JPH08334769A - ラビング布、及びそれを用いたラビング装置 - Google Patents
ラビング布、及びそれを用いたラビング装置Info
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- JPH08334769A JPH08334769A JP7164751A JP16475195A JPH08334769A JP H08334769 A JPH08334769 A JP H08334769A JP 7164751 A JP7164751 A JP 7164751A JP 16475195 A JP16475195 A JP 16475195A JP H08334769 A JPH08334769 A JP H08334769A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】配向制御膜の表面に凹凸が形成されていても、
また画素が小さくても、均一に配向処理を行なう。 【構成】レーヨンフィラメントを捩って紡績糸を形成し
ているため、紡績糸の反撥弾性が向上される。また、紡
績糸の側面には微細な凹凸構造が形成される。さらに、
パイル先端の位置（高さ）が不均一となるように形成さ
れている。したがって、配向制御膜の凹凸に紡績糸が追
従され、ほぼ均一な圧力で紡績糸が配向制御膜表面に擦
り付けられる。
また画素が小さくても、均一に配向処理を行なう。 【構成】レーヨンフィラメントを捩って紡績糸を形成し
ているため、紡績糸の反撥弾性が向上される。また、紡
績糸の側面には微細な凹凸構造が形成される。さらに、
パイル先端の位置（高さ）が不均一となるように形成さ
れている。したがって、配向制御膜の凹凸に紡績糸が追
従され、ほぼ均一な圧力で紡績糸が配向制御膜表面に擦
り付けられる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶素子の配向制御膜
にラビング処理を施すラビング布及びそれを用いたラビ
ング装置に係り、詳しくはラビング布のパイルの形状に
関する。
にラビング処理を施すラビング布及びそれを用いたラビ
ング装置に係り、詳しくはラビング布のパイルの形状に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、液晶素子については種々提案
されている。
されている。
【０００３】この種の液晶素子Ｐは、図１に示すよう
に、平行に配置された一対の電極基板１０ａ，１０ｂを
備えている。これらの電極基板１０ａ，１０ｂはそれぞ
れガラス基板１１ａ，１１ｂを有しており、各ガラス基
板１１ａ，１１ｂの表面には、ＩＴＯ等の透明電極１２
ａ，…，１２ｂ，…がストライプ状に多数形成されてい
る。また、これらの透明電極１２ａ，…，１２ｂ，…
は、絶縁膜１３ａ，１３ｂや配向制御膜１４ａ，１４ｂ
によって被覆されており、基板間隙には液晶１５が挟持
されている。なお、この基板間隙には多数のスペーサ１
６，…や接着剤微粒子１８，…が配置されて、該間隙が
規定されている。
に、平行に配置された一対の電極基板１０ａ，１０ｂを
備えている。これらの電極基板１０ａ，１０ｂはそれぞ
れガラス基板１１ａ，１１ｂを有しており、各ガラス基
板１１ａ，１１ｂの表面には、ＩＴＯ等の透明電極１２
ａ，…，１２ｂ，…がストライプ状に多数形成されてい
る。また、これらの透明電極１２ａ，…，１２ｂ，…
は、絶縁膜１３ａ，１３ｂや配向制御膜１４ａ，１４ｂ
によって被覆されており、基板間隙には液晶１５が挟持
されている。なお、この基板間隙には多数のスペーサ１
６，…や接着剤微粒子１８，…が配置されて、該間隙が
規定されている。
【０００４】ところで、このような液晶素子Ｐにおいて
は、液晶１５を配向させるために、配向制御膜１４ａ，
１４ｂの表面に配向処理が施されている。その配向処理
の方法としてラビング処理が一般的に利用されており、
配向制御膜１４ａ，１４ｂの表面にラビング布を擦り付
けて配向規制力を付与する方法が採られている。
は、液晶１５を配向させるために、配向制御膜１４ａ，
１４ｂの表面に配向処理が施されている。その配向処理
の方法としてラビング処理が一般的に利用されており、
配向制御膜１４ａ，１４ｂの表面にラビング布を擦り付
けて配向規制力を付与する方法が採られている。
【０００５】このラビング布にはベルベットが用いられ
ている。このラビング布２０は、図２に詳示するよう
に、基布２１を備えており、この基布２１には多数のパ
イル２２，…が高密度で植設されている。そして、各パ
イル２２，…は、短繊維である多数のフィラメント糸
（例えば、レーヨンフィラメント）２３，…によって構
成されており、フィラメント糸２３，…は互いに捩じれ
ていない状態で配置されている（図３参照）。なお、こ
のラビング布２０には、織って作られたものと、静電植
毛法によって作られたものとがある。
ている。このラビング布２０は、図２に詳示するよう
に、基布２１を備えており、この基布２１には多数のパ
イル２２，…が高密度で植設されている。そして、各パ
イル２２，…は、短繊維である多数のフィラメント糸
（例えば、レーヨンフィラメント）２３，…によって構
成されており、フィラメント糸２３，…は互いに捩じれ
ていない状態で配置されている（図３参照）。なお、こ
のラビング布２０には、織って作られたものと、静電植
毛法によって作られたものとがある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
液晶素子Ｐにおいては、近年、大型化・高密度化の要求
が高まっており、透明電極１２ａ，…，１２ｂ，…の表
面に金属電極が形成されたものや、アクティブ素子が形
成されたものがある。このようなものにあっては、配向
制御膜１４ａ，１４ｂの表面に金属電極等に伴う凹凸が
形成されてしまい、或は画素も小さくなり、ラビング処
理の際にパイル２２，…の当接力が一定ではなくなり、
配向規制力を均一に付与できないという問題があった。
液晶素子Ｐにおいては、近年、大型化・高密度化の要求
が高まっており、透明電極１２ａ，…，１２ｂ，…の表
面に金属電極が形成されたものや、アクティブ素子が形
成されたものがある。このようなものにあっては、配向
制御膜１４ａ，１４ｂの表面に金属電極等に伴う凹凸が
形成されてしまい、或は画素も小さくなり、ラビング処
理の際にパイル２２，…の当接力が一定ではなくなり、
配向規制力を均一に付与できないという問題があった。
【０００７】なお、このような液晶素子においても均一
にラビング処理を行なうには、ラビング布２０のパイル
２２，…を細く高密度に形成すると共に、パイル長さを
短くすれば良いが、パイル長さを短くするのは、機械精
度上限界があった。
にラビング処理を行なうには、ラビング布２０のパイル
２２，…を細く高密度に形成すると共に、パイル長さを
短くすれば良いが、パイル長さを短くするのは、機械精
度上限界があった。
【０００８】そこで、本発明は、配向制御膜の表面に凹
凸があっても、また画素面積が小さくても、均一な配向
処理を行ない、画像品質に優れた液晶素子を得ることが
できるラビング布を提供することを目的とするものであ
る。
凸があっても、また画素面積が小さくても、均一な配向
処理を行ない、画像品質に優れた液晶素子を得ることが
できるラビング布を提供することを目的とするものであ
る。
【０００９】また、本発明は、均一な配向処理を行な
い、画像品質に優れた液晶素子を得ることができるラビ
ング装置を提供することを目的とするものである。
い、画像品質に優れた液晶素子を得ることができるラビ
ング装置を提供することを目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述事情に鑑
みなされたものであって、基布と、該基布に多数植設さ
れてなるパイルと、を備え、かつ、該パイルを配向制御
膜の表面に擦り付けることによって該配向制御膜にラビ
ング処理を施すラビング布において、前記パイルが多数
のフィラメントから構成され、かつ、それら多数のフィ
ラメントが互いに捩じれて前記パイルを構成する、こと
を特徴とする。この場合、前記パイルの先端位置が不均
一となるように形成されてなる、ようにすると好まし
い。
みなされたものであって、基布と、該基布に多数植設さ
れてなるパイルと、を備え、かつ、該パイルを配向制御
膜の表面に擦り付けることによって該配向制御膜にラビ
ング処理を施すラビング布において、前記パイルが多数
のフィラメントから構成され、かつ、それら多数のフィ
ラメントが互いに捩じれて前記パイルを構成する、こと
を特徴とする。この場合、前記パイルの先端位置が不均
一となるように形成されてなる、ようにすると好まし
い。
【００１１】また、本発明に係るラビング装置は、上述
したラビング布と、該ラビング布が外周面に貼付された
ラビングローラと、該ラビングローラを回転駆動する駆
動装置と、を備え、配向制御膜を前記ラビング布に押し
付けた状態で、該配向制御膜又は前記ラビングローラの
いずれか一方若しくは両方を移動し、かつ、前記駆動装
置によって前記ラビングローラを回転駆動する、ことを
特徴とする。
したラビング布と、該ラビング布が外周面に貼付された
ラビングローラと、該ラビングローラを回転駆動する駆
動装置と、を備え、配向制御膜を前記ラビング布に押し
付けた状態で、該配向制御膜又は前記ラビングローラの
いずれか一方若しくは両方を移動し、かつ、前記駆動装
置によって前記ラビングローラを回転駆動する、ことを
特徴とする。
【００１２】
【作用】以上構成に基づき、パイルは、多数のフィラメ
ントが互いに捩じれて構成されているため、反撥弾性が
向上され、また、その側面には微細な凹凸構造が形成さ
れている。そして、このようなパイルを配向制御膜に擦
り付けると、該配向制御膜の表面に凹凸が形成されてい
ても、パイルは凹凸に追従する。
ントが互いに捩じれて構成されているため、反撥弾性が
向上され、また、その側面には微細な凹凸構造が形成さ
れている。そして、このようなパイルを配向制御膜に擦
り付けると、該配向制御膜の表面に凹凸が形成されてい
ても、パイルは凹凸に追従する。
【００１３】
【実施例】以下、図面に沿って、本発明の実施例につい
て説明する。なお、図１に示すものと同一部分は同一符
号を付して説明を省略する。
て説明する。なお、図１に示すものと同一部分は同一符
号を付して説明を省略する。
【００１４】まず、本発明の第１実施例について、図４
乃至図６に沿って説明する。
乃至図６に沿って説明する。
【００１５】本実施例に係るラビング布３０は、図４に
示すように、基布を備えており、この基布には多数の紡
績糸（パイル）が植毛されている。また、これらの紡績
糸は、多数のレーヨンフィラメントが互いに捩られるよ
うにして構成されており、紡績糸の側面には微細な凹凸
構造が形成されている（図５(b) 参照）。また、本実施
例においては、パイル先端の位置（高さ）が不均一とな
るように形成されている。
示すように、基布を備えており、この基布には多数の紡
績糸（パイル）が植毛されている。また、これらの紡績
糸は、多数のレーヨンフィラメントが互いに捩られるよ
うにして構成されており、紡績糸の側面には微細な凹凸
構造が形成されている（図５(b) 参照）。また、本実施
例においては、パイル先端の位置（高さ）が不均一とな
るように形成されている。
【００１６】次に、本実施例の作用について説明する。
【００１７】本実施例によれば、レーヨンフィラメント
を捩って紡績糸を形成しているため、紡績糸の反撥弾性
が向上される。また、紡績糸の側面には微細な凹凸構造
が形成される。
を捩って紡績糸を形成しているため、紡績糸の反撥弾性
が向上される。また、紡績糸の側面には微細な凹凸構造
が形成される。
【００１８】さらに、パイル先端の位置（高さ）が不均
一となるように形成されているため、配向制御膜の凹凸
に紡績糸が追従され、ほぼ均一な圧力で紡績糸が配向制
御膜表面に擦り付けられる。
一となるように形成されているため、配向制御膜の凹凸
に紡績糸が追従され、ほぼ均一な圧力で紡績糸が配向制
御膜表面に擦り付けられる。
【００１９】次に、本実施例の効果について説明する。
【００２０】本実施例によれば、一つの画素が小さく、
金属電極に起因する凹凸が配向制御膜の表面に形成され
ている液晶素子であっても均一なラビング処理が行なえ
る。したがって、画像品質に優れた液晶素子を得ること
ができる。
金属電極に起因する凹凸が配向制御膜の表面に形成され
ている液晶素子であっても均一なラビング処理が行なえ
る。したがって、画像品質に優れた液晶素子を得ること
ができる。
【００２１】なお、本発明者は、実験により本実施例の
効果を確かめた。以下、該実験の内容について説明す
る。
効果を確かめた。以下、該実験の内容について説明す
る。
【００２２】本実験を行なうに際しては、図６に示す構
造の電極基板４０を多数作成した。この電極基板４０に
おいては、透明電極１２，…には７００Åの厚さのＩＴ
Ｏを用いており、透明電極１２，…の表面に金属電極４
１，…を形成した。なお、金属電極４１，…の厚さは、
０Å、５００Å、１０００Å、２０００Å、３０００Å
の５種類とした。そして、配向制御膜（不図示）の表面
にラビング処理を施した。この処理に用いたラビング布
は、従来構造のものと本実施例に係るものとの２種類と
した。また、使用したラビング布は、 レーヨン ；２．５デニール（ユニチカ製）、 パイル長 ；２．５mm、 密度 ；約２０万本／inch2 、 基布 ；ポリエステル綾織、 バックコート；ポリウレタン樹脂 とした。そして、ラビング処理後、ラビング処理の施さ
れた電極基板４０，４０を用いて液晶素子を作成し、液
晶の配向状態を観察した。その観察結果を表１に示す。
この実験より、本実施例に係るラビング布を使用した場
合、金属電極４１，…の厚さが２０００Åであっても均
一な配向状態を得られることが確認された。
造の電極基板４０を多数作成した。この電極基板４０に
おいては、透明電極１２，…には７００Åの厚さのＩＴ
Ｏを用いており、透明電極１２，…の表面に金属電極４
１，…を形成した。なお、金属電極４１，…の厚さは、
０Å、５００Å、１０００Å、２０００Å、３０００Å
の５種類とした。そして、配向制御膜（不図示）の表面
にラビング処理を施した。この処理に用いたラビング布
は、従来構造のものと本実施例に係るものとの２種類と
した。また、使用したラビング布は、 レーヨン ；２．５デニール（ユニチカ製）、 パイル長 ；２．５mm、 密度 ；約２０万本／inch2 、 基布 ；ポリエステル綾織、 バックコート；ポリウレタン樹脂 とした。そして、ラビング処理後、ラビング処理の施さ
れた電極基板４０，４０を用いて液晶素子を作成し、液
晶の配向状態を観察した。その観察結果を表１に示す。
この実験より、本実施例に係るラビング布を使用した場
合、金属電極４１，…の厚さが２０００Åであっても均
一な配向状態を得られることが確認された。
【００２３】
【表１】 ○；均一配向 △；一部（金属電極縁部に相当する部分）に配向不良発
生 Ｘ；金属電極を形成した部分全体に配向不良発生 次に、本実施例に係るラビング装置について、図７に沿
って説明する。
生 Ｘ；金属電極を形成した部分全体に配向不良発生 次に、本実施例に係るラビング装置について、図７に沿
って説明する。
【００２４】ラビング装置５０は、回転自在に支持され
たラビングローラ５１を備えており、このローラ５１の
外周面には上述したラビング布３０が貼付されている。
また、ラビングローラ５１には、駆動装置としてのモー
タ５２が接続されており、ラビングローラ５１が回転駆
動されるように構成されている。また、ラビング処理に
際しては電極基板４０が図示Ａの方向に移動され、ラビ
ング布３０が電極基板表面（正確には、配向制御膜の表
面）を摺接することによりラビング処理が施されるよう
に構成されている。
たラビングローラ５１を備えており、このローラ５１の
外周面には上述したラビング布３０が貼付されている。
また、ラビングローラ５１には、駆動装置としてのモー
タ５２が接続されており、ラビングローラ５１が回転駆
動されるように構成されている。また、ラビング処理に
際しては電極基板４０が図示Ａの方向に移動され、ラビ
ング布３０が電極基板表面（正確には、配向制御膜の表
面）を摺接することによりラビング処理が施されるよう
に構成されている。
【００２５】なお、上述実施例においては電極基板４０
を移動しながらラビング処理を行なうこととしたが、も
ちろんこれに限る必要はなく、電極基板４０を静止させ
た状態でラビングローラ５１を移動させるようにしても
よい。また、電極基板４０及びラビングローラ５１を逆
方向に互いに移動させるようにしてもよい。
を移動しながらラビング処理を行なうこととしたが、も
ちろんこれに限る必要はなく、電極基板４０を静止させ
た状態でラビングローラ５１を移動させるようにしても
よい。また、電極基板４０及びラビングローラ５１を逆
方向に互いに移動させるようにしてもよい。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
配向制御膜の表面に凹凸があっても、また画素面積が小
さくても、均一な配向処理を行なうことができ、画像品
質に優れた液晶素子を得ることができる。
配向制御膜の表面に凹凸があっても、また画素面積が小
さくても、均一な配向処理を行なうことができ、画像品
質に優れた液晶素子を得ることができる。
【図１】液晶素子の構造を説明するための断面図。
【図２】従来のラビング布の構造を説明するための図。
【図３】従来のパイルの繊維形状を示した図面に代わる
写真。
写真。
【図４】本発明におけるパイル（紡績糸）の繊維形状を
示した図面に代わる写真。
示した図面に代わる写真。
【図５】パイル側面の繊維形状を示した図面に代わる写
真であり、(a) は従来のもの、(b) は本発明に係るも
の。
真であり、(a) は従来のもの、(b) は本発明に係るも
の。
【図６】(a) は実験に用いた電極基板の構成を示す斜視
図、(b) はその断面図、(c) は上下に相対向する電極の
位置関係を示す図。
図、(b) はその断面図、(c) は上下に相対向する電極の
位置関係を示す図。
【図７】ラビング装置の構造を説明するための模式図。
１４ａ，１４ｂ 配向制御膜 ３０ ラビング布 ２１ 基布 ２２ パイル ２３ フィラメント Ｐ 液晶素子 ５０ ラビング装置 ５１ ラビングローラ ５２ モータ（駆動装置）
Claims (3)
- 【請求項１】 基布と、該基布に多数植設されてなるパ
イルと、を備え、かつ、該パイルを配向制御膜の表面に
擦り付けることによって該配向制御膜にラビング処理を
施すラビング布において、 前記パイルが多数のフィラメントから構成され、かつ、 それら多数のフィラメントが互いに捩じれて前記パイル
を構成する、 ことを特徴とするラビング布。 - 【請求項２】 前記パイルの先端位置が不均一となるよ
うに形成されてなる、 請求項１記載のラビング布。 - 【請求項３】 請求項１又は２に記載のラビング布と、 該ラビング布が外周面に貼付されたラビングローラと、 該ラビングローラを回転駆動する駆動装置と、を備え、 配向制御膜を前記ラビング布に押し付けた状態で、該配
向制御膜又は前記ラビングローラのいずれか一方若しく
は両方を移動し、かつ、 前記駆動装置によって前記ラビングローラを回転駆動す
る、 ことを特徴とするラビング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7164751A JPH08334769A (ja) | 1995-06-06 | 1995-06-06 | ラビング布、及びそれを用いたラビング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7164751A JPH08334769A (ja) | 1995-06-06 | 1995-06-06 | ラビング布、及びそれを用いたラビング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08334769A true JPH08334769A (ja) | 1996-12-17 |
Family
ID=15799233
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7164751A Pending JPH08334769A (ja) | 1995-06-06 | 1995-06-06 | ラビング布、及びそれを用いたラビング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08334769A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100450538B1 (ko) * | 2001-11-22 | 2004-10-01 | 하야시 텔렘프 가부시끼가이샤 | 배향 처리용 러빙천 |
| KR100477907B1 (ko) * | 2001-11-22 | 2005-03-22 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 액정 표시 장치의 제조 방법 및 액정 표시 장치 |
-
1995
- 1995-06-06 JP JP7164751A patent/JPH08334769A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100450538B1 (ko) * | 2001-11-22 | 2004-10-01 | 하야시 텔렘프 가부시끼가이샤 | 배향 처리용 러빙천 |
| KR100477907B1 (ko) * | 2001-11-22 | 2005-03-22 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 액정 표시 장치의 제조 방법 및 액정 표시 장치 |
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