソ印刷法に使用する組成物の粘
度は２０ｃｐｓ（２５℃で）を越えるとコーティングロ
ール上の液面に定常波が立ちやすくなり膜厚むらの原因
となったり、レベリング時間が長くなるため、溶媒量を
調節してこの組成物の粘度が２０ｃｐｓ以下に保つこと
が好ましい。
ーティング方法に依存するが、例えば、グラビアコーテ
ィング法、フレキソ印刷法、ロールコート法の有機溶媒
としては、１００℃以上の沸点を有するアルコール類、
エーテルアルコール類、及びグリコール類等の、中沸点
（１００〜１５０℃の沸点）または高沸点（１５０℃を
越える沸点）を有する溶媒を少なくとも１種を含むこと
が望ましい。溶媒により保存安定性が異なるため、上記
溶媒の中でも、ジアセトンアルコール、テトラヒドロフ
ルフリルアルコール、エチルセルソルブ、ブチルセルソ
ルブ、セルソルブアセテート、ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、へキシレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリプロピレングリコールが好適である。グラビア
コーティング法やフレキソ印刷法に使用する組成物の粘
度は２０ｃｐｓ（２５℃で）を越えるとコーティングロ
ール上の液面に定常波が立ちやすくなり膜厚むらの原因
となったり、レベリング時間が長くなるため、溶媒量を
調節してこの組成物の粘度が２０ｃｐｓ以下に保つこと
が好ましい。
【００１７】コーティング方法としては、特に限定され
るものではないが、例えば、スピンコート法、ディップ
コート法、スプレーコート法、印刷法等が挙げられる。
特に、グラビアコーティング法、フレキソ印刷法、ロー
ルコート法、スクリーン印刷法などの印刷法は、組成物
を効率よく使用できるので好適である。
るものではないが、例えば、スピンコート法、ディップ
コート法、スプレーコート法、印刷法等が挙げられる。
特に、グラビアコーティング法、フレキソ印刷法、ロー
ルコート法、スクリーン印刷法などの印刷法は、組成物
を効率よく使用できるので好適である。
【００１８】中間層を形成する厚みは、あまり大きいと
クラックが発生しやすくなるので、３００ｎｍ以下にす
ることが好ましく、この中間層の上に紫外線吸収膜を形
成するので、後述するように、光学膜厚が４００〜７０
０ｎｍの波長範囲内の可視光線のいずれかの１／４波長
になるような厚みとするのがより好ましい。
クラックが発生しやすくなるので、３００ｎｍ以下にす
ることが好ましく、この中間層の上に紫外線吸収膜を形
成するので、後述するように、光学膜厚が４００〜７０
０ｎｍの波長範囲内の可視光線のいずれかの１／４波長
になるような厚みとするのがより好ましい。
【００１９】上記中間層の上に、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、お
よびＣｅＯ2 からなる紫外線吸収被膜を被覆する。Ｓｉ
Ｏ2 の原料としては上記の有機シリコン化合物が使用で
きる。
よびＣｅＯ2 からなる紫外線吸収被膜を被覆する。Ｓｉ
Ｏ2 の原料としては上記の有機シリコン化合物が使用で
きる。
【００２０】ＴｉＯ2 の原料としては、チタンアルコキ
シド、チタンアセチルアセトナート、チタンカルボキシ
レートが使用される。チタンアルコキシドとしては、Ｔ
ｉ（ＯＲ）4 （Ｒは炭素数４までのアルキル基）で表さ
れるが、反応性から考えて、チタンイソプロポキシド、
チタンブトキシドが望ましい。チタンの場合には、アセ
チルアセトナートを用いた方が、その安定性から好まし
い。この場合には一般式としてＴｉ（ＯＲ）mＬn、（こ
こでｎは１〜４の整数、ｍ＋ｎ＝４）で表されるが、Ｌ
はキレート配位する配位子であり、アセチルアセトンな
どのβ−ジケトン、アセト酢酸エチルなどのβ−ケトエ
ステル類などである。Ｌがアセチルアセトンの場合は、
チタンアルコキシドをアセチルアセトンによってアセチ
ルアセトナート化してしようしても構わないし、市販の
チタンアセチルアセトナートを使用しても構わない。さ
らには、カルボン酸塩を使用してもよい。
シド、チタンアセチルアセトナート、チタンカルボキシ
レートが使用される。チタンアルコキシドとしては、Ｔ
ｉ（ＯＲ）4 （Ｒは炭素数４までのアルキル基）で表さ
れるが、反応性から考えて、チタンイソプロポキシド、
チタンブトキシドが望ましい。チタンの場合には、アセ
チルアセトナートを用いた方が、その安定性から好まし
い。この場合には一般式としてＴｉ（ＯＲ）mＬn、（こ
こでｎは１〜４の整数、ｍ＋ｎ＝４）で表されるが、Ｌ
はキレート配位する配位子であり、アセチルアセトンな
どのβ−ジケトン、アセト酢酸エチルなどのβ−ケトエ
ステル類などである。Ｌがアセチルアセトンの場合は、
チタンアルコキシドをアセチルアセトンによってアセチ
ルアセトナート化してしようしても構わないし、市販の
チタンアセチルアセトナートを使用しても構わない。さ
らには、カルボン酸塩を使用してもよい。
【００２１】ＣｅＯ2 の原料としては、セリウムアルコ
キシド、セリウムアセチルアセトナート、セリウムカル
ボキシレートなどのセリウム有機化合物以外に、硝酸
塩、塩化物、硫酸塩等のセリウム無機化合物も考えられ
るが、安定性、入手の容易さから硝酸塩及びアセチルア
セトナートが好ましい。
キシド、セリウムアセチルアセトナート、セリウムカル
ボキシレートなどのセリウム有機化合物以外に、硝酸
塩、塩化物、硫酸塩等のセリウム無機化合物も考えられ
るが、安定性、入手の容易さから硝酸塩及びアセチルア
セトナートが好ましい。
【００２２】上記紫外線吸収膜形成用液組成物中の上記
有機チタン化合物、セリウム化合物、および有機シリコ
ン化合物の割合は、乾燥、焼成され固体膜になった時の
ＴｉＯ2，ＣｅＯ2，ＳｉＯ2 酸化物換算のモル比で表し
てそれぞれ１０〜８０％、１０〜６０％、および０〜８
０％であることが好ましく、更に好ましくはそれぞれ、
３０〜６０％、２５〜５０％、および１０〜３０％であ
る。有機チタン化合物が少なすぎると膜の透明性が低下
すると共に、紫外線吸収性能も低下し、逆に多すぎると
成膜性が低下すると共に、可視光反射率が高くなり過ぎ
る。セリウム化合物が少なすぎると成膜性が低下すると
共に、紫外線吸収性能も低下し、逆に多すぎると膜の透
明性が低下する。また有機シリコン化合物が多すぎると
膜の透明性が低下するとともに、紫外線吸収性能も低下
する。有機シリコン化合物は、可視光反射率が高くなり
過ぎるのを防止するために、１０モル％以上含ませるこ
とが好ましい。
有機チタン化合物、セリウム化合物、および有機シリコ
ン化合物の割合は、乾燥、焼成され固体膜になった時の
ＴｉＯ2，ＣｅＯ2，ＳｉＯ2 酸化物換算のモル比で表し
てそれぞれ１０〜８０％、１０〜６０％、および０〜８
０％であることが好ましく、更に好ましくはそれぞれ、
３０〜６０％、２５〜５０％、および１０〜３０％であ
る。有機チタン化合物が少なすぎると膜の透明性が低下
すると共に、紫外線吸収性能も低下し、逆に多すぎると
成膜性が低下すると共に、可視光反射率が高くなり過ぎ
る。セリウム化合物が少なすぎると成膜性が低下すると
共に、紫外線吸収性能も低下し、逆に多すぎると膜の透
明性が低下する。また有機シリコン化合物が多すぎると
膜の透明性が低下するとともに、紫外線吸収性能も低下
する。有機シリコン化合物は、可視光反射率が高くなり
過ぎるのを防止するために、１０モル％以上含ませるこ
とが好ましい。
【００２３】本発明において、上記の紫外線吸収膜形成
用液組成物に、分子内にエーテル結合と炭素−炭素二重
結合を有する有機物を添加することが好ましい。この添
加有機物としては、好ましくは分子内にエーテル結合を
有するアクリレート、メタクリレート、ビニル化合物が
挙げられるが、具体的にはエチレンオキシドユニットを
６個分子内に有するトリメチロールプロパントリアクリ
レートが好適な例として挙げられる。
用液組成物に、分子内にエーテル結合と炭素−炭素二重
結合を有する有機物を添加することが好ましい。この添
加有機物としては、好ましくは分子内にエーテル結合を
有するアクリレート、メタクリレート、ビニル化合物が
挙げられるが、具体的にはエチレンオキシドユニットを
６個分子内に有するトリメチロールプロパントリアクリ
レートが好適な例として挙げられる。
【００２４】この添加物は紫外線吸収能の向上に役立
ち、更に、液組成物の安定性、寿命増加、塗布した膜及
び乾燥後の膜の白化防止にも役立つ。紫外線吸収能向
上、液の安定性、塗布膜の白化防止などすべてを考慮す
ると、この添加有機物の中で分子内にエチレンオキシド
ユニットを６個有するトリメチロールプロパントリアク
リレートが最も好適である。
ち、更に、液組成物の安定性、寿命増加、塗布した膜及
び乾燥後の膜の白化防止にも役立つ。紫外線吸収能向
上、液の安定性、塗布膜の白化防止などすべてを考慮す
ると、この添加有機物の中で分子内にエチレンオキシド
ユニットを６個有するトリメチロールプロパントリアク
リレートが最も好適である。
【００２５】また、前記添加物の添加量としては、紫外
線吸収膜形成用液組成物が乾燥−焼成され固体膜になっ
た時の全固形分に対して好ましくは１０〜２００重量％
であり、更に好ましくは２０〜１００重量％である。こ
の範囲以下の添加量では、上記の紫外線吸収能向上、液
組成物の安定化、塗布膜及び乾燥後の膜の白化防止など
の期待効果が十分得られない。また、この範囲以上の添
加量でも上記期待効果を得ることも可能であるが、形成
された紫外線吸収膜の緻密性が損なわれ、特に表面硬度
に問題をきたすことがあり、また膜上にも外観欠点が発
生する恐れがある。
線吸収膜形成用液組成物が乾燥−焼成され固体膜になっ
た時の全固形分に対して好ましくは１０〜２００重量％
であり、更に好ましくは２０〜１００重量％である。こ
の範囲以下の添加量では、上記の紫外線吸収能向上、液
組成物の安定化、塗布膜及び乾燥後の膜の白化防止など
の期待効果が十分得られない。また、この範囲以上の添
加量でも上記期待効果を得ることも可能であるが、形成
された紫外線吸収膜の緻密性が損なわれ、特に表面硬度
に問題をきたすことがあり、また膜上にも外観欠点が発
生する恐れがある。
【００２６】上記紫外線吸収膜形成用液組成物に用いら
れる有機溶媒および、コーティング方法は前記の中間層
組成物で用いられるものと同様である。
れる有機溶媒および、コーティング方法は前記の中間層
組成物で用いられるものと同様である。
【００２７】基板ガラス上に、珪素とジルコニウムから
なる中間層（厚みｄ）を形成し、その薄膜上にＳｉ
Ｏ2、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2 からなる紫外線吸収膜を形成す
る。ガラス基材の屈折率をｎg、紫外線吸収膜の屈折率
をｎ1で表したとき、中間層とガラス界面の反射光と、
中間層と紫外線吸収膜界面の反射光が互いに打ち消し合
う条件を成立させるために、中間層の屈折率(ｎ2)が
０．９×(ｎg・ｎ1)1/2〜１．１×(ｎg・ｎ1)1/2 であ
り、かつ中間層の光学膜厚(ｎ2ｄ）が波長４００〜７０
０ｎｍの可視光線の１／４波長、すなわち、１００〜１
７５ｎｍになるように、中間層組成物の配合比、塗布条
件を調節する。紫外線吸収ガラスの反射は紫外線吸収膜
と空気の界面からの反射光のみとなるため、反射光の着
色が抑えられる。
なる中間層（厚みｄ）を形成し、その薄膜上にＳｉ
Ｏ2、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2 からなる紫外線吸収膜を形成す
る。ガラス基材の屈折率をｎg、紫外線吸収膜の屈折率
をｎ1で表したとき、中間層とガラス界面の反射光と、
中間層と紫外線吸収膜界面の反射光が互いに打ち消し合
う条件を成立させるために、中間層の屈折率(ｎ2)が
０．９×(ｎg・ｎ1)1/2〜１．１×(ｎg・ｎ1)1/2 であ
り、かつ中間層の光学膜厚(ｎ2ｄ）が波長４００〜７０
０ｎｍの可視光線の１／４波長、すなわち、１００〜１
７５ｎｍになるように、中間層組成物の配合比、塗布条
件を調節する。紫外線吸収ガラスの反射は紫外線吸収膜
と空気の界面からの反射光のみとなるため、反射光の着
色が抑えられる。
【００２８】紫外線吸収被膜が実用上十分な紫外線吸収
能を有する性能を満たすためには、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2の
存在割合が大きくする必要があるので、紫外線吸収被膜
の屈折率は１．８以上となる。上記反射光の打ち消し合
う条件を満たすためには、中間層におけるジルコニウム
の存在割合は、珪素とジルコニウムのモル比Ｓｉ／Ｚｒ
が２以下であることが好ましい。またこの比率が低すぎ
ると中間層の屈折率が高くなり過ぎて反射光の打ち消し
合う条件を満たさなくなるので０．２以上であることが
好ましい。
能を有する性能を満たすためには、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2の
存在割合が大きくする必要があるので、紫外線吸収被膜
の屈折率は１．８以上となる。上記反射光の打ち消し合
う条件を満たすためには、中間層におけるジルコニウム
の存在割合は、珪素とジルコニウムのモル比Ｓｉ／Ｚｒ
が２以下であることが好ましい。またこの比率が低すぎ
ると中間層の屈折率が高くなり過ぎて反射光の打ち消し
合う条件を満たさなくなるので０．２以上であることが
好ましい。
【００２９】この２層からなる紫外線吸収膜付きガラス
は、前記中間被膜用液組成物をガラス基板上に塗布し、
その後、酸化性雰囲気中で１００〜２５０℃の温度で５
〜１２０分乾燥した後、前記紫外線吸収膜形成用液組成
物をその上に塗布し、更に酸化性雰囲気中で１００〜２
５０℃の温度で５〜１２０分乾燥した後、５００℃以上
の温度で焼成することにより製造される。
は、前記中間被膜用液組成物をガラス基板上に塗布し、
その後、酸化性雰囲気中で１００〜２５０℃の温度で５
〜１２０分乾燥した後、前記紫外線吸収膜形成用液組成
物をその上に塗布し、更に酸化性雰囲気中で１００〜２
５０℃の温度で５〜１２０分乾燥した後、５００℃以上
の温度で焼成することにより製造される。
【００３０】
【実施例】以下に本発明の実施例を挙げて説明するが、
本発明はこれらによって限定されるものではない。 実施例１ テトラｎ−ブトキシジルコニウム１６４．９ｇにアセト
酢酸エチル１１１．９ｇを加えて３０分室温にて攪拌し
て、ジルコニウムジブトキシジアセト酢酸エチルが形成
される。これにブチルセルソルブ４２５．９ｇ、ヘキシ
レングリコール２５０ｇ、テトラエトキシシランの５量
体（コルコート社製、商品名「エチルシリケート４
０」） ４３．０ｇ、０．０１Ｎ塩酸 ５．２ｇを順次
加えて室温で２時間攪拌し、中間層の組成物を得た。こ
の組成物はＳｉ／Ｚｒ＝２／３（モル比）で固形分７％
であり粘度は６ｃｐｓであった。この組成物を４０℃に
保った恒温槽に６０日保存したが、なんら変化は無かっ
た。
本発明はこれらによって限定されるものではない。 実施例１ テトラｎ−ブトキシジルコニウム１６４．９ｇにアセト
酢酸エチル１１１．９ｇを加えて３０分室温にて攪拌し
て、ジルコニウムジブトキシジアセト酢酸エチルが形成
される。これにブチルセルソルブ４２５．９ｇ、ヘキシ
レングリコール２５０ｇ、テトラエトキシシランの５量
体（コルコート社製、商品名「エチルシリケート４
０」） ４３．０ｇ、０．０１Ｎ塩酸 ５．２ｇを順次
加えて室温で２時間攪拌し、中間層の組成物を得た。こ
の組成物はＳｉ／Ｚｒ＝２／３（モル比）で固形分７％
であり粘度は６ｃｐｓであった。この組成物を４０℃に
保った恒温槽に６０日保存したが、なんら変化は無かっ
た。
【００３１】エチルセルソルブ５９．８ｇにアセチルア
セトン８．９ｇ、テトライソプロポキシチタン１２．６
ｇを加え４０℃で一時間攪拌する。これにテトラエトキ
シシランの５量体 ２．０ｇ、０．０１Ｎの塩酸０．２
ｇを加え４０℃で４時間攪拌する。さらに硝酸セリウム
６水和物１３．５ｇを加えて４０℃で２時間攪拌したの
ち、３ｇのトリメチロールプロパントリアクリレート・
６エチレンオキシドユニット付加物（ＴＭＰＴＡ−ＥＯ
６）を加えて紫外線吸収被膜用組成物とした。この組成
物は、Ｓｉ／Ｔｉ／Ｃｅ＝３／１０／７（モル比）で、
固形分９．７％で、粘度は８ｃｐｓであった。この組成
物も４０℃の恒温槽に６０日保存したが、何ら実用的に
問題のない程度の若干の外観上の色の変化は生じたが、
ゲル化はしなかった。
セトン８．９ｇ、テトライソプロポキシチタン１２．６
ｇを加え４０℃で一時間攪拌する。これにテトラエトキ
シシランの５量体 ２．０ｇ、０．０１Ｎの塩酸０．２
ｇを加え４０℃で４時間攪拌する。さらに硝酸セリウム
６水和物１３．５ｇを加えて４０℃で２時間攪拌したの
ち、３ｇのトリメチロールプロパントリアクリレート・
６エチレンオキシドユニット付加物（ＴＭＰＴＡ−ＥＯ
６）を加えて紫外線吸収被膜用組成物とした。この組成
物は、Ｓｉ／Ｔｉ／Ｃｅ＝３／１０／７（モル比）で、
固形分９．７％で、粘度は８ｃｐｓであった。この組成
物も４０℃の恒温槽に６０日保存したが、何ら実用的に
問題のない程度の若干の外観上の色の変化は生じたが、
ゲル化はしなかった。
【００３２】グラビアコーティング法により、３．４ｍ
ｍ厚みのソーダライムガラス（屈折率ｎg ＝１．５４）
上に前記中間層組成物（調製後１０日経過のもの）を相
対湿度７０％の雰囲気中でコーティングし、２００℃で
３０分乾燥後、さらにその中間層上に紫外線吸収被膜用
組成物をグラビアコーティング法によりコーティング
し、２００℃で３０分乾燥した。２つの組成物はコーテ
ィング後に良いレベリング性を示し、コーティング後１
分以内に外観上、平滑で均一な膜となった。さらにこの
２層コーティングガラスを７２０℃の電気炉に２分間入
れて焼成を行った。電気炉中のガラスの最高到達温度は
６１０℃であった。焼成後のシリカ−ジルコニア中間層
の厚みおよび屈折率ｎ2 はそれぞれ、７０ｎｍおよび
１．７６であり、シリカ−チタニア−セリア紫外線吸収
層の厚みおよび屈折率ｎ1 はそれぞれ、１５０ｎｍおよ
び２．００であった。そして(ｎg・ｎ1)1/2 の計算値は
１．７５であって中間層の屈折率ｎ2（１．７６）の値
は(ｎg・ｎ1)1/2の１．０１倍に等しかった。また中間
層の光学膜厚（１２３．２ｎｍ＝１．７６×７０ｎｍ）
は波長４９２．８ｎｍの光の１／４に一致した。
ｍ厚みのソーダライムガラス（屈折率ｎg ＝１．５４）
上に前記中間層組成物（調製後１０日経過のもの）を相
対湿度７０％の雰囲気中でコーティングし、２００℃で
３０分乾燥後、さらにその中間層上に紫外線吸収被膜用
組成物をグラビアコーティング法によりコーティング
し、２００℃で３０分乾燥した。２つの組成物はコーテ
ィング後に良いレベリング性を示し、コーティング後１
分以内に外観上、平滑で均一な膜となった。さらにこの
２層コーティングガラスを７２０℃の電気炉に２分間入
れて焼成を行った。電気炉中のガラスの最高到達温度は
６１０℃であった。焼成後のシリカ−ジルコニア中間層
の厚みおよび屈折率ｎ2 はそれぞれ、７０ｎｍおよび
１．７６であり、シリカ−チタニア−セリア紫外線吸収
層の厚みおよび屈折率ｎ1 はそれぞれ、１５０ｎｍおよ
び２．００であった。そして(ｎg・ｎ1)1/2 の計算値は
１．７５であって中間層の屈折率ｎ2（１．７６）の値
は(ｎg・ｎ1)1/2の１．０１倍に等しかった。また中間
層の光学膜厚（１２３．２ｎｍ＝１．７６×７０ｎｍ）
は波長４９２．８ｎｍの光の１／４に一致した。
【００３３】得られた紫外線吸収膜付きガラスのヘイズ
率は０．１％と低く、３７０ｎｍの紫外線吸収率は２０
％と非常に高い紫外線遮断性を示し、反射色はニュート
ラルな色調であった。さらにテーバー摩耗試験による表
面硬度、耐酸性、耐アルカリ性、耐ボイル性も良好な結
果を示し、優れた性能を示す紫外線吸収被膜付きガラス
が得られた。なお、調製後４０℃に保った恒温槽に６０
日保存した前記中間層組成物を用いて上記紫外線吸収膜
付きガラスを製造した場合でも、全く上記と同じ結果が
得られた。
率は０．１％と低く、３７０ｎｍの紫外線吸収率は２０
％と非常に高い紫外線遮断性を示し、反射色はニュート
ラルな色調であった。さらにテーバー摩耗試験による表
面硬度、耐酸性、耐アルカリ性、耐ボイル性も良好な結
果を示し、優れた性能を示す紫外線吸収被膜付きガラス
が得られた。なお、調製後４０℃に保った恒温槽に６０
日保存した前記中間層組成物を用いて上記紫外線吸収膜
付きガラスを製造した場合でも、全く上記と同じ結果が
得られた。
【００３４】実施例２ テトラブトキシジルコニウム７０ｇにアセト酢酸メチル
１１５ｇを加えて３０分室温にて攪拌する。これにエチ
ルセルソルブ２７１ｇ、テトラエトキシシランの５量体
３０ｇ、０．０１Ｎ塩酸 ２ｇを順次加えて室温で２
時間攪拌し、中間層の組成物を得た。この組成物はＳｉ
／Ｚｒ＝１／１（モル比）で固形分１０％であり粘度は
４ｃｐｓであった。この組成物を４０℃にした恒温槽に
６０日保存したが、外観上変化がなかった。
１１５ｇを加えて３０分室温にて攪拌する。これにエチ
ルセルソルブ２７１ｇ、テトラエトキシシランの５量体
３０ｇ、０．０１Ｎ塩酸 ２ｇを順次加えて室温で２
時間攪拌し、中間層の組成物を得た。この組成物はＳｉ
／Ｚｒ＝１／１（モル比）で固形分１０％であり粘度は
４ｃｐｓであった。この組成物を４０℃にした恒温槽に
６０日保存したが、外観上変化がなかった。
【００３５】エチルセルソルブ６８．１ｇにアセチルア
セトン７．０ｇ、テトライソプロポキシチタン１０．２
ｇを加え４０℃で一時間攪拌する。これにテトラエトキ
シシランの５量体 ２．７ｇ、０．０１Ｎの塩酸０．２
ｇを加え４０℃で４時間攪拌する。さらに硝酸セリウム
６水和物１１．６９ｇを加えて４０℃で２時間攪拌した
のち、３ｇのトリメチロールプロパントリアクリレート
・６エチレンオキシドユニット付加物（ＴＭＰＴＡ−Ｅ
Ｏ６）を加え紫外線吸収被膜用組成物とした。この組成
物は、Ｓｉ／Ｔｉ／Ｃｅ＝１／２／２（モル比）で、固
形分９．７％で、粘度は８ｃｐｓであった。この組成物
も４０℃の恒温槽に６０日保存したが、ゲル化はしなか
った。
セトン７．０ｇ、テトライソプロポキシチタン１０．２
ｇを加え４０℃で一時間攪拌する。これにテトラエトキ
シシランの５量体 ２．７ｇ、０．０１Ｎの塩酸０．２
ｇを加え４０℃で４時間攪拌する。さらに硝酸セリウム
６水和物１１．６９ｇを加えて４０℃で２時間攪拌した
のち、３ｇのトリメチロールプロパントリアクリレート
・６エチレンオキシドユニット付加物（ＴＭＰＴＡ−Ｅ
Ｏ６）を加え紫外線吸収被膜用組成物とした。この組成
物は、Ｓｉ／Ｔｉ／Ｃｅ＝１／２／２（モル比）で、固
形分９．７％で、粘度は８ｃｐｓであった。この組成物
も４０℃の恒温槽に６０日保存したが、ゲル化はしなか
った。
【００３６】グラビアコーティング法により、３．４ｍ
ｍ厚みのソーダライムガラス上に中間層組成物をコーテ
ィングし、２００℃で３０分乾燥後、中間層上に紫外線
吸収被膜用組成物をコーティングし、２００℃で３０分
乾燥した。２つの組成物はコーティング後良いレベリン
グ性を示し、コーティング後１分以内にコーティングむ
らは消失し、均一な膜となった。さらにこのコーティン
グガラスを７２０℃の電気炉に２分間入れて焼成を行っ
た。電気炉中のガラスの最高到達温度は６１０℃であっ
た。焼成後のシリカ−ジルコニア中間層の厚みおよび屈
折率ｎ2 はそれぞれ、７０ｎｍおよび１．７１であり、
シリカ−チタニア−セリア紫外線吸収層の厚みおよび屈
折率ｎ1 はそれぞれ、１５０ｎｍおよび１．９５であっ
た。そして (ｎg・ｎ1)1/2 の計算値は１．７３であっ
て中間層の屈折率ｎ2（１．７１）の値は(ｎg・ｎ1)1/2
の０．９９倍に等しかった。また中間層の光学膜厚
（１１９．７ｎｍ＝１．７１×７０ｎｍ）は波長４７
８．８ｎｍの光の１／４に一致した。
ｍ厚みのソーダライムガラス上に中間層組成物をコーテ
ィングし、２００℃で３０分乾燥後、中間層上に紫外線
吸収被膜用組成物をコーティングし、２００℃で３０分
乾燥した。２つの組成物はコーティング後良いレベリン
グ性を示し、コーティング後１分以内にコーティングむ
らは消失し、均一な膜となった。さらにこのコーティン
グガラスを７２０℃の電気炉に２分間入れて焼成を行っ
た。電気炉中のガラスの最高到達温度は６１０℃であっ
た。焼成後のシリカ−ジルコニア中間層の厚みおよび屈
折率ｎ2 はそれぞれ、７０ｎｍおよび１．７１であり、
シリカ−チタニア−セリア紫外線吸収層の厚みおよび屈
折率ｎ1 はそれぞれ、１５０ｎｍおよび１．９５であっ
た。そして (ｎg・ｎ1)1/2 の計算値は１．７３であっ
て中間層の屈折率ｎ2（１．７１）の値は(ｎg・ｎ1)1/2
の０．９９倍に等しかった。また中間層の光学膜厚
（１１９．７ｎｍ＝１．７１×７０ｎｍ）は波長４７
８．８ｎｍの光の１／４に一致した。
【００３７】得られた膜付きガラスのヘイズ率は０．１
％と低く、３７０ｎｍの紫外線吸収率は２０％と非常に
高い紫外線遮断性を示し、反射色はニュートラルな色調
であった。さらにテーバー摩耗試験による表面硬度、耐
酸性、耐アルカリ性、耐ボイル性も良好な結果を示し、
優れた性能を示す紫外線吸収膜付きガラスが得られた。
％と低く、３７０ｎｍの紫外線吸収率は２０％と非常に
高い紫外線遮断性を示し、反射色はニュートラルな色調
であった。さらにテーバー摩耗試験による表面硬度、耐
酸性、耐アルカリ性、耐ボイル性も良好な結果を示し、
優れた性能を示す紫外線吸収膜付きガラスが得られた。
【００３８】比較例１ エチルセルソルブ１８０ｇにテトラエトキシシラン４
１．６ｇ、０．１Ｎ塩酸１４．４ｇを加えて１時間攪拌
した液をあらかじめ用意しておく。この液を、テトラジ
ルコニウムブトキシド１１５．４ｇを溶解した３２５．
６ｇのエチルセルソルブ溶液に添加した後、さらに０．
１Ｎ塩酸を２１．６ｇを加え、１時間攪拌し、モル比で
Ｓｉ／Ｚｒ＝２／３、固形分７％で粘度が４ｃｐｓのエ
チルセルソルブ液を得た。これを４０℃の恒温槽に入れ
て保存安定性試験を行った結果、３日でゲル化してしま
って、もはやコーティング操作不可能であった。
１．６ｇ、０．１Ｎ塩酸１４．４ｇを加えて１時間攪拌
した液をあらかじめ用意しておく。この液を、テトラジ
ルコニウムブトキシド１１５．４ｇを溶解した３２５．
６ｇのエチルセルソルブ溶液に添加した後、さらに０．
１Ｎ塩酸を２１．６ｇを加え、１時間攪拌し、モル比で
Ｓｉ／Ｚｒ＝２／３、固形分７％で粘度が４ｃｐｓのエ
チルセルソルブ液を得た。これを４０℃の恒温槽に入れ
て保存安定性試験を行った結果、３日でゲル化してしま
って、もはやコーティング操作不可能であった。
【００３９】比較例２ ジルコニウムテトラブトキシド１１５ｇをエチルセルソ
ルブ２００ｇに溶解した溶液にアセチルアセトン６０ｇ
を添加して、ジルコニウムテトラブトキシドをアセチル
アセトンによりキレート化したが、エチルセルソルブに
対する溶解性が不十分であるためか、沈殿してしまって
安定なゾルが得られなかった。
ルブ２００ｇに溶解した溶液にアセチルアセトン６０ｇ
を添加して、ジルコニウムテトラブトキシドをアセチル
アセトンによりキレート化したが、エチルセルソルブに
対する溶解性が不十分であるためか、沈殿してしまって
安定なゾルが得られなかった。
【００４０】比較例３ テトライソプロポキシチタン２８４ｇをアセチルアセト
ン２００ｇによりキレート化したチタン溶液を、テトラ
エトキシシラン３１２ｇ、ブチルセルソルブ７００ｇ、
０．１Ｎ塩酸１０８ｇを混合した溶液に添加した後、ブ
チルセルソルブで希釈し、モル比がＳｉＯ2／ＴｉＯ2＝
３／２、固形分１０％の組成物を得た。これを４０℃の
恒温槽に入れて保存安定試験を行った結果、１０日でこ
の組成物はゲル化してしまって、もはやコーティング操
作不可能であった。
ン２００ｇによりキレート化したチタン溶液を、テトラ
エトキシシラン３１２ｇ、ブチルセルソルブ７００ｇ、
０．１Ｎ塩酸１０８ｇを混合した溶液に添加した後、ブ
チルセルソルブで希釈し、モル比がＳｉＯ2／ＴｉＯ2＝
３／２、固形分１０％の組成物を得た。これを４０℃の
恒温槽に入れて保存安定試験を行った結果、１０日でこ
の組成物はゲル化してしまって、もはやコーティング操
作不可能であった。
【００４１】比較例４ ４３４ｇの硝酸セリウム６水和物にアセチルアセトン３
００ｇを加え、９０℃で１時間かけて溶解させた。この
液をブチルセルソルブ１３２ｇ、テトラエトキシシラン
の５量体 １５０ｇ、０．１Ｎ塩酸１８ｇを加えた液に
加え、さらにブチルセルソルブで希釈して、モル比Ｓｉ
／Ｃｅ＝１／１、固形分１０％の組成物を得た。これを
保存することなく直ちに、相対湿度５０％の雰囲気下で
ガラス基板上にグラビアコートを行ったが、コーティン
グされた膜は白化してしまい、乾燥・焼成を行ったが不
透明な膜しか得られなかった。
００ｇを加え、９０℃で１時間かけて溶解させた。この
液をブチルセルソルブ１３２ｇ、テトラエトキシシラン
の５量体 １５０ｇ、０．１Ｎ塩酸１８ｇを加えた液に
加え、さらにブチルセルソルブで希釈して、モル比Ｓｉ
／Ｃｅ＝１／１、固形分１０％の組成物を得た。これを
保存することなく直ちに、相対湿度５０％の雰囲気下で
ガラス基板上にグラビアコートを行ったが、コーティン
グされた膜は白化してしまい、乾燥・焼成を行ったが不
透明な膜しか得られなかった。
【００４２】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、保存安定
性に優れた被膜組成物が得られ、コーティング時の白化
も無い優れた被膜を形成することができる。さらに、規
定の屈折率と膜厚を有するこの被膜を中間層として、そ
の上に、紫外線吸収膜を形成すれば、反射色調もニュー
トラルを示し、紫外線吸収能に優れた紫外線吸収膜付き
ガラスが得られる。
性に優れた被膜組成物が得られ、コーティング時の白化
も無い優れた被膜を形成することができる。さらに、規
定の屈折率と膜厚を有するこの被膜を中間層として、そ
の上に、紫外線吸収膜を形成すれば、反射色調もニュー
トラルを示し、紫外線吸収能に優れた紫外線吸収膜付き
ガラスが得られる。
Claims (5)
- 【請求項１】 β−ケトエステル化合物でキレート化し
たジルコニウムアルコキシドと有機シリコン化合物を含
有する紫外線吸収被膜形成用中間層組成物。 - 【請求項２】 前記有機シリコン化合物と前記ジルコニ
ウムアルコキシドとを、珪素とジルコニウムのモル比Ｓ
ｉ／Ｚｒで表して、０．２〜２の割合で含有する請求項
１記載の紫外線吸収被膜形成用中間層組成物。 - 【請求項３】 前記有機シリコン化合物は、シリコンア
ルコキシドである請求項１記載の紫外線吸収被膜形成用
中間層組成物。 - 【請求項４】 前記β−ケトエステル化合物がアセト酢
酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸プロピル、ま
たはアセト酢酸ブチルである請求項１記載の紫外線吸収
被膜形成用中間層組成物。 - 【請求項５】 ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、およびＣｅＯ2 から
なる紫外線吸収被膜を被覆されたガラス基材の紫外線吸
収被膜とガラス基材の間に、請求項１記載の組成物を塗
布・加熱した中間層を形成してなり、ここにおいて、ガ
ラス基材の屈折率をｎg、紫外線吸収膜の屈折率をｎ1で
表したとき、中間層の屈折率が０．９×(ｎg・ｎ1)1/2
〜１．１×(ｎg・ｎ1)1/2であり、かつ中間層の光学厚
みが１００〜１７５ｎｍであることを特徴とする紫外線
吸収ガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14158995A JPH08337438A (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | 紫外線吸収被膜形成用中間層組成物及び紫外線吸収ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14158995A JPH08337438A (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | 紫外線吸収被膜形成用中間層組成物及び紫外線吸収ガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08337438A true JPH08337438A (ja) | 1996-12-24 |
Family
ID=15295530
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14158995A Pending JPH08337438A (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | 紫外線吸収被膜形成用中間層組成物及び紫外線吸収ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08337438A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6244074B1 (en) | 1997-12-25 | 2001-06-12 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Method of manufacturing glass plate with light-transmissive colored film |
| WO2001049774A2 (en) * | 2000-01-06 | 2001-07-12 | Dow Corning Corporation | Organosiloxane compositions |
| JP2008058838A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-03-13 | Tdk Corp | ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体 |
| JP2008058840A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-03-13 | Tdk Corp | ホログラム記録媒体 |
| JP2008111011A (ja) * | 2006-10-30 | 2008-05-15 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 親水性膜形成用塗布液及び親水性膜の形成方法 |
| JP2008197273A (ja) * | 2007-02-09 | 2008-08-28 | Tdk Corp | ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体 |
| JP2016191003A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-10 | 日揮触媒化成株式会社 | 透明被膜形成用塗布液、その製造方法および透明被膜付基材 |
-
1995
- 1995-06-08 JP JP14158995A patent/JPH08337438A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6244074B1 (en) | 1997-12-25 | 2001-06-12 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Method of manufacturing glass plate with light-transmissive colored film |
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| WO2001049774A3 (en) * | 2000-01-06 | 2002-02-07 | Dow Corning | Organosiloxane compositions |
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| US8420279B2 (en) | 2006-09-01 | 2013-04-16 | Tdk Corporation | Hologram recording material, process for producing the same and hologram recording medium |
| US8420280B2 (en) | 2006-09-01 | 2013-04-16 | Tdk Corporation | Hologram recording medium |
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