JPH08325214A - アミノナフトキノン類の製造法 - Google Patents
アミノナフトキノン類の製造法Info
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- JPH08325214A JPH08325214A JP10676095A JP10676095A JPH08325214A JP H08325214 A JPH08325214 A JP H08325214A JP 10676095 A JP10676095 A JP 10676095A JP 10676095 A JP10676095 A JP 10676095A JP H08325214 A JPH08325214 A JP H08325214A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
アミノナフトキノン類の製造法
【構成】 目的化合物に対応する1,4-または1,2-ナフト
キノン類を一般式III ＮＨＲ2ＯＲ3 〔III 〕 （Ｒ2 は水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基
またはアラルキル基を、Ｒ3 は低級アルキル基を表
す。）のＯ−アルキルヒドロキシルアミンと反応させる
一般式Ｉ （Ｘb 、Ｙb は酸素原子又はＮＨＲ2 を表し同一ではな
い。点線と実線の二重線は一重又は二重結合を表し、2-
2 ′及び3-4 間はＸb が酸素原子の場合は二重結合を、
Ｘb がＮＨＲ2 の場合は一重結合を表す。2-3 及び4-4
′間はＸb が酸素原子の場合は一重結合を、Ｘb がＮ
ＨＲ2 の場合は二重結合を表す。Ｒ1 、Ｒ2 は前記と同
じ。）の対応するアミノナフトキノン類の製造法。 【効果】 目的化合物を高収率で製造し得るうえ、反応
後の後処理も簡便となり、工業的に有利である。
キノン類を一般式III ＮＨＲ2ＯＲ3 〔III 〕 （Ｒ2 は水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基
またはアラルキル基を、Ｒ3 は低級アルキル基を表
す。）のＯ−アルキルヒドロキシルアミンと反応させる
一般式Ｉ （Ｘb 、Ｙb は酸素原子又はＮＨＲ2 を表し同一ではな
い。点線と実線の二重線は一重又は二重結合を表し、2-
2 ′及び3-4 間はＸb が酸素原子の場合は二重結合を、
Ｘb がＮＨＲ2 の場合は一重結合を表す。2-3 及び4-4
′間はＸb が酸素原子の場合は一重結合を、Ｘb がＮ
ＨＲ2 の場合は二重結合を表す。Ｒ1 、Ｒ2 は前記と同
じ。）の対応するアミノナフトキノン類の製造法。 【効果】 目的化合物を高収率で製造し得るうえ、反応
後の後処理も簡便となり、工業的に有利である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はアミノナフトキノン類の
製造法に関する。
製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】アミノナフトキノン類は抗菌性、抗腫瘍
性あるいは除草性など様々な生理活性を有する化合物と
して知られており、殺菌剤、医薬、農薬等の原料あるい
は中間体として重要な化合物である。
性あるいは除草性など様々な生理活性を有する化合物と
して知られており、殺菌剤、医薬、農薬等の原料あるい
は中間体として重要な化合物である。
【０００３】かかるアミノナフトキノン類の製造法とし
ては、アミノ化剤としてO-メチルヒドロキシルアミン塩
酸塩等のO-アルキルヒドロキシルアミン類塩酸塩を用い
てナフトキノン類をアミノ化する方法が知られている
（Synthesis,917(1994))。
ては、アミノ化剤としてO-メチルヒドロキシルアミン塩
酸塩等のO-アルキルヒドロキシルアミン類塩酸塩を用い
てナフトキノン類をアミノ化する方法が知られている
（Synthesis,917(1994))。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このO-
メチルヒドロキシルアミン塩酸塩を用いる方法は、目的
化合物の収率が低いという問題、更にはO-メチルヒドロ
キシルアミン塩酸塩を中和するための塩基を必要とする
のみならず生成する塩基との塩を反応後に分離する必要
がある等の工業上の問題があった。
メチルヒドロキシルアミン塩酸塩を用いる方法は、目的
化合物の収率が低いという問題、更にはO-メチルヒドロ
キシルアミン塩酸塩を中和するための塩基を必要とする
のみならず生成する塩基との塩を反応後に分離する必要
がある等の工業上の問題があった。
【０００５】これらの問題点を解決すべく、本発明者ら
は、アミノナフトキノン類の工業的な製造法について鋭
意検討を進めた結果、ナフトキノン類と遊離のO-アルキ
ルヒドロキシルアミンとを反応させれば、目的とするア
ミノナフトキノン類の収率が著しく向上することを見出
すとともに反応後の後処理も操作が簡便になることを見
出し、本発明を完成した。
は、アミノナフトキノン類の工業的な製造法について鋭
意検討を進めた結果、ナフトキノン類と遊離のO-アルキ
ルヒドロキシルアミンとを反応させれば、目的とするア
ミノナフトキノン類の収率が著しく向上することを見出
すとともに反応後の後処理も操作が簡便になることを見
出し、本発明を完成した。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は一般
式〔II〕 （式中、Ｘa 、Ｙa は酸素原子又は水素原子を表し、同
一であることはない。点線と実線の二重線は、一重又は
二重結合を表し、2-2'及び3-4 間は、Ｘa が酸素原子の
場合は二重結合を、Ｘa が水素原子の場合は一重結合を
表す。2-3 及び4-4'間は、Ｘa が酸素原子の場合は一重
結合を、Ｘa が水素原子の場合は二重結合を表す。Ｒ1
は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、アリール基、アリールオキシ基またはヒドロ
キシル基を表す。）で示されるナフトキノン類を一般式
〔III 〕 ＮＨＲ2ＯＲ3 〔III 〕 （式中、Ｒ2 は水素原子、低級アルキル基、シクロアル
キル基またはアラルキル基を、Ｒ3 は低級アルキル基を
表す。）で示されるO-アルキルヒドロキシルアミンと反
応させることを特徴とする一般式〔Ｉ〕 （式中、Ｘb 、Ｙb は酸素原子又はNHR2を表し、同一で
あることはない。点線と実線の二重線は、一重又は二重
結合を表し、2-2'及び3-4 間は、Ｘb が酸素原子の場合
は二重結合を、Ｘb がNHR2の場合は一重結合を表す。2-
3 及び4-4'間は、Ｘb が酸素原子の場合は一重結合を、
Ｘb がNHR2の場合は二重結合を表す。Ｒ1、Ｒ2 は前記
と同じ意味を表す。）で示されるアミノナフトキノン類
の工業的に優れた製造法を提供するものである。
式〔II〕 （式中、Ｘa 、Ｙa は酸素原子又は水素原子を表し、同
一であることはない。点線と実線の二重線は、一重又は
二重結合を表し、2-2'及び3-4 間は、Ｘa が酸素原子の
場合は二重結合を、Ｘa が水素原子の場合は一重結合を
表す。2-3 及び4-4'間は、Ｘa が酸素原子の場合は一重
結合を、Ｘa が水素原子の場合は二重結合を表す。Ｒ1
は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、アリール基、アリールオキシ基またはヒドロ
キシル基を表す。）で示されるナフトキノン類を一般式
〔III 〕 ＮＨＲ2ＯＲ3 〔III 〕 （式中、Ｒ2 は水素原子、低級アルキル基、シクロアル
キル基またはアラルキル基を、Ｒ3 は低級アルキル基を
表す。）で示されるO-アルキルヒドロキシルアミンと反
応させることを特徴とする一般式〔Ｉ〕 （式中、Ｘb 、Ｙb は酸素原子又はNHR2を表し、同一で
あることはない。点線と実線の二重線は、一重又は二重
結合を表し、2-2'及び3-4 間は、Ｘb が酸素原子の場合
は二重結合を、Ｘb がNHR2の場合は一重結合を表す。2-
3 及び4-4'間は、Ｘb が酸素原子の場合は一重結合を、
Ｘb がNHR2の場合は二重結合を表す。Ｒ1、Ｒ2 は前記
と同じ意味を表す。）で示されるアミノナフトキノン類
の工業的に優れた製造法を提供するものである。
【０００７】以下本発明について詳細に説明する。本発
明の原料であるナフトキノン類〔II〕におけるＸa 、Ｙ
a は酸素原子又は水素原子を表し、同一であることはな
い。点線と実線の二重線は、一重又は二重結合を表し、
2-2'及び3-4 間は、Ｘa が酸素原子の場合は二重結合
を、Ｘa が水素原子の場合は一重結合を表す。2-3 及び
4-4'間は、Ｘa が酸素原子の場合は一重結合を、Ｘa が
水素原子の場合は二重結合を表す。またＲ1 は水素原
子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基またはヒドロキシル
基を表すものであるが、ハロゲン原子としては、例え
ば、塩素、臭素等が、低級アルキル基としては、例えば
メチル、エチル、t-ブチル等の直鎖ないし分枝状の低級
アルキル基、低級アルコキシ基としては、例えばメトキ
シ、エトキシ、t-ブトキシ等の直鎖ないし分枝状の低級
アルコキシ基が、アリール基としては、例えばフェニ
ル、3-メチルフェニル等が、アリールオキシ基として
は、例えばフェノキシ、3-メチルフェノキシ等が挙げら
れる。
明の原料であるナフトキノン類〔II〕におけるＸa 、Ｙ
a は酸素原子又は水素原子を表し、同一であることはな
い。点線と実線の二重線は、一重又は二重結合を表し、
2-2'及び3-4 間は、Ｘa が酸素原子の場合は二重結合
を、Ｘa が水素原子の場合は一重結合を表す。2-3 及び
4-4'間は、Ｘa が酸素原子の場合は一重結合を、Ｘa が
水素原子の場合は二重結合を表す。またＲ1 は水素原
子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基またはヒドロキシル
基を表すものであるが、ハロゲン原子としては、例え
ば、塩素、臭素等が、低級アルキル基としては、例えば
メチル、エチル、t-ブチル等の直鎖ないし分枝状の低級
アルキル基、低級アルコキシ基としては、例えばメトキ
シ、エトキシ、t-ブトキシ等の直鎖ないし分枝状の低級
アルコキシ基が、アリール基としては、例えばフェニ
ル、3-メチルフェニル等が、アリールオキシ基として
は、例えばフェノキシ、3-メチルフェノキシ等が挙げら
れる。
【０００８】かかるナフトキノン類〔II〕の代表化合物
としては、例えば、1,4-ナフトキノン、5-クロロ-1,4-
ナフトキノン、6-クロロ-1,4- ナフトキノン、5-ブロモ
-1,4- ナフトキノン、6-ブロモ-1,4- ナフトキノン、6-
メチル-1,4- ナフトキノン、6-エチル-1,4- ナフトキノ
ン、5-メトキシ-1,4- ナフトキノン、6-メトキシ-1,4-
ナフトキノン、5-ヒドロキシ-1,4- ナフトキノン、6-ヒ
ドロキシ-1,4- ナフトキノン、1,2-ナフトキノン、5-ク
ロロ-1,2- ナフトキノン、6-クロロ-1,2- ナフトキノ
ン、5-ブロモ-1,2- ナフトキノン、6-ブロモ-1,2- ナフ
トキノン、6-メチル-1,2- ナフトキノン、6-エチル-1,2
- ナフトキノン、5-メトキシ-1,2- ナフトキノン、6-メ
トキシ-1,2- ナフトキノン、5-ヒドロキシ-1,2- ナフト
キノン、6-ヒドロキシ-1,2- ナフトキノン等が挙げられ
る。
としては、例えば、1,4-ナフトキノン、5-クロロ-1,4-
ナフトキノン、6-クロロ-1,4- ナフトキノン、5-ブロモ
-1,4- ナフトキノン、6-ブロモ-1,4- ナフトキノン、6-
メチル-1,4- ナフトキノン、6-エチル-1,4- ナフトキノ
ン、5-メトキシ-1,4- ナフトキノン、6-メトキシ-1,4-
ナフトキノン、5-ヒドロキシ-1,4- ナフトキノン、6-ヒ
ドロキシ-1,4- ナフトキノン、1,2-ナフトキノン、5-ク
ロロ-1,2- ナフトキノン、6-クロロ-1,2- ナフトキノ
ン、5-ブロモ-1,2- ナフトキノン、6-ブロモ-1,2- ナフ
トキノン、6-メチル-1,2- ナフトキノン、6-エチル-1,2
- ナフトキノン、5-メトキシ-1,2- ナフトキノン、6-メ
トキシ-1,2- ナフトキノン、5-ヒドロキシ-1,2- ナフト
キノン、6-ヒドロキシ-1,2- ナフトキノン等が挙げられ
る。
【０００９】もう一方の原料であるO-アルキルヒドロキ
シルアミン〔III 〕におけるＲ2 は、水素原子、低級ア
ルキル基、シクロアルキル基またはアラルキル基を、Ｒ
3 は低級アルキル基を表すが、低級アルキル基として
は、例えば上記と同様の直鎖ないし分枝状の低級アルキ
ル基が、アラルキル基としては、例えば上記と同様のア
ラルキル基が挙げられる。シクロアルキル基としては、
例えばシクロペンチル、シクロヘキシル等が挙げられ
る。O-アルキルヒドロキシルアミン〔III 〕の代表化合
物としては、例えばO-メチルヒドロキシルアミン、O-エ
チルヒドロキシルアミン、O-t-ブチルヒドロキシルアミ
ン、N,O-ジメチルヒドロキシルアミン、N-エチル-O- メ
チルヒドロキシルアミン、N-t-ブチル-O- メチルヒドロ
キシルアミン、N-シクロペンチル-O- メチルヒドロキシ
ルアミン、N-シクロヘキシル-O- メチルヒドロキシルア
ミン、N-ベンジル-O- メチルヒドロキシルアミン等が挙
げられる。かかるO-アルキルヒドロキシルアミンは遊離
のアミンである必要があり、O-アルキルヒドロキシルア
ミン塩酸塩等の酸塩を用いると、目的とするアミノナフ
トキノン〔Ｉ〕の収率が著しく低下し、そのうえ、塩酸
の中和のための塩基を必要とするみならずその結果生成
する塩基との塩を除去するための操作を必要とするため
好ましくない。これら遊離のO-アルキルヒドロキシルア
ミンは、ヒドロキシルアミンから工業的に容易にかつ安
価に製造することができる。
シルアミン〔III 〕におけるＲ2 は、水素原子、低級ア
ルキル基、シクロアルキル基またはアラルキル基を、Ｒ
3 は低級アルキル基を表すが、低級アルキル基として
は、例えば上記と同様の直鎖ないし分枝状の低級アルキ
ル基が、アラルキル基としては、例えば上記と同様のア
ラルキル基が挙げられる。シクロアルキル基としては、
例えばシクロペンチル、シクロヘキシル等が挙げられ
る。O-アルキルヒドロキシルアミン〔III 〕の代表化合
物としては、例えばO-メチルヒドロキシルアミン、O-エ
チルヒドロキシルアミン、O-t-ブチルヒドロキシルアミ
ン、N,O-ジメチルヒドロキシルアミン、N-エチル-O- メ
チルヒドロキシルアミン、N-t-ブチル-O- メチルヒドロ
キシルアミン、N-シクロペンチル-O- メチルヒドロキシ
ルアミン、N-シクロヘキシル-O- メチルヒドロキシルア
ミン、N-ベンジル-O- メチルヒドロキシルアミン等が挙
げられる。かかるO-アルキルヒドロキシルアミンは遊離
のアミンである必要があり、O-アルキルヒドロキシルア
ミン塩酸塩等の酸塩を用いると、目的とするアミノナフ
トキノン〔Ｉ〕の収率が著しく低下し、そのうえ、塩酸
の中和のための塩基を必要とするみならずその結果生成
する塩基との塩を除去するための操作を必要とするため
好ましくない。これら遊離のO-アルキルヒドロキシルア
ミンは、ヒドロキシルアミンから工業的に容易にかつ安
価に製造することができる。
【００１０】またナフトキノン類〔II〕とO-アルキルヒ
ドロキシルアミン〔III 〕とを反応させるにあたって
は、他の反応試剤は特に必要なく、両原料化合物を単に
混合させるだけでよい。この際、O-アルキルヒドロキシ
ルアミンの使用量はナフトキノン類に対して通常0.8 〜
５モル倍、好ましくは１〜３モル倍である。
ドロキシルアミン〔III 〕とを反応させるにあたって
は、他の反応試剤は特に必要なく、両原料化合物を単に
混合させるだけでよい。この際、O-アルキルヒドロキシ
ルアミンの使用量はナフトキノン類に対して通常0.8 〜
５モル倍、好ましくは１〜３モル倍である。
【００１１】反応に際して通常は溶媒が使用され、かか
る溶媒としては例えば、メタノール、エタノール、イソ
プロパノール、t-ブタノールなどのアルコール系溶媒、
N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなど
の非プロトン性極性溶媒、ジエチルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル、1,4-ジオキサン、テトラヒドロフラン
などのエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ン、クロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒あるい
はヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒が挙
げられ、これらの溶媒はそれぞれ単独あるいは２種以上
を混合して用いることもできる。これらの溶媒の使用量
は特に限定されないが、通常はナフトキノン類〔II〕に
対して１〜200 重量倍である。
る溶媒としては例えば、メタノール、エタノール、イソ
プロパノール、t-ブタノールなどのアルコール系溶媒、
N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなど
の非プロトン性極性溶媒、ジエチルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル、1,4-ジオキサン、テトラヒドロフラン
などのエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ン、クロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒あるい
はヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒が挙
げられ、これらの溶媒はそれぞれ単独あるいは２種以上
を混合して用いることもできる。これらの溶媒の使用量
は特に限定されないが、通常はナフトキノン類〔II〕に
対して１〜200 重量倍である。
【００１２】反応温度は通常-40 〜120 ℃程度の範囲で
あり、好ましくは０〜100 ℃程度である。
あり、好ましくは０〜100 ℃程度である。
【００１３】かかる反応によって、一般式〔IV〕 Ｒ3ＯH 〔IV〕 （式中、Ｒ3 は前記と同じ意味を有する。)で示される
アルコール類が副生するが、かかるアルコール類は反応
後に減圧留去等の操作によって容易に取り除くことがで
きる。
アルコール類が副生するが、かかるアルコール類は反応
後に減圧留去等の操作によって容易に取り除くことがで
きる。
【００１４】かかる反応によって得られる反応混合物は
目的とするアミノナフトキノン類〔Ｉ〕の他に、例えば
副生する一般式〔IV〕で示されるアルコール類を含み、
反応に際して使用した溶媒や過剰に加えたO-アルキルヒ
ドロキシルアミン〔III 〕をも含むものであるが、これ
らの化合物は例えば、減圧留去等の通常の方法で容易に
分離することが可能であり、かかる分離操作によって該
反応混合物から目的化合物であるアミノナフトキノン類
〔Ｉ〕を容易に得ることができる。さらに、このように
して得られたアミノナフトキノン類〔Ｉ〕は、通常用い
られる方法、例えば各種クロマトグラフィーや再結晶等
の方法で容易に精製することができる。
目的とするアミノナフトキノン類〔Ｉ〕の他に、例えば
副生する一般式〔IV〕で示されるアルコール類を含み、
反応に際して使用した溶媒や過剰に加えたO-アルキルヒ
ドロキシルアミン〔III 〕をも含むものであるが、これ
らの化合物は例えば、減圧留去等の通常の方法で容易に
分離することが可能であり、かかる分離操作によって該
反応混合物から目的化合物であるアミノナフトキノン類
〔Ｉ〕を容易に得ることができる。さらに、このように
して得られたアミノナフトキノン類〔Ｉ〕は、通常用い
られる方法、例えば各種クロマトグラフィーや再結晶等
の方法で容易に精製することができる。
【００１５】
【発明の効果】本発明によれば、O-アルキルヒドロキシ
ルアミン〔III 〕を用いることにより、ナフトキノン類
〔II〕から目的とするアミノナフトキノン類〔Ｉ〕を著
しく高い収率で製造し得る。加えて、本発明によれば、
反応後の後処理も簡便となり、この点でも本発明は工業
的に有利である。
ルアミン〔III 〕を用いることにより、ナフトキノン類
〔II〕から目的とするアミノナフトキノン類〔Ｉ〕を著
しく高い収率で製造し得る。加えて、本発明によれば、
反応後の後処理も簡便となり、この点でも本発明は工業
的に有利である。
【００１６】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明がこれによって限定されるものではな
い。
明するが、本発明がこれによって限定されるものではな
い。
【００１７】実施例１ 1,4-ナフトキノン158mg(1mmol)の1.5ml エタノール溶液
に、O-メチルヒドロキシルアミン71mg(1.5mmol) の1ml
エタノール溶液を滴下し、25℃で3.5 時間攪拌した。そ
の後、溶媒、過剰のO-メチルヒドロキシルアミンおよび
副生したメタノールを減圧留去し、2-アミノ-1,4- ナフ
トキノン173mg を得た。
に、O-メチルヒドロキシルアミン71mg(1.5mmol) の1ml
エタノール溶液を滴下し、25℃で3.5 時間攪拌した。そ
の後、溶媒、過剰のO-メチルヒドロキシルアミンおよび
副生したメタノールを減圧留去し、2-アミノ-1,4- ナフ
トキノン173mg を得た。
【００１８】比較例１ 実施例１において、O-メチルヒドロキシルアミンのエタ
ノール溶液の代わりに、O-メチルヒドロキシルアミン塩
酸塩125mg(1.5mmol)とトリエチルアミン152mg(1.5mmol)
の1ml エタノール溶液を滴下する以外は実施例１に準拠
して反応を実施した。次いで、水を加えた後、塩化メチ
レン抽出することにより、トリエチルアミンの塩酸塩を
除去した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、低
沸分を減圧留去、シリカゲルクロマトグラフィー処理
（展開液：酢酸エチル/ヘキサン=1/1) することにより2-アミノ
-1,4- ナフトキノン 75mg を得た。
ノール溶液の代わりに、O-メチルヒドロキシルアミン塩
酸塩125mg(1.5mmol)とトリエチルアミン152mg(1.5mmol)
の1ml エタノール溶液を滴下する以外は実施例１に準拠
して反応を実施した。次いで、水を加えた後、塩化メチ
レン抽出することにより、トリエチルアミンの塩酸塩を
除去した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、低
沸分を減圧留去、シリカゲルクロマトグラフィー処理
（展開液：酢酸エチル/ヘキサン=1/1) することにより2-アミノ
-1,4- ナフトキノン 75mg を得た。
【００１９】実施例２ 実施例１おいて、O-メチルヒドロキシルアミンの代わり
に、N,O-ジメチルヒドロキシルアミン92mg(1.5mmol) 用
い、攪拌を2.5 時間実施する以外は実施例１に準拠して
反応を実施した。低沸分を減圧留去し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー処理（展開液：酢酸エチル/ヘキサン=1/
1) することによりN-メチル-2- アミノ-1,4- ナフトキ
ノン166mgを得た。
に、N,O-ジメチルヒドロキシルアミン92mg(1.5mmol) 用
い、攪拌を2.5 時間実施する以外は実施例１に準拠して
反応を実施した。低沸分を減圧留去し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー処理（展開液：酢酸エチル/ヘキサン=1/
1) することによりN-メチル-2- アミノ-1,4- ナフトキ
ノン166mgを得た。
【００２０】実施例３ 実施例１において、1,4-ナフトキノンの代わりに5-ヒド
ロキシ-1,4- ナフトキノン174mg(1mmol)を用い、攪拌を
2.7 時間実施する以外は実施例１に準拠して反応を実施
した。低沸分を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー処理（展開液：酢酸エチル/ヘキサン=1/1) すること
により、2-アミノ-5- ヒドロキシ-1,4- ナフトキノンと
3-アミノ-5- ヒドロキシ-1,4- ナフトキノンの混合物32
mgを得た。
ロキシ-1,4- ナフトキノン174mg(1mmol)を用い、攪拌を
2.7 時間実施する以外は実施例１に準拠して反応を実施
した。低沸分を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー処理（展開液：酢酸エチル/ヘキサン=1/1) すること
により、2-アミノ-5- ヒドロキシ-1,4- ナフトキノンと
3-アミノ-5- ヒドロキシ-1,4- ナフトキノンの混合物32
mgを得た。
【００２１】比較例２ 実施例１において、1,4-ナフトキノンの代わりに5-ヒド
ロキシ-1,4- ナフトキノン174mg(1mmol)を用い、O-メチ
ルヒドロキシルアミンのエタノール溶液の代わりに、O-
メチルヒドロキシルアミン塩酸塩125mg(1.5mmol)とトリ
エチルアミン152mg(1.5mmol)の1ml エタノール溶液を滴
下し、攪拌を３時間実施する以外は実施例１に準拠して
反応を実施した。低沸分を減圧留去し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー処理（展開液：酢酸エチル/ヘキサン=1/
1) することにより、2-アミノ-5- ヒドロキシ-1,4- ナ
フトキノンと3-アミノ-5- ヒドロキシ-1,4- ナフトキノ
ンの混合物20mgを得た。
ロキシ-1,4- ナフトキノン174mg(1mmol)を用い、O-メチ
ルヒドロキシルアミンのエタノール溶液の代わりに、O-
メチルヒドロキシルアミン塩酸塩125mg(1.5mmol)とトリ
エチルアミン152mg(1.5mmol)の1ml エタノール溶液を滴
下し、攪拌を３時間実施する以外は実施例１に準拠して
反応を実施した。低沸分を減圧留去し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー処理（展開液：酢酸エチル/ヘキサン=1/
1) することにより、2-アミノ-5- ヒドロキシ-1,4- ナ
フトキノンと3-アミノ-5- ヒドロキシ-1,4- ナフトキノ
ンの混合物20mgを得た。
【００２２】実施例４ 実施例１において、1,4-ナフトキノンの代わりに1,2-ナ
フトキノン158mg(1mmol)、O-メチルヒドロキシルアミン
の代わりに、N,O-ジメチルヒドロキシルアミン92mg(1.5
mmol) 用い、攪拌を0.5 時間実施する以外は実施例１に
準拠して反応を実施した。低沸分を減圧留去し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー処理（展開液：酢酸エチル/
ヘキサン=1/1) することにより、4-N-メチルアミノ-1,2- ナ
フトキノン178mgを得た。
フトキノン158mg(1mmol)、O-メチルヒドロキシルアミン
の代わりに、N,O-ジメチルヒドロキシルアミン92mg(1.5
mmol) 用い、攪拌を0.5 時間実施する以外は実施例１に
準拠して反応を実施した。低沸分を減圧留去し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー処理（展開液：酢酸エチル/
ヘキサン=1/1) することにより、4-N-メチルアミノ-1,2- ナ
フトキノン178mgを得た。
【００２３】比較例３ 実施例１において、1,4-ナフトキノンの代わりに1,2-ナ
フトキノン158mg(1mmol)を用い、O-メチルヒドロキシル
アミンのエタノール溶液の代わりに、N,O-ジメチルヒド
ロキシルアミン塩酸塩146mg(1.5mmol)とトリエチルアミ
ン152mg(1.5mmol)の1ml エタノール溶液を滴し、攪拌を
0.5 時間実施する以外は実施例１に準拠して反応を実施
した。次いで、水を加えた後、塩化メチレン抽出するこ
とにより、トリエチルアミンの塩酸塩を除去した後、有
機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、低沸分を減圧留
去、シリカゲルクロマトグラフィー処理（展開液：酢酸
エチル/ヘキサン=1/1) することにより、4-N-メチルアミノ-1,2
- ナフトキノン121mg を得た。
フトキノン158mg(1mmol)を用い、O-メチルヒドロキシル
アミンのエタノール溶液の代わりに、N,O-ジメチルヒド
ロキシルアミン塩酸塩146mg(1.5mmol)とトリエチルアミ
ン152mg(1.5mmol)の1ml エタノール溶液を滴し、攪拌を
0.5 時間実施する以外は実施例１に準拠して反応を実施
した。次いで、水を加えた後、塩化メチレン抽出するこ
とにより、トリエチルアミンの塩酸塩を除去した後、有
機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、低沸分を減圧留
去、シリカゲルクロマトグラフィー処理（展開液：酢酸
エチル/ヘキサン=1/1) することにより、4-N-メチルアミノ-1,2
- ナフトキノン121mg を得た。
Claims (4)
- 【請求項１】一般式〔II〕 （式中、Ｘa 、Ｙa は酸素原子又は水素原子を表し、同
一であることはない。点線と実線の二重線は、一重又は
二重結合を表し、2-2'及び3-4 間は、Ｘa が酸素原子の
場合は二重結合を、Ｘa が水素原子の場合は一重結合を
表す。2-3 及び4-4'間は、Ｘa が酸素原子の場合は一重
結合を、Ｘa が水素原子の場合は二重結合を表す。Ｒ1
は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、アリール基、アリールオキシ基またはヒドロ
キシル基を表す。）で示されるナフトキノン類を一般式
〔III 〕 ＮＨＲ2ＯＲ3 〔III 〕 （式中、Ｒ2 は水素原子、低級アルキル基、シクロアル
キル基またはアラルキル基を、Ｒ3 は低級アルキル基を
表す。）で示されるO-アルキルヒドロキシルアミンと反
応させることを特徴とする一般式〔Ｉ〕 （式中、Ｘb 、Ｙb は酸素原子又はNHR2を表し、同一で
あることはない。点線と実線の二重線は、一重又は二重
結合を表し、2-2'及び3-4 間は、Ｘb が酸素原子の場合
は二重結合を、Ｘb がNHR2の場合は一重結合を表す。2-
3 及び4-4'間は、Ｘb が酸素原子の場合は一重結合を、
Ｘb がNHR2の場合は二重結合を表す。Ｒ1、Ｒ2 は前記
と同じ意味を表す。）で示されるアミノナフトキノン類
の製造法。 - 【請求項２】O-アルキルヒドロキシルアミンが、O-メチ
ルヒドロキシルアミン、O-エチルヒドロキシルアミン、
O-ｔ−ブチルヒドロキシルアミン又はN,O-ジメチルヒド
ロキシルアミンである請求項１に記載の製造法。 - 【請求項３】O-アルキルヒドロキシルアミンの使用量
が、ナフトキノン類に対して0.8 〜５モル倍である請求
項１〜２に記載の製造法。 - 【請求項４】反応温度が-40 ℃〜120 ℃である請求項１
〜３に記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10676095A JPH08325214A (ja) | 1995-03-30 | 1995-04-28 | アミノナフトキノン類の製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7-73076 | 1995-03-30 | ||
| JP7307695 | 1995-03-30 | ||
| JP10676095A JPH08325214A (ja) | 1995-03-30 | 1995-04-28 | アミノナフトキノン類の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08325214A true JPH08325214A (ja) | 1996-12-10 |
Family
ID=26414205
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10676095A Withdrawn JPH08325214A (ja) | 1995-03-30 | 1995-04-28 | アミノナフトキノン類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08325214A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008303149A (ja) * | 2007-06-05 | 2008-12-18 | Sony Corp | アミノナフトキノン類の製造方法 |
-
1995
- 1995-04-28 JP JP10676095A patent/JPH08325214A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008303149A (ja) * | 2007-06-05 | 2008-12-18 | Sony Corp | アミノナフトキノン類の製造方法 |
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|---|---|---|---|
| A761 | Written withdrawal of application |
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