JPH08335661A - 樹脂封止型半導体装置 - Google Patents

樹脂封止型半導体装置

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JPH08335661A
JPH08335661A JP16451495A JP16451495A JPH08335661A JP H08335661 A JPH08335661 A JP H08335661A JP 16451495 A JP16451495 A JP 16451495A JP 16451495 A JP16451495 A JP 16451495A JP H08335661 A JPH08335661 A JP H08335661A
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JP
Japan
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lead
lead frame
semiconductor device
inner lead
semiconductor element
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Application number
JP16451495A
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English (en)
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Junichi Yamada
淳一 山田
Tomoe Kami
智江 上
Masaru Sasaki
賢 佐々木
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item

Abstract

(57)【要約】 【目的】 多端子化に対応でき、且つ、一層の薄型化に
対応できる半導体装置を提供する。 【構成】 インナーリード先端部の板厚をリードフレー
ム素材と同じ厚さのアウターリードを含めた他の部分よ
り薄く形成したリードフレームを用いた樹脂封止型半導
体装置であって、前記インナーリード先端部は、断面形
状が略方形で第1面、第2面、第3面、第4面の4面を
有し、第1面、第2面はリードフレーム素材と同じ厚さ
のアウターリードを含めた他の部分のリードフレーム素
材面と平行で、第1面は該アウターリードを含めた他の
部分の一方のリードフレーム素材面と同一平面上にあ
り、第3面、第4面はインナーリードの内側に向かって
凹んだ形状に形成されているもので、半導体素子は、電
極部を設けた面をリードフレームのインナーリードの第
2面が向く方向の外部に向けて設けられ、半導体素子の
電極部(パッド)とインナーリード先端部とがワイヤに
て電気的に接続されており、且つ、該ワイヤの半導体装
置の厚み方向に占める位置をリードフレームの厚み内に
収めている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は,半導体装置の多端子化
に対応できる、インナーリード先端部の板厚をアウター
リード他の部分より薄く形成したリードフレームを用い
た樹脂封止型半導体装置に関するもので、特に、薄型の
半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より用いられている樹脂封止型の半
導体装置(プラスチックリードフレームパッケージ)
は、一般に図11(a)に示されるような構造であり、
半導体素子1120を搭載するダイパッド部1111や
周囲の回路との電気的接続を行うためのアウターリード
部1113、アウターリード部1113に一体となった
インナーリード部1112、該インナーリード部111
2の先端部と半導体素子1120の電極パッド1121
とを電気的に接続するためのワイヤ1130、半導体素
子1120を封止して外界からの応力、汚染から守る樹
脂1140等からなっており、半導体素子1120をリ
ードフレームのダイパッド1111部等に搭載した後
に、樹脂1140により封止してパッケージとしたもの
で、半導体素子1120の電極パッド1121に対応で
きる数のインナーリード1112を必要とするものであ
る。そして、このような樹脂封止型の半導体装置の組立
部材として用いられる(単層)リードフレームは、一般
には図11(b)に示すような構造のもので、半導体素
子を搭載するためのダイパッド1111と、ダイパッド
1111の周囲に設けられた半導体素子と結線するため
のインナーリード1112、該インナーリード1112
に連続して外部回路との結線を行うためのアウターリー
ド1113、樹脂封止する際のダムとなるダムバー11
14、リードフレーム1110全体を支持するフレーム
(枠)部1115等を備えており、通常、コバール、4
2合金(42%ニッケル−鉄合金)、銅系合金のような
導電性に優れた金属を用い、プレス法もしくはエッチン
グ法により形成されていた。
【0003】このようなリードフレームを利用した樹脂
封止型の半導体装置(プラスチックリードフレームパッ
ケージ)においても、電子機器の軽薄短小化の時流と半
導体素子の高集積化に伴い、小型薄型化かつ電極端子の
増大化が顕著で、その結果、樹脂封止型半導体装置、特
にQFP(Quad Flat Package)及び
TQFP(Thin Quad Flat Packa
ge)等では、リードの多ピン化が著しくなってきた。
上記の半導体装置に用いられるリードフレームは、微細
なものはフオトリソグラフイー技術を用いたエッチング
加工方法により作製され、微細でないものはプレスによ
る加工方法による作製されるのが一般的であったが、こ
のような半導体装置の多ピン化に伴い、リードフレーム
においても、インナーリード部先端の微細化が進み、当
初は、微細なものに対しては、プレスによる打ち抜き加
工によらず、リードフレーム部材の板厚が0.25mm
程度のものを用い、エッチング加工で対応してきた。こ
のエッチング加工方法の工程について以下、図10に基
づいて簡単に述べておく。先ず、銅合金もしくは42%
ニッケル−鉄合金からなる厚さ0.25mm程度の薄板
(リードフレーム素材1010)を十分洗浄(図10
(a))した後、重クロム酸カリウムを感光剤とした水
溶性カゼインレジスト等のフオトレジスト1020を該
薄板の両表面に均一に塗布する。((図10(b)) 次いで、所定のパターンが形成されたマスクを介して高
圧水銀灯でレジスト部を露光した後、所定の現像液で該
感光性レジストを現像して(図10(c))、レジスト
パターン1030を形成し、硬膜処理、洗浄処理等を必
要に応じて行い、塩化第二鉄水溶液を主たる成分とする
エッチング液にて、スプレイにて該薄板(リードフレー
ム素材1010)に吹き付け所定の寸法形状にエッチン
グし、貫通させる。(図10(d)) 次いで、レジスト膜を剥膜処理し(図10(e))、洗
浄後、所望のリードフレームを得て、エッチング加工工
程を終了する。このように、エッチング加工等によって
作製されたリードフレームは、更に、所定のエリアに銀
メッキ等が施される。次いで、洗浄、乾燥等の処理を経
て、インナーリード部を固定用の接着剤付きポリイミド
テープにてテーピング処理したり、必要に応じて所定の
量タブ吊りバーを曲げ加工し、ダイパッド部をダウンセ
ットする処理を行う。しかし、エッチング加工方法にお
いては、エッチング液による腐蝕は被加工板の板厚方向
の他に板幅(面)方向にも進むため、その微細化加工に
も限度があるのが一般的で、図10に示すように、リー
ドフレーム素材の両面からエッチングするため、ライン
アンドスペース形状の場合、ライン間隔の加工限度幅
は、板厚の50〜100%程度と言われている。又、リ
ードフレームの後工程等のアウターリードの強度を考え
た場合、一般的には、その板厚は約0.125mm以上
必要とされている。この為、図10に示すようなエッチ
ング加工方法の場合、リードフレームの板厚を0.15
mm〜0.125mm程度まで薄くすることにより、ワ
イヤボンデイングのための必要な平坦幅70〜80確保
し、0.165mmピッチ程度の微細なインナーリード
部先端のエッチングによる加工を達成してきたが、これ
が限度とされていた。
【0004】しかしながら、近年、樹脂封止型半導体装
置は、小パッケージでは、電極端子であるインナーリー
ドのピッチが0.165mmピッチを経て、既に0.1
5〜0.13mmピッチまでの狭ピッチ化要求がでてき
た事と、エッチング加工において、リード部材の板厚を
薄した場合には、アセンブリ工程や実装工程といった後
工程におけるアウターリードの強度確保が難しいという
点から、単にリード部材の板厚を薄くしてエッチング加
工を行う方法にも限界が出てきた。
【0005】これに対応する方法として、アウターリー
ドの強度を確保したまま微細化を行う方法で、インナー
リード部分をハーフエッチングもしくはプレスにより薄
くしてエッチング加工を行う方法が提案されている。し
かし、プレスにより薄くしてエッチング加工をおこなう
場合には、後工程においての精度が不足する(例えば、
めっきエリアの平滑性)、ボンデイング、モールデイン
グ時のクランプに必要なインナーリードの平坦性、寸法
精度が確保されない、製版を2度行なわなければならな
い等製造工程が複雑になる、等問題点が多くある。そし
て、インナーリード部分をハーフエッチングにより薄く
してエッチング加工を行う方法の場合にも、製版を2度
行なわなければならず、製造工程が複雑になるという問
題があり、いずれも実用化には、未だ至っていないのが
現状である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】一方、電子機器の軽薄
短小化の時流に伴い、半導体パッケージにおいても、薄
く、且つ、小型で、電極パッド数の多いものが、さらに
求められるようになってきた。特に、TQFP(Thi
n、Quad Flat Package)等において
は、多端子化に併せ、薄型化の要求が大きくなってき
た。本発明は、このような状況のもと、多端子化に対応
でき、且つ、一層の薄型化に対応できる半導体装置を提
供しようとするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の樹脂封止型半導
体装置は、インナーリード先端部の板厚をリードフレー
ム素材と同じ厚さのアウターリードを含めた他の部分よ
り薄く形成したリードフレームを用いた樹脂封止型半導
体装置であって、前記インナーリード先端部は、断面形
状が略方形で第1面、第2面、第3面、第4面の4面を
有し、第1面、第2面はリードフレーム素材と同じ厚さ
のアウターリードを含めた他の部分のリードフレーム素
材面と平行で、第1面は該アウターリードを含めた他の
部分の一方のリードフレーム素材面と同一平面上にあ
り、第3面、第4面はインナーリードの内側に向かって
凹んだ形状に形成されているもので、半導体素子は、電
極部を設けた面をリードフレームのインナーリードの第
2面が向く方向の外部に向けて設けられ、半導体素子の
電極部(パッド)とインナーリード先端部とがワイヤに
て電気的に接続されており、且つ、該ワイヤの半導体装
置の厚み方向に占める位置をリードフレームの厚み内に
収めたことを特徴とするものである。そして、上記にお
いて、リードフレームはダイパッドを持たないもので、
半導体素子が、インナーリード先端面に接着材料を介し
て固定されていることを特徴とするものである。そして
また、上記において、リードフレームはダイパッドを持
たないもので、半導体素子が、インナーリード先端部に
補強用テープを介して固定されていることを特徴とする
ものである。また、上記において、リードフレームは半
導体素子の電極部(パッド)間に収まる幅を持つダイパ
ッドを有するもので、半導体素子が半導体素子の電極部
(パッド)側の電極部間に収まるようにしてダイパッド
へ接着材料を介して固定されていることを特徴とするも
のである。そして該半導体素子の電極部(パッド)側で
ない面が外部と接していることを特徴とするものであ
る。そして、上記において、リードフレームはインナー
リード先端部と同一厚のダイパッドを有し、該ダイパッ
ド上に半導体素子を接着材料を介して固定されているこ
とを特徴とするものである。尚、ここでは、リードフレ
ーム素材と同じ厚さのアウターリードを含めた他の部分
とは、リードフレーム素材からリードフレーム素材の両
面を残した状態で外形加工された部分を言っている。
【0008】
【作用】本発明の樹脂封止型半導体装置は、上記のよう
な構成にすることにより、多端子化に対応でき、且つ、
一層の薄型化に対応できる半導体装置の提供を可能とし
ている。詳しくは、インナーリード先端部の板厚は、リ
ードフレーム素材の板厚と同じ厚さのアウターリードを
含めた他の部分より薄く形成され、インナーリード先端
部は、断面形状が略方形で第1面、第2面、第3面、第
4面の4面を有し、第1面、第2面はアウターリードを
含めた他の部分のリードフレーム素材面と平行で、第1
面はアウターリードを含めた他の部分の一方のリードフ
レーム素材面と同一平面上にあり、第3面、第4面はイ
ンナーリードの内側に向かって凹んだ形状に形成されて
いるリードフレームを用いていることより、即ち、(説
明は後述するが、)図8に示す製造方法により作製され
た図7(a)に示す、インナーリードを高精細に、且つ
アウターリード部他を半導体装置作製のアセンブリ等の
後工程に耐える厚さに作製したリードフレームを用いて
いることにより、半導体装置の多端子化に対応できるも
のとしている。そして、半導体素子は、電極部を設けた
面をリードフレームのインナーリードの第2面側の外部
に向けて設けられ、半導体素子の電極部(パッド)とイ
ンナーリード先端部とがワイヤにて電気的に接続されて
おり、且つ、該ワイヤの半導体装置の厚み方向に占める
位置をリードフレームの厚み内に収めたことにより、半
導体装置の薄型化に対応できるものとしている。これ
は、インナーリード先端部がアウターリード他より薄肉
状に形成してあるため、ワイヤをインナーリード先端部
の第2面にて接続することにより、半導体装置をその分
だけ薄肉に形成できるとともに、ワイヤ部等に起因する
パッケージ不良を少なくできるためである。
【0009】
【実施例】本発明の樹脂封止型半導体装置の実施例を図
にそって説明する。先ず、実施例1を図1に示し、説明
する。図1(a)は実施例1の樹脂封止型半導体装置の
断面図であり、図1(b)はインナーリード先端部の断
面図で、図1(b)はアウターリード部の断面図であ
る。図1中、100は半導体装置、110は半導体素
子、111は電極(パッド)、120はワイヤ、130
はリードフレーム、131はインナーリード、131A
はインナーリード先端部、131Aaは第1面、131
Abは第2面、131Acは第3面、131Adは第4
面、133はアウターリード、133Aは溝、140は
封止用樹脂、150は接着材料である。実施例1の半導
体装置に使用のリードフレーム130は、42%ニッケ
ル−鉄合金を素材としたもので、図7(a)に示すよう
な形状をしている。そして、図7(b)は、図7(a)
のC1−C2における断面を示すものであるが、リード
フレーム素材と同じ厚さのアウターリード133を含め
た他の部分より、インナーリード先端部131Aは薄肉
に形成されている。また、インナーリードの第1面13
1Aaはリードフレーム素材面の一方と同一面上にあ
る。インナーリード先端部131Aの厚さtは40μ
m、インナーリード先端部131A以外の厚さt0
0.15mmで、強度的には後工程に充分耐えるものと
なっている。また、インナーリードピッチは0.12m
mと狭いピッチで、半導体装置の多端子化に対応できる
ものとしている。図1(b)に示すように、インナーリ
ード先端部131Aの第2面131Abは平坦状でワイ
ヤボンディングし易い形状となっており、第3面131
Ac、第4面131Adはインナーリード側へ凹んだ形
状をしており、第2面(ワイヤボンディング面)を狭く
しても強度的に強いものとしている。前述のように、ア
ウターリード133はリードフレーム素材の厚さと同じ
厚さに作製されており、断面形状は、図1(b)に示す
ように略方形であるが、リードフレーム素材面(平坦
面)を挟む2面はアウターリードから外部へ向かって出
っ張った形状であり、強度的には良い形状となってい
る。ワイヤ120はインナーリード先端131Aの第2
面131Abから半導体素子110の電極(パッド)1
11へボンディング接続されているが、半導体素子11
0の電極111側の面とインナーリード先端部131A
の第2面131Abとはほぼ同じ面状に配置され、ワイ
ヤの半導体装置の厚み方向の占める位置をリードフレー
ム130の厚み内に収まるようにしている。また、本実
施例に用いられているリードフレームのインナーリード
131の長さは、対向するインナーリード131a、1
31b間に半導体装置が収まり、各インナリードの先端
部と半導体装置との間隔をできるだけ小さくしており、
且つ、インナーリードの薄肉部を含めインナーリード全
体の長さを短く、特にインナーリードの薄肉部の長さを
3mm以下と短かくしており、リードフレーム単体とし
てはインナーリード先端に補強用テープを必要とせず、
補強用テープを設けないで半導体装置は樹脂封止されて
いる。尚、本実施例1のように、インナーリードの長さ
やインナーリードの薄肉部の長さが短かい場合には直接
図7(a)に示す形状のリードフレームをエッチング加
工にして作製し、これに後述する方法により半導体素子
を搭載して樹脂封止できるが、インナーリード全体が長
く、および/またはインナーリード先端の薄肉部が長
く、インナーリードにヨレを生じ易い場合には直接図7
(a)に示す形状にエッチング加工することは出来ない
ため、図7(c)(イ)に示すようにインナーリード先
端部を連結部131Bにて固定した状態にエッチング加
工した後、インナーリード131部を補強用テープ16
0で固定し(図7(c)(ロ))、次いでプレス用の金
型又はカッターにて、半導体装置作製の際には不要の連
結部131Bを除去し、この状態で半導体素子を搭載し
て半導体装置を作製する。(図7(c)(ハ)) また、実施例1の半導体装置において、図1(d)に示
すようにアウターリード部に溝133Aを設けても良
い。溝133Aを設けた場合、半田付けの際、半田がこ
の溝に流入し易くなりプリント基板への半導体装置の固
定が確実なものとできる。
【0010】次に本実施例1の樹脂封止型半導体装置の
製造方法を図6に基づいて簡単に説明する。先ず、後述
するエッチング加工にて作製され、不要の部分をカッテ
イング処理等で除去されたものを、インナーリード先端
部薄肉部が図2で上になるようにして用意した。(図6
(a)) インナーリード131部の長さが長い場合には、必要に
応じて、インナーリードの先端部がポリイミドテープに
よりテーピング固定されているものを用意する。次いで
半導体素子110の電極部111側面を図6で上にし
て、インナーリード131間に納め、側面を接着材料で
インナーリード131の端面と接着固定した。(図6
(b)) ワイヤボンデイングが行やすいように、半導体素子11
0の電極部111側の面とインナーリード131の第2
面131Ab)とはほぼ同じ高さとし、半導体素子11
0の電極部111側の面と反対側の面は若干インナーリ
ード131の第1面よりも図2で上側にくるようにして
接着した。半導体素子110をリードフレーム130に
接着固定した後、インナーリード131の先端部と半導
体素子110の電極部111とをワイヤボンデイングを
行い電気的に接続した。次いで、通常の封止用樹脂14
0で樹脂封止を行った。(図6(c)) この後、ダムバー部の切断、アウターリードの折り曲げ
等を行い、実施例1の半導体装置を作製した。
【0011】本発明の半導体装置に用いられるリードフ
レームの製造方法を以下、図にそって説明する。図8
は、本実施例1の樹脂封止型半導体装置に用いられたリ
ードフレームの製造方法を説明するための、インナーリ
ード先端部を含む要部における各工程断面図であり、こ
こで作製されるリードフレームを示す平面図である図7
(a)のD1−D2部の断面部における製造工程図であ
る。図8中、810はリードフレーム素材、820A、
820Bはレジストパターン、830は第一の開口部、
840は第二の開口部、850は第一の凹部、860は
第二の凹部、870は平坦状面、880はエッチング抵
抗層、890はインナーリード先端部を示す。先ず、4
2%ニッケル−鉄合金からなり、厚みが0.15mmの
リードフレーム素材810の両面に、重クロム酸カリウ
ムを感光剤とした水溶性カゼインレジストを塗布した
後、所定のパターン版を用いて、所定形状の第一の開口
部830、第二の開口部840をもつレジストパターン
820A、820Bを形成した。(図8(a)) 第一の開口部830は、後のエッチング加工においてリ
ードフレーム素材810をこの開口部からベタ状に腐蝕
するためのもので、レジストの第二の開口部840は、
リードフレームのインナーリード先端部の形状を形成す
るためのものである。第一の開口部830は、少なくと
もリードフレーム810のインナーリード先端部形成領
域を含むが、後工程において、テーピングの工程や、リ
ードフレームを固定するクランプ工程で、ベタ状に腐蝕
され部分的に薄くなった部分との段差が邪魔になる場合
があるので、エッチングを行うエリアはインナーリード
先端の微細加工部分だけにせず大きめにとってもよい。
次いで、液温57°C、比重48ボーメの塩化第二鉄溶
液を用いて、スプレー圧2.5kg/cm2 にて、レジ
ストパターンが形成されたリードフレーム素材810の
両面をエッチングし、ベタ状(平坦状)に腐蝕された第
一の凹部850の深さhがリードフレーム素材の約2/
3に達した時点でエッチングを止めた。(図8(b)) 上記第1回目のエッチングにおいては、リードフレーム
素材810の両面から同時にエッチングを行ったが、必
ずしも両面から同時にエッチングする必要はない。第1
回目のエッチングにおいてリードフレーム素材810の
両面から同時にエッチングする理由は、両面からエッチ
ングすることにより、後述する第2回目のエッチング時
間を短縮するためで、レジストパターン820B側から
のみの片面エッチングの場合と比べ、第1回目エッチン
グと第2回目エッチングのトータル時間が短縮される。
次いで、第一の開口部830側の腐蝕された第一の凹部
850にエッチング抵抗層880としての耐エッチング
性のあるホットメルト型ワックス(ザ・インクテエック
社製の酸ワックス、型番MR−WB6)を、ダイコータ
を用いて、塗布し、ベタ状(平坦状)に腐蝕された第一
の凹部850に埋め込んだ。レジストパターン820A
上も該エッチング抵抗層880に塗布された状態とし
た。(図8(c)) エッチング抵抗層880を、レジストパターン820A
上全面に塗布する必要はないが、第一の凹部850を含
む一部にのみ塗布することは難しい為に、図8(c)に
示すように、第一の凹部850とともに、第一の開口部
830側全面にエッチング抵抗層880を塗布した。本
実施例で使用したエッチング抵抗層880は、アルカリ
溶解型のワックスであるが、基本的にエッチング液に耐
性があり、エッチング時にある程度の柔軟性のあるもの
が、好ましく、特に、上記ワックスに限定されず、UV
硬化型のものでも良い。このようにエッチング抵抗層8
80をインナーリード先端部の形状を形成するためのパ
ターンが形成された面側の腐蝕された第一の凹部850
に埋め込むことにより、後工程でのエッチング時に第一
の凹部850が腐蝕されて大きくならないようにしてい
るとともに、高精細なエッチング加工に対しての機械的
な強度補強をしており、スプレー圧を高く(2.5kg
/cm2 )とすることができ、これによりエッチングが
深さ方向に進行し易すくなる。この後、2回目のエッチ
ング行い、第二の凹部860形成面側からリードフレー
ム素材810をエッチングし、貫通させ、インナーリー
ド先端部890を形成した。(図8(d)) 第1回目のエッチング加工にて作製された、リードフレ
ーム面に平行なエッチング形成面は平坦であるが、この
面を挟む2面はインナーリード側にへこんだ凹状であ
る。次いで、洗浄、エッチング抵抗層880の除去、レ
ジスト膜(レジストパターン820A、820B)の除
去を行い、インナーリード先端部890が微細加工され
た図8(a)に示すリードフレームを得た。エッチング
抵抗層880とレジスト膜(レジストパターン820
A、820B)の除去は水酸化ナトリウム水溶液により
溶解除去した。
【0012】尚、本方法によるインナーリード先端部8
90の微細加工は、第二の凹部860の形状と、最終的
に得られるインナーリード先端部の厚さtに左右される
もので、例えば、板厚tを50μmまで薄くすると、図
8(e)に示す、平坦幅W1を100μmとして、イン
ナーリード先端部ピッチpが0.15mmまで微細加工
可能となる。板厚tを30μm程度まで薄くし、平坦幅
W1を70μm程度とすると、インナーリード先端部ピ
ッチpが0.12mm程度まで微細加工ができるが、板
厚t、平坦幅W1のとり方次第ではインナーリード先端
部ピッチpは更に狭いピッチまで作製が可能となる。
【0013】このようにエッチング加工にて、インナー
リードの長さが短かい場合等、製造工程でインナーリー
ドのヨレが発生しにくい場合には直接図7(a)に示す
形状のリードフレームを得るが、後述する実施例2〜4
の場合に用いられるリードフレームは、インナーリード
の長さ全体やインナーリードの薄肉部の長さが実施例1
の場合に比べ長くインナーリードにヨレが発生し易い
為、図7(c)に示ように、インナーリード先端部から
連結部131Bを設け、インナーリード先端部同士を繋
げた形状にして形成したものを得て、半導体作製には不
必要な連結部131Bをプレス等により切断除去して図
7(a)に示す形状を得る。尚、前述のように、図7
(c)に示すものを切断し、図7(a)に示す形状にす
る際には、図7(c)(ロ)に示すように、通常、補強
のため補用強テープ160(ポリイミドテープ)を使用
する。図7(c)(ロ)の状態で、プレス等により連結
部131Bを切断除去するが、半導体素子は、テープを
つけた状態のままで、リードフレームに搭載され、その
まま樹脂脂封止される。
【0014】本実施例1の半導体装置に用いられたリー
ドフレームのインナーリード先端部131Aの断面形状
は、図9(イ)に示すようになっており、エッチング平
坦面131Ab側の幅W1は反対側の面の幅W2より若
干大きくなっており、W1、W2(約100μm)とも
この部分の板厚さ方向中部の幅Wよりも大きくなってい
る。このようにインリーリード先端部の両面は広くなっ
た断面形状であるため、図9(ロ)に示すように、どち
らの面を用いても半導体素子(図示せず)とインナーリ
ード先端部131Aとワイヤ120A、120Bによる
結線(ボンデイング)がし易すものとなっているが、本
実施例の場合はエッチング面側(図9(ロ)(a))を
ボンデイング面としている。図中131Abはエッチン
グ加工による平坦面、131Aaはリードフレーム素材
面、121A、121Bはめっき部である。エッチング
平坦状面がアラビの無い面であるため、図9(ロ)の
(a)の場合は、特に結線(ボンデイング)適性が優れ
る。図9(ハ)は図10に示す加工方法にて作製された
リードフレームのインナーリード先端部931Cと半導
体素子(図示せず)との結線(ボンデイング)を示すも
のであるが、この場合もインナーリード先端部931C
の両面は平坦ではあるが、この部分の板厚方向の幅に比
べ大きくとれない。また両面ともリードフレーム素材面
である為、結線(ボンデイング)適性は本実施例のエッ
チング平坦面より劣る。図9(ニ)はプレスによりイン
ナーリード先端部を薄肉化した後にエッチング加工によ
りインナーリード先端部931D、931Eを加工した
ものの、半導体素子(図示せず)との結線(ボンデイン
グ)を示したものであるが、この場合はプレス面側が図
に示すように平坦になっていないため、どちらの面を用
いて結線(ボンデイング)しても、図9(ニ)の
(a)、(b)に示すように結線(ボンデイング)の際
に安定性が悪く品質的にも問題となる場合が多い。
【0015】次いで、実施例2の樹脂封止型半導体装置
を挙げる。図2(a)は実施例2の樹脂封止型半導体装
置の断面図で、図2(b)はインナーリード先端部の断
面図で、図2(b)はアウターリードの断面図である。
図2中、200は半導体装置、210は半導体素子、2
11は電極(パッド)、220はワイヤ、230はリー
ドフレーム、231はインナーリード、231Aはイン
ナーリード先端部、231Aaは第1面、231Abは
第2面、231Acは第3面、231Adは第4面、2
33はアウターリード、240は封止用樹脂、250は
補強用テープ、250aは補強用兼固定用テープであ
る。本実施例の半導体装置200も、実施例1の場合と
同様に、ワイヤ220はインナーリード先端231Aの
第2面231Abから半導体素子210の電極(パッ
ド)211へボンディング接続されているが、半導体素
子210の電極211側の面とインナーリード先端部2
31Aの第2面231Abとはほぼ同じ面状に配置さ
れ、ワイヤの半導体装置の厚み方向の占める位置をリー
ドフレーム230の厚み内に収まるようになっている。
そして、本実施例に用いられているリードフレームのイ
ンナーリード231の長さは、対向するインナーリード
231a、231b間に半導体素子210が収まり、各
インナリードの先端部と半導体素子との間隔をできるだ
け小さくしているが、インナーリード薄肉部を含めイン
ナーリード全体の長さを長く、特にインナーリードの薄
肉部の長さを3mm以上と、実施例1に用いたリードフ
レームに比べ長くしており、リードフレーム200単体
としてはインナーリード231先端に補強テープを必要
とし、実施例のような構造はとれない為、インナーリー
ド231部と半導体素子210とを補強用兼固定用テー
プ250aにて固定した状態で樹脂封止してある。
【0016】実施例2の半導体装置に使用のリードフレ
ーム230も、実施例1にて使用のリードフレームと同
様に、42%ニッケル−鉄合金を素材としたもので、図
7(a)、図7(b)に示すような形状をしており、ア
ウターリード233他の部分より薄肉に形成されたイン
ナーリード先端部231Aをもつ。インナーリード先端
部231Aの厚さは40μm、インナーリード先端部2
31A以外の厚さは0.15mmで、強度的には後工程
に充分耐えるものとなっている。そして、インナーリー
ドピッチは0.12mmと狭いピッチで、半導体装置の
多端子化に対応できるものとしている。インナーリード
先端部231Aの第2面231Abは平坦状でワイヤボ
ンデイィングし易い形状となっており、第3面231A
c、第4面231Adはインナーリード側へ凹んだ形状
をしており、第2面(ワイヤボンディング面)を狭くし
ても強度的に強いものとしている。また、実施例2の樹
脂封止型半導体装置の作製は、実施例1の場合とほぼ同
じ工程にて行うが、補強用兼固定用テープ250aでイ
ンナーリード部とダイパッド部235を固定した後に、
封止用樹脂にて樹脂封止する。
【0017】次いで、実施例3の樹脂封止型半導体装置
を挙げる。図3(a)は実施例2の樹脂封止型半導体装
置の断面図で、図3(b)(イ)はインナーリード先端
部の断面図で、図3(b)(ロ)はアウターリードの断
面図である。図3中、300は半導体装置、310は半
導体素子、311は電極(パッド)、320はワイヤ、
330はリードフレーム、331はインナーリード、3
31Aはインナーリード先端部、331Aaは第1面、
331Abは第2面、331Acは第3面、331Ad
は第4面、333はアウターリード、335はダイパッ
ド、340は封止用樹脂、350は補強用テープはであ
る。本実施例の半導体装置300も、実施例1や実施例
2の場合と同様に、ワイヤ320はインナーリード先端
331Aの第2面331Abから半導体素子310の電
極(パッド)311へボンディング接続されているが、
ダイパッド335は図3(a)で上側にアップセットさ
れ、半導体素子310の電極311側の面とインナーリ
ード先端部231Aの第2面231Abはほぼ同じ面状
に配置されるようになっており、ワイヤの半導体装置の
厚み方向の占める位置をリードフレーム230の厚み内
に収まるようになっている。本実施例の半導体装置30
0は、実施例1や実施例2の場合と異なり、半導体素子
310の電極311部側の電極間に収まる大きさのダイ
パッド335を設け、半導体素子310の電極311部
側の面の電極間にあたる部分(面)と、ダイパッド33
5とを接着材料で固定した状態で、樹脂封止してある。
【0018】実施例3の半導体装置に使用のリードフレ
ーム330は、実施例1や実施例2にて使用のリードフ
レームと同様に、42%ニッケル−鉄合金を素材とした
ものであるが、形状は実施例1や実施例2とは若干異な
り、図7(a)、図7(b)に示すような形状にダイパ
ッドを加えた形状をしている。そして、リードフレーム
素材の厚さと同じ厚さをもつアウターリード333他の
部分より薄肉に形成されたインナーリード先端部331
Aをもつ。インナーリード先端部331Aの厚さは40
μm、インナーリード先端部331A以外の厚さは0.
15mmで、強度的には後工程に充分耐えるものとなっ
ている。そして、インナーリードピッチは0.12mm
と狭いピッチで、半導体装置の多端子化に対応できるも
のとしている。インナーリード先端部331Aの第2面
331Abは平坦状でワイヤボンデイィングし易い形状
となっており、第3面331Ac、第4面331Adは
インナーリード側へ凹んだ形状をしており、第2ワイヤ
ボンディング面を狭くしても強度的に強いものとしてい
る。また、実施例3の樹脂封止型半導体装置の作製も、
実施例1の場合とほぼ同じ工程にて行うが、ダイパッド
335に半導体素子を搭載し固定した後に、封止用樹脂
にて樹脂封止する。
【0019】実施例3の樹脂封止型半導体装置の第一の
変形例、第二の変形例をそれぞれ、図4(a)、図4
(b)に示す。第一の変形例、第二の変形例ともに、半
導体素子310の電極311側でない面を外部に露出し
たものである。この変形例の半導体装置の場合、実施例
3や実施例1、実施例2の半導体装置に比べ、熱の放散
性が向上することは言うまでもない。もちろん、前記露
出した半導体素子の面に放熱器を設けるとさらに熱の放
散性は向上する。尚、第一の変形例の半導体装置におい
てはダイパッド部をリードフレーム素材の厚さとしたも
のを使用し、第二の変形例の半導体装置においてはダイ
パッド部をインナーリード先端部と同じく薄肉にしたも
のを使用している。
【0020】次いで、実施例4の樹脂封止型半導体装置
を挙げる。図5(a)は実施例4の樹脂封止型半導体装
置の断面図で、図4(b)はインナーリード先端部の断
面図で、図4(b)はアウターリードの断面図である。
図5中、400は半導体装置、410は半導体素子、4
11は電極(パッド)、420はワイヤ、430はリー
ドフレーム、431はインナーリード、431Aはイン
ナーリード先端部、431Aaは第1面、431Abは
第2面、431Acは第3面、431Adは第4面、4
33はアウターリード、435はダイパッド、440、
450は補強用テープは封止用樹脂である。本実施例の
半導体装置400も、実施例1、実施例2、実施例3の
場合と同様に、ワイヤ420はインナーリード先端43
1Aの第2面431Abから半導体素子410の電極
(パッド)411へボンディング接続されているが、半
導体素子410の電極411側の面とインナーリード先
端部431Aの第1面431Abaはほぼ同じ面状に配
置され、ワイヤの半導体装置の厚み方向の占める位置を
リードフレーム430の厚み内に収まるようになってい
る。本実施例の半導体装置300は、上記実施例1、実
施例2、実施例3の場合と異なり、半導体素子410の
電極311部側面と反対側の面をダイパッド435部に
接着材料で固定した状態で、樹脂封止してある。尚、ダ
イパッド435は必要に応じて、ダウンセットすること
により、ワイヤボンデイングのし易い構造とできる。
【0021】実施例4の半導体装置に使用のリードフレ
ーム330も、実施例1、実施例2実施例3にて使用の
リードフレームと同様に、42%ニッケル−鉄合金を素
材としたもので、実施例3と同じように、形状は実施例
1や実施例2とは若干異なり、図7(a)、図7(b)
に示すような形状にダイパッドを加えた形状をしてい
る。そして、リードフレーム素材の厚さと同じ厚さであ
るアウターリード433他の部分より薄肉に形成された
インナーリード先端部431Aをもつ。インナーリード
先端部431Aの厚さは40μm、インナーリード先端
部431A以外の厚さは0.15mmで、強度的には後
工程に充分耐えるものとなっている。そして、インナー
リードピッチは0.12mmと狭いピッチで、半導体装
置の多端子化に対応できるものとしている。インナーリ
ード先端部431Aの第2面431Abは平坦状でワイ
ヤボンデイィングし易い形状となっており、第3面43
1Ac、第4面431Adはインナーリード側へ凹んだ
形状をしており、第2面(ワイヤボンディング面)を狭
くしても強度的に強いものとしている。また、実施例4
の樹脂封止型半導体装置の作製も、実施例1の場合とほ
ぼ同じ工程にて行うが、ダイパッド435に半導体素子
を搭載し固定した後に、封止用樹脂にて樹脂封止する。
【0022】
【発明の効果】本発明の樹脂封止型半導体装置は、上記
のように、半導体素子の電極部とインナーリード先端と
を電気的に接続するためのワイヤの、半導体装置の厚み
方向の占める位置を、リードフレーム130の厚み内に
収まるようにしていることにより、半導体装置の多ピン
化に対応しつつ、半導体装置の薄型化、特にTQFP
(Thin Quad Flat Package)の
一層の薄型化に対応できる半導体装置の提供を可能とし
ている。同時に、樹脂封止の際や、樹脂封止後における
ワイヤに起因するパッケージ不良の低減を可能とする半
導体装置の提供を可能としている。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1の樹脂封止型半導体装置の断面図
【図2】実施例2の樹脂封止型半導体装置の断面図
【図3】実施例3の樹脂封止型半導体装置の断面図
【図4】実施例3の樹脂封止型半導体装置の変形例の図
【図5】実施例4の樹脂封止型半導体装置の断面図
【図6】実施例1の樹脂封止型半導体装置の作製工程を
説明するための図
【図7】本発明の樹脂封止型半導体装置に用いられるリ
ードフレームの図
【図8】本発明の樹脂封止型半導体装置に用いられるリ
ードフレームの作製方法を説明するための図
【図9】インナーリード先端部でのワイボンデイングの
結線状態を示す図
【図10】従来のリードフレームのエッチング製造工程
を説明するための図
【図11】樹脂封止型半導体装置及び単層リードフレー
ムの図
【符号の説明】
100、200、300、400 樹
脂封止型半導体装置 110、210、310、410 半
導体素子 111、211、311、411 電
極(パッド) 120、220、320、420 ワ
イヤ 120A、120B ワ
イヤ 121A、121B め
っき部 130、230、330、430 リ
ードフレーム 131、231、331、431 イ
ンナーリード 131A、231A、331A、431A イ
ンナーリード先端部 131Aa、231Aa、331Aa、431Aa 第
1面 131Ab、231Ab、331Ab、431Ab 第
2面 131Ac、231Ac、331Ac、431Ac 第
3面 131Ad、231Ad、331Ad、431Ad 第
4面 131B 連
結部 133、233、333、433 ア
ウターリード 133A 溝 140、240、340、440 封
止用樹脂 160 接
着材料 160 補
強用テープ 250、350、450 補
強用テープ 250a 補
強用兼固定用テープ 810 リ
ードフレーム素材 820A、820B レ
ジストパターン 830 第
一の開口部 840 第
二の開口部 850 第
一の凹部 860 第
二の凹部 870 平
坦状面 880 エ
ッチング抵抗層 890 イ
ンナーリード先端部 920C、920D、920E ワ
イヤ 921C、921D、921E め
っき部 931D、931E イ
ンナーリード先端部 931Aa リ
ードフレーム素材面 931Ac コ
イニング面 1010 リ
ードフレーム素材 1020 フ
オトレジスト 1030 レ
ジストパターン 1040 イ
ンナーリード 1110 リ
ードフレーム 1111 ダ
イパッド 1112 イ
ンナーリード 1112A イ
ンナーリード先端部 1113 ア
ウターリード 1114 ダ
ムバー 1115 フ
レーム部(枠部) 1120 半
導体素子 1121 電
極部(パッド) 1130 ワ
イヤ 1140 封
止用樹脂
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成7年10月30日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0002
【補正方法】変更
【補正内容】
【0002】
【従来の技術】従来より用いられている樹脂封止型の半
導体装置(プラスチックリードフレームパッケージ)
は、一般に図11(a)に示されるような構造であり、
半導体素子1120を搭載するダイパッド部1111や
周囲の回路との電気的接続を行うためのアウターリード
部1113、アウターリード部1113に一体となった
インナーリード部1112、該インナーリード部111
2の先端部と半導体素子1120の電極パッド1121
とを電気的に接続するためのワイヤ1130、半導体素
子1120を封止して外界からの応力、汚染から守る樹
脂1140等からなっており、半導体素子1120をリ
ードフレームのダイパッド1111部等に搭載した後
に、樹脂1140により封止してパッケージとしたもの
で、半導体素子1120の電極パッド1121に対応で
きる数のインナーリード1112を必要とするものであ
る。そして、このような樹脂封止型の半導体装置の組立
部材として用いられる(単層)リードフレームは、一般
には図11(b)に示すような構造のもので、半導体素
子を搭載するためのダイパッド1111と、ダイパッド
1111の周囲に設けられた半導体素子と結線するため
のインナーリード1112、該インナーリード1112
に連続して外部回路との結線を行うためのアウターリー
ド1113、樹脂封止する際のダムとなるダムバー11
14、リードフレーム1110全体を支持するフレーム
(枠)部1115等を備えており、通常、コバール、4
2合金(42%ニッケル−鉄合金)、銅系合金のような
導電性に優れた金属を用い、プレス法もしくはエッチン
グ法により形成されていた。尚、図11(b)(イ)は
リードフレームの平面図で、図11(b)(ロ)は図1
1(b)(イ)のF1−F2における断面図を示したも
のである。 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成7年10月30日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図7】
【図8】
【図5】
【図6】
【図9】
【図10】
【図11】

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 インナーリード先端部の板厚をリードフ
    レーム素材と同じ厚さのアウターリードを含めた他の部
    分より薄く形成したリードフレームを用いた樹脂封止型
    半導体装置であって、前記インナーリード先端部は、断
    面形状が略方形で第1面、第2面、第3面、第4面の4
    面を有し、第1面、第2面はリードフレーム素材と同じ
    厚さのアウターリードを含めた他の部分のリードフレー
    ム素材面と平行で、第1面は該アウターリードを含めた
    他の部分の一方のリードフレーム素材面と同一平面上に
    あり、第3面、第4面はインナーリードの内側に向かっ
    て凹んだ形状に形成されているもので、半導体素子は、
    電極部を設けた面をリードフレームのインナーリードの
    第2面が向く方向の外部に向けて設けられ、半導体素子
    の電極部(パッド)とインナーリード先端部とがワイヤ
    にて電気的に接続されており、且つ、該ワイヤの半導体
    装置の厚み方向に占める位置をリードフレームの厚み内
    に収めたことを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
  2. 【請求項2】 請求項1において、リードフレームはダ
    イパッドを持たないもので、半導体素子がインナーリー
    ド先端面に接着材料を介して固定されていることを特徴
    とする樹脂封止型半導体装置。
  3. 【請求項3】 請求項1において、リードフレームはダ
    イパッドを持たないもので、半導体素子がインナーリー
    ド先端部に補強用テープを介して固定されていることを
    特徴とする樹脂封止型半導体装置。
  4. 【請求項4】 請求項1において、リードフレームは半
    導体素子の電極部(パッド)間に収まる幅を持つダイパ
    ッドを有するもので、半導体素子が半導体素子の電極部
    (パッド)側の電極部間に収まるようにしてダイパッド
    へ接着材料を介して固定されていることを特徴とする樹
    脂封止型半導体装置。
  5. 【請求項5】 請求項4において、半導体素子の電極部
    (パッド)側でない面が外部と接していることを特徴と
    する樹脂封止型半導体装置。
  6. 【請求項6】 請求項1において、リードフレームはイ
    ンナーリード先端部と同一厚のダイパッドを有し、該ダ
    イパッド上に半導体素子を接着材料を介して固定されて
    いることを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011238869A (ja) * 2010-05-13 2011-11-24 Toppan Printing Co Ltd リードフレーム及びその製造方法
JP2015154042A (ja) * 2014-02-19 2015-08-24 大日本印刷株式会社 リードフレームおよびその製造方法、ならびに半導体装置およびその製造方法

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