JPH08329441A - 磁気ヘッドのスライダーの浮上面の研摩方法 - Google Patents
磁気ヘッドのスライダーの浮上面の研摩方法Info
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- JPH08329441A JPH08329441A JP15569796A JP15569796A JPH08329441A JP H08329441 A JPH08329441 A JP H08329441A JP 15569796 A JP15569796 A JP 15569796A JP 15569796 A JP15569796 A JP 15569796A JP H08329441 A JPH08329441 A JP H08329441A
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- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】スライダーの浮上面の加工精度とラップ定盤の
形状を考慮すること。 【解決手段】 ラップ定盤の研摩面が、ラップ定盤及び
磁気ヘッドのスライダーの大きさと該スライダーの浮上
面に要求される平面図に基づき適宜の曲率をもつと共に
研摩面の外周部と中央部とを結ぶ直線に対してスライダ
ーと接触し得る範囲の最も高い部分である有効研摩部の
肉厚寸法を適宜に設定した円弧状に形成されたラップ定
盤を用い、このラップ定盤を軸周りに回転しながら研摩
面に対してスライダーを内蔵した修正輪の底面を押圧す
る共に、該スライダーと修正輪との双方を回転させるこ
とにより、スライダーの浮上面を平面に研摩し、且つ修
正輪によりラップ定盤の研摩面を修正するようにしたも
の。
形状を考慮すること。 【解決手段】 ラップ定盤の研摩面が、ラップ定盤及び
磁気ヘッドのスライダーの大きさと該スライダーの浮上
面に要求される平面図に基づき適宜の曲率をもつと共に
研摩面の外周部と中央部とを結ぶ直線に対してスライダ
ーと接触し得る範囲の最も高い部分である有効研摩部の
肉厚寸法を適宜に設定した円弧状に形成されたラップ定
盤を用い、このラップ定盤を軸周りに回転しながら研摩
面に対してスライダーを内蔵した修正輪の底面を押圧す
る共に、該スライダーと修正輪との双方を回転させるこ
とにより、スライダーの浮上面を平面に研摩し、且つ修
正輪によりラップ定盤の研摩面を修正するようにしたも
の。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
に使用される磁気ヘッドの浮上面を高精度の平面に加工
するのに好適な磁気ヘッドのスライダーの浮上面の研摩
方法に関する。
に使用される磁気ヘッドの浮上面を高精度の平面に加工
するのに好適な磁気ヘッドのスライダーの浮上面の研摩
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気ディスク装置は記録密度の増
加に伴ない、磁気ディスク面に対する磁気ヘッドの浮上
量が増々狭小化する傾向にある。このように磁気ヘッド
の浮上量を狭小化するためには、図９に示すように、磁
気ディスク面上に微小な間隙をもって浮上する磁気ヘッ
ドＨの浮上面の平面度を高精度に加工することが必要で
ある。
加に伴ない、磁気ディスク面に対する磁気ヘッドの浮上
量が増々狭小化する傾向にある。このように磁気ヘッド
の浮上量を狭小化するためには、図９に示すように、磁
気ディスク面上に微小な間隙をもって浮上する磁気ヘッ
ドＨの浮上面の平面度を高精度に加工することが必要で
ある。
【０００３】換言すれば、近年の磁気ディスク装置は、
記録密度の増加に伴なって磁気ディスク面に対する磁気
ヘッドの浮上量が増々狭小化する傾向にあり、この磁気
ヘッドは、磁気ディスクの高速回転により生じる空気粘
性流によって浮上力を発生する磁気ヘッドスライダー
と、該磁気ヘッドスライダーの後端に配置されてデータ
の記録再生を行う磁気ヘッド素子とから構成される。こ
の磁気ヘッドの浮上量を狭小化するためには、図９
（ａ）（ｂ）に示すように、磁気ディスク面上に微小な
間隙をもって浮上する磁気ヘッドスライダーＨの浮上面
の平面度を高精度に所定マージン内（平面度０．０５μ
ｍ以下）に加工することが必要である。この磁気ヘッド
スライダーは、出願人が先に出願した特願昭６２−２１
７１８号（特開昭６３−１９１３０９号公報）に記載し
た如く、研摩時、複数個のものが一体となってブロック
化されたもので同時に研摩され、その研摩後、各々切断
され、かつ所望形状に形成された後に磁気ヘッド素子の
組付け及び配線が施されることにより磁気ヘッドを構成
する。
記録密度の増加に伴なって磁気ディスク面に対する磁気
ヘッドの浮上量が増々狭小化する傾向にあり、この磁気
ヘッドは、磁気ディスクの高速回転により生じる空気粘
性流によって浮上力を発生する磁気ヘッドスライダー
と、該磁気ヘッドスライダーの後端に配置されてデータ
の記録再生を行う磁気ヘッド素子とから構成される。こ
の磁気ヘッドの浮上量を狭小化するためには、図９
（ａ）（ｂ）に示すように、磁気ディスク面上に微小な
間隙をもって浮上する磁気ヘッドスライダーＨの浮上面
の平面度を高精度に所定マージン内（平面度０．０５μ
ｍ以下）に加工することが必要である。この磁気ヘッド
スライダーは、出願人が先に出願した特願昭６２−２１
７１８号（特開昭６３−１９１３０９号公報）に記載し
た如く、研摩時、複数個のものが一体となってブロック
化されたもので同時に研摩され、その研摩後、各々切断
され、かつ所望形状に形成された後に磁気ヘッド素子の
組付け及び配線が施されることにより磁気ヘッドを構成
する。
【０００４】前記磁気ヘッドＨの浮上面の平面度を高精
度に加工するため、発明者らは図１０に示すように、上
面である研摩面１’が真平らに形成された円板形状のラ
ップ定盤１を駆動軸２に取付け、そのラップ定盤１の研
摩面１’に、ワーク貼付け治具３に貼付けられた磁気ヘ
ッドのスライダー４と修正輪５とを載せ、ラップ定盤１
を駆動軸２によって回転させかつ修正輪５及びワーク貼
付け治具３を支持軸６によって回転させて、修正輪５、
スライダー４とラップ定盤１とが互いに擦り合うことに
より、ラップ定盤１がスライダー４の浮上面を高精度の
平面に加工し、かつ修正輪５がスライダー４の加工によ
って摩耗したラップ定盤１の平面度を修正するようにし
ている。しかし、このような磁気ヘッド用研摩装置で
は、ラップ定盤１の定位置にスライダー４及び修正輪５
があるため、ラップ定盤１が使用することによって摩耗
し、所望精度を維持するのが困難な結果、スライダー４
の浮上面の精度が低下する。
度に加工するため、発明者らは図１０に示すように、上
面である研摩面１’が真平らに形成された円板形状のラ
ップ定盤１を駆動軸２に取付け、そのラップ定盤１の研
摩面１’に、ワーク貼付け治具３に貼付けられた磁気ヘ
ッドのスライダー４と修正輪５とを載せ、ラップ定盤１
を駆動軸２によって回転させかつ修正輪５及びワーク貼
付け治具３を支持軸６によって回転させて、修正輪５、
スライダー４とラップ定盤１とが互いに擦り合うことに
より、ラップ定盤１がスライダー４の浮上面を高精度の
平面に加工し、かつ修正輪５がスライダー４の加工によ
って摩耗したラップ定盤１の平面度を修正するようにし
ている。しかし、このような磁気ヘッド用研摩装置で
は、ラップ定盤１の定位置にスライダー４及び修正輪５
があるため、ラップ定盤１が使用することによって摩耗
し、所望精度を維持するのが困難な結果、スライダー４
の浮上面の精度が低下する。
【０００５】この対策として複数の従来技術がある。即
ち、第１の従来技術では、図１１に示すようにラップ定
盤１の研摩面１’が外周部から中央部にかけて直線的に
高くなる形状とし、修正輪５を重心移動して研摩面１’
上の中央部に移動させ、或いは図１２に示すように研摩
面１’の外周部が中央部から直線的に高い形状とし、修
正輪５を同様にしてラップ定盤１上の外周部に移動さ
せ、かくしてラップ定盤１の高い部分を摩耗させて修正
するようにしている。
ち、第１の従来技術では、図１１に示すようにラップ定
盤１の研摩面１’が外周部から中央部にかけて直線的に
高くなる形状とし、修正輪５を重心移動して研摩面１’
上の中央部に移動させ、或いは図１２に示すように研摩
面１’の外周部が中央部から直線的に高い形状とし、修
正輪５を同様にしてラップ定盤１上の外周部に移動さ
せ、かくしてラップ定盤１の高い部分を摩耗させて修正
するようにしている。
【０００６】また第２の従来技術では、図１３に示すよ
うに、ラップ定盤１の中央部と外周部とにまたがる大型
の修正輪５を使用し、その修正輪５におけるラップ定盤
１の中央部及び外周部と対応する位置にリンク機構８を
介して錘り７，７を夫々載せ、該錘り７，７によって修
正輪５の重心位置を変えることによりラップ定盤１の平
面度を修正するようにしている。なお、この種の装置と
して関連するものには、例えば特開昭５９−８１０５６
号公報が挙げられる。
うに、ラップ定盤１の中央部と外周部とにまたがる大型
の修正輪５を使用し、その修正輪５におけるラップ定盤
１の中央部及び外周部と対応する位置にリンク機構８を
介して錘り７，７を夫々載せ、該錘り７，７によって修
正輪５の重心位置を変えることによりラップ定盤１の平
面度を修正するようにしている。なお、この種の装置と
して関連するものには、例えば特開昭５９−８１０５６
号公報が挙げられる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、磁気ヘッド
の浮上量を狭小化しようとすると、例えば０．２〜０．
３μｍの浮上量が要請されると、その浮上量を得るには
図１４に示す磁気ヘッド浮上量と磁気ヘッドのスライダ
ー平面度との関係からスライダーの浮上面の平面度を
０．０５μｍ以下と云う超高精度に加工しなければなら
ない。
の浮上量を狭小化しようとすると、例えば０．２〜０．
３μｍの浮上量が要請されると、その浮上量を得るには
図１４に示す磁気ヘッド浮上量と磁気ヘッドのスライダ
ー平面度との関係からスライダーの浮上面の平面度を
０．０５μｍ以下と云う超高精度に加工しなければなら
ない。
【０００８】しかし、上記に示す図１１及び図１２，図
１３に示す従来技術は、何れもラップ定盤１の研摩面
１’の平面度を正確に修正しようとするためのものであ
るが、スライダーの浮上面の加工精度とラップ定盤１の
形状との関係について配慮されていない。
１３に示す従来技術は、何れもラップ定盤１の研摩面
１’の平面度を正確に修正しようとするためのものであ
るが、スライダーの浮上面の加工精度とラップ定盤１の
形状との関係について配慮されていない。
【０００９】また、何れの従来技術でも、ラップ定盤１
が外周部から中央部に亘り略直線状の平面形状となって
いるが、このような形状のラップ定盤１を用いて０．０
５μｍ以下のスライダーの浮上面の平面度を得ようとす
ると、ラップ定盤１の研摩面の修正作業を試行さく誤を
繰返して行なわなければならず、非常に長い修正時間を
要し、場合によっては不可能なこともあり、そのため、
研摩装置の稼動率が著しく低下する問題があり、また、
ラップ定盤１を直線状の平面に修正することができて
も、磁気ヘッド浮上面の加工精度にばらつきが生じる結
果、歩留りが低下すると云う問題がある。
が外周部から中央部に亘り略直線状の平面形状となって
いるが、このような形状のラップ定盤１を用いて０．０
５μｍ以下のスライダーの浮上面の平面度を得ようとす
ると、ラップ定盤１の研摩面の修正作業を試行さく誤を
繰返して行なわなければならず、非常に長い修正時間を
要し、場合によっては不可能なこともあり、そのため、
研摩装置の稼動率が著しく低下する問題があり、また、
ラップ定盤１を直線状の平面に修正することができて
も、磁気ヘッド浮上面の加工精度にばらつきが生じる結
果、歩留りが低下すると云う問題がある。
【００１０】本発明の目的は、前記従来技術の問題点に
鑑み、研摩面の形状を規定し、以てヘッドスライダーの
浮上面の要求加工精度を容易に得ることができるととも
に、機械稼動率を向上し得る磁気ヘッドのスライダーの
浮上面の研摩方法を提供することにある。
鑑み、研摩面の形状を規定し、以てヘッドスライダーの
浮上面の要求加工精度を容易に得ることができるととも
に、機械稼動率を向上し得る磁気ヘッドのスライダーの
浮上面の研摩方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明では、ラップ定盤
の研摩面が、ラップ定盤及び磁気ヘッドのスライダーの
大きさと該スライダーの浮上面に要求される平面図に基
づき適宜の曲率をもつとともに研摩面の外周部と中央部
とを結ぶ直線に対してスライダーと接触し得る範囲の最
も高い部分である有効研摩部の肉厚寸法を適宜に設定し
た円弧状に形成されたラップ定盤を軸周りに回転し、該
回転するラップ定盤の研摩面にスライダーを内在した修
正輪の底面を押圧するとともに、該スライダーと修正輪
との双方を回転させることにより、スライダーの浮上面
を平面に研摩すると共に、修正輪によりラップ定盤の研
摩面を修正するようにしている。
の研摩面が、ラップ定盤及び磁気ヘッドのスライダーの
大きさと該スライダーの浮上面に要求される平面図に基
づき適宜の曲率をもつとともに研摩面の外周部と中央部
とを結ぶ直線に対してスライダーと接触し得る範囲の最
も高い部分である有効研摩部の肉厚寸法を適宜に設定し
た円弧状に形成されたラップ定盤を軸周りに回転し、該
回転するラップ定盤の研摩面にスライダーを内在した修
正輪の底面を押圧するとともに、該スライダーと修正輪
との双方を回転させることにより、スライダーの浮上面
を平面に研摩すると共に、修正輪によりラップ定盤の研
摩面を修正するようにしている。
【００１２】磁気ヘッドのスライダーの研摩において
は、該スライダーがラップ定盤の研摩面上の定位置で回
転するため、スライダーとラップ定盤とが常時接触して
いなければならず、そのため、ラップ定盤の研摩面が図
８に示すように、Ｉ−Ｘの如き円弧状のもの、ＩＩ−Ｙ
の如き真平らのもの、ＩＩＩ−Ｚの如き陥没円弧状のも
のが種々考えられる。しかし、ＩＩ−Ｙの如き真平らの
ものはその形状を保ち続けることが実用上不可能であ
り、またＩＩＩ−Ｚの如き陥没円弧状のものは、研摩
時、研摩面の外周部から摩耗し、その形状を保ち続ける
ことが難しい。
は、該スライダーがラップ定盤の研摩面上の定位置で回
転するため、スライダーとラップ定盤とが常時接触して
いなければならず、そのため、ラップ定盤の研摩面が図
８に示すように、Ｉ−Ｘの如き円弧状のもの、ＩＩ−Ｙ
の如き真平らのもの、ＩＩＩ−Ｚの如き陥没円弧状のも
のが種々考えられる。しかし、ＩＩ−Ｙの如き真平らの
ものはその形状を保ち続けることが実用上不可能であ
り、またＩＩＩ−Ｚの如き陥没円弧状のものは、研摩
時、研摩面の外周部から摩耗し、その形状を保ち続ける
ことが難しい。
【００１３】本発明では、前述の如く、ラップ定盤の研
摩面が該ラップ定盤及び磁気ヘッドのスライダーの大き
さと該スライダーの浮上面に要求される平面度に基づき
適宜の曲率をもつと共に、外周部と中央部との間に高さ
を持つ円弧状に形成し、研摩時、ラップ定盤とスライダ
ーとが常時接触し、ラップ定盤が研摩面をスライダーの
浮上面に転写させる如くスライダーの浮上面を研摩する
ことができる結果、スライダーの浮上面をその要求精度
に確実に加工し得、しかも安定した加工精度が得られ
る。また、研摩面が円弧状に形成されることにより、研
摩面の修正作業を容易に行なうことが可能になり、研摩
装置の稼働率が低下するのを防止し得ると云う効果があ
る。
摩面が該ラップ定盤及び磁気ヘッドのスライダーの大き
さと該スライダーの浮上面に要求される平面度に基づき
適宜の曲率をもつと共に、外周部と中央部との間に高さ
を持つ円弧状に形成し、研摩時、ラップ定盤とスライダ
ーとが常時接触し、ラップ定盤が研摩面をスライダーの
浮上面に転写させる如くスライダーの浮上面を研摩する
ことができる結果、スライダーの浮上面をその要求精度
に確実に加工し得、しかも安定した加工精度が得られ
る。また、研摩面が円弧状に形成されることにより、研
摩面の修正作業を容易に行なうことが可能になり、研摩
装置の稼働率が低下するのを防止し得ると云う効果があ
る。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図１
図乃至図７により説明する。図１は本発明の研摩方法の
一実施形態を示す一部断面の斜視図、図２は本発明の研
摩方法に用いるラップ定盤を示す一部断面の斜視図、図
３はラップ定盤の形状を示す説明図、図４は図３におけ
るラップ定盤とヘッドスライダーとの関係を示す説明図
である。
図乃至図７により説明する。図１は本発明の研摩方法の
一実施形態を示す一部断面の斜視図、図２は本発明の研
摩方法に用いるラップ定盤を示す一部断面の斜視図、図
３はラップ定盤の形状を示す説明図、図４は図３におけ
るラップ定盤とヘッドスライダーとの関係を示す説明図
である。
【００１５】この研摩方法の実施形態は、図１に示すよ
うに、回転されたラップ定盤１１の研摩面１１’に、磁
気ヘッドのスライダー１４を押圧し乍らかつ研摩面１
１’の定位置で回転させ、研摩面１１”によりスライダ
ー１４の浮上面を研摩するようにしている。
うに、回転されたラップ定盤１１の研摩面１１’に、磁
気ヘッドのスライダー１４を押圧し乍らかつ研摩面１
１’の定位置で回転させ、研摩面１１”によりスライダ
ー１４の浮上面を研摩するようにしている。
【００１６】前記ラップ定盤１１は、その中央部が取付
けボルト等によって駆動軸１２に取付けられ、該駆動軸
１２の駆動により軸周りに回転するようにしている。前
記磁気ヘッドのスライダー１４は、修正輪１５の内方位
置に配置されたワーク貼付け治具１３に一対が取付けら
れ、その浮上面がラップ定盤１１の研摩面１１’上の定
位置に配布され、ラップ定盤１１の回転時、該ラップ定
盤１１の研摩面１１’に対し浮上面が押圧されるととも
に研摩面１１’の定位置で回転され、浮上面が研摩面１
１’と擦り合うことによって研摩されるようにしてい
る。尚、前記一対のスライダー１４は、前述した様に複
数個のものが一体となってブロック化されたものであ
る。
けボルト等によって駆動軸１２に取付けられ、該駆動軸
１２の駆動により軸周りに回転するようにしている。前
記磁気ヘッドのスライダー１４は、修正輪１５の内方位
置に配置されたワーク貼付け治具１３に一対が取付けら
れ、その浮上面がラップ定盤１１の研摩面１１’上の定
位置に配布され、ラップ定盤１１の回転時、該ラップ定
盤１１の研摩面１１’に対し浮上面が押圧されるととも
に研摩面１１’の定位置で回転され、浮上面が研摩面１
１’と擦り合うことによって研摩されるようにしてい
る。尚、前記一対のスライダー１４は、前述した様に複
数個のものが一体となってブロック化されたものであ
る。
【００１７】前記修正輪１５は、その上部が支持軸１６
が取付けられるとともに、その下部に形成された凹部に
ブロック化されたスライダー１４を貼付けたワーク貼付
け治具を配置し、支持軸１６の駆動により前記ワーク貼
付け治具１３を介しブロック化されたスライダー１４を
回転させるようにしている。またその際、前記修正輪１
５はその下端面がラップ定盤１１の研摩面１１’と擦り
合うことにより、該研摩面１１’の所望形状に修正し得
るようにしている。
が取付けられるとともに、その下部に形成された凹部に
ブロック化されたスライダー１４を貼付けたワーク貼付
け治具を配置し、支持軸１６の駆動により前記ワーク貼
付け治具１３を介しブロック化されたスライダー１４を
回転させるようにしている。またその際、前記修正輪１
５はその下端面がラップ定盤１１の研摩面１１’と擦り
合うことにより、該研摩面１１’の所望形状に修正し得
るようにしている。
【００１８】しかして、本実施形態においては、その研
摩面１１’が図２乃至図４に示すように、適宜の曲率を
もつ円弧状に形成されている。即ち、前記ラップ定盤１
１の研摩面１１’は、ラップ定盤１１の大きさ及びスラ
イダー１４の大きさと、スライダー１４の浮上面に要求
される平面度とに基づき、所望の曲率Ｒをもつととも
に、その外周部と中央部との間に適宜の高さｙをもつ円
弧状に形成され、しかも該円弧面の外周部と中央部とを
結ぶ直線に対しスライダー１４と接触する範囲の最も高
い部分である有効研摩部ｒまでの肉厚寸法Δｒを適宜に
設定している。前記有効研摩部ｒにはブロック化された
スライダー１４の浮上面の中心部が位置するのが望まし
い。
摩面１１’が図２乃至図４に示すように、適宜の曲率を
もつ円弧状に形成されている。即ち、前記ラップ定盤１
１の研摩面１１’は、ラップ定盤１１の大きさ及びスラ
イダー１４の大きさと、スライダー１４の浮上面に要求
される平面度とに基づき、所望の曲率Ｒをもつととも
に、その外周部と中央部との間に適宜の高さｙをもつ円
弧状に形成され、しかも該円弧面の外周部と中央部とを
結ぶ直線に対しスライダー１４と接触する範囲の最も高
い部分である有効研摩部ｒまでの肉厚寸法Δｒを適宜に
設定している。前記有効研摩部ｒにはブロック化された
スライダー１４の浮上面の中心部が位置するのが望まし
い。
【００１９】次に、前記ラップ定盤１１及びスライダー
１４の大きさと、該スライダー１４の浮上面に要求され
る平面度の関係について述べる。
１４の大きさと、該スライダー１４の浮上面に要求され
る平面度の関係について述べる。
【００２０】まず、ラップ定盤１１内の半径をｌ(筆記
体のエル)1 、ラップ定盤１１の研摩面１１’の幅をｌ
(筆記体のエル)2 、球の半径をＲ、球の中心とラップの
定盤の最外周とを結んだ線の角度をθとすると、次式が
成り立つ。
体のエル)1 、ラップ定盤１１の研摩面１１’の幅をｌ
(筆記体のエル)2 、球の半径をＲ、球の中心とラップの
定盤の最外周とを結んだ線の角度をθとすると、次式が
成り立つ。
【００２１】
【数１】
【００２２】
【数２】
【００２３】
【数３】
【００２４】上記数式１〜３より肉厚寸法Δｒは次のと
おりとなる。
おりとなる。
【００２５】
【数４】
【００２６】
【数５】
【００２７】また、ラップ定盤１１の肉厚寸法Δｒと、
ブロック化されたスライダー１４の長手方向の長さＤの
平面度ａ及び短手方向の長さＣの平面度ｂとは次の関係
となる。
ブロック化されたスライダー１４の長手方向の長さＤの
平面度ａ及び短手方向の長さＣの平面度ｂとは次の関係
となる。
【００２８】
【数６】
【００２９】
【数７】
【００３０】上記数式４〜７より、スライダー１４の浮
上面に必要とされる平面度ａ，ｂの寸法により、ラップ
定盤１１の曲率Ｒ、高さｙ、肉厚寸法Δｒが求められ
る。
上面に必要とされる平面度ａ，ｂの寸法により、ラップ
定盤１１の曲率Ｒ、高さｙ、肉厚寸法Δｒが求められ
る。
【００３１】上記の如くして形成されたラップ定盤１１
を用いてスライダー１４を研摩すると、ラップ定盤１１
の研磨面１１’が円弧状に形成されることにより該研磨
面１１’にスライダー１４の単体スライダーの浮上面が
常時接触し、その浮上面に研摩面１１’が転写される如
くスライダー１４を加工することができるので、スライ
ダー１４の浮上面をその要求精度に確実に研摩し得、し
かも安定した加工精度が得られる。
を用いてスライダー１４を研摩すると、ラップ定盤１１
の研磨面１１’が円弧状に形成されることにより該研磨
面１１’にスライダー１４の単体スライダーの浮上面が
常時接触し、その浮上面に研摩面１１’が転写される如
くスライダー１４を加工することができるので、スライ
ダー１４の浮上面をその要求精度に確実に研摩し得、し
かも安定した加工精度が得られる。
【００３２】また、研磨面１１’が円弧状に形成されて
いるので、図８に示すＩＩ−Ｙ及びＩＩＩ−Ｚの如き真
平らなものや陥没円弧状のものに比べ、修正輪１５によ
る研摩面１１’の修正が簡単であって容易に修正作業を
行なうことが可能となり、それだけ研摩装置の稼動率が
低下するのを防止し得る。
いるので、図８に示すＩＩ−Ｙ及びＩＩＩ−Ｚの如き真
平らなものや陥没円弧状のものに比べ、修正輪１５によ
る研摩面１１’の修正が簡単であって容易に修正作業を
行なうことが可能となり、それだけ研摩装置の稼動率が
低下するのを防止し得る。
【００３３】因みに、ラップ定盤１１の高さｙが１０μ
ｍの場合における肉厚寸法Δｒとスライダー１４の浮上
面の長手方向の平面度との関係を図５に示す。同図か
ら、肉厚寸法Δｒが−２μｍ〜２μｍぐらいのとき、ス
ライダー１４の平面度が最小値になることがわかる。
ｍの場合における肉厚寸法Δｒとスライダー１４の浮上
面の長手方向の平面度との関係を図５に示す。同図か
ら、肉厚寸法Δｒが−２μｍ〜２μｍぐらいのとき、ス
ライダー１４の平面度が最小値になることがわかる。
【００３４】また、ラップ定盤１１の肉厚寸法Δｒが
１．５μｍの場合における高さｙと単一のスライダー１
４の長手方向の平面度との関係を図６に示す。同図か
ら、肉厚寸法Δｒが１．５μｍの場合、高さｙが略１０
μｍにすると、スライダー１４の浮上面の平面度が最小
となり、高さｙがそれより大きく或いは小さくとも平面
度が大きくなるので、高さｙを略１０μｍの寸法に保つ
ことにより極めて高精度に加工し得る。なお、図６に示
すスライダー１４の長手方向とは、単一のスライダー１
４のものであり、図４に示すようにブロック化されたス
ライダー１４の短手方向に相当する。
１．５μｍの場合における高さｙと単一のスライダー１
４の長手方向の平面度との関係を図６に示す。同図か
ら、肉厚寸法Δｒが１．５μｍの場合、高さｙが略１０
μｍにすると、スライダー１４の浮上面の平面度が最小
となり、高さｙがそれより大きく或いは小さくとも平面
度が大きくなるので、高さｙを略１０μｍの寸法に保つ
ことにより極めて高精度に加工し得る。なお、図６に示
すスライダー１４の長手方向とは、単一のスライダー１
４のものであり、図４に示すようにブロック化されたス
ライダー１４の短手方向に相当する。
【００３５】換言すれば、スライダー１４は、前述した
先願である特願昭６２−２１７１８号（特開昭６３−１
９１３０９号公報）に記載した如く、複数の（単体の）
磁気ヘッドスライダーを横方向に併設したものであるた
め、図６の磁気スライダーの長手方向が図４のスライダ
ー１４の短手方向に相当する。
先願である特願昭６２−２１７１８号（特開昭６３−１
９１３０９号公報）に記載した如く、複数の（単体の）
磁気ヘッドスライダーを横方向に併設したものであるた
め、図６の磁気スライダーの長手方向が図４のスライダ
ー１４の短手方向に相当する。
【００３６】さらに、肉厚寸法Δｒが１．５μｍの場合
における高さｙとスライダー１４の加工能率との関係を
図７に示す。同図から、高さｙが略１０μｍのときにス
ライダー１４に対する加工能率が高く、その高さｙを管
理すれば、研摩作業の高能率化を図り得ることがわか
る。
における高さｙとスライダー１４の加工能率との関係を
図７に示す。同図から、高さｙが略１０μｍのときにス
ライダー１４に対する加工能率が高く、その高さｙを管
理すれば、研摩作業の高能率化を図り得ることがわか
る。
【００３７】図示実施形態では、ラップ定盤１１の径が
一般的な１２インチ（約３０５ｍｍ）の場合、高さｙを
１５μｍ、肉厚寸法Δｒを２μｍにすることにより、ス
ライダー１４の浮上面の平面度を０．０５ｇμｍ以下に
達成できることが確認されたが、それらはラップ定盤１
１及びスライダー１４の大きさや該スライダー１４の浮
上面に要求される平面度に応じ適宜に選定されるのは勿
論である。
一般的な１２インチ（約３０５ｍｍ）の場合、高さｙを
１５μｍ、肉厚寸法Δｒを２μｍにすることにより、ス
ライダー１４の浮上面の平面度を０．０５ｇμｍ以下に
達成できることが確認されたが、それらはラップ定盤１
１及びスライダー１４の大きさや該スライダー１４の浮
上面に要求される平面度に応じ適宜に選定されるのは勿
論である。
【００３８】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、研
摩面が、ラップ定盤の研磨面を、ラップ定盤及び（単
体）スライダーの大きさと（単体）スライダーの浮上面
に要求される平面度に基づき所望の曲率を持つと共に外
周部と中央部との間に高さを持つ円弧状に形成したの
で、研摩時にはラップ定盤の研摩面にスライダーの浮上
面が常時接触し、その浮上面に研摩面が転写される如く
スライダーを加工し得る結果、スライダーの浮上面をそ
の要求精度に確実に研摩し得、しかも安定した加工精度
が得られる効果があり、またラップ定盤の研摩面を簡単
かつ確実に修正することができ、容易に修正作業を行う
ことができる結果、それだけ研摩装置の稼動率を向上し
得る効果がある。
摩面が、ラップ定盤の研磨面を、ラップ定盤及び（単
体）スライダーの大きさと（単体）スライダーの浮上面
に要求される平面度に基づき所望の曲率を持つと共に外
周部と中央部との間に高さを持つ円弧状に形成したの
で、研摩時にはラップ定盤の研摩面にスライダーの浮上
面が常時接触し、その浮上面に研摩面が転写される如く
スライダーを加工し得る結果、スライダーの浮上面をそ
の要求精度に確実に研摩し得、しかも安定した加工精度
が得られる効果があり、またラップ定盤の研摩面を簡単
かつ確実に修正することができ、容易に修正作業を行う
ことができる結果、それだけ研摩装置の稼動率を向上し
得る効果がある。
【００３９】換言すれば本発明は、ラップ定盤の研磨面
を、ラップ定盤及びスライダーの大きさとスライダーの
浮上面に要求される平面度とに基づき所望の曲率をも
ち、かつ研摩面の外周部と中央部とを結ぶ直線に対しス
ライダーと接触し得る範囲の最も高い部分である有効研
摩部の肉厚寸法を適宜に設定した円弧状に形成し、この
回転するラップ定盤の研摩面の有効研摩部にスライダー
を内在する修正輪の底面を押圧すると共に、該スライダ
ーと修正輪との双方を回転させることにより、スライダ
ーの浮上面を平面に研摩すると共に、修正輪によりラッ
プ定盤の研摩面を修正するように構成したので、研摩時
にはラップ定盤の研摩面にスライダーの浮上面が常時接
触し、その浮上面に研摩面が転写される如くスライダー
を加工し得る結果、スライダーの浮上面をその要求精度
に確実に研摩し得、しかも安定した加工精度が得られる
効果があり、またラップ定盤の研摩面を簡単かつ確実に
修正することができ、容易に修正作業を行うことができ
る結果、それだけ研摩装置の稼動率を向上し得る効果が
ある。
を、ラップ定盤及びスライダーの大きさとスライダーの
浮上面に要求される平面度とに基づき所望の曲率をも
ち、かつ研摩面の外周部と中央部とを結ぶ直線に対しス
ライダーと接触し得る範囲の最も高い部分である有効研
摩部の肉厚寸法を適宜に設定した円弧状に形成し、この
回転するラップ定盤の研摩面の有効研摩部にスライダー
を内在する修正輪の底面を押圧すると共に、該スライダ
ーと修正輪との双方を回転させることにより、スライダ
ーの浮上面を平面に研摩すると共に、修正輪によりラッ
プ定盤の研摩面を修正するように構成したので、研摩時
にはラップ定盤の研摩面にスライダーの浮上面が常時接
触し、その浮上面に研摩面が転写される如くスライダー
を加工し得る結果、スライダーの浮上面をその要求精度
に確実に研摩し得、しかも安定した加工精度が得られる
効果があり、またラップ定盤の研摩面を簡単かつ確実に
修正することができ、容易に修正作業を行うことができ
る結果、それだけ研摩装置の稼動率を向上し得る効果が
ある。
【図１】本発明の研摩方法の一実施形態例を示す斜視
図。
図。
【図２】本発明の研摩方法に用いるラップ定盤を示す斜
視図。
視図。
【図３】図２に示したラップ定盤の形状を示す説明図。
【図４】図３におけるラップ定盤と（単体）スライダー
との関係を示す説明図。
との関係を示す説明図。
【図５】ラップ定盤の肉厚寸法とスライダー（ブロッ
ク）の浮上面の平面度との関係を示す説明図。
ク）の浮上面の平面度との関係を示す説明図。
【図６】ラップ定盤の高さと（単一）スライダーの浮上
面の平面度との関係を示す説明図。
面の平面度との関係を示す説明図。
【図７】ラップ定盤の高さとスライダーの加工能率との
関係を示す説明図。
関係を示す説明図。
【図８】ラップ定盤の種々の形状を示す説明図。
【図９】種々の磁気ヘッドスライダーの底面を示す斜視
図。
図。
【図１０】磁気ヘッドスライダーの研摩方法を説明する
ための斜視図。
ための斜視図。
【図１１】従来技術による研摩装置の一例を示す説明
図。
図。
【図１２】従来技術による研摩装置の一例を示す説明
図。
図。
【図１３】従来技術による研摩装置の一例を示す説明
図。
図。
【図１４】磁気ヘッド浮上量と（単体）スライダー平面
度の関係を示す説明図。
度の関係を示す説明図。
１及び１１…ラップ定盤、１’及び１１’…ラップ定盤
の研摩面、４及び１４…磁気ヘッドのスライダー、Ｒ…
ラップ定盤の曲率半径、ｙ…ラップ定盤の研摩面の高
さ。
の研摩面、４及び１４…磁気ヘッドのスライダー、Ｒ…
ラップ定盤の曲率半径、ｙ…ラップ定盤の研摩面の高
さ。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成８年７月１６日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 磁気ヘッドのスライダーの浮上面の研
摩方法
摩方法
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
に使用される磁気ヘッドのスライダーの浮上面を高精度
の平面に加工するのに好適な磁気ヘッドのスライダーの
浮上面の研摩方法に関する。
に使用される磁気ヘッドのスライダーの浮上面を高精度
の平面に加工するのに好適な磁気ヘッドのスライダーの
浮上面の研摩方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気ディスク装置は記録密度の増
加に伴ない、磁気ディスク面に対する磁気ヘッドの浮上
量が増々狭小化する傾向にある。このように磁気ヘッド
の浮上量を狭小化するためには、図９に示すように、磁
気ディスク面上に微小な間隙をもって浮上する磁気ヘッ
ドＨの浮上面の平面度を高精度に加工することが必要で
ある。
加に伴ない、磁気ディスク面に対する磁気ヘッドの浮上
量が増々狭小化する傾向にある。このように磁気ヘッド
の浮上量を狭小化するためには、図９に示すように、磁
気ディスク面上に微小な間隙をもって浮上する磁気ヘッ
ドＨの浮上面の平面度を高精度に加工することが必要で
ある。
【０００３】即ち近年の磁気ディスク装置は、記録密度
の増加に伴なって磁気ディスク面に対する磁気ヘッドの
浮上量が増々狭小化する傾向にあり、この磁気ヘッド
は、磁気ディスクの高速回転により生じる空気粘性流に
よって浮上力を発生する磁気ヘッドスライダーと、該磁
気ヘッドスライダーの後端に配置されてデータの記録再
生を行う磁気ヘッド素子とから構成される。この磁気ヘ
ッドの浮上量を狭小化するためには、図９（ａ）（ｂ）
に示すように、磁気ディスク面上に微小な間隙をもって
浮上する磁気ヘッドスライダーＨの浮上面の平面度を高
精度に所定マージン内（平面度０．０５μｍ以下）に加
工することが必要である。この磁気ヘッドスライダー
は、出願人が先に出願した特願昭６２−２１７１８号
（特開昭６３−１９１３０９号公報）に記載した如く、
研摩時、複数個のものが一体となってブロック化された
もので同時に研摩され、その研摩後、各々切断され、か
つ所望形状に形成された後に磁気ヘッド素子の組付け及
び配線が施されることにより磁気ヘッドを構成する。
の増加に伴なって磁気ディスク面に対する磁気ヘッドの
浮上量が増々狭小化する傾向にあり、この磁気ヘッド
は、磁気ディスクの高速回転により生じる空気粘性流に
よって浮上力を発生する磁気ヘッドスライダーと、該磁
気ヘッドスライダーの後端に配置されてデータの記録再
生を行う磁気ヘッド素子とから構成される。この磁気ヘ
ッドの浮上量を狭小化するためには、図９（ａ）（ｂ）
に示すように、磁気ディスク面上に微小な間隙をもって
浮上する磁気ヘッドスライダーＨの浮上面の平面度を高
精度に所定マージン内（平面度０．０５μｍ以下）に加
工することが必要である。この磁気ヘッドスライダー
は、出願人が先に出願した特願昭６２−２１７１８号
（特開昭６３−１９１３０９号公報）に記載した如く、
研摩時、複数個のものが一体となってブロック化された
もので同時に研摩され、その研摩後、各々切断され、か
つ所望形状に形成された後に磁気ヘッド素子の組付け及
び配線が施されることにより磁気ヘッドを構成する。
【０００４】前記磁気ヘッドＨの浮上面の平面度を高精
度に加工するため、発明者らは図１０に示すように、上
面である研摩面１’が真平らに形成された円板形状のラ
ップ定盤１を駆動軸２に取付け、そのラップ定盤１の研
摩面１’に、ワーク貼付け治具３に貼付けられた磁気ヘ
ッドのスライダーブロック４と修正輪５とを載せ、ラッ
プ定盤１を駆動軸２によって回転させると、修正輪５及
びワーク貼付け治具３が支持軸６によって支持されなが
ら自転し、修正輪５、スライダーブロック４とラップ定
盤１とが互いに擦り合うことにより、ラップ定盤１がス
ライダーブロック４の浮上面を高精度の平面に加工し、
かつ修正輪５がスライダーブロック４の加工によって摩
耗したラップ定盤１の平面度を修正するようにしてい
る。しかし、このような磁気ヘッド用研摩装置では、ス
ライダーブロック４の軌跡がラップ定盤１の定位置にあ
るため、ラップ定盤１が使用することによって摩耗し、
所望精度を維持するのが困難な結果、スライダーの浮上
面の精度が低下する。
度に加工するため、発明者らは図１０に示すように、上
面である研摩面１’が真平らに形成された円板形状のラ
ップ定盤１を駆動軸２に取付け、そのラップ定盤１の研
摩面１’に、ワーク貼付け治具３に貼付けられた磁気ヘ
ッドのスライダーブロック４と修正輪５とを載せ、ラッ
プ定盤１を駆動軸２によって回転させると、修正輪５及
びワーク貼付け治具３が支持軸６によって支持されなが
ら自転し、修正輪５、スライダーブロック４とラップ定
盤１とが互いに擦り合うことにより、ラップ定盤１がス
ライダーブロック４の浮上面を高精度の平面に加工し、
かつ修正輪５がスライダーブロック４の加工によって摩
耗したラップ定盤１の平面度を修正するようにしてい
る。しかし、このような磁気ヘッド用研摩装置では、ス
ライダーブロック４の軌跡がラップ定盤１の定位置にあ
るため、ラップ定盤１が使用することによって摩耗し、
所望精度を維持するのが困難な結果、スライダーの浮上
面の精度が低下する。
【０００５】この対策として複数の従来技術がある。即
ち、第１の従来技術では、図１１に示すようにラップ定
盤１の研摩面１’が外周部から中央部にかけて直線的に
高くなる形状となった場合、修正輪５を重心移動して研
摩面１’上の中央部に移動させる。或いは図１２に示す
ように研摩面１’の外周部が中央部から直線的に高い形
状となった場合、修正輪５を同様にしてラップ定盤１上
の外周部に移動させる。かくしてラップ定盤１の高い部
分を摩耗させて修正するようにしている。
ち、第１の従来技術では、図１１に示すようにラップ定
盤１の研摩面１’が外周部から中央部にかけて直線的に
高くなる形状となった場合、修正輪５を重心移動して研
摩面１’上の中央部に移動させる。或いは図１２に示す
ように研摩面１’の外周部が中央部から直線的に高い形
状となった場合、修正輪５を同様にしてラップ定盤１上
の外周部に移動させる。かくしてラップ定盤１の高い部
分を摩耗させて修正するようにしている。
【０００６】また第２の従来技術では、図１３に示すよ
うに、ラップ定盤１の中央部と外周部とにまたがる大型
の修正輪５を使用し、その修正輪５におけるラップ定盤
１の中央部及び外周部と対応する位置にリンク機構８を
介して錘り７，７を夫々載せ、該錘り７，７によって修
正輪５の重心位置を変えることによりラップ定盤１の平
面度を修正するようにしている。なお、この種の装置と
して関連するものには、例えば特開昭５９−８１０５６
号公報が挙げられる。
うに、ラップ定盤１の中央部と外周部とにまたがる大型
の修正輪５を使用し、その修正輪５におけるラップ定盤
１の中央部及び外周部と対応する位置にリンク機構８を
介して錘り７，７を夫々載せ、該錘り７，７によって修
正輪５の重心位置を変えることによりラップ定盤１の平
面度を修正するようにしている。なお、この種の装置と
して関連するものには、例えば特開昭５９−８１０５６
号公報が挙げられる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、磁気ヘッド
の浮上量を狭小化しようとすると、例えば０．２〜０．
３μｍの浮上量が要請されると、その浮上量を得るには
図１４に示す磁気ヘッド浮上量と磁気ヘッドのスライダ
ー平面度との関係からスライダーの浮上面の平面度を
０．０５μｍ以下と云う超高精度に加工しなければなら
ない。
の浮上量を狭小化しようとすると、例えば０．２〜０．
３μｍの浮上量が要請されると、その浮上量を得るには
図１４に示す磁気ヘッド浮上量と磁気ヘッドのスライダ
ー平面度との関係からスライダーの浮上面の平面度を
０．０５μｍ以下と云う超高精度に加工しなければなら
ない。
【０００８】しかし、上記に示す図１１及び図１２，図
１３に示す従来技術は、何れもラップ定盤１の研摩面
１’の平面度を正確に修正しようとするためのものであ
るが、スライダーの浮上面の加工精度とラップ定盤１の
形状との関係について配慮されていない。
１３に示す従来技術は、何れもラップ定盤１の研摩面
１’の平面度を正確に修正しようとするためのものであ
るが、スライダーの浮上面の加工精度とラップ定盤１の
形状との関係について配慮されていない。
【０００９】また、何れの従来技術でも、ラップ定盤１
が外周部から中央部に亘り略直線状の平面形状となって
いるが、このような形状のラップ定盤１を用いて０．０
５μｍ以下のスライダーの浮上面の平面度を得ようとす
ると、ラップ定盤１の研摩面の修正作業を試行さく誤を
繰返して行なわなければならず、非常に長い修正時間を
要し、場合によっては不可能なこともあり、そのため、
研摩装置の稼動率が著しく低下する問題がある。また、
ラップ定盤１を直線状の平面に修正することができて
も、磁気ヘッド浮上面の加工精度にばらつきが生じる結
果、歩留りが低下すると云う問題がある。
が外周部から中央部に亘り略直線状の平面形状となって
いるが、このような形状のラップ定盤１を用いて０．０
５μｍ以下のスライダーの浮上面の平面度を得ようとす
ると、ラップ定盤１の研摩面の修正作業を試行さく誤を
繰返して行なわなければならず、非常に長い修正時間を
要し、場合によっては不可能なこともあり、そのため、
研摩装置の稼動率が著しく低下する問題がある。また、
ラップ定盤１を直線状の平面に修正することができて
も、磁気ヘッド浮上面の加工精度にばらつきが生じる結
果、歩留りが低下すると云う問題がある。
【００１０】本発明の目的は、前記従来技術の問題点に
鑑み、研摩面の形状を規定し、以てヘッドスライダーの
浮上面の要求加工精度を容易に得ることができるととも
に、機械稼動率を向上し得る磁気ヘッドのスライダーの
浮上面の研摩方法を提供することにある。
鑑み、研摩面の形状を規定し、以てヘッドスライダーの
浮上面の要求加工精度を容易に得ることができるととも
に、機械稼動率を向上し得る磁気ヘッドのスライダーの
浮上面の研摩方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明では、ラップ定盤
の研摩面が、ラップ定盤及び磁気ヘッドのスライダーブ
ロックの大きさと該スライダーブロックの浮上面に要求
される平面度とに基づき適宜の曲率をもつとともに研摩
面の外周部が中央部より低く、また外周部と中央部とを
結ぶ直線に対してスライダーブロックと接触し得る範囲
の最も高い部分である有効研摩部の肉厚寸法を適宜に設
定した円弧状に形成されたラップ定盤を軸周りに回転
し、該回転するラップ定盤の研摩面にスライダーブロッ
クを内在した修正輪の底面を押圧するとともに、該スラ
イダーと修正輪との双方を回転させることにより、スラ
イダーの浮上面を平面に研摩すると共に、修正輪により
ラップ定盤の研摩面を修正するようにしている。
の研摩面が、ラップ定盤及び磁気ヘッドのスライダーブ
ロックの大きさと該スライダーブロックの浮上面に要求
される平面度とに基づき適宜の曲率をもつとともに研摩
面の外周部が中央部より低く、また外周部と中央部とを
結ぶ直線に対してスライダーブロックと接触し得る範囲
の最も高い部分である有効研摩部の肉厚寸法を適宜に設
定した円弧状に形成されたラップ定盤を軸周りに回転
し、該回転するラップ定盤の研摩面にスライダーブロッ
クを内在した修正輪の底面を押圧するとともに、該スラ
イダーと修正輪との双方を回転させることにより、スラ
イダーの浮上面を平面に研摩すると共に、修正輪により
ラップ定盤の研摩面を修正するようにしている。
【００１２】磁気ヘッドのスライダーの研摩において
は、該スライダーブロックがラップ定盤の研摩面上の定
位置で回転するため、スライダーブロックとラップ定盤
とが常時接触していなければならず、そのため、ラップ
定盤の研摩面が図８に示すように、Ｉ−Ｘの如き円弧状
のもの、ＩＩ−Ｙの如き真平らのもの、ＩＩＩ−Ｚの如
き陥没円弧状のものが種々考えられる。しかし、ＩＩ−
Ｙの如き真平らのものは、ラップ定盤と被研磨物の相対
的な回転運動より生じる振動により被研磨物の端部が削
られやすく、またラップ定盤も外周部が磨耗し易くな
り、定盤、被研磨物とも平面形状を保ち続けるのが困難
である。またＩＩＩ−Ｚの如き陥没円弧状のものは、研
摩時、研摩面の外周部から摩耗し、その形状を保ち続け
ることが難しい。尚、図８中の各定盤の丸印は実線のも
のが被研磨工物が常時接触しながら移動する軌跡を示
し、破線のものが破断的に接触する軌跡を表している。
は、該スライダーブロックがラップ定盤の研摩面上の定
位置で回転するため、スライダーブロックとラップ定盤
とが常時接触していなければならず、そのため、ラップ
定盤の研摩面が図８に示すように、Ｉ−Ｘの如き円弧状
のもの、ＩＩ−Ｙの如き真平らのもの、ＩＩＩ−Ｚの如
き陥没円弧状のものが種々考えられる。しかし、ＩＩ−
Ｙの如き真平らのものは、ラップ定盤と被研磨物の相対
的な回転運動より生じる振動により被研磨物の端部が削
られやすく、またラップ定盤も外周部が磨耗し易くな
り、定盤、被研磨物とも平面形状を保ち続けるのが困難
である。またＩＩＩ−Ｚの如き陥没円弧状のものは、研
摩時、研摩面の外周部から摩耗し、その形状を保ち続け
ることが難しい。尚、図８中の各定盤の丸印は実線のも
のが被研磨工物が常時接触しながら移動する軌跡を示
し、破線のものが破断的に接触する軌跡を表している。
【００１３】本発明では、ラップ定盤を前述の図８のＩ
−Ｘの如き円弧状の形状とし、ラップ定盤の研摩面が該
ラップ定盤及び磁気ヘッドのスライダーブロックの大き
さと該スライダーブロックの浮上面に要求される平面度
に基づき適宜の曲率をもつと共に、外周部と中央部との
間に高さを持つ円弧状に形成し、研摩時、ラップ定盤と
スライダーブロックとが常時接触し、スライダーの浮上
面を研摩することができる結果、スライダーの浮上面を
その要求精度に確実に加工し得、しかも安定した加工精
度が得られる。また、研摩面が円弧状に形成されること
により、ラップ定盤が磨耗することによる形状劣化を低
減できると共に、また研摩面の修正作業を容易に行なう
ことが可能になり、研摩装置の稼働率が低下するのを防
止し得ると云う効果がある。
−Ｘの如き円弧状の形状とし、ラップ定盤の研摩面が該
ラップ定盤及び磁気ヘッドのスライダーブロックの大き
さと該スライダーブロックの浮上面に要求される平面度
に基づき適宜の曲率をもつと共に、外周部と中央部との
間に高さを持つ円弧状に形成し、研摩時、ラップ定盤と
スライダーブロックとが常時接触し、スライダーの浮上
面を研摩することができる結果、スライダーの浮上面を
その要求精度に確実に加工し得、しかも安定した加工精
度が得られる。また、研摩面が円弧状に形成されること
により、ラップ定盤が磨耗することによる形状劣化を低
減できると共に、また研摩面の修正作業を容易に行なう
ことが可能になり、研摩装置の稼働率が低下するのを防
止し得ると云う効果がある。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図１
図乃至図７により説明する。図１は本発明の研摩方法の
一実施形態を示す一部断面の斜視図、図２は本発明の研
摩方法に用いるラップ定盤を示す一部断面の斜視図、図
３はラップ定盤の形状を示す説明図、図４は図３におけ
るラップ定盤とヘッドスライダーとの関係を示す説明図
である。
図乃至図７により説明する。図１は本発明の研摩方法の
一実施形態を示す一部断面の斜視図、図２は本発明の研
摩方法に用いるラップ定盤を示す一部断面の斜視図、図
３はラップ定盤の形状を示す説明図、図４は図３におけ
るラップ定盤とヘッドスライダーとの関係を示す説明図
である。
【００１５】この研摩方法の実施形態は、図１に示すよ
うに、回転されたラップ定盤１１の研摩面１１’に、磁
気ヘッドのスライダーブロック１４を押圧し乍らかつ研
摩面１１’の定位置で回転させ、研摩面１１”によりス
ライダーブロック１４の浮上面を研摩するようにしてい
る。
うに、回転されたラップ定盤１１の研摩面１１’に、磁
気ヘッドのスライダーブロック１４を押圧し乍らかつ研
摩面１１’の定位置で回転させ、研摩面１１”によりス
ライダーブロック１４の浮上面を研摩するようにしてい
る。
【００１６】前記ラップ定盤１１は、その中央部が取付
けボルト等によって駆動軸１２に取付けられ、該駆動軸
１２の駆動により軸周りに回転するようにしている。前
記磁気ヘッドのスライダーブロック１４は、修正輪１５
の内方位置に配置されたワーク貼付け治具１３に一対が
取付けられ、その浮上面がラップ定盤１１の研摩面１
１’上の定位置に配置され、ラップ定盤１１の回転時、
該ラップ定盤１１の研摩面１１’に対し浮上面が押圧さ
れるとともに研摩面１１’の定位置で回転され、浮上面
が研摩面１１’と擦り合うことによって研摩されるよう
にしている。尚、前記一対のスライダーブロック１４
は、複数個のスライダーが一体となってブロック化され
たものである。
けボルト等によって駆動軸１２に取付けられ、該駆動軸
１２の駆動により軸周りに回転するようにしている。前
記磁気ヘッドのスライダーブロック１４は、修正輪１５
の内方位置に配置されたワーク貼付け治具１３に一対が
取付けられ、その浮上面がラップ定盤１１の研摩面１
１’上の定位置に配置され、ラップ定盤１１の回転時、
該ラップ定盤１１の研摩面１１’に対し浮上面が押圧さ
れるとともに研摩面１１’の定位置で回転され、浮上面
が研摩面１１’と擦り合うことによって研摩されるよう
にしている。尚、前記一対のスライダーブロック１４
は、複数個のスライダーが一体となってブロック化され
たものである。
【００１７】前記修正輪１５は、その上部に支持軸１６
が取付けられるとともに、その下部に形成された凹部に
ブロック化されたスライダーブロック１４を貼付けたワ
ーク貼付け治具を配置し、支持軸１６の駆動により前記
ワーク貼付け治具１３を介しブロック化されたスライダ
ーブロック１４を回転させるようにしている。またその
際、前記修正輪１５はその下端面がラップ定盤１１の研
摩面１１’と擦り合うことにより、該研摩面１１’の所
望形状に修正し得るようにしている。
が取付けられるとともに、その下部に形成された凹部に
ブロック化されたスライダーブロック１４を貼付けたワ
ーク貼付け治具を配置し、支持軸１６の駆動により前記
ワーク貼付け治具１３を介しブロック化されたスライダ
ーブロック１４を回転させるようにしている。またその
際、前記修正輪１５はその下端面がラップ定盤１１の研
摩面１１’と擦り合うことにより、該研摩面１１’の所
望形状に修正し得るようにしている。
【００１８】しかして、本実施形態においては、その研
摩面１１’が図２乃至図４に示すように、適宜の曲率を
もつ円弧状に形成されている。即ち、前記ラップ定盤１
１の研摩面１１’は、ラップ定盤１１の大きさ及びスラ
イダーブロック１４の大きさと、スライダーブロック１
４の浮上面に要求される平面度とに基づき、所望の曲率
Ｒをもつとともに、その外周部と中央部との間に適宜の
高さｙをもつ円弧状に形成され、しかも該円弧面の外周
部と中央部とを結ぶ直線に対しスライダーブロック１４
と接触する範囲の最も高い部分である有効研摩部ｒまで
の肉厚寸法Δｒを適宜に設定している。
摩面１１’が図２乃至図４に示すように、適宜の曲率を
もつ円弧状に形成されている。即ち、前記ラップ定盤１
１の研摩面１１’は、ラップ定盤１１の大きさ及びスラ
イダーブロック１４の大きさと、スライダーブロック１
４の浮上面に要求される平面度とに基づき、所望の曲率
Ｒをもつとともに、その外周部と中央部との間に適宜の
高さｙをもつ円弧状に形成され、しかも該円弧面の外周
部と中央部とを結ぶ直線に対しスライダーブロック１４
と接触する範囲の最も高い部分である有効研摩部ｒまで
の肉厚寸法Δｒを適宜に設定している。
【００１９】次に、前記ラップ定盤１１及びスライダー
ブロック１４の大きさと、該スライダーブロック１４の
浮上面に要求される平面度の関係について述べる。
ブロック１４の大きさと、該スライダーブロック１４の
浮上面に要求される平面度の関係について述べる。
【００２０】まず、ラップ定盤１１内の半径をｌ1(筆記
体エルのスモール１) 、ラップ定盤１１の研摩面１１’
の幅をｌ2(筆記体エルのスモール２)、球の半径をＲ、
球の中心とラップの定盤の最外周とを結んだ線の角度を
θとすると、次式が成り立つ。
体エルのスモール１) 、ラップ定盤１１の研摩面１１’
の幅をｌ2(筆記体エルのスモール２)、球の半径をＲ、
球の中心とラップの定盤の最外周とを結んだ線の角度を
θとすると、次式が成り立つ。
【００２１】
【数１】
【００２２】
【数２】
【００２３】
【数３】
【００２４】上記数式１〜３より肉厚寸法Δｒは次のと
おりとなる。
おりとなる。
【００２５】
【数４】
【００２６】
【数５】
【００２７】また、ラップ定盤１１の肉厚寸法Δｒと、
ブロック化されたスライダーブロック１４の長手方向の
長さＤの平面度ａ及び短手方向の長さＣの平面度ｂとは
次の関係となる。
ブロック化されたスライダーブロック１４の長手方向の
長さＤの平面度ａ及び短手方向の長さＣの平面度ｂとは
次の関係となる。
【００２８】
【数６】
【００２９】
【数７】
【００３０】上記数式４〜７より、スライダーブロック
１４の浮上面に必要とされる平面度ａ，ｂの寸法によ
り、ラップ定盤１１の曲率Ｒ、高さｙ、肉厚寸法Δｒが
求められる。
１４の浮上面に必要とされる平面度ａ，ｂの寸法によ
り、ラップ定盤１１の曲率Ｒ、高さｙ、肉厚寸法Δｒが
求められる。
【００３１】上記の如くして形成されたラップ定盤１１
を用いてスライダーブロック１４を研摩すると、ラップ
定盤１１の研磨面１１’が図８のＩ−Ｘの如き円弧状に
形成されることにより該研磨面１１’にスライダーブロ
ック１４の単体スライダーの浮上面が常時接触し、その
浮上面に研摩面１１’がほぼ転写される如くスライダー
ブロック１４を加工することができるので、スライダー
の浮上面をその要求精度に確実に研摩し得、しかも安定
した加工精度が得られる。
を用いてスライダーブロック１４を研摩すると、ラップ
定盤１１の研磨面１１’が図８のＩ−Ｘの如き円弧状に
形成されることにより該研磨面１１’にスライダーブロ
ック１４の単体スライダーの浮上面が常時接触し、その
浮上面に研摩面１１’がほぼ転写される如くスライダー
ブロック１４を加工することができるので、スライダー
の浮上面をその要求精度に確実に研摩し得、しかも安定
した加工精度が得られる。
【００３２】また、研磨面１１’が円弧状に形成されて
いるので、図８に示すＩＩ−Ｙ及びＩＩＩ−Ｚの如き真
平らなものや陥没円弧状のものに比べ、修正輪１５によ
る研摩面１１’の修正が簡単であって容易に修正作業を
行なうことが可能となり、それだけ研摩装置の稼動率が
低下するのを防止し得る。
いるので、図８に示すＩＩ−Ｙ及びＩＩＩ−Ｚの如き真
平らなものや陥没円弧状のものに比べ、修正輪１５によ
る研摩面１１’の修正が簡単であって容易に修正作業を
行なうことが可能となり、それだけ研摩装置の稼動率が
低下するのを防止し得る。
【００３３】因みに、ラップ定盤１１の高さｙが１０μ
ｍの場合における肉厚寸法Δｒとスライダーブロック１
４の浮上面の長手方向の平面度との関係を図５に示す。
同図から、肉厚寸法Δｒが−２μｍ〜２μｍぐらいのと
き、スライダーブロック１４の平面度が最小値になるこ
とがわかる。
ｍの場合における肉厚寸法Δｒとスライダーブロック１
４の浮上面の長手方向の平面度との関係を図５に示す。
同図から、肉厚寸法Δｒが−２μｍ〜２μｍぐらいのと
き、スライダーブロック１４の平面度が最小値になるこ
とがわかる。
【００３４】また、ラップ定盤１１の肉厚寸法Δｒが
１．５μｍの場合における高さｙと単一のスライダーの
長手方向の平面度との関係を図６に示す。同図から、肉
厚寸法Δｒが１．５μｍの場合、高さｙが略１０μｍに
すると、スライダーの浮上面の平面度が最小となり、高
さｙがそれより大きく或いは小さくとも平面度が大きく
なるので、高さｙを略１０μｍの寸法に保つことにより
極めて高精度に加工し得る。なお、図６に示すスライダ
ーの長手方向とは、単一のスライダーのものであり、図
４に示すようにブロック化されたスライダーブロック１
４の短手方向に相当する。
１．５μｍの場合における高さｙと単一のスライダーの
長手方向の平面度との関係を図６に示す。同図から、肉
厚寸法Δｒが１．５μｍの場合、高さｙが略１０μｍに
すると、スライダーの浮上面の平面度が最小となり、高
さｙがそれより大きく或いは小さくとも平面度が大きく
なるので、高さｙを略１０μｍの寸法に保つことにより
極めて高精度に加工し得る。なお、図６に示すスライダ
ーの長手方向とは、単一のスライダーのものであり、図
４に示すようにブロック化されたスライダーブロック１
４の短手方向に相当する。
【００３５】換言すれば、スライダーブロック１４は、
前述した先願である特願昭６２−２１７１８号（特開昭
６３−１９１３０９号公報）に記載した如く、複数の
（単体の）磁気ヘッドスライダーを横方向に併設したも
のであるため、図６の磁気スライダーの長手方向が図４
のスライダーブロック１４の短手方向に相当する。
前述した先願である特願昭６２−２１７１８号（特開昭
６３−１９１３０９号公報）に記載した如く、複数の
（単体の）磁気ヘッドスライダーを横方向に併設したも
のであるため、図６の磁気スライダーの長手方向が図４
のスライダーブロック１４の短手方向に相当する。
【００３６】さらに、肉厚寸法Δｒが１．５μｍの場合
における高さｙとスライダーブロック１４の加工能率と
の関係を図７に示す。同図から、高さｙが略１０μｍの
ときにスライダーブロック１４に対する加工能率が高
く、その高さｙを管理すれば、研摩作業の高能率化を図
り得ることがわかる。
における高さｙとスライダーブロック１４の加工能率と
の関係を図７に示す。同図から、高さｙが略１０μｍの
ときにスライダーブロック１４に対する加工能率が高
く、その高さｙを管理すれば、研摩作業の高能率化を図
り得ることがわかる。
【００３７】図示実施形態では、ラップ定盤１１の径が
一般的な１２インチ（約３０５ｍｍ）の場合、高さｙを
１５μｍ、肉厚寸法Δｒを２μｍにすることにより、ス
ライダーの浮上面の平面度を０．０５μｍ以下に達成で
きることが確認されたが、それらはラップ定盤１１並び
にスライダーブロック１４及びスライダーの大きさや該
スライダーブロック１４及びスライダーの浮上面に要求
される平面度に応じ適宜に選定されるのは勿論である。
一般的な１２インチ（約３０５ｍｍ）の場合、高さｙを
１５μｍ、肉厚寸法Δｒを２μｍにすることにより、ス
ライダーの浮上面の平面度を０．０５μｍ以下に達成で
きることが確認されたが、それらはラップ定盤１１並び
にスライダーブロック１４及びスライダーの大きさや該
スライダーブロック１４及びスライダーの浮上面に要求
される平面度に応じ適宜に選定されるのは勿論である。
【００３８】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、ス
ライダーの浮上面をその要求精度に確実に研摩し得、し
かも安定した加工精度が得られる効果があり、またラッ
プ定盤の研摩面を簡単かつ確実に修正することができ、
容易に修正作業を行うことができる結果、それだけ研摩
装置の稼動率を向上し得る効果がある。
ライダーの浮上面をその要求精度に確実に研摩し得、し
かも安定した加工精度が得られる効果があり、またラッ
プ定盤の研摩面を簡単かつ確実に修正することができ、
容易に修正作業を行うことができる結果、それだけ研摩
装置の稼動率を向上し得る効果がある。
【００３９】即ち本発明は、ラップ定盤の研磨面を、ラ
ップ定盤及びスライダーブロックの大きさとスライダー
ブロックの浮上面に要求される平面度とに基づき所望の
曲率をもち、かつ研摩面の外周部が中央部より低く、ま
た外周部と中央部とを結ぶ直線に対しスライダーブロッ
クと接触し得る範囲の最も高い部分である有効研摩部の
肉厚寸法を適宜に設定した円弧状に形成し、この回転す
るラップ定盤の研摩面の有効研摩部にスライダーブロッ
クを内在する修正輪の底面を押圧すると共に、該スライ
ダーブロックと修正輪との双方を回転させることによ
り、スライダーの浮上面を安定して平面に研摩すると共
に、修正輪によりラップ定盤の研摩面を修正するように
構成したので、研摩時にはラップ定盤の研摩面にスライ
ダーの浮上面が常時接触し、スライダーブロックを加工
し得る結果、スライダーの浮上面をその要求精度に確実
に研摩し得、しかも安定した加工精度が得られる効果が
あり、またラップ定盤の研摩面を簡単かつ確実に修正す
ることができ、容易に修正作業を行うことができる結
果、それだけ研摩装置の稼動率を向上し得る効果があ
る。
ップ定盤及びスライダーブロックの大きさとスライダー
ブロックの浮上面に要求される平面度とに基づき所望の
曲率をもち、かつ研摩面の外周部が中央部より低く、ま
た外周部と中央部とを結ぶ直線に対しスライダーブロッ
クと接触し得る範囲の最も高い部分である有効研摩部の
肉厚寸法を適宜に設定した円弧状に形成し、この回転す
るラップ定盤の研摩面の有効研摩部にスライダーブロッ
クを内在する修正輪の底面を押圧すると共に、該スライ
ダーブロックと修正輪との双方を回転させることによ
り、スライダーの浮上面を安定して平面に研摩すると共
に、修正輪によりラップ定盤の研摩面を修正するように
構成したので、研摩時にはラップ定盤の研摩面にスライ
ダーの浮上面が常時接触し、スライダーブロックを加工
し得る結果、スライダーの浮上面をその要求精度に確実
に研摩し得、しかも安定した加工精度が得られる効果が
あり、またラップ定盤の研摩面を簡単かつ確実に修正す
ることができ、容易に修正作業を行うことができる結
果、それだけ研摩装置の稼動率を向上し得る効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の研摩方法の一実施形態例を示す斜視
図。
図。
【図２】本発明の研摩方法に用いるラップ定盤を示す斜
視図。
視図。
【図３】図２に示したラップ定盤の形状を示す説明図。
【図４】図３におけるラップ定盤とスライダーブロック
との関係を示す説明図。
との関係を示す説明図。
【図５】ラップ定盤の肉厚寸法とスライダーブロックの
長手平面度との関係を示す説明図。
長手平面度との関係を示す説明図。
【図６】ラップ定盤の高さと単一スライダーの浮上面の
長手平面度との関係を示す説明図。
長手平面度との関係を示す説明図。
【図７】ラップ定盤の高さとスライダーブロックの加工
能率との関係を示す説明図。
能率との関係を示す説明図。
【図８】ラップ定盤の種々の形状を示す説明図。
【図９】種々の磁気ヘッドスライダーの底面を示す斜視
図。
図。
【図１０】磁気ヘッドスライダーの研摩方法を説明する
ための斜視図。
ための斜視図。
【図１１】従来技術による研摩装置の一例を示す説明
図。
図。
【図１２】従来技術による研摩装置の一例を示す説明
図。
図。
【図１３】従来技術による研摩装置の一例を示す説明
図。
図。
【図１４】磁気ヘッド浮上量と単一スライダー平面度の
関係を示す説明図。
関係を示す説明図。
【符合の説明】 １及び１１…ラップ定盤、１’及び１１’…ラップ定盤
の研摩面、４及び１４…磁気ヘッドのスライダーブロッ
ク、Ｒ…ラップ定盤の曲率半径、ｙ…ラップ定盤の研摩
面の高さ。
の研摩面、４及び１４…磁気ヘッドのスライダーブロッ
ク、Ｒ…ラップ定盤の曲率半径、ｙ…ラップ定盤の研摩
面の高さ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正内容】
【図４】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 竹下 幸二 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所小田原工場内
Claims (1)
- 【請求項１】 回転するラップ定盤の研摩面に修正輪と
該修正輪の内部に配置される磁気ヘッドのスライダーの
浮上面とを押圧し乍ら回転させ、前記研摩面によりスラ
イダーの浮上面を研摩する研摩方法であって、 研摩面がラップ定盤及びスライダーの大きさとスライダ
ーの浮上面に要求される平面度とに基づき所望の曲率を
もち、かつ研摩面の外周部と中央部とを結ぶ直線に対し
スライダーと接触し得る範囲の最も高い部分である有効
研摩部の肉厚寸法を適宜に設定した円弧状に形成された
ラップ定盤を軸周りに回転し、 該回転するラップ定盤の研摩面の有効研摩部にスライダ
ーを内部に収納した修正輪の底面を押圧しながら回転さ
せることにより、スライダーの浮上面を平面に研摩する
と共に、修正輪によりラップ定盤の研摩面を修正するこ
とを特徴とする磁気ヘッドのスライダーの浮上面の研摩
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15569796A JPH08329441A (ja) | 1996-06-17 | 1996-06-17 | 磁気ヘッドのスライダーの浮上面の研摩方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15569796A JPH08329441A (ja) | 1996-06-17 | 1996-06-17 | 磁気ヘッドのスライダーの浮上面の研摩方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62263977A Division JPH0770186B2 (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | 磁気ヘッドのスライダーの浮上面の研摩方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08329441A true JPH08329441A (ja) | 1996-12-13 |
Family
ID=15611556
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15569796A Pending JPH08329441A (ja) | 1996-06-17 | 1996-06-17 | 磁気ヘッドのスライダーの浮上面の研摩方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08329441A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113523963A (zh) * | 2021-07-09 | 2021-10-22 | 陕西诺贝特自动化科技有限公司 | 高频往复换向工作台及利用其加工冲头的方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53111594A (en) * | 1977-02-23 | 1978-09-29 | Fujitsu Ltd | Method of mounting workpiece on holder |
| JPS62263977A (ja) * | 1986-05-09 | 1987-11-16 | Citizen Watch Co Ltd | 無機硬質透明膜を有した腕時計外装部品とその製造方法 |
| JPS6261019B2 (ja) * | 1980-03-14 | 1987-12-18 | Grelan Pharmaceutical Co |
-
1996
- 1996-06-17 JP JP15569796A patent/JPH08329441A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53111594A (en) * | 1977-02-23 | 1978-09-29 | Fujitsu Ltd | Method of mounting workpiece on holder |
| JPS6261019B2 (ja) * | 1980-03-14 | 1987-12-18 | Grelan Pharmaceutical Co | |
| JPS62263977A (ja) * | 1986-05-09 | 1987-11-16 | Citizen Watch Co Ltd | 無機硬質透明膜を有した腕時計外装部品とその製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113523963A (zh) * | 2021-07-09 | 2021-10-22 | 陕西诺贝特自动化科技有限公司 | 高频往复换向工作台及利用其加工冲头的方法 |
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