JPH08334898A

JPH08334898A - 光重合性組成物及びそれを用いた画像形成方法

Info

Publication number: JPH08334898A
Application number: JP9946196A
Authority: JP
Inventors: Shinji Matsumoto; 晋治松本; Akira Onishi; 明大西; Tatsuichi Maehashi; 達一前橋; Sota Kawakami; 壮太川上
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1995-04-07
Filing date: 1996-03-29
Publication date: 1996-12-17

Abstract

(57)【要約】【課題】高い感度を有し、保存性が優れた光重合性組
成物及び更に未露光部感光層の現像液に対する溶解性が
高く、現像時にスラッジの発生が少ない光重合性組成物
を提供すること。【解決手段】エチレン性不飽和結合を分子中に少なく
とも１個有する光重合又は光架橋可能な化合物、下記式
で表される化合物及び有機過酸化物を含有する光重合性
組成物。［Ａはフルオロ置換アルキル基、ヘテロ環基等、Ｒ_1aは
Ｈ、アルキル基、アリール基、シアノ基等、Ｒ_2a〜Ｒ_5a
はＨ、アリール基、アミノ基、オキシカルボニル基、ウ
レイド基等、Ｒ₁はＨ、アルキル基、アリール基、シア
ノ基、ヘテロ環基等、Ｒ₂はＨ、ハロゲン、アミノ基、
ヘテロ環基等、Ｒ₇〜Ｒ₁₈はＨ、アルキル基、アリール
基、アミノ基、ウレイド基等］

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光重合性の感光性組成
物、感光性平版印刷版及び露光して露光部を硬化した後
に、未露光部を現像液を用いて現像する画像形成方法に
関し、さらに詳しくは、光重合開始剤に特徴を有する光
重合性組成物、感光性平版印刷版及び画像形成方法に関
する。

【０００２】

【発明の背景】近年、情報記録の分野においてデジタル
化が進められており、露光光源として、アルゴンイオン
レーザー等の可視光レーザーを用い、走査露光すること
が検討されている。

【０００３】従来、光重合性組成物等の光重合開始剤と
して、ベンゾインアルキルエーテル、ベンジルジメチル
ケタール等が用いられていたが、これら光重合開始剤
は、紫外線を露光光源として使用する場合には比較的高
感度な感光性組成物が得られるが、露光光源として可視
光レーザーを用いた場合には、良好な感度を有している
とはいえなかった。

【０００４】また、有機過酸化物と可視系色素とを組み
合わせて用いた感光性組成物を用いて画像を形成する技
術も知られているが、感度、保存性のすべてに優れた性
能を有してはいない。

【０００５】感光性組成物は、高感度を有すると共に、
保存性が優れ、更に良好な現像性を有することが望まれ
ている。

【０００６】露光光源として可視光レーザーを用いた場
合にも良好な感度が得られる光重合開始剤が検討されて
きており、特開平6-192309号公報、特公昭59-42684号公
報、特公平5-85562号公報、特公平6-76444号公報には、
光重合開始剤系に特定構造を有するクマリン系化合物を
用いることが記載されているが、これらクマリン系化合
物を用いた光重合開始剤は、感光性組成物に良好な感度
を与えるが、保存性、更には現像性の全てを満足するこ
とはできなかった。また、これらクマリン系化合物を用
いた感光性組成物は、現像液による現像時に、現像液中
にスラッジが発生し、感光性材料を汚染するとか、現像
液の寿命が短いとかの欠点があった。

【０００７】

【発明の目的】従って、本発明の目的は、高い感度を有
し、かつ、保存性が優れ、未露光部感光層の現像液に対
する溶解性が高く、現像時にスラッジの発生が少ない光
重合性組成物を提供することにある。

【０００８】さらに、本発明の目的は、高い感度を有
し、かつ、耐刷性、保存性が優れ、未露光部感光層の現
像液に対する溶解性が高く、現像時にスラッジの発生が
少ない光重合性組成物を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記本発明の目的は、（１）（ａ）エチレン性不飽和結合を分子中に少なくと
も１個有する光重合又は光架橋可能な化合物、（ｂ）下
記一般式（１ａ）で表される化合物及び（ｃ）有機過酸
化物を含有することを特徴とする光重合性組成物。

【００１０】

【化９】［式中、Ａ_aは、フルオロ置換アルキル基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アリール基、シアノ基、環を構
成する炭素原子とヘテロ原子の総数が５〜15個の複素環
基、−Ｚ_a−Ｒ_6a（Ｒ_6aは、炭素原子数１〜10のアルキ
ル基、炭素原子数１〜10のアルケニル基、炭素原子数１
〜10のアルコキシ基、炭素原子数６〜12のアリール基、
炭素原子数６〜12のアリールオキシ基、環を構成する炭
素原子とヘテロ原子の総数が５〜15の複素環基、水酸基
を表し、Ｚ_aは、カルボニル基、アミド基、ウレイド
基、カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、
アリーレンジカルボニル基を表す。）を表す。

【００１１】Ｒ_1aは、水素原子、シアノ基、炭素原子数
１〜４のアルキル基、炭素原子数６〜12のアリール基、
環を構成する炭素原子とヘテロ原子の総数が５〜15の複
素環基を表し、Ｒ_2a〜Ｒ_5aは、水素原子、モノアルキル
アミノ基、アリールアミノ基、アシル基、カルボン酸
基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、アリール基、アシルアミノ基、アルキルウレ
イド基、アリールウレイド基を表す。（ただし、Ｒ_2a〜
Ｒ_5aは同時に水素原子であることはない。）］（２）（ａ）エチレン性不飽和結合を分子中に少なくと
も１個有する光重合又は光架橋可能な化合物、（ｂ）下
記一般式（１ｂ）で表される化合物及び（ｃ）有機過酸
化物を含有することを特徴とする光重合性組成物。

【００１２】

【化１０】［式中、Ａ_bは、フルオロ置換アルキル基、アリールオ
キシ基、アリール基、−Ｚ_b−Ｒ_6b（Ｒ_6bは、炭素原子
数１〜10のアルキル基、炭素原子数１〜10のアルケニル
基、炭素原子数１〜10のアルコキシ基、炭素原子数６〜
12のアリール基、炭素原子数６〜12のアリールオキシ
基、環を構成する炭素原子とヘテロ原子の総数が５〜15
個の複素環基、水酸基を表し、Ｚ_bは、アミド基、ウレ
イド基、カルバモイル基を表す。）を表す。

【００１３】Ｒ_1bは、水素原子、シアノ基、炭素原子数
１〜４のアルキル基、炭素原子数６〜12のアリール基、
環を構成する炭素原子とヘテロ原子の総数が５〜15の複
素環基を表し、Ｒ_2b〜Ｒ_5bは、水素原子、ハロゲン、ア
ルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルチオ基、ジ
アルキルアミノ基、水酸基、ニトロ基、アシルオキシ
基、５員又は６員の複素環基、５員又は６員の複素環を
有する縮合環基、モノアルキルアミノ基、アリールアミ
ノ基、アシル基、カルボン酸基、アルキルオキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アリール基、ア
シルアミノ基、アルキルウレイド基、アリールウレイド
基を表す。］（３）（ａ）エチレン性不飽和結合を分子中に少なくと
も１個有する光重合又は光架橋可能な化合物、（ｂ）下
記一般式（１ｃ）で表される化合物及び（ｃ）有機過酸
化物を含有することを特徴とする光重合性組成物。

【００１４】

【化１１】［式中、Ａ_cは、フルオロ置換アルキル基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アリール基、シアノ基、環を構
成する炭素原子とヘテロ原子の総数が５〜15個の複素環
基、−Ｚ_c−Ｒ_6c（Ｒ_6cは、炭素原子数１〜10のアルキ
ル基、炭素原子数１〜10のアルケニル基、炭素原子数１
〜10のアルコキシ基、炭素原子数６〜12のアリール基、
炭素原子数６〜12のアリールオキシ基、環を構成する炭
素原子とヘテロ原子の総数が５〜15の複素環基、水酸基
を表し、Ｚ_cは、アミド基、ウレイド基、カルバモイル
基、スルホニル基、スルフィニル基、アリーレンジカル
ボニル基を表す。）表す。

【００１５】Ｒ_1cは、水素原子、シアノ基、炭素原子数
１〜４のアルキル基、炭素原子数６〜12のアリール基、
環を構成する炭素原子とヘテロ原子の総数が５〜15の複
素環基を表し、Ｒ_2c〜Ｒ_5cは、水素原子、ハロゲン、ア
ルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルチオ基、ジ
アルキルアミノ基、水酸基、ニトロ基、アシルオキシ
基、５員又は６員の複素環基、５員又は６員の複素環を
有する縮合環基、モノアルキルアミノ基、アリールアミ
ノ基、アシル基、カルボン酸基、アルキルオキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アリール基、ア
シルアミノ基、アルキルウレイド基、アリールウレイド
基を表す。（ただし、Ａ_c、Ｒ_1c〜Ｒ_5cの内少なくとも
１つは、カルボン酸基で置換された芳香族環基、また
は、置換又は非置換のアミノ基で置換された芳香族環基
を有する。）］（４）（ａ）エチレン性不飽和結合を分子中に少なくと
も１個有する光重合又は光架橋可能な化合物、（ｂ）下
記一般式（１ｄ）で表される化合物及び（ｃ）有機過酸
化物を含有することを特徴とする光重合性組成物。

【００１６】

【化１２】［式中、Ａ_dは、炭素原子及びヘテロ原子の総数が10個
以上の複素環基を表す。

【００１７】Ｒ_1dは、水素原子、シアノ基、炭素原子数
１〜４のアルキル基、炭素原子数６〜12のアリール基、
環を構成する炭素原子とヘテロ原子の総数が５〜15の複
素環基を表し、Ｒ_2d〜Ｒ_5dは、水素原子、アルキルアミ
ノ基、アリールアミノ基、アシル基、カルボン酸基、ア
ルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、アリール基、アシルアミノ基、アルキルウレイド
基、アリールウレイド基を表す。（ただし、Ｒ_2d〜Ｒ_5d
は同時に水素原子であることはない。）］（５）（ａ）エチレン性不飽和結合を分子中に少なくと
も１個有する光重合又は光架橋可能な化合物、（ｂ）下
記一般式（１ｅ）で表される化合物及び（ｃ）有機過酸
化物を含有することを特徴とする光重合性組成物。

【００１８】

【化１３】［式中、Ａ_eは、炭素原子及びヘテロ原子の総数が10個
以上の複素環基を表す。

【００１９】Ｒ_1eは、水素原子、シアノ基、炭素原子数
１〜４のアルキル基、炭素原子数６〜12のアリール基、
環を構成する炭素原子とヘテロ原子の総数が５〜15の複
素環基を表し、Ｒ_2e、Ｒ_3e、Ｒ_5eは、水素原子、アルキ
ルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、カルボン酸
基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、アリール基、アシルアミノ基、アルキルウレ
イド基、アリールウレイド基を表す。（ただし、Ｒ_2e、
Ｒ_3e、Ｒ_5eは同時に水素原子であることはない。）Ｒ_4bは、下記構造のアミノ基を表す。

【００２０】

【化１４】（式中、Ｒ_10e、Ｒ_11eは、それぞれ、アルキル基、アリ
ール基を表す。）］（６）（ａ）エチレン性不飽和結合を分子中に少なくと
も１個有する光重合又は光架橋可能な化合物、（ｂ）下
記一般式（２）又は（３）で表される化合物及び（ｃ）
有機過酸化物を含有することを特徴とする光重合性組成
物。

【００２１】

【化１５】［式中、Ａは、フルオロ置換アルキル基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アリール基、環を構成する炭素
原子とヘテロ原子の総数が５〜15の複素環基、−Ｚ−Ｒ
₆（Ｒ₆は、炭素原子数１〜10のアルキル基、炭素原子数
１〜10のアルケニル基、炭素原子数１〜10のアルコキシ
基、炭素原子数６〜12のアリール基、炭素原子数６〜12
のアリールオキシ基、環を構成する炭素原子とヘテロ原
子の総数が５〜15の複素環基、水酸基を表し、Ｚは、ア
ミド基、アルキルアミド基、アリールアミド基、ウレイ
ド基、カルバモイル基を表す。）を表す。

【００２２】Ｒ₁は、水素原子、シアノ基、炭素原子数
１〜４のアルキル基、炭素原子数６〜12のアリール基、
環を構成する炭素原子とヘテロ原子の総数が５〜15の複
素環基を表す。

【００２３】Ｒ₂及びＲ₅は、水素原子、ハロゲン、アル
コキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルチオ基、ジア
ルキルアミノ基、水酸基、ニトロ基、アシルオキシ基、
５員又は６員の複素環基、５員又は６員の複素環を有す
る縮合環基を表す。

【００２４】Ｒ₇〜Ｒ₁₈及びＲ₁₉〜Ｒ₃₀は、水素原子、
モノアルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、
カルボン酸基、アルキルオキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基、アリール基、アシルアミノ基、ア
ルキルウレイド基、アリールウレイド基を表す。］（７）有機過酸化物が下記式で表される化合物であるこ
とを特徴とする上記（１）〜（６）のいずれかに記載の
光重合性組成物。

【００２５】

【化１６】（８）フタル酸エステル、脂肪族二塩基酸エステル、リ
ン酸エステルの少なくとも１つを0.5〜20重量％含有さ
せたことを特徴とする上記（１）〜（７）のいずれかに
記載の光重合性組成物。（９）アルミ支持体上に、上記（１）〜（８）のいずれ
かに記載の光重合性組成物からなる層を設け、さらに上
層に、25℃で水に１％以上溶解する水溶性樹脂を含有す
る保護層を設けたことを特徴とする感光性平版印刷版。（１０）保護層中に、分子中にフッ素原子を少なくとも
１つ含有する化合物を0.1〜５重量％含有させたことを
特徴とする上記（９）記載の感光性平版印刷版。（１１）水溶性樹脂がポリビニルアルコール、ポリビニ
ルアセタール、ポリサッカライドであることを特徴とす
る上記（９）または（１０）記載の感光性平版印刷版。（１２）上記（９）〜（１１）のいずれかに記載の感光
性平版印刷版に、レーザー光を像様に照射し、次いで、
現像することを特徴とする画像形成方法。によって達成
される。

【００２６】以下、本発明を詳細に説明する。

【００２７】先ず、本発明の光重合開始剤系に用いる一
般式（１ａ）、一般式（１ｂ）、一般式（１ｃ）、一般
式（１ｄ）、一般式（１ｅ）、一般式（２）、一般式
（３）について説明する。

【００２８】一般式（１ａ）において、Ａ_aは、フルオ
ロ置換アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
アリール基、シアノ基、環を構成する炭素原子とヘテロ
原子の総数が５〜15個の複素環基、−Ｚ_a−Ｒ_6a（Ｒ_6a
は、炭素原子数１〜10のアルキル基、炭素原子数１〜10
のアルケニル基、炭素原子数１〜10のアルコキシ基、炭
素原子数６〜12のアリール基、炭素原子数６〜12のアリ
ールオキシ基、環を構成する炭素原子とヘテロ原子の総
数が５〜15の複素環基、水酸基を表し、Ｚ_aは、カルボ
ニル基、アミド基、ウレイド基、カルバモイル基、スル
ホニル基、スルフィニル基、アリーレンジカルボニル基
を表す。）を表し、Ｒ_1aは、水素原子、シアノ基、炭素
原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数６〜12のアリー
ル基、環を構成する炭素原子とヘテロ原子の総数が５〜
15の複素環基を表し、Ｒ_2a〜Ｒ_5aは、水素原子、モノア
ルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、カルボ
ン酸基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、アリール基、アシルアミノ基、アルキル
ウレイド基、アリールウレイド基を表す。

【００２９】一般式（１ｂ）において、Ａ_bは、フルオ
ロ置換アルキル基、アリールオキシ基、アリール基、−
Ｚ_b−Ｒ_6b（Ｒ_6bは、炭素原子数１〜10のアルキル基、
炭素原子数１〜10のアルケニル基、炭素原子数１〜10の
アルコキシ基、炭素原子数６〜12のアリール基、炭素原
子数６〜12のアリールオキシ基、環を構成する炭素原子
とヘテロ原子の総数が５〜15個の複素環基、水酸基を表
し、Ｚ_bは、アミド基、ウレイド基、カルバモイル基を
表す。）を表し、Ｒ_1bは、水素原子、シアノ基、炭素原
子数１〜４のアルキル基、炭素原子数６〜12のアリール
基、環を構成する炭素原子とヘテロ原子の総数が５〜15
の複素環基を表し、Ｒ_2b〜Ｒ_5bは、水素原子、ハロゲ
ン、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルチオ
基、ジアルキルアミノ基、水酸基、ニトロ基、アシルオ
キシ基、５員又は６員の複素環基、５員又は６員の複素
環を有する縮合環基、モノアルキルアミノ基、アリール
アミノ基、アシル基、カルボン酸基、アルキルオキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリール
基、アシルアミノ基、アルキルウレイド基、アリールウ
レイド基を表す。

【００３０】一般式（１ｃ）において、Ａ_cは、フルオ
ロ置換アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
アリール基、シアノ基、環を構成する炭素原子とヘテロ
原子の総数が５〜15個の複素環基、−Ｚ_c−Ｒ_6c（Ｒ_6c
は、炭素原子数１〜10のアルキル基、炭素原子数１〜10
のアルケニル基、炭素原子数１〜10のアルコキシ基、炭
素原子数６〜12のアリール基、炭素原子数６〜12のアリ
ールオキシ基、環を構成する炭素原子とヘテロ原子の総
数が５〜15の複素環基、水酸基を表し、Ｚ_cは、アミド
基、ウレイド基、カルバモイル基、スルホニル基、スル
フィニル基、アリーレンジカルボニル基を表す。）表
し、Ｒ_1cは、水素原子、シアノ基、炭素原子数１〜４の
アルキル基、炭素原子数６〜12のアリール基、環を構成
する炭素原子とヘテロ原子の総数が５〜15の複素環基を
表し、Ｒ_2c〜Ｒ_5cは、水素原子、ハロゲン、アルコキシ
基、アルケニルオキシ基、アルキルチオ基、ジアルキル
アミノ基、水酸基、ニトロ基、アシルオキシ基、５員又
は６員の複素環基、５員又は６員の複素環を有する縮合
環基、モノアルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシ
ル基、カルボン酸基、アルキルオキシカルボニル基、ア
リールオキシカルボニル基、アリール基、アシルアミノ
基、アルキルウレイド基、アリールウレイド基を表す。

【００３１】一般式（１ｄ）及び一般式（１ｅ）におい
て、Ａ_d及びＡ_eは、炭素原子及びヘテロ原子の総数が10
個以上の複素環基を表し、Ｒ_1d及びＲ_1eは、水素原子、
シアノ基、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数
６〜12のアリール基、環を構成する炭素原子とヘテロ原
子の総数が５〜15の複素環基を表し、一般式（１ｄ）に
おいて、Ｒ_2d〜Ｒ_5dは、水素原子、アルキルアミノ基、
アリールアミノ基、アシル基、カルボン酸基、アルキル
オキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
リール基、アシルアミノ基、アルキルウレイド基、アリ
ールウレイド基を表し、一般式（１ｅ）において、
Ｒ_2e、Ｒ_3e、Ｒ_5eは、水素原子、アルキルアミノ基、ア
リールアミノ基、アシル基、カルボン酸基、アルキルオ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリ
ール基、アシルアミノ基、アルキルウレイド基、アリー
ルウレイド基をし、Ｒ_4bは、

【００３２】

【化１７】（式中、Ｒ_10e、Ｒ_11eは、それぞれ、アルキル基、アリ
ール基を表す。）を表す。

【００３３】一般式（２）及び一般式（３）において、
Ａは、フルオロ置換アルキル基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アリール基、環を構成する炭素原子とヘテ
ロ原子の総数が５〜15の複素環基、−Ｚ−Ｒ₆（Ｒ₆は、
炭素原子数１〜10のアルキル基、炭素原子数１〜10のア
ルケニル基、炭素原子数１〜10のアルコキシ基、炭素原
子数６〜12のアリール基、炭素原子数６〜12のアリール
オキシ基、環を構成する炭素原子とヘテロ原子の総数が
５〜15の複素環基、水酸基を表し、Ｚは、アミド基、ア
ルキルアミド基、アリールアミド基、ウレイド基、カル
バモイル基を表す。）を表し、Ｒ₁は、水素原子、シア
ノ基、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数６〜
12のアリール基、環を構成する炭素原子とヘテロ原子の
総数が５〜15の複素環基を表し、Ｒ₂及びＲ₅は、水素原
子、ハロゲン、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、ア
ルキルチオ基、ジアルキルアミノ基、水酸基、ニトロ
基、アシルオキシ基、５員又は６員の複素環基、５員又
は６員の複素環を有する縮合環基を表し、Ｒ₇〜Ｒ₁₈及
びＲ₁₉〜Ｒ₃₀は、水素原子、モノアルキルアミノ基、ア
リールアミノ基、アシル基、カルボン酸基、アルキルオ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリ
ール基、アシルアミノ基、アルキルウレイド基、アリー
ルウレイド基を表す。

【００３４】ただし、一般式（１ａ）においてはＲ_2a〜
Ｒ_5aは、一般式（１ｄ）においてはＲ_2d〜Ｒ_5dは同時に
水素原子であることはなく、また、一般式（１ｃ）にお
いては、Ａ_c、Ｒ_1c〜Ｒ_5cの内少なくとも１つは、カル
ボン酸基で置換された芳香族環基、または、置換又は非
置換のアミノ基で置換された芳香族環基であり、また
は、これらの基を有する基である。

【００３５】一般式（１ａ）、一般式（１ｂ）、一般式
（１ｃ）、一般式（２）及び一般式（３）において、Ａ
_a、Ａ_b、Ａ_c及びＡで表されるフルオロ置換アルキル基
の具体例としては、トリフルオロメチル基、ペンタフル
オロエチル基などが挙げられ、アルコキシ基の具体例と
しては、メトキシ基、エトキシ基などが挙げられ、アリ
ールオキシ基の具体例としては、フェノキシ基などが挙
げられ、アリール基の具体例としては、フェニル基、ナ
フチル基などが挙げられ、環を構成する炭素原子とヘテ
ロ原子の総数が５〜15個の複素環基の具体例としては、
オキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピリジン、
インドール、ベンゾフラン、キノリジン、キノリン、キ
ノキサリン、アクリジン、フェナントリジン、キサンテ
ン、フェノキサジンなどからの基が挙げられ、一般式
（１ａ）における−Ｚ_a−Ｒ_6aの具体例としては、メチ
ルアミド基、プロペニルアミド基、メトキシウレイド
基、フェニルアミド基、メチルカルバモイル基、エチル
カルバモイル基、メチルウレイド基、エチルウレイド
基、エトキシウレイド基、メチルスルホニル基、エチル
スルホニル基、メチルフェニレンジカルボニル基、ｎ−
プロペニルウレイド基、エトキシスルホニル基、メトキ
シスルフィニル基、エトキシスルフィニル基などが挙げ
られ、一般式（１ｂ）における−Ｚ_b−Ｒ_6bの具体例、
一般式（１ｃ）における−Ｚ_c−Ｒ_6cの具体例及び一般
式（２）及び（３）における−Ｚ−Ｒ₆の具体例として
は、メチルアミド基、メトキシウレイド基、メチルカル
バモイル基、エチルカルバモイル基、メチルウレイド
基、エチルウレイド基、エトキシウレイド基、ｎ−プロ
ペニルアミド基、ｎ−プロペニルウレイド基、フェノキ
シアミド基、フェノキシウレイド基、フェノキシカルバ
モイル基などが挙げられる。

【００３６】一般式（１ｄ）及び一般式（１ｅ）におい
て、Ａ_d及びＡ_eで表される炭素原子及びヘテロ原子の総
数が10個以上の複素環基としては、フラン環、チオフェ
ン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イ
ミダゾール環、ピリジン環、ピリミジン環等のヘテロ環
を有する縮合ヘテロ環、上記単環のヘテロ環とナフタレ
ン環、フェナントレン環、アントラセン環、フェナレン
環、シクロヘキサン環等の炭化水素環との縮合環を挙げ
ることができる。本発明においては、これら環を構成す
る炭素原子及びヘテロ原子の総数が10個以上である。

【００３７】上記炭素原子及びヘテロ原子の総数が10個
以上の複素環基の具体例としては、下記のものを挙げる
ことができる。

【００３８】

【化１８】

【００３９】

【化１９】これらヘテロ環基は置換基を有していてもよい。

【００４０】一般式（１ａ）、一般式（１ｂ）、一般式
（１ｃ）、一般式（１ｄ）及び一般式（１ｅ）におい
て、Ｒ_1a、Ｒ_1b、Ｒ_1c、Ｒ_1d、Ｒ_1eで表される炭素原子
数１〜４のアルキル基の具体例としては、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソ
ブチル基などが挙げられ、炭素原子数６〜12のアリール
基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基などが挙
げられ、環を構成する炭素原子とヘテロ原子の総数が５
〜15の複素環基の具体例としては、オキサゾール、チア
ゾール、イミダゾール、ピリジン、インドール、ベンゾ
フラン、キノリジン、キノリン、キノキサリン、アクリ
ジン、フェナントリジン、キサンテン、フェノキサジン
などからの基が挙げらる。

【００４１】Ｒ_2a〜Ｒ_5a、Ｒ_2b〜Ｒ_5b、Ｒ_2c〜Ｒ_5c、Ｒ
_2d〜Ｒ_5d、Ｒ_2e、Ｒ_3e、Ｒ_5eで表されるモノアルキルア
ミノ基の具体例としては、モノメチルアミノ基、モノエ
チルアミノ基、モノプロピルアミノ基、モノブチルアミ
ノ基などが挙げられ、アリールアミノ基の具体例として
は、フェニルアミノ基などが挙げられ、アシル基の具体
例としては、アセチル基、プロピルアシル基などが挙げ
られ、アルキルオキシカルボニル基の具体例としては、
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙
げられ、アリールオキシカルボニル基の具体例として
は、フェノキシカルボニル基などが挙げられ、アリール
基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基などが挙
げられ、アシルアミノ基の具体例としては、アセチルア
ミノ基などが挙げられ、アルキルウレイド基の具体例と
しては、メチルウレイド基、エチルウレイド基などが挙
げられ、アリールウレイド基の具体例としては、フェニ
ルウレイド基などが挙げられ、ハロゲンの具体例として
は、塩素原子、臭素原子などが挙げられ、アルコキシ基
の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ
基などが挙げられ、アルケニルオキシ基の具体例として
は、プロペニルオキシ基、ブテニルオキシ基などが挙げ
られ、アルキルチオ基の具体例としては、メチルチオ
基、エチルチオ基、プロピルチオ基などが挙げられ、ジ
アルキルアミノ基の具体例としては、ジメチルアミノ
基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基などが挙げ
られ、アシルオキシ基の具体例としては、メチルエステ
ル基、エチルエステル基、ブチルエステル基などが挙げ
られ、５員又は６員の複素環基の具体例としては、フラ
ン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チア
ゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、
ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピロリジン、インド
ール、キノリンなどからの基が挙げられ、５員又は６員
の複素環を有する縮合環基の具体例としては、

【００４２】

【化２０】が挙げられる。

【００４３】Ｒ_2d〜Ｒ_5d、Ｒ_2e、Ｒ_3e、Ｒ_5eにおいて、
アルキルアミノ基とは上記モノアルキルアミノ基、ジア
ルキルアミノ基を含むものである。

【００４４】一般式（１ｅ）において、Ｒ_4eで表される

【００４５】

【化２１】において，Ｒ_10e、Ｒ_11eは、同じであっても異なってい
てもよい。これらアミノ基の具体例としては、ジエチル
アミノ基、ジプロピルアミノ基、ジ−ｎ−アミルアミノ
基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノ
基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ
基、ジ−ｎ−ドデシルアミノ基、ジ（ｎ−ブトキシエチ
ル）アミノ基、ジフェニルアミノ基が挙げられる。

【００４６】一般式（１ｃ）においては、Ａ_c、Ｒ_1c〜
Ｒ_5cの少なくとも１つは、カルボン酸基で置換された芳
香族環基、置換又は非置換のアミノ基で置換された芳香
族環基を有するが、これらカルボン酸基で置換された芳
香族環基、置換又は非置換のアミノ基で置換された芳香
族環基の具体例としては、フェニルカルボン酸基、フェ
ニルジカルボン酸基、アミノフェニル基、ジエチルアミ
ノフェニル基、メチルアミノフェニル基などが挙げられ
る。

【００４７】一般式（２）、一般式（３）において、Ｒ
₁で表される炭素原子数１〜４のアルキル基の具体例と
しては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基な
どが挙げられ、炭素原子数６〜12のアリール基の具体例
としては、フェニル基、ナフチル基などが挙げられ、環
を構成する炭素原子とヘテロ原子の総数が５〜15の複素
環基の具体例としては、オキサゾール、チアゾール、イ
ミダゾール、ピリジン、インドール、ベンゾフラン、キ
ノリジン、キノリン、キノキサリン、アクリジン、フェ
ナントリジン、キサンテン、フェノキサジンなどからの
基が挙げられ、Ｒ₂及びＲ₅で表されるハロゲンの具体例
としては、塩素原子、臭素原子などが挙げられ、アルコ
キシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ブ
トキシ基などが挙げられ、アルケニルオキシ基の具体例
としては、プロペニルオキシ基、ブテニルオキシ基、ペ
ンテニルオキシ基などが挙げられ、アルキルチオ基の具
体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピル
チオ基などが挙げられ、ジアルキルアミノ基の具体例と
しては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などが挙
げられ、アシルオキシ基の具体例としては、メチルエス
テル基、エチルエステル基などが挙げられ、５員又は６
員の複素環基の具体例としては、フラン、チオフェン、
オキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピリジン、
ピリミジン、ピラジンなどからの基が挙げられ、５員又
は６員の複素環を有する縮合環基の具体例としては、

【００４８】

【化２２】が挙げられ、Ｒ₇〜Ｒ₁₈、Ｒ₁₉〜Ｒ₃₀で表されるモノア
ルキルアミノ基の具体例としては、モノメチルアミノ
基、モノエチルアミノ基などが挙げられ、アリールアミ
ノ基の具体例としては、フェニルアミノ基、ジフェニル
アミノ基などが挙げられ、アシル基の具体例としては、
アセチル基などが挙げられ、アルキルオキシカルボニル
基の具体例としては、メチルエステル基、エチルエステ
ル基、プロピルエステル基などが挙げられ、アリールオ
キシカルボニル基の具体例としては、フェニルエステル
基などが挙げられ、アリール基の具体例としては、フェ
ニル基、ナフチル基などが挙げられ、アシルアミノ基の
具体例としては、アセチルアミノ基などが挙げられ、ア
ルキルウレイド基の具体例としては、メチルウレイド
基、フェニルウレイド基などが挙げられ、アリールウレ
イド基の具体例としては、フェニルウレイド基などが挙
げられる。

【００４９】上記一般式（１ａ）、一般式（１ｂ）、一
般式（１ｃ）、一般式（１ｄ）、一般式（１ｅ）、一般
式（２）、一般式（３）で表される化合物を用いた光重
合性組成物よりなる感光性組成物は、高い感度を有し、
保存性が優れており、未露光部感光層の現像液に対する
溶解性が高く現像性に優れており、現像時にスラッジの
発生が少ない。特に、一般式（１ｃ）で表される化合物
を用いた光重合性組成物よりなる感光性組成物の場合に
は、未露光部感光層の現像液に対する溶解性が高く、現
像性に優れており、現像時にスラッジの発生が少なく、
また、一般式（１ｄ）、一般式（１ｅ）で表される化合
物を用いた光重合性組成物よりなる感光性組成物の場合
には、耐刷性において優れている。

【００５０】以下に、一般式（１ａ）、一般式（１
ｂ）、一般式（１ｃ）、一般式（１ｄ）、一般式（１
ｅ）、一般式（２）、一般式（３）で表される化合物の
具体例を示す。

【００５１】

【化２３】

【００５２】

【化２４】

【００５３】

【化２５】

【００５４】

【化２６】

【００５５】

【化２７】

【００５６】

【化２８】

【００５７】

【化２９】

【００５８】

【化３０】

【００５９】

【化３１】

【００６０】

【化３２】

【００６１】

【化３３】

【００６２】

【化３４】

【００６３】

【化３５】

【００６４】

【化３６】

【００６５】

【化３７】

【００６６】

【化３８】

【００６７】

【化３９】

【００６８】

【化４０】

【００６９】

【化４１】

【００７０】

【化４２】

【００７１】

【化４３】

【００７２】

【化４４】

【００７３】

【化４５】

【００７４】

【化４６】

【００７５】

【化４７】

【００７６】

【化４８】

【００７７】

【化４９】

【００７８】

【化５０】

【００７９】上記一般式（１ａ）、一般式（１ｂ）、一
般式（１ｃ）、一般式（１ｄ）、一般式（１ｅ）、一般
式（２）、一般式（３）で表される化合物は、光重合性
組成物中に、0.1〜10重量％、好ましくは0.5〜5重量％
の範囲で用いることが好ましい。

【００８０】次に、本発明の光重合開始剤系に用いる有
機過酸化物について説明する。

【００８１】有機過酸化物は、分子中に酸素−酸素結合
を一個以上有する化合物であり、本発明で用いる有機過
酸化物は、特に限定されないが、例えば、特開昭59-150
4号公報、特開昭61-243807号公報に記載の有機過酸化物
を用いることができる。

【００８２】具体的な化合物としては、メチルケトンパ
ーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、メ
チルイソブチルケトンパーオキサイド、アセチルアセト
ンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、
メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロ
ヘキサノンパーオキサイド、３，３，５−トリメチルシ
クロヘキサノンパーオキサイドなどのケトンパーオキサ
イド；アセチルパーオキサイド、プロピオニルパーオキ
サイド、イソブチルパーオキサイド、オクタノイルパー
オキサイド、３，５，５−トリメチルヘキサノイルパー
オキサイド、デカノイルパーオキサイド、ウラロイルパ
ーオキサイド、ベンゾイルパーキサイド、ｐ−クロロベ
ンゾイルパーオキサイド、２，４−ジクロロベンゾイル
パーオキサイド、アセチルシクロヘキサンスルホニルパ
ーオキサイドなどのアシルパーオキサイド類；tert−ブ
チルヒドロパーオキサイド、クメンヒドロパーオキサイ
ド、ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキサイド、ｐ
−メタンヒドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキ
サン−２，５−ジヒドロパーオキサイド、１，１，３，
３−テトラメチルブチルヒドロパーオキサイドなどのヒ
ドロパーオキサイド類；ジ−tert−ブチルパーオキサイ
ド、tert−ブチルクミルパーオキサイド、１，３−ビス
（tert−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、
２，５−ジメチル−２，５−ジ（tert−ブチルパーオキ
シ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｎ−ブ
チル−４，４′−ビス（tert−ブチルパーオキシ）ブタ
ンなどのパーオキシケタール類；tert−ブチルパーオキ
シアセテート、tert−ブチルパーオキシイソブチレー
ト、tert−ブチルパーオキシオクトエート、tert−ブチ
ルパーオキシピバレート、tert−ブチルパーオキシネオ
デカネート、tert−ブチルパーオキシ−３，５，５−ト
リメチルヘキサノエート、tert−ブチルパーオキシベン
ゾエート、ジ−tert−ブチルパーオキシフタレート、te
rt−ブチルパーオキシイソフタレート、tert−ブチルパ
ーオキシラウレート、２，５−ジメチル−２，５−ジベ
ンゾイルパーオキシヘキサンなどのアルキルパーエステ
ル類；ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネー
ト、ジ−イソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−
sec−ブチルパーオキシカーボネート、ジ−ｎ−プロピ
ルパーオキシジカーボネート、ジ−メトキシイソプロピ
ルパーオキシジカーボネート、ジ−３−メトキシブチル
パーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパ
ーオキシジカーボネート、ビス−（４−tert−ブチルシ
クロヘキシル）パーオキシジカーボネートなどのパーオ
キシカーボネート類、コハク酸パーオキシキサイドに代
表される水溶性パーオキサイド類が挙げられる。

【００８３】また、他に、tert−ブチルパーオキサイ
ド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベ
ンゼンパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、α，
α′−ビス（tert−ブチルパーオキシイソプロピル）ベ
ンゼン、tert−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネ
ート、ジ（tert−ブチルパーオキシ）イソフタレート、
tert−ブチルパーオキシべンゾエート、３，３′，４，
４′−テトラ（tert−ブチルパーオキシカルボニル）べ
ンゾフェノン、２，５−ジメチル−２，５−（ジベンゾ
イルパーオキシ）へキサン、ジ（tert−ブチルパーオキ
シ）イソフタレート、ジ（tert−ブチルパーオキシ）テ
レフタレート、ジ（tert−ブチルパーオキシ）フタレー
ト、

【００８４】

【化５１】も挙げることができる。

【００８５】本発明の光重合開始剤系に用いる有機過酸
化物としては、下記式で表される化合物が最も好まし
い。

【００８６】

【化５２】有機過酸化物は、光重合性組成物中に１〜20重量％、好
ましくは、３〜10重量％の範囲で用いることが好まし
い。

【００８７】本発明のエチレン性不飽和結合を分子中に
少なくとも１個有する光重合又は光架橋可能な化合物
は、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合
を少なくとも一つ以上有する化合物であればどのような
ものでもよく、モノマー、オリゴマー、ポリマー等いず
れの化学形態をもつものであってもよい。また、これら
化合物は、単独で用いても、また、目的とする特性を向
上するために、任意の比率で２種以上を混合して用いて
もかまわない。

【００８８】このようなラジカル重合可能なエチレン性
不飽和結合を有する化合物の例としては、アクリル酸、
メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン
酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、
エステル、ウレタン、アミドや無水物、アクリロニトリ
ル、スチレン、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽
和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等
のラジカル重合性化合物が挙げられる。

【００８９】具体的には、２−エチルヘキシルアクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエ
チルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロ
ヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリ
レート、ベンジルアクリレート、ビス（４−アクリロキ
シポリエトキシフェニル）プロパン、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジア
クリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエ
チレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポ
リプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テ
トラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエス
テルアクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ジ
アセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のア
クリル酸誘導体、メチルメタクリレート、ｎ−ブチルメ
タクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ラ
ウリルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシ
ジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチ
ルアミノメチルメタクリレート、１，６−ヘキサンジオ
ールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリ
レート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポ
リエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジメタクリレート、トリメチロールエタン
トリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、２，２−ビス（４−メタクリロキシポリエ
トキシフェニル）プロパン等のメタクリル誘導体、その
他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、
トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が
挙げられ、さらに具体的には、山下晋三ら編「架橋剤ハ
ンドブック」（1981年大成社）、加藤清視編「ＵＶ・Ｅ
Ｂ硬化ハンドブック（原料編）」（1985年、高分子刊行
会）、ラドテック研究会編「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用
と市場」79頁（1989年、シーエムシー）、滝山栄一郎著
「ポリエステル樹脂ハンドブック」（1988年、日刊工業
新聞社）に記載の市販品もしくは業界で公知のラジカル
重合性ないし架橋性のモノマー、オリゴマー、ポリマー
が挙げられる。

【００９０】また、本発明の光重合性組成物は下記のラ
ジカル発生剤を併用してもよい。また、さらに感度向上
の目的で他のラジカル発生剤を併用することも可能であ
る。

【００９１】本発明において、併用可能な他の光重合開
始剤としては、特公昭59-1281号公報、特公昭61-9621号
公報、特開昭60-60104号公報に記載のトリアジン誘導
体、特開昭59-1504号公報、特開昭61-243807号公報に記
載の有機過酸化物、特公昭43-23684号公報、特公昭44-6
413号公報、特公昭44-6413号公報、特公昭47-1604号公
報、米国特許第3,567,453号明細書に記載のジアゾニウ
ム化合物、米国特許第2,848,328号明細書、米国特許第
2,852,379号明細書、米国特許第2,940,853号明細書に記
載の有機アジド化合物、特公昭36-22062号公報、特公昭
37-13109号公報、特公昭38-18015号公報、特公昭45-961
0号公報に記載のオルト−キノンジアジド類、特公昭55-
39162号公報、特開昭59-14023号公報、「マクロモレキ
ュルス（Macromoleules）第10巻第1307頁（1977年）に
記載の各種オニウム化合物、特開昭59-142205号公報に
記載のアゾ化合物、特開平1-54440号公報、ヨーロッパ
特許第109,851号明細書、ヨーロッパ特許第126,712号明
細書、「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエン
ス」（J.Imag.Sci.）」第30巻第174頁（1986年）に記載
の金属アレン錯体、特願平4-56831号明細書、特願平4-8
9535号明細書に記載の（オキソ）スルホニウム有機ホウ
素錯体、特開昭61-151197号公報に記載のチタノセン
類、「コーディネーション・ケミストリー・レビュー
（Coordinantion Chemistry Review）」、第84巻第85〜
第277頁（1988年）、特開平2-182701号公報に記載のル
テニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体、特開平
3-209477号公報に記載の２，４，５−トリアリールイミ
ダゾール二量体、四臭化炭素、特開昭59-107344号公報
に記載の有機ハロゲン化合物等が挙げられる。また、下
記の式で表されるほう素塩を用いることもできる。

【００９２】

【化５３】上記式において、Ｒは、各々同一でも異なってもよいア
ルキル基（例えば、エチル基、ブチル基）、アリール基
（例えば、フェニル基、ナフチル基）、アラルキル基
（例えば、ベンジル基、フェネチル基）、アルケニル基
（例えば、ビニル基、アリル基）、アルキニル基（例え
ば、プロペニル基）、シクロアルキル基（例えば、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基）、複素環基（例え
ば、チエニル基、ピリジル基）を表し、各基は更に置換
基を有していてもよい。特に好ましくは、Ｒの少なくと
も一つがアリール基であり、少なくとも一つがアルキル
基であるほう素塩である。

【００９３】上記Ｒで表されるアリール基としては、フ
ェニル基またはナフチル基が好ましく、アルキル基、ア
ルコキシ基で置換されていてもいい。アルキル基として
は、炭素原子数１〜12のアルキル基が好ましく、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基等が挙げら
れる。これらのアルキル基はハロゲン原子、アルコキシ
基、ヒドロキシル基、シアノ基、フェニル基等で置換さ
れていてもよい。

【００９４】Ｘ⁺は、カウンターカチオン（例えば、ア
ルカリ金属カチオン、アンモニウムカチオン、ホスフォ
ニウムカチオン等の５Ａ族オニウム化合物、スルホニウ
ム、テルロニウムなどの６Ａ族オニウム化合物）を表
す。

【００９５】上記化合物の具体例は、特開昭64-13142号
公報、特開平2-4804号公報に記載されている。

【００９６】これらの重合開始剤はラジカル重合可能な
エチレン不飽和結合を有する化合物100重量部に対して
0.01から10重量部の範囲で含有されるのが好ましい。

【００９７】また、本発明の光重合性組成物は、保存時
の重合を防止する目的で熱重合防止剤を添加することが
可能である。本発明の光重合性組成物に添加可能な熱重
合防止剤の具体例としては、ｐ−メトキシフェノール、
ハイドロキノン、アルキル置換ハイドロキノン、カテコ
ール、tert−ブチルカテコール、フェノチアジン等を挙
げることができ、これらの熱重合防止剤は、ラジカル重
合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物100重量
部に対して0.001から５重量部の範囲で添加されるのが
好ましい。

【００９８】また、本発明の光重合性組成物にはさらに
重合を促進する目的で、アミンやチオール、ジスルフィ
ド等に代表される重合促進剤や連鎖移動触媒等を添加す
ることも可能である。本発明の光重合性組成物に添加可
能な重合促進剤や連鎖移動触媒の具体例としては、例え
ば、Ｎ−フェニルグリシン、トリエタノールアミン、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等のアミン類、米国特許第4,
414,312号明細書や特開昭64-13144号公報に記載のチオ
ール類、特開平2-29161号公報に記載のジスルフィド
類、米国特許第3,558,322号明細書や特開昭64-17048号
公報に記載のチオン類、特開平2-291560号公報に記載の
ｏ−アシルチオヒドキサメートやＮ−アルコキシピリジ
ンチオン類があげられる。

【００９９】本発明の重合性組成物はさらに目的に応じ
て、染料、有機及び無機顔料、ホスフィン、ホスホネー
ト、ホスファイト等の酸素除去剤や還元剤、カブリ防止
剤、退色防止剤、ハレーション防止剤、蛍光増白剤、界
面活性剤、着色剤、増量剤、可塑剤、難燃剤、酸化防止
剤、紫外線吸収剤、発泡剤、防カビ剤帯電防止剤、磁性
体やその他種々の特性を付与する添加剤、希釈溶剤等と
混合して使用してもよい。

【０１００】本発明の光重合性組成物は、低圧水銀灯、
中圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、カーボンア
ーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステン
ランプ、アルゴンイオンレーザ、ヘリウムカドニウムレ
ーザ、ヘリウムネオンレーザ、クリプトンイオンレー
ザ、各種半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、発光ダイオー
ド、ＣＲＴ光源、プラズマ光源等の各種光源を用いた露
光により重合し、重合物や硬化物を得ることができる。

【０１０１】従って、バインダーその他を混合した本発
明の光重合性組成物は、各種インキ、各種刷版材料、各
種プルーフ材料、フォトレジスト、電子写真、ダイレク
ト刷版材料、ホログラム材料等の感光材料やマイクロカ
プセル等の各種記録媒体、さらには、接着剤、粘着剤、
粘接着剤、封止剤及び各種塗料に用いることができる。

【０１０２】本発明の光重合性組成物に用いるバインダ
ーは、有機溶剤に可溶の親油性の高分子が好ましく、バ
インダーとして機能するものであればその種類は任意で
あるが、酸価が20〜250の範囲の親油性高分子化合物が
好ましい。

【０１０３】これら高分子化合物としては、例えば、ポ
リアミド、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスチ
レン、ポリウレタン、ポリビニルクロライド及びそれら
のコポリマー、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニル
ホルマール樹脂、シェラック、エポキシ樹脂、フェノー
ル樹脂、アクリル樹脂等が挙げられる。

【０１０４】これらの中で好ましい高分子化合物は、下
記（１）〜（１７）に記載のモノマーの混合物を共重合
して得られた共重合体である。

【０１０５】上記モノマー混合物には、上記モノマーと
共重合し得る他のモノマーを混合してもよい。また、高
分子化合物は、上記モノマーの共重合によって得られた
共重合体を、例えば、グリシジルアクリレート、グリシ
ジルメタクリレート等によって修飾したものであっても
よい。（１）芳香族水酸基を有するモノマー、例えば、ｏ−ヒ
ドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒド
ロキシスチレン、ｏ−ヒドロキシフェニルアクリレー
ト、ｐ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｍ−ヒドロ
キシフェニルアクリレート等（２）脂肪族水酸基を有するモノマー、例えば、２−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメ
タクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メ
チロールメタクリルアミド、４−ヒドロキシブチルメタ
クリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、５
−ヒドロキシペンチルメタクリレート、６−ヒドロキシ
ヘキシルアクリレート、６−ヒドロキシヘキシルメタク
リレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミ
ド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、
ヒドロキシエチルビニルエーテル等（３）アミノスルホニル基を有するモノマー、例えば、
ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｐ−ア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−アミノス
ルホニルフェニルアクリレート、ｐ−アミノフェニルア
クリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アアミノスルホニルフェニ
ル）アクリルアミド等（４）スルホンアミド基を有するモノマー、例えば、Ｎ
−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド、Ｎ−
（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド等（５）α、β−不飽和カルボン酸類、例えば、アクリル
酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタ
コン酸、無水イタコン酸等（６）置換または無置換のアルキルアクリレート、例え
ば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸
プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アク
リル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリル酸オク
チル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル
酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ベンジ
ル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−２−クロ
ロエチル、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレー
ト、グリシジルアクリレート等（７）置換または無置換のアルキルメタクリレート、例
えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘプチ
ル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタ
クリルデシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸
ウンデシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベン
ジル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−２
−クロロエチル、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタク
リレート、グリシジルメタクリレート等（８）アクリルアミド若しくはメタクリルアミド類、た
とえば、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−エチ
ルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ−
シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリル
アミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチ
ル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキ
シフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフ
ェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニ
ル）メタクリルアミド等（９）フッ化アルキル基を含有するモノマー、例えば、
トリフルオロエチルアクリレート、トリフルオロエチル
メタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレー
ト、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、オクタフ
ルオロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチル
メタクリレート、ヘプタデカフルオロデシルメタクリレ
ート、Ｎ−ブチル−Ｎ−（２−アクリロキシエチル）ヘ
プタデカフルオロオクチルスルホンアミド等（１０）ビニルエーテル類、例えば、エチルビニルエー
テル、２−クロロエチルビニルエーテル、プロピルビニ
ルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエ
ーテル、フェニルビニルエーテル類（１１）ビニルエステル類、例えば、ビニルアセテー
ト、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息
香酸ビニル等（１２）スチレン類、例えば、スチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等（１３）ビニルケトン類、例えば、メチルビニルケト
ン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェ
ニルビニルケトン等（１４）オレフィン類、例えば、エチレン、プロピレ。
イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等（１５）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、４−ビニルピリジン等（１６）シアノ基を有するモノマー、例えば、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル、２−ペンテンニトリ
ル、２−メチル−３−ブテンニトリル、２−シアノエチ
ルアクリレート、ｏ−シアノスチレン、ｍ−シアノスチ
レン、ｐ−シアノスチレン等（１７）アミノ基を有するモノマー、例えば、Ｎ、Ｎ−
ジエチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアミノエチルアクリレート、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ
エチルメタクリレート、ポリブタジエンウレタンアクリ
レート、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミ
ド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモ
ルホリン、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−
ジエチルアクリルアミド等上記、共重合体は、ゲルパーミエーションクロマトグラ
フィー（ＧＰＣ）によって測定された重量平均分子量が
1万〜20万であるものが好ましいが、重量平均分子量は
この範囲に限定されるものではない。

【０１０６】上記共重合体は、必要に応じて、ポリビニ
ルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹
脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹
脂、天然樹脂等、他の任意の高分子化合物と併用しても
よい。光重合性組成物中におけるこれら高分子重合体の
含有量は、20〜90重量％の範囲が好ましく、30〜70重量
％の範囲がさらに好ましい。

【０１０７】本発明において、上記高分子化合物のうち
アクリル系重合体を用いることが好ましい。

【０１０８】本発明の光重合性組成物を用いた本発明の
感光材料は、例えば、支持体／感光層、支持体／感光層
／保護層、バックコート層／支持体／感光層／保護層と
いう層構成とすることができるが、層構成はこれに限定
されるものではない。

【０１０９】感光層は、上記の光重合性組成物を適当な
溶媒（ジメチルジグリコール、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、メチルセロソルブアセテート、アセトン、メチルエ
チルケトン、メタノール、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、水又はこれらの混合物等）中に溶解
させて感光性組成物の塗布液を調整し、これを支持体上
に塗布、乾燥し、感光層を形成することにより得ること
ができる。

【０１１０】塗布液における感光性組成物の濃度は１〜
50重量％の範囲とすることが望ましい。

【０１１１】塗布には、従来公知の方法、例えば、回転
塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ
塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等を
用いることができる。

【０１１２】この場合、感光性組成物の塗布量は、乾燥
重量で、おおむね、0.2〜10ｇ／m²程度とすればよい。

【０１１３】保護層は、25℃で水に１％以上溶解する水
溶性樹脂を含有する保護層が設けられる。これら水溶性
樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルアセタール、ポリサッカライド、酸性セルロース類
などのような酸素遮断性に優れたポリマーを用いること
ができる。特に、ポリビニルアルコール、ポリサッカラ
イドは、酸素遮断性が高く、現像液に対する溶解性が高
く、感度、保存性、現像性が良好であり好ましい。

【０１１４】また、保護層には、分子中にフッ素原子を
少なくとも１つ含有する化合物、例えば、フッ素系界面
活性剤類を添加することが好ましい。保護層中に添加さ
れた分子中にフッ素原子を少なくとも１つ含有する化合
物は表面に付着することにより疎水性を向上させ、イン
ク着肉性を向上させる。

【０１１５】保護層の塗布量は、乾燥重量で、おおむ
ね、0.2〜20ｇ／m²程度とすればよい。より好ましい塗
布量は0.5〜2.0ｇ／m²である。

【０１１６】前記の感光材料に使用される支持体として
は、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレンなど）ラミネート紙、アルミニ
ウム（アルミニウム合金も含む）、亜鉛、銅などのよう
な金属の板、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プ
ロピオン酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポ
リビニルアセタールなどのようなプラスチックのフィル
ム、上記の如き金属がラミネートもしくは蒸着された紙
もしくはプラスチックフィルム、アルミニウムもしくは
クロームメッキが施された鋼板などが挙げられる。

【０１１７】上記本発明の感光性材料に用いる支持体
は、用途にもよるが、例えば、感光性材料が感光性平版
印刷版である場合には、アルミニウム支持体を用いる場
合が多い。

【０１１８】これらアルミニウム支持体には、純アルミ
ニウム及びアルミニウム合金よりなる支持体が含まれ
る。アルミニウム合金としては種々のものが使用でき、
例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、
亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル等の金属とアルミニウム
の合金よりなるものが用いられる。

【０１１９】アルミニウム支持体は、粗面化に先立って
アルミニウム表面の圧延油を除去するために脱脂処理を
施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、
シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロンとトリエ
タノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処
理が用いられる。また、脱脂処理に苛性ソーダ等のアル
カリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性ソ
ーダ等のアルカリの水溶液を用いた場合、上記脱脂処理
のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去することが
できる。

【０１２０】アルミニウム材の表面は、保水性を高め、
感光層との密着性を向上させる目的で粗面化処理されて
いることが望ましい。

【０１２１】粗面化方法としては、一般に公知のブラシ
研磨法、ボール研磨法、電解エッチング法、化学的エッ
チング法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法、
サンドブラスト等の方法およびこれらの組合せが挙げら
れ、好ましくはブラシ研磨法、電解エッチング法、化学
的エッチング法および液体ホーニング法が挙げられる。
アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方法を単独
もしくは組合せて用いることができる。これらのうち
で、特に電解エッチング法の使用を含む粗面化方法が好
ましい。

【０１２２】電解エッチングによる粗面化は、燐酸、硫
酸、塩酸、硝酸等の無機酸を単独ないし２種以上混合し
た電解液中で交流あるいは直流によって支持体を電解処
理することにより行われる。これらのうちで特に塩酸、
硝酸またはそれらの塩を含む電解液を用いる電解エッチ
ングによる粗面化が好ましい。

【０１２３】さらに、粗面化処理の施されたアルミニウ
ム板は、必要に応じて酸またはアルカリの水溶液にてデ
スマット処理を行い中和して水洗する。このような処理
としては、例えば、特公48-28123号公報に記載されてい
るアルカリエッチング法や特開昭53-12739号公報に記載
されている硫酸デスマット法等の処理方法が挙げられ
る。

【０１２４】こうして得られたアルミニウム板は、陽極
酸化処理されることが望ましい。陽極酸化処理は、電解
液として硫酸、クロム酸、シュウ酸、燐酸、マロン酸等
を一種または二種以上含む溶液を用い、アルミニウム板
を陽極として電解して行われる。陽極酸化では、硫酸お
よび／またはリン酸等を10〜50％の濃度で含む水溶液を
電解液として電流密度１〜10Ａ／dm²で電解する方法が
好ましく、形成された陽極酸化被覆量は、１〜50mg／dm
²が適当であり、好ましくは10〜40mg／dm²である。陽極
酸化被覆量は、例えば、アルミニウム板を燐酸クロム酸
溶液（燐酸85％液：35ミリリットル、酸化クロム（V
I）：20ｇを１リットルの水に溶解して作製）に浸積
し、酸化被膜を溶解し、板の被覆溶解前後の重量変化測
定等から求められる。

【０１２５】陽極酸化処理された後に封孔処理をするこ
とができる。封孔処理としては、沸騰水処理、水蒸気処
理、ケイ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具
体例として挙げられる。この他にアルミニウム板支持体
に対して、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等
の金属塩の水溶液による下引き処理を施すこともでき
る。

【０１２６】さらに支持体には、陽極酸化処理後、封孔
処理を施した場合はさらに封孔処理をした後に、親水化
処理を施し、親水性層を設けることが好ましい。親水性
層の形成には、アルカリ金属珪酸塩、親水性セルロー
ス、特開昭60-149491号公報、同63-165183号公報に記載
のアミノ酸及びその塩、特開昭60-232998号公報に記載
の水酸基を有するアミン類及びその塩、特開昭62-19494
号公報に記載のりん酸塩、特開昭59-101651号公報に記
載のスルホ基を有するモノマー単位を含む高分子化合物
等が用いられる。

【０１２７】更に、感光性平版印刷版を重ねたとき、感
光層が擦れ、擦れ傷が発生するのを防ぐために、また、
現像時に、支持体のアルミニウム成分が現像液中へ溶出
を防ぐために、特開昭50-151136号公報、同57-63293号
方法、同60-73538号公報、同61-67863号公報、特開平6-
35174号公報等に記載されている、支持体裏面に保護層
を設ける処理を行うことができる。

【０１２８】また、本発明の感光層上に設ける保護層
は、例えば、感光層上に、保護層として使用可能な高分
子化合物を溶剤に溶解した塗布液を塗布したり、あるい
は、保護層として用いることが可能なフィルムをラミネ
ートなどの方法で、感光層上に貼合することによって形
成することが可能である。また、保護層は、別の支持体
上に、高分子化合物を溶剤に溶解した塗布液を塗布し、
保護層を形成し、得られた保護層をを感光層に転写する
ことにより設けることもできる。

【０１２９】保護層として使用可能な高分子化合物とし
ては、塩化ビニリデン、エバール、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ゼラチン、膠、カゼイン、
ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロ
ース、メチルセルロース、ヒドロキシエチル澱粉、アラ
ビアゴム、サクローズオクタアセテート、アルギン酸ア
ンモニウム、アルギン酸ナトリウム、ポリビニルアミン
ポリエチレンオキシド、ポリスチレンスルホン酸、ポリ
アクリル酸等が挙げられ、特にポリビニルアルコールが
好適に用いられるが、これらに限定はされるものではな
い。

【０１３０】塗布液には、さらに必要に応じて、塗布性
を向上させる目的で、界面活性剤等の添加剤を添加する
こともできる。

【０１３１】保護層を塗布により形成する場合には、保
護層の膜厚を、0.2〜10μmとすることが好ましく、特に
好ましくは、1.0〜2.0μmである。

【０１３２】保護層として用いることができるフィルム
としては、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィ
ルム、ポリブタジエンフィルム、エバールフィルム、ポ
リビニルピロリドンフィルム、塩化ビニリデンフィル
ム、ポリカーボネートフィルムなどが挙げられるが、こ
れらに限定はされるものではない。フィルムの膜厚は２
〜100μm程度が好ましい。

【０１３３】本発明の感光性平版印刷版の処理には、従
来の常法が適用される。すなわち、線画像、網点画像等
を有する透明原画を通して露光し、次いで、水性現像液
で現像処理することにより、原画に対してネガのレリー
フ像を得ることができる。露光に好適な活性光の光源と
しては、カーボンアーク灯、水銀灯、キセノンランプ、
メタルハライドランプ、ストロボ、レーザー光等が挙げ
られるが、本発明の光重合性組成物は、アルゴンイオン
レーザー等の可視光レーザーに対して十分な感度を有し
ており、アルゴンイオンレーザー等の可視光レーザーを
用い、デジタル化された情報に基づいて走査露光するの
に好ましく用いられる。

【０１３４】現像液は特に限定されないが、特に好まし
いのは、実質的に有機溶剤を含まないアルカリ性の水性
溶液である。

【０１３５】「実質的に有機溶剤を含まない」とは、衛
生上、安全性上等において問題を起こす程には有機溶剤
を含有しないとの意であり、有機溶剤を全く含まないと
の意ではない。一般的に、現像液組成物中に含まれる有
機溶剤が１重量％以下であればこれらの問題は生じな
い。

【０１３６】衛生上、安全性上等からすると、現像液組
成物中に含まれる有機溶剤の含有量は少ない方が好まし
く、有機溶剤含有量は0.5重量％以下、より好ましくは
有機溶剤を全く含有しないことである。

【０１３７】本発明の現像液に用いる好ましいアルカリ
剤としては、例えば、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウ
ム、ケイ酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二リ
ン酸ナトリウム、第三リン酸カリウム、第二リン酸カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。
これらの中でもケイ酸カリウム、ケイ酸リチウム、ケイ
酸ナトリウム等のケイ酸アルカリを含有する現像液は現
像階調性が良好なため最も好ましく、ケイ酸アルカリの
組成がモル比で〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ〕＝0.5〜1.5（ここ
に〔ＳｉＯ₂〕、〔Ｍ〕はそれぞれＳｉＯ₂のモル濃度と
総アルカリ金属のモル濃度を示す。）であり、かつＳｉ
Ｏ₂を0.8〜８重量％含有する現像液が好ましく用いられ
る。このケイ酸アルカリ組成のうち、特に、モル比で
〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ〕＝0.5〜0.75であり、かつ、ＳｉＯ
₂が0.8〜４重量％の現像液は、低濃度のため現像廃液の
中和が容易なことから好ましく用いられ、一方、モル比
で〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ〕＝0.75〜1.3であり、かつ、Ｓｉ
Ｏ₂が1〜8重量％の現像液は緩衝力が高く、処理能力が
高いことから好適に用いられる。

【０１３８】現像液のｐＨ（25℃）は12以上であること
が好ましく、さらに好ましくは、12.5〜14である。ま
た、現像液中には、例えば、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸
カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸マグネシウムなどの
水溶性亜硫酸塩を添加することができる。亜硫酸塩の現
像液組成物における好ましい含有量は、0.05〜4重量％
で、より好ましくは0.1〜１重量％である。

【０１３９】また、現像液中に、特開昭50-51324号公報
に記載されているようなアニオン性界面活性剤、両性界
面活性剤、特開昭59-75255号公報、同60-111246号公報
に記載されているような非イオン性界面活性剤のうち少
なくとも一つを含有させることにより、また、特開昭55
-95946号公報、同56-142528号公報に記載されているよ
うに高分子電解質を含有させることにより、感光層への
濡れ性を高めたり、また、階調性をさらに高めることが
できる。かかる界面活性剤の添加量は特に制限はない
が、0.003〜3重量％が好ましく、特に0.006〜1重量％が
好ましい。さらに該ケイ酸アルカリのアルカリ金属とし
て全アルカリ金属中、カリウムを20モル％以上含むこと
が、現像液中の不溶物発生が少ないため好ましく、より
好ましくはカリウムを90モル％以上含むことであり、最
も好ましくはカリウムが100モル％の場合である。

【０１４０】さらに、本発明に使用される現像液には消
泡剤を含有させることができる。好適な消泡剤には有機
シラン化合物が挙げられる。

【０１４１】

【実施例】以下に、本発明を実施例により具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。実施例１

【０１４２】《試料１の作成》アルミ支持体上に下記処
方の感光層を乾燥膜厚が約2μmとなるように塗布し、塗
布後、80℃で3分間乾燥した。〈感光層処方〉化合物（１） 0.20重量部化合物（Ａ） 0.57重量部Ｍ305（ペンタエリスリトールトリアクリレート：東亜合成（株）製） 5.10重量部化合物（Ｂ） 3.65重量部フタル酸−ジ−２−エチルヘキシル 0.28重量部フッ素系界面活性剤（サーフロンＳ−381：旭硝子（株）製） 0.098重量部化合物（Ｃ） 0.002重量部メチルエチルケトン 45重量部プロピレングリコールモノメチルエーテル 45重量部次いで、下記処方の保護層を乾燥膜厚が約２μmとなる
ように塗布した。塗布後、80℃で５分間乾燥した、試料
１を作成した。〈保護層処方〉ポリビニルアルコール 9.9重量部フッ素系界面活性剤（バイエルジャパン（株）製）

【０１４３】

【化５４】 0.098重量部水 90.0重量部

【０１４４】《試料２〜１０の作成》試料１の作成にお
いて、感光層処方における化合物（１）を化合物（２）
〜（１０）に代えた以外は試料１と同様にして、試料２
〜１０を作成した。

【０１４５】《試料１１の作成》試料１の作成におい
て、感光層処方における化合物（Ａ）を化合物（Ｄ）に
代えた以外は試料１と同様にして、試料１１を作成し
た。

【０１４６】《試料１２〜２０の作成》試料１１の作成
において、感光層処方における化合物（１）を化合物
（２）〜（１０）に代えた以外は試料１１と同様にし
て、試料１２〜２０を作成した。

【０１４７】《試料２１の作成》アルミ支持体上に，下
記処方の感光層を乾燥膜厚が約2μmとなるように塗布
し、塗布後、80℃で3分間乾燥した。〈感光層処方〉化合物（Ｅ） 0.20重量部化合物（Ｆ） 0.67重量部Ｍ305（ペンタエリスリトールトリアクリレート：東亜合成（株）製） 5.26重量部化合物（Ｂ） 3.77重量部フッ素系界面活性剤（サーフロンＳ−381：旭硝子（株）製） 0.098重量部化合物（Ｃ） 0.002重量部メチルエチルケトン 45重量部プロピレングリコールモノメチルエーテル 45重量部次いで、下記処方の保護層を乾燥膜厚が約2μmとなるよ
うに塗布した。塗布後、80℃で5分間乾燥した、試料２
１を作成した。〈保護層処方〉ポリビニルアルコール 9.9重量部フッ素系界面活性剤（バイエルジャパン（株）製）

【０１４８】

【化５５】 0.1重量部水 90.0重量部

【０１４９】《試料２２の作成》アルミ支持体上に下記
処方の感光層を乾燥膜厚が約２μmとなるように塗布し
た。塗布後、80℃で3分間乾燥した。〈感光層処方〉化合物（Ｇ） 0.20重量部化合物（Ａ） 0.67重量部Ｍ305（ペンタエリスリトールトリアクリレート：東亜合成（株）製） 5.26重量部化合物（Ｂ） 3.77重量部フッ素系界面活性剤（サーフロンＳ−381:旭硝子(株)製） 0.098重量部化合物（Ｃ） 0.002重量部メチルエチルケトン 45重量部プロピレングリコールモノメチルエーテル 45重量部次いで、下記処方の保護層を乾燥膜厚が約2μmとなるよ
うに塗布した。塗布後、80℃で5分間乾燥した、試料２
２を作成した。〈保護層処方〉ポリビニルアルコール 10重量部水 90重量部

【０１５０】《試料２３の作成》試料２２の作成におい
て、感光層処方における化合物（Ｇ）を化合物（Ｈ）に
代えた以外は試料２２と同様にして、試料２３を作成し
た。

【０１５１】実施例１で用いた化合物は下記の通りであ
る。

【０１５２】

【化５６】

【０１５３】

【化５７】作成した感光性平版印刷版試料１〜２３を、保護層側が
光源側になるように、ドラムに巻き付け、ドラムを回転
しながら、30mWアルゴンイオンレーザーで走査露光し
た。

【０１５４】露光後、10数分経過した後に、自動現像機
に挿入して、現像した。現像液の温度は30℃に保った。
現像剤としてはＳＤＮ−21（コニカ株式会社製）の17％
水溶液を用いた。

【０１５５】《感度の評価》ドラムの回転数を一定にし
て、レーザー光強度の１／e²に相当するところの線幅と
形成された画像の線幅が等しいところの光強度（μW／c
m²）を求め、照射時間との積からエネルギー値を求め
た。

【０１５６】《保存性の評価》55℃、20％ＲＨの雰囲気
下で72時間保存した試料について、上記感度の評価と同
様にしてエネルギー値を求めた。

【０１５７】上記感度の評価で得られたエネルギー値と
差がないもの程、保存性が優れていることを示してい
る。

【０１５８】《スラッジの評価》１リットルの現像液を
用いて、試料10m²を自動現像機によりランニング処理し
た。次いで、ランニング処理した現像液100ミリリット
ルを採取し、55℃、20％ＲＨに保たれた恒温槽中で3日
間保存し、濾紙で濾過した。濾紙上に得られた残渣を10
0℃で6時間放置し、乾燥した。得られた残渣の重量を測
定した。

【０１５９】得られた結果を表１に示す。

【０１６０】

【表１】表１から明らかなように、本発明の化合物を用いた試料
１〜２０は、高い感度を有し、かつ、保存性が優れてお
り、また、スラッジの発生も少ない。

【０１６１】実施例２《試料２４の作成》厚さ0.24mmのアルミニウム板（材質
1050、調質H16）を65℃に保たれた５％水酸化ナトリウ
ム水溶液に浸漬し、1分間脱脂処理を行なった後水洗し
た。この脱脂したアルミニウム板を、25℃に保たれた10
％塩酸水溶液中に1分間浸漬して中和した後水洗した。
次いで、このアルミニウム板を0.3重量％の硝酸水溶液
において、温度25℃、電流密度100Ａ／dm²の条件で交流
電流により60秒間電解粗面化を行なった後、60℃に保た
れた5％水酸化ナトリウム水溶液中で10秒間のデスマッ
ト処理を行なった。デスマット処理を行なった粗面化ア
ルミニウム板を15％硫酸溶液中で、温度25℃、電流密度
10Ａ／dm²、電圧15Ｖの条件で１分間陽極酸化処理を行
ない、更に3％硅酸ソーダ、温度90℃で封孔処理を行な
って支持体を作成した。

【０１６２】得られた支持体上に、下記処方の感光層を
乾燥重量が約1.3ｇ／m²となるように塗布し、塗布後、8
0℃で3分間乾燥した。〈感光層処方〉化合物（Ｊ１） 0.20重量部化合物（Ｋ１） 0.40重量部Ｍ450（ペンタエリスリトールテトラアクリレート：東亜合成（株）社製） 4.47重量部化合物（Ｃ） 1.12重量部フッ素系界面活性（メガファックＦ179：大日本インキ社製） 0.10重量部化合物（Ｄ） 3.11重量部重合禁止剤（スミライザーＧＳ：住友化学社製） 0.02重量部メチルエチルケトン 45重量部プロピレングリコールモノメチルエーテル 45重量部銅フタロシアニン系顔料（平均粒径0.3μm） 0.58重量部次いで、下記処方の保護層を乾燥重量が約1.3ｇ／m²と
なるように塗布し、塗布後、80℃で3分間乾燥し、試料
２４を作成した。〈保護層処方〉ポリビニルアルコール（ゴーセノールＧＬ−05） 9.9重量部フッ素系界面活性剤（メガファックＦ120 大日本インキ社製） 0.1重量部水 90.0重量部

【０１６３】《試料２５〜６３の作成》試料２４の作成
において、表２及び表３に示すように感光層処方におけ
る化合物（Ｊ１）を化合物（Ｊ２）〜（Ｊ３５）に代え
ると共に、表２に示すように化合物（Ｋ２）〜（Ｋ６）
を添加した以外試料２４と同様にして、試料２５〜６３
を作成した。

【０１６４】《試料６４〜７３の作成》試料２４の作成
において、表３に示すように感光層処方における化合物
（Ｊ１）を化合物（ａ１）〜（ａ１０）に代えた以外は
試料２４と同様にして、試料６４〜７３を作成した。

【０１６５】

【表２】

【０１６６】

【表３】

【０１６７】

【化５８】

【０１６８】

【化５９】

【０１６９】

【化６０】

【０１７０】

【化６１】

【０１７１】

【化６２】

【０１７２】

【化６３】

【０１７３】

【化６４】

【０１７４】

【化６５】

【０１７５】

【化６６】

【０１７６】

【化６７】化合物（Ｃ）及び化合物（Ｄ）は実施例１に記載のもの
である。

【０１７７】作成した試料２４〜７３について、下記に
より、現像性、耐刷性、感度及び保存性を評価した。

【０１７８】《現像性及び耐刷性の評価》試料２４〜７
３を、ＵｇｒａプレートコントロールウェッジＰＣＷ82
（ミカ電子（株）社製）を用い、明室プリンター〔大日
本スクリーン（株）社製Ｐ−627−ＨＡ〕で露光し
た。露光量はウェッジの3段がクリアとなる露光量とし
た。露光後、下記現像液−１を用い、30℃で30秒間現像
し、水洗した。

【０１７９】得られた平版印刷版を用い、印刷機（ハイ
デルＧＴＯ）で、コート紙、印刷インキ（東洋インキ製
造（株）社製：ハイプラスＭ紅）及び湿し水（コニカ
（株）社製：ＳＥＵ−３ 2.5％水溶液）を用いて印刷
を行い、印刷初期段階（3000枚程の時点）での印刷物の
非画像部の汚れを観察し、下記の評価基準で現像性を評
価した。〈現像性の評価基準〉 ○；汚れがなく、完全に現像されている △；汚れがあり、現像されていない部分があるまた、印刷物のベタ部にインキ着肉不良が発生するまで
印刷を続け印刷枚数を数え、耐刷性を評価した。

【０１８０】《感度の評価》実施例１と同様にして評価
した。《保存性の評価》実施例１と同様にして評価した。

【０１８１】

【表４】

【０１８２】

【表５】

【０１８３】表４及び表５から明らかなように、一般式
（１ｄ）及び一般式（１ｅ）で表される化合物を用いた
試料２４〜６３は、高い感度を有し、かつ、保存性が優
れており、また、現像性及び耐刷性においても優れてい
る。

【０１８４】

【発明の効果】本発明の一般式（１ａ）、一般式（１
ｂ）、一般式（１ｃ）、一般式（１ｄ）、一般式（１
ｅ）、一般式（２）、一般式（３）で表される化合物を
用いた光重合性組成物は、高い感度を有し、保存性が優
れており、未露光部感光層の現像液に対する溶解性が高
く現像性に優れており、現像時にスラッジの発生が少な
い。特に、一般式（１ｃ）で表される化合物を用いた光
重合性組成物は、未露光部感光層の現像液に対する溶解
性が高く現像性に優れており、現像時にスラッジの発生
が少なく、また、一般式（１ｄ）、一般式（１ｅ）で表
される化合物を用いた光重合性組成物は、さらに、耐刷
性において優れている。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｇ０３Ｆ 7/027 ５０２Ｇ０３Ｆ 7/027 ５０２ 7/029 7/029 7/11 ５０１ 7/11 ５０１ 7/30 7/30 (72)発明者川上壮太東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（ａ）エチレン性不飽和結合を分子中に
少なくとも１個有する光重合又は光架橋可能な化合物、
（ｂ）下記一般式（１ａ）で表される化合物及び（ｃ）
有機過酸化物を含有することを特徴とする光重合性組成
物。【化１】［式中、Ａ_aは、フルオロ置換アルキル基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アリール基、シアノ基、環を構
成する炭素原子とヘテロ原子の総数が５〜15個の複素環
基、−Ｚ_a−Ｒ_6a（Ｒ_6aは、炭素原子数１〜10のアルキ
ル基、炭素原子数１〜10のアルケニル基、炭素原子数１
〜10のアルコキシ基、炭素原子数６〜12のアリール基、
炭素原子数６〜12のアリールオキシ基、環を構成する炭
素原子とヘテロ原子の総数が５〜15の複素環基、水酸基
を表し、Ｚ_aは、カルボニル基、アミド基、ウレイド
基、カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、
アリーレンジカルボニル基を表す。）を表す。Ｒ_1aは、
水素原子、シアノ基、炭素原子数１〜４のアルキル基、
炭素原子数６〜12のアリール基、環を構成する炭素原子
とヘテロ原子の総数が５〜15の複素環基を表し、Ｒ_2a〜
Ｒ_5aは、水素原子、モノアルキルアミノ基、アリールア
ミノ基、アシル基、カルボン酸基、アルキルオキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリール基、
アシルアミノ基、アルキルウレイド基、アリールウレイ
ド基を表す。（ただし、Ｒ_2a〜Ｒ_5aは同時に水素原子で
あることはない。）］
【請求項２】（ａ）エチレン性不飽和結合を分子中に
少なくとも１個有する光重合又は光架橋可能な化合物、
（ｂ）下記一般式（１ｂ）で表される化合物及び（ｃ）
有機過酸化物を含有することを特徴とする光重合性組成
物。【化２】［式中、Ａ_bは、フルオロ置換アルキル基、アリールオ
キシ基、アリール基、−Ｚ_b−Ｒ_6b（Ｒ_6bは、炭素原子
数１〜10のアルキル基、炭素原子数１〜10のアルケニル
基、炭素原子数１〜10のアルコキシ基、炭素原子数６〜
12のアリール基、炭素原子数６〜12のアリールオキシ
基、環を構成する炭素原子とヘテロ原子の総数が５〜15
個の複素環基、水酸基を表し、Ｚ_bは、アミド基、ウレ
イド基、カルバモイル基を表す。）を表す。Ｒ_1bは、水
素原子、シアノ基、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭
素原子数６〜12のアリール基、環を構成する炭素原子と
ヘテロ原子の総数が５〜15の複素環基を表し、Ｒ_2b〜Ｒ
_5bは、水素原子、ハロゲン、アルコキシ基、アルケニル
オキシ基、アルキルチオ基、ジアルキルアミノ基、水酸
基、ニトロ基、アシルオキシ基、５員又は６員の複素環
基、５員又は６員の複素環を有する縮合環基、モノアル
キルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、カルボン
酸基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、アリール基、アシルアミノ基、アルキルウ
レイド基、アリールウレイド基を表す。］
【請求項３】（ａ）エチレン性不飽和結合を分子中に
少なくとも１個有する光重合又は光架橋可能な化合物、
（ｂ）下記一般式（１ｃ）で表される化合物及び（ｃ）
有機過酸化物を含有することを特徴とする光重合性組成
物。【化３】［式中、Ａ_cは、フルオロ置換アルキル基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アリール基、シアノ基、環を構
成する炭素原子とヘテロ原子の総数が５〜15個の複素環
基、−Ｚ_c−Ｒ_6c（Ｒ_6cは、炭素原子数１〜10のアルキ
ル基、炭素原子数１〜10のアルケニル基、炭素原子数１
〜10のアルコキシ基、炭素原子数６〜12のアリール基、
炭素原子数６〜12のアリールオキシ基、環を構成する炭
素原子とヘテロ原子の総数が５〜15の複素環基、水酸基
を表し、Ｚ_cは、アミド基、ウレイド基、カルバモイル
基、スルホニル基、スルフィニル基、アリーレンジカル
ボニル基を表す。）表す。Ｒ_1cは、水素原子、シアノ
基、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数６〜12
のアリール基、環を構成する炭素原子とヘテロ原子の総
数が５〜15の複素環基を表し、Ｒ_2c〜Ｒ_5cは、水素原
子、ハロゲン、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、ア
ルキルチオ基、ジアルキルアミノ基、水酸基、ニトロ
基、アシルオキシ基、５員又は６員の複素環基、５員又
は６員の複素環を有する縮合環基、モノアルキルアミノ
基、アリールアミノ基、アシル基、カルボン酸基、アル
キルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、アリール基、アシルアミノ基、アルキルウレイド
基、アリールウレイド基を表す。（ただし、Ａ_c、Ｒ_1c
〜Ｒ_5cの内少なくとも１つは、カルボン酸基で置換され
た芳香族環基、または、置換又は非置換のアミノ基で置
換された芳香族環基を有する。）］
【請求項４】（ａ）エチレン性不飽和結合を分子中に
少なくとも１個有する光重合又は光架橋可能な化合物、
（ｂ）下記一般式（１ｄ）で表される化合物及び（ｃ）
有機過酸化物を含有することを特徴とする光重合性組成
物。【化４】［式中、Ａ_dは、炭素原子及びヘテロ原子の総数が10個
以上の複素環基を表す。Ｒ_1dは、水素原子、シアノ基、
炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数６〜12のア
リール基、環を構成する炭素原子とヘテロ原子の総数が
５〜15の複素環基を表し、Ｒ_2d〜Ｒ_5dは、水素原子、ア
ルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、カルボ
ン酸基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、アリール基、アシルアミノ基、アルキル
ウレイド基、アリールウレイド基を表す。（ただし、Ｒ
_2d〜Ｒ_5dは同時に水素原子であることはない。）］
【請求項５】（ａ）エチレン性不飽和結合を分子中に
少なくとも１個有する光重合又は光架橋可能な化合物、
（ｂ）下記一般式（１ｅ）で表される化合物及び（ｃ）
有機過酸化物を含有することを特徴とする光重合性組成
物。【化５】［式中、Ａ_eは、炭素原子及びヘテロ原子の総数が10個
以上の複素環基を表す。Ｒ_1eは、水素原子、シアノ基、
炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数６〜12のア
リール基、環を構成する炭素原子とヘテロ原子の総数が
５〜15の複素環基を表し、Ｒ_2e、Ｒ_3e、Ｒ_5eは、水素原
子、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、
カルボン酸基、アルキルオキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基、アリール基、アシルアミノ基、ア
ルキルウレイド基、アリールウレイド基を表す。（ただ
し、Ｒ_2e、Ｒ_3e、Ｒ_5eは同時に水素原子であることはな
い。）Ｒ_4bは、下記構造のアミノ基を表す。【化６】（式中、Ｒ_10e、Ｒ_11eは、それぞれ、アルキル基、アリ
ール基を表す。）］
【請求項６】（ａ）エチレン性不飽和結合を分子中に
少なくとも１個有する光重合又は光架橋可能な化合物、
（ｂ）下記一般式（２）又は（３）で表される化合物及
び（ｃ）有機過酸化物を含有することを特徴とする光重
合性組成物。【化７】［式中、Ａは、フルオロ置換アルキル基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アリール基、環を構成する炭素
原子とヘテロ原子の総数が５〜15の複素環基、−Ｚ−Ｒ
₆（Ｒ₆は、炭素原子数１〜10のアルキル基、炭素原子数
１〜10のアルケニル基、炭素原子数１〜10のアルコキシ
基、炭素原子数６〜12のアリール基、炭素原子数６〜12
のアリールオキシ基、環を構成する炭素原子とヘテロ原
子の総数が５〜15の複素環基、水酸基を表し、Ｚは、ア
ミド基、アルキルアミド基、アリールアミド基、ウレイ
ド基、カルバモイル基を表す。）を表す。Ｒ₁は、水素
原子、シアノ基、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素
原子数６〜12のアリール基、環を構成する炭素原子とヘ
テロ原子の総数が５〜15の複素環基を表す。Ｒ₂及びＲ₅
は、水素原子、ハロゲン、アルコキシ基、アルケニルオ
キシ基、アルキルチオ基、ジアルキルアミノ基、水酸
基、ニトロ基、アシルオキシ基、５員又は６員の複素環
基、５員又は６員の複素環を有する縮合環基を表す。Ｒ
₇〜Ｒ₁₈及びＲ₁₉〜Ｒ₃₀は、水素原子、モノアルキルア
ミノ基、アリールアミノ基、アシル基、カルボン酸基、
アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アリール基、アシルアミノ基、アルキルウレイド
基、アリールウレイド基を表す。］
【請求項７】有機過酸化物が下記式で表される化合物
であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載
の光重合性組成物。【化８】
【請求項８】フタル酸エステル、脂肪族二塩基酸エス
テル、リン酸エステルの少なくとも１つを0.5〜20重量
％含有させたことを特徴とする請求項１〜７のいずれか
に記載の光重合性組成物。
【請求項９】アルミ支持体上に、請求項１〜８のいず
れかに記載の光重合性組成物からなる層を設け、さらに
上層に、25℃で水に１％以上溶解する水溶性樹脂を含有
する保護層を設けたことを特徴とする感光性平版印刷
版。
【請求項１０】保護層中に、分子中にフッ素原子を少
なくとも１つ含有する化合物を0.1〜５重量％含有させ
たことを特徴とする請求項９記載の感光性平版印刷版。
【請求項１１】水溶性樹脂がポリビニルアルコール、
ポリビニルアセタール、ポリサッカライドであることを
特徴とする請求項９または１０記載の感光性平版印刷
版。
【請求項１２】請求項９〜１１のいずれかに記載の感
光性平版印刷版に、レーザー光を像様に照射し、次い
で、現像することを特徴とする画像形成方法。