JPH08316118A - 薬液供給装置および薬液供給装置のノズル待機方法 - Google Patents
薬液供給装置および薬液供給装置のノズル待機方法Info
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Abstract
る薬液供給装置の提供。 【構成】 ノズル30の先端部分を格納する待機装置4
0は、支持体32、ノズル受け34および支持体32と
ノズル受け34とをO−リング38を介して圧接するた
めのクランプ36を以って構成されている。また、ノズ
ルの先端部分は、薬液供給装置の待機状態時に、外部と
隔離し内部に密閉して格納される。また、この待機装置
40には、その内部40aを不活性気体で加圧するため
の構造として、ノズル受け34の内部に不活性気体を導
入するための導入経路42を設けてある。この導入経路
42は、供給孔42aによって待機装置の内部40aと
導通している。
Description
る。
けるフォトリソグラフィおよびエッチングの工程におい
ては、ウエハ表面へのレジスト(感光性高分子材料)の
塗布、露光したレジストへの現像液の供給またはリンス
の供給といった、薬液一般の供給に薬液供給装置が用い
られている。
待機状態時のノズルの先端からの液だれを回避するた
め、待機状態時に薬液のノズル内部へ引込みが行われて
いる。この引込みにあたっては、通常、薬液供給装置の
ポンプおよび開閉バルブを用いて、ノズルの内部へ薬液
を薬液を吸引する。この吸引量は、ポンプの作動時間お
よび開閉バルブの開閉のタイミングの時間管理によって
調節される。
薬液供給装置において通常の引込みを行っても、一旦薬
液を供給した後、次の薬液供給動作を開始するまでの待
機状態が長くなると(例えば、薬液の粘度が5〜50c
pのレジストでは、5分間程度以上経過した場合)、ノ
ズル内の薬液の自重によってノズル先端で液だれが生じ
てしまう。一方、この液だれを回避するために薬液の引
込量をさらに多くすると、ノズル先端の内壁に残留付着
した薬液が乾燥固化してしまう。この乾燥固化した残留
付着物は、次回の薬液供給時に内壁から剥離して異物と
して薬液に混入する。その結果、ノズルから供給される
薬液の清浄度が低下してしまう。
常、薬液中の異物を捕捉、除去するために、薬液の経路
中にフィルタを挿入する。このフィルタを挿入する位置
は、挿入目的からノズルの直近であることが望ましい。
ところで、待機状態時のノズル先端の薬液の液だれ防止
のための引込量(通常0.1ml以下)に対して、フィ
ルタ内容量(通常50ml程度)は遥かに大きい。この
ため、薬液の引込量を調節する手段(開閉バルブおよび
吸引装置)は、フィルタとノズルとの間に設ける必要が
あった。この開閉バルブや吸引装置は滞留部分となるた
め、たとえそれが微小容積であってもそこに異物が発生
し易い。しかも、このフィルタ以降の経路において生じ
た異物は、ノズルから薬液と共に供給されてしまう。
態を維持できる薬液供給装置の実現が望まれていた。
置によれば、薬液を供給するためのノズルを具えた薬液
供給装置において、この薬液供給装置の待機状態時に、
このノズルの先端部分を外部と隔離し内部に密閉して格
納するための待機装置であって、当該待機装置のこの内
部を不活性気体で加圧するための構造を有する待機装置
を具えてなることを特徴とするまた、第1の発明の薬液
供給装置において、好ましくは、不活性気体に、薬液の
溶剤を混合し、待機装置の内部にこの溶剤雰囲気を供給
するための溶剤雰囲気生成器を具えてなると良い。
の発明の薬液供給装置によれば、薬液を供給するための
ノズルを具えた薬液供給装置において、この薬液供給装
置の待機状態時に、このノズルの先端を、実質的に鉛直
上向きに向けた状態にするためのノズル支持体を具えて
なることを特徴とする。
の発明の薬液供給装置によれば、薬液を供給するための
ノズルを具えた薬液供給装置において、このノズルの先
端部分を通過する前記薬液の圧力によって変形して、待
機状態時の開口径が薬液の供給時の開口径よりも小さく
なるノズルチップをノズルの先端部分に具えてなること
を特徴とする。
の発明の薬液供給装置によれば、薬液を供給するための
ノズルを具えた薬液供給装置において、このノズルの先
端付近に、このノズル中の薬液の先端面を検出するため
の薬液検出装置を具え、この薬液検出装置による検出情
報に基づいて、ノズル中の薬液の引込量を調整するため
の吸引部を有する吸引装置を具えてなることを特徴とす
る。
いて、好ましくは、吸引部にフィルタを具えると良い。
の発明の薬液供給装置のノズル待機方法によれば、薬液
を供給するためのノズルを具えた薬液供給装置の待機状
態時に、待機装置にこのノズルを外部から隔離しかつ密
閉して格納し、かつ、当該ノズルが格納されたこの待機
装置の内部に、不活性ガスを供給することにより、この
内部を加圧することを特徴とする。
の待機方法において、好ましくは、待機装置の内部に、
不活性ガスと共に、当該薬液の溶剤の雰囲気を供給する
と良い。
給装置のノズル待機方法によれば、薬液を供給するため
のノズルを具えた薬液供給装置の待機状態時に、このノ
ズルの先端を実質的に鉛直上向きにすることを特徴とす
る。
給装置のノズル待機方法によれば、薬液を供給するため
のノズルを具えた薬液供給装置の待機状態時に、このノ
ズル中の薬液面の検出を行い、この検出の結果に基づい
て薬液の引込量を調節することを特徴とする。
薬液供給装置および第5の発明の薬液供給装置のノズル
待機方法によれば、待機状態時に、ノズルを隔離密閉
し、ノズルを格納した待機装置の内部を、不活性気体を
導入して加圧する。この加圧によって、ノズルの先端の
薬液の引込みを実現する。その結果、薬液の液だれを抑
制することができる。
気体を用いた加圧によって、薬液の引込みを実現するた
め、フィルタとノズルとの間に吸引装置を設ける必要が
ない。このため、吸引装置の滞留部分が存在しないの
で、ノズルから供給される薬液の清浄度を向上させるこ
とができる。
待機装置の内部を加圧するにあたり、不活性気体に薬液
の溶剤を混合して溶剤雰囲気で加圧すれば、ノズルの内
壁の残留薬液の乾燥固化をより効果的に抑制することが
できる。
に係る第2の発明の薬液供給装置および第6の発明の薬
液供給装置のノズル待機方法によれば、待機状態時に、
ノズルの先端を実質的に鉛直上向きにする。その結果、
ノズル内の薬液は、自重によってノズル内部に引込まれ
る。このため、待機状態時の液だれの発生を抑制するこ
とができる。
より薬液の引込みを行うため、フィルタとノズルとの間
に吸引装置を設ける必要がない。このため、吸引装置の
滞留部分が存在しないので、ノズルから供給される薬液
の清浄度を向上させることができる。
の発明の薬液供給装置によれば、ノズルの先端に、ノズ
ルを通過する薬液の圧力によってその開口径を変化させ
るノズルチップを設ける。その結果、ノズルの先端の開
口径は、待機状態時に薬液供給時によりも小さくなる。
開口径が小さい程液だれは生じにくくなる。このため、
第3の発明によれば、特に引込みを行わなくとも液だれ
を抑制することができる。また、引込みを行わなけれ
ば、ノズル内壁の残留薬液が乾燥固化して異物となるこ
ともない。
う必要がないため、第3の発明では吸引装置が必要な
い。このため、吸引装置の滞留部分が存在しないので、
ノズルから供給される薬液の清浄度を向上させることが
できる。
に係る第4の発明の薬液供給装置および第7の発明の薬
液供給装置のノズル待機方法によれば、ノズルの先端付
近にノズル内部の薬液面を検出する検出器を設け、この
検出器の検出情報に基づいてノズル内の薬液を吸引する
吸引部とを具えている。この結果、待機時間が長くなっ
ても、所望の引込量を安定して得ることができる。その
結果、液だれを抑制し、かつ、薬液の引込みすぎによる
異物の発生を抑制して、供給される薬液の清浄度を向上
させることができる。
吸引部にフィルタを介在させれば、ノズルの直近で、薬
液中の異物を捕捉、除去することができる。このため、
薬液の清浄度をより効果的に向上させることができる。
装置の例について説明する。尚、参照する図面は、この
発明が理解できる程度に各構成成分の大きさ、形状およ
び配置関係を概略的に示してあるにすぎない。従って、
これらの発明は図示例にのみ限定されるものではない。
解を容易にするため、実施例の説明に先立ち、従来の薬
液供給装置の比較例について説明する。
である。従来の薬液供給装置においては、薬液の供給源
としての薬液瓶10とノズル12とを繋ぐ薬液移送配管
14上に、薬液瓶10側から順次に、ポンプ16、フィ
ルタ18、開閉バルブ20および吸引装置22が設けて
ある。
してレジストを充填してある。また、このポンプ16
は、薬液移送圧力を生じさせるためのポンプであって、
一般にベローズ16aを用いて加圧・吸引動作をさせる
ベローズ形ポンプが用いられている。また、このフィル
タは18は、薬液中の不純物をろ過する目的で用いられ
ている。また、この吸引装置22は、開閉バルブ20の
開閉動作時に、開閉バルブ20よりノズル12側の薬液
移送配管12内に弱い陰圧を生じさせる。
は、ノズル12をウエハ24の直上に移動して配置す
る。また、待機状態時には、ノズル12を待機装置(例
えばノズル受け)26の直上に移動して待機させる。
ついて、下記の表1を参照して説明する。表1は、供給
動作時の薬液供給装置の各構成部分の状態を示してい
る。
えられる。シーケンス1は供給動作開始時、シーケンス
2は供給中、シーケンス3は供給停止時、そして、シー
ケンス4は待機状態の動作を指す。
ローズ16aの圧縮による薬液加圧によって薬液供給装
置が動作し始める。しかし、この段階では、開閉バルブ
20はまだ閉じているため、ノズル12からの薬液の供
給は開始されない。薬液の粘度により異なるが、約0.
5〜2秒後に、シーケンス2に移行する。このシーケン
ス1は、次のシーケンス2における開閉バルブ20の開
動作と同時かつ円滑にノズル12から薬液を供給する目
的で利用される。
圧状態とし、開閉バルブ20を開いてノズル12から薬
液を供給する。
ローズ16aの膨張による薬液の吸引動作によって、薬
液瓶10からポンプ16内に薬液を導引すると共に、ノ
ズルからの薬液供給を停止させ、かつノズル内に薬液を
若干引込む動作をさせる。そして、約0.1〜0.5秒
後にシーケンス4に移行する。このシーケンス3は、薬
液供給停止時に液切れを良好な状態とする目的で利用さ
れるが、このシーケンス4に移行するまでの時間が長過
ぎると、薬液移送配管14の内部が陰圧であるために薬
液の引込量が過大となる。このため、この時間管理は正
確に行わなければならない。
を閉じ、ポンプ16の吸引動作によるポンプ内への薬液
導引をさせる。また、吸引装置22によって、開閉バル
ブ20とノズル12との間の薬液移送配管14中を陰圧
とすることにより、ノズル12中の薬液の引込みを完了
して待機状態に入る。
13の(B)に示す様にノズル内の薬液の自重によって
液だれが生じてしまう。また、引込量が多過ぎると、ノ
ズルの内壁に残留付着した薬液が乾燥固化して異物とな
る。このため、薬液の供給を再開する際には、通常、ウ
エハ等への塗布動作の前に1回以上の予備供給動作を行
う。
浄度を維持するためには、フィルタ18はノズル12の
直近に挿入することが望ましい。しかし、前述した様に
フィルタの内容量が薬液の引込量よりも遥かに大きいた
め、この比較例ではポンプ16と開閉バルブ20との間
にフィルタ18を挿入している。このため、フィルタ1
8以降の配管14上の開閉バルブ20および吸引装置2
2において異物が発生しても、この比較例の薬液供給装
置は、この異物を捕捉・除去することができない。
明の薬液供給装置および第5の発明の薬液供給装置のノ
ズル待機方法の一例について併せて説明する。
図である。図2では、上述した図13中と同一の構成成
分には、図13中と同一の符号を付してある。また、図
2では、ノズルの待機装置の図示を一部省略してある。
おいて設けた吸引装置22が必要ない。これは、後述す
る様に加圧によってノズル先端部での引込量を確保する
ためである。また、吸引装置を設けない分、フィルタ1
8とノズル30との間の滞留部分を減らすことができ
る。その結果、供給する薬液の清浄度を比較例よりも向
上させることができる。
ノズルについて説明する。図1の(A)は、第1実施例
の薬液供給装置の主要部の断面図である。また、図1の
(B)は、第1実施例の薬液供給装置の主要部の側面外
観図である。
ン加工が施されたフレキシブルな材質からなり、支持体
32によって支持されている。この支持体32は、駆動
装置(図示せず)に接続されており、鉛直方向の並進動
作および鉛直方向を回転軸とする回転動作を行うことが
できる。駆動装置としては、例えばエアーシリンダある
いはモータといった従来周知のものを使用すると良い。
機装置40は、支持体32、ノズル受け34および支持
体32とノズル受け34とを圧接するためのクランプ3
6を以って構成されている。さらに、この実施例では、
支持体32とノズル受け34との圧接面にパッキンとし
てO−リング38を装着している。このO−リング38
は、供給される薬液に対する耐性を有し、かつ、適当な
柔軟性を有している。そして、この待機装置40によっ
て、ノズルの先端部分は、薬液供給装置の待機状態時に
外部と隔離し内部に密閉して格納される。
0aを不活性気体で加圧するための構造を設けてある。
この実施例では、ノズル受け34の内部に不活性気体を
導入するための導入経路42を設けてある。この導入経
路42は、供給孔42aによって待機装置の内部40a
と導通している。また、この導入経路42は、導入配管
42bを介して三方弁44に繋がっている。
的に示す。この三方弁44は、導入配管42と、不活性
気体の供給元または圧力開放端とを必要に応じて切換え
て導通させる。
薬液供給装置のノズル待機方法について説明する。図3
の(A)〜(C)は、待機装置40の動作の説明に供す
る断面図である。
たノズル30がノズル受け34の直上に移動した状態を
示す。この段階では、クランプ36は、ノズル30およ
び支持体32の降下に干渉しないようにノズル受け34
の側方に移動している。
持体32を降下させて、クランプ36によってOーリン
グ38を介してノズル受け34と密着させる。その結
果、待機装置40の内部40aのノズル30の先端部分
は、外部から隔離、密閉される。
部40aに不活性気体を導入して加圧した状態を示す。
不活性気体の導入にあたっては、三方弁44において導
入配管と供給源とを導通させる。供給源からは、例え
ば、窒素ガスのような不活性気体を供給し、ノズル受け
34内の導入配管42を通じて供給孔42aから待機装
置40の内部40aに不活性気体を導入する。
の薬液面を押し上げられる。加圧圧力を調節することに
より、所望の引込量を維持することができる。従って、
液だれを抑制することができる。
ジストを使用する場合は、気体の圧力は0.05〜0.
5kgf/cm2 程度が望ましい。
先ず、三方弁44において導入配管と圧力開放端とを導
通させ、次に、クランプ36を解放してノズル受け34
から支持体32が離間できる状態にする。
器において、不活性気体にレジストの溶剤を混合して待
機装置の内部にこの溶剤雰囲気を供給する。図4の
(B)に溶剤雰囲気生成器50を模式的に示す。不活性
気体の供給源に繋がる供給配管46は、溶剤雰囲気生成
器50の密閉容器48中の溶剤52中にその先端46a
を挿入してある。そして、この先端46aから溶剤雰囲
気生成器50に不活性気体を送り込んでバブリングす
る。そして、溶剤雰囲気は、密閉容器48中の溶剤52
上に口を開いている導入配管42bを通じて待機装置4
0の内部40aに導入される。尚、溶剤雰囲気で加圧す
る場合は、三方弁44の圧力開放端に、液体回収タンク
のような除害装置を付加することが望ましい。また、不
活性気体だけでなく溶剤雰囲気を導入した場合も、待機
装置40の動作および引込量の調節は、不活性気体を導
入した場合と同じである。
内壁に残留付着した薬液が乾燥固化することを抑制する
ことができる。このため、ノズル内での異物の発生を抑
制することができる。その結果、薬液の供給再開時の予
備供給動作を省略することができる。従って、薬液の消
費量を節約することができる。
明の薬液供給装置および第6の発明の薬液供給装置のノ
ズル待機方法の一例について併せて説明する。
図である。図5では、上述した図13中と同一の構成成
分には、図13中と同一の符号を付してある。また、図
5では、ノズルの待機装置の図示を一部省略してある。
おいて設けた吸引装置22が必要ない。これは、後述す
る様に、ノズル先端を上向きにして薬液の自重によって
引込量を確保するためである。また、第2実施例では、
吸引装置を設けない分、支持体54に支持されたノズル
30とフィルタ18との間の滞留部分を減らすことがで
きる。その結果、供給する薬液の清浄度を比較例よりも
向上させることができる。
ン加工が施されたフレキシブルな材質からなり、支持体
54によって支持されている。この支持体54は、駆動
装置(図示せず)に接続されており、図6の(A)に示
すように、鉛直方向の並進動作、鉛直方向を回転軸とす
る回転動作および支持体54のアーム部分54aに沿っ
た方向を回転軸とする回転動作を行うことができる。駆
動装置としては、例えばエアーシリンダあるいはモータ
といった従来周知のものを使用すると良い。
質的に鉛直上向きとすることができる。待機状態時に
は、図6の(B)に断面を示す様に、ノズル受け56を
かぶせてノズル受け56と支持体54の周辺物とを密着
させておくと良い。ノズル受けをかぶせることにより、
待機状態時の薬液の乾燥を抑制することができる。
いて説明する。図7の(A)〜(D)は、第2実施例の
ノズルの動作の説明に供する図である。図7の(A)、
(C)および(D)は、ノズルの側面図であり、図7の
(B)は、ノズルの上面図である。ここでは、ウエハ上
にレジストを塗布する場合のノズルの動作について説明
する。
レジスト28を塗布している状態を示す。
停止した後、鉛直方向を回転軸とする回転動作によっ
て、ノズル30がウエハ24の直上を避けた状態を示
す。
分54aに沿った方向を回転軸とする回転動作を行っ
て、ノズル30の先端を実質的に鉛直上向きとする。
尚、この鉛直上向きは、厳密に鉛直方向である必要はな
い。また、アーム部分を回転軸として回転すると、ノズ
ル30はフレキシブルな材質でできているため、ノズル
の根本側の部分がアーム部分54aの周りを巻く形とな
るが問題はない。
向きにした支持体54を、鉛直方向に並進動作させて、
支持体54の周辺部をノズル受け56と密着させる。
尚、レジストの塗布を再開する場合は、上述した動作を
逆に行っていく。
明の薬液供給装置の一例について説明する。図8の
(A)は、第2実施例の薬液供給装置の構成図である。
図8では、上述した図13中と同一の構成成分には、図
13中と同一の符号を付してある。また、図8では、ノ
ズルの待機装置の図示を一部省略してある。
おいて設けた吸引装置22が必要ない。これは、後述す
る様に、ノズルチップの開口径の変化によって液だれ抑
制するためである。また、第2実施例では、吸引装置を
設けない分、支持体54に支持されたノズル30とフィ
ルタ18との間の滞留部分を減らすことができる。その
結果、供給する薬液の清浄度を比較例よりも向上させる
ことができる。
に示す様に、薬液移送配管14に繋がった薬液供給配管
62、配管支持体64および先端部分のノズルチップ6
6からなる。そして、薬液供給配管62、配管支持体6
4およびノズルチップ66の内壁は滑らかに接続されて
いる。
説明する。先ず、ノズルの開口径が小さい場合には、一
定量の薬液を供給するために、大きな供給圧力または長
い供給時間を必要とする。供給圧力が大きいと、フィル
タ18をゲル上の異物が通過していまうことがある。ま
た、供給時間が長いと、供給中に薬液(例えば塗布され
たレジスト)が乾燥して塗布膜厚の均一性を劣化させ
る。
低圧力、短時間での薬液の供給が可能となるが、供給停
止時の液切れが悪くなる。さらに、待機状態時の液だれ
をが生じ易くなる。
最適化が要求される。最適な開口径は、薬液の粘度、ノ
ズルの内壁と薬液とのなじみ易さといった条件によって
決まる。通常、粘度5〜20cp程度のレジストを供給
する場合は、ノズルの開口径は、1.5〜2.0mmの
ものが使われている。開口径は、前述の塗布特性を優先
させた結果である。即ち、開口径は大きく設定されてい
る。従って、液切れ、および液だれについての性能は劣
ることになる。このため、従来は、比較例に示した様
に、吸引装置22を設けて待機状態時にノズル内の薬液
の引込みを行っていた。
分に、薬液の供給時と待機状態時とでノズルの開口径が
変化するノズルチップを設けている。このノズルチップ
は、ノズルの先端部分を通過する前記薬液の圧力によっ
て変形して、待機状態時の開口径が前記薬液の供給時の
開口径よりも小さくなる。このノズルチップは、薬液に
対する耐性を有しかつ、適当な柔軟性(弾力性)を有す
る。例えば、薬液としてレジストを供給する場合には、
デュポン社製のカルレッツ(商品名)の様な高分子材料
を使用すると良い。
欠けた円錐状である。また、ノズルチップの内径は、薬
液供給配管62、配管支持体64との接合部においては
配管の内径と同一としかつノズルチップの先端部に向け
て徐々に小さくしてある。従って、このノズルチップの
縦断面形状は、図8の(B)に示す様に、ナイフエッジ
形状となる。ノズルチップをこの様な形状とする理由
は、ノズルチップ先端の開口径を、薬液の供給圧力によ
って伸長し易く、かつ、供給停止時に収縮し易くするた
めである。供給停止時に開口径が収縮して小さくなるこ
とによって、液切れを良好な状態にすることができる。
ルの動作について説明する。図9の(A)は、待機状態
時のノズルの断面図であり、図9の(B)は、薬液供給
時のノズルの断面図である。
に、ノズルチップの先端部分が収縮した状態であり、そ
の開口径は薬液供給配管62や配管支持体64の内径よ
りも小さくなっている。例えば、粘度5〜20cpのレ
ジストでは、開口径を1mm以下にする。待機状態時に
は開閉バルブ20は閉じられているので、ノズルチップ
には薬液の供給圧力は係っていない。
プ16を駆動し、薬液移送配管14何薬液を圧縮し始め
る。圧縮開始の約0.5〜2秒後に、開閉バルブ20を
開いて加圧薬液をノズル60に移送する。
に、ノズルチップの先端部は、薬液の供給圧力によって
伸長した状態となる。そしてノズルチップの先端部の開
口径は、薬液供給配管62等の内径と同等となる。その
結果、低圧力、短時間で薬液の供給を行うことができ
る。従って、均一な膜厚にレジストの塗布を行うことが
できる。
プ16を停止し、ポンプ16の停止と同時またはポンプ
停止の約0.1〜0.5秒後に開閉バルブ20を閉じ
る。この薬液供給停止に伴って、薬液の供給圧力は漸次
低下する。供給圧力の低下に伴って、ノズルチップの先
端部は収縮して開口径が小さくなる。開口径が小さくな
ることによって、液切れを良好にし、かつ、待機状態時
の液だれの発生を抑制することができる。
明の薬液供給装置および第7の発明の薬液供給装置のノ
ズル待機方法について併せて説明する。
成図である。図10では、上述した図13中と同一の構
成成分には、図13中と同一の符号を付してある。第4
実施例の薬液供給装置では、従来の薬液供給装置と同様
に、薬液の供給源としての薬液瓶10とノズル12とを
繋ぐ薬液移送配管14上に、薬液瓶10側から順次に、
ポンプ16、フィルタ18および開閉バルブ20が設け
ている。
端付近にノズル内部の薬液面を検出する検出器70を設
けてある。さらに、この検出器の検出結果に基づいてノ
ズル内の薬液を吸引する吸引部72をノズル12と開閉
バルブ20との間の薬液移送配管14上に設けている。
この吸引部のシリンダーの引込量は駆動装置で調整す
る。
出器70および吸引部72について説明する。図11
は、第4実施例の薬液供給装置の主要部断面図である。
て、薬液面(薬液端)を検出する。検出した結果は、駆
動部74に回帰し、隔壁72cを動かすことによって、
シリンダー内の薬液容量を変化させる。また、検出器7
0は、薬液としてレジストを供給する場合、ノズルの先
端から2〜5mm程度上方に接地すると良い。検出器7
0を設ける位置は、薬液の粘性等によって異なる。
72bとからなり、ピストン72bは、ピストンヘッド
の隔壁72cとこの隔壁72に接続したロッド72dと
からなる。シリンダー72の最大容量は、薬液がレジス
トの場合は外殻72aの内径Lの長さに相当する薬液移
送配管14中の容量V0 に約1ml程度を加えた容量が
妥当である。尚、最大容量は、薬液の種類、粘度等によ
って異なる。ロッド72dは駆動装置74によって動か
され(図11中に矢印rで示す方向)、このロッド72
dと共に隔壁72cが動く。
を貫通している。ここでは、吸引部72よりも開閉バル
ブ20側の薬液移送配管14を導入配管14a、吸引部
72よりもノズル側の薬液移送配管14を吐出配管14
bと称する。
吸引部とノズルとの間に、フィルタ76を設ける。この
フィルタの内容量は高々2〜3mlであるので、フィル
タを設けても、吸引量、即ち、引込量(0.1ml程
度)を円滑に調節することができる。その結果、ノズル
の直近において、薬液中の異物の捕捉、除去ができる。
このため、供給する薬液の清浄度を比較例よりも効果的
に向上させることができる。
液供給装置のノズル待機方法、即ち、待機状態時の薬液
の引込量の調節方法について説明する。図12の(A)
は、吸引動作前の薬液供給装置の主要部の断面図であ
る。また、図12の(B)は、吸引動作後の薬液供給装
置の主要部の断面図である。
の経過に伴って、ノズル12内の薬液が自重によって液
だれを生じ始める。図12の(A)は、この状態を示
す。液だれが生じ始めて、薬液端が検出器を配置した位
置まで下がってくると、発光部から受光部へ届く光強度
が低下もしくは光が遮られる。これをもって薬液端を検
出する。この検出結果(検出情報)を駆動装置に送り、
シリンダー内の薬液容量を増加させる。これによってノ
ズル内の薬液の引込みを行わせる。
光部へ届く光強度が増加または発光部からの光は受光部
が検出した時点で薬液の引込み動作の終了とし、この検
出情報を駆動装置に送って吸引部(シリンダー)の吸引
を停止する(図12の(B))。
常に検出器70によって薬液端を監視、検出し、この検
出情報に基づいて駆動装置74を介して吸引部72の吸
引量を調節する。その結果、薬液の所望の引込み量を安
定に得ることができる。
ンプ16を駆動し、この駆動開始の約0.5〜2秒後に
開閉バルブ20を開く。開閉バルブ20を開くと同時に
吸引部70の容積を最小として、検出器70の機能を停
止する。
バルブ20を閉じると同時に、検出器70の機能を作動
開始し、引込量の検出器による常時監視に移行する。
定の材料を用い、特定の構造で構成した例について説明
したが、これらの発明は多くの変更および変形を行うこ
とができる。例えば、上述した実施例では、薬液として
レジストを塗布するための薬液供給装置の例について説
明したが、これらの発明は、例えば、露光したレジスト
の現像に用いる現像液やリンス液を薬液として供給する
装置としても用いることができる。また、薬液は、フォ
トレジストおよびエッチング工程に用いるものに限定さ
れない。
光学的に検出したが、第4および第7発明では、薬液端
の検出方法は、例えば静電容量を検出する方法等、光学
的方法に限定されない。また、上述した第1〜第4の実
施例は、任意に組み合わせて実施しても良い。
よび第5の発明の薬液供給装置のノズル待機方法によれ
ば、待機状態時に、ノズルを隔離密閉し、ノズルを格納
した待機装置の内部を、不活性気体を導入して加圧す
る。この加圧によって、ノズルの先端の薬液の引込みを
実現する。その結果、薬液の液だれを抑制することがで
きる。
気体を用いた加圧によって、薬液の引込みを実現するた
め、フィルタとノズルとの間に吸引装置を設ける必要が
ない。このため、吸引装置の滞留部分が存在しないの
で、ノズルから供給される薬液の清浄度を向上させるこ
とができる。
待機装置の内部を加圧するにあたり、不活性気体に薬液
の溶剤を混合して、溶剤雰囲気で加圧すれば、ノズルの
内壁の残留薬液の乾燥固化をより効果的に抑制すること
ができる。
液供給装置および第6の発明の薬液供給装置のノズル待
機方法によれば、待機状態時に、ノズルの先端を実質的
に鉛直上向きにする。その結果、ノズル内の薬液は、自
重によってノズル内部に引込まれる。このため、待機状
態時の液だれの発生を抑制することができる。
より薬液の引込みを行うため、フィルタとノズルとの間
に吸引装置を設ける必要がない。このため、吸引装置の
滞留部分が存在しないので、ノズルから供給される薬液
の清浄度を向上させることができる。
給装置によれば、ノズルの先端に、ノズルを通過する薬
液の圧力によってその開口径を変化させるノズルチップ
を設ける。その結果、ノズルの先端の開口径は、待機状
態時には、薬液供給時によりも小さくなる。開口径が小
さい程、液だれは生じにくくなる。このため、第3の発
明によれば、特に吸引を行わなくとも、液だれを抑制す
ることができる。また、吸引を行わなければ、ノズル内
壁の残留薬液が乾燥固化して異物となることもない。
必要がないため、第3の発明では吸引装置が必要ない。
このため、吸引装置の滞留部分が存在しないので、ノズ
ルから供給される薬液の清浄度を向上させることができ
る。
明の薬液供給装置および第7の発明の薬液供給装置のノ
ズル待機方法によれば、ノズルの先端付近に、ノズル内
部の薬液面を検出する検出器を設け、この検出器の検出
情報に基づいてノズル内の薬液を吸引する吸引部とを具
えている。この結果、待機時間が長くなっても、所望の
引込量を安定して得ることができる。その結果、液だれ
を抑制し、かつ、薬液の引込みすぎによる異物の発生を
抑制して、供給される薬液の清浄度を向上させることが
できる。
吸引部にフィルタを介在させれば、薬液の清浄度をより
効果的に向上させることができる。
面図であり、(B)は、側面外観図である。
の待機装置の動作の説明に供する断面図である。
(B)は、三方弁の説明図である。
の支持体の説明に供する図であり、(B)は、ノズルの
待機状態の説明に供する断面図である。
の動作の説明に供する図である。
であり、(B)は、ノズル部分の拡大図である。
り、(B)は、薬液供給時のノズルの断面図である。
ある。
給装置の動作の説明に供する図である。
る構成図であり、(B)は、比較例の薬液供給装置にお
ける液だれの説明に供する図である。
Claims (10)
- 【請求項1】 薬液を供給するためのノズルを具えた薬
液供給装置において、 該薬液供給装置の待機状態時に、該ノズルの先端部分を
外部と隔離し内部に密閉して格納するための待機装置で
あって、当該待機装置の該内部を不活性気体で加圧する
ための構造を有する待機装置を具えてなることを特徴と
する薬液供給装置。 - 【請求項2】 請求項1に記載の薬液供給装置におい
て、 前記不活性気体に前記薬液の溶剤を混合し、前記待機装
置の内部に該溶剤雰囲気を供給するための溶剤雰囲気生
成器を具えてなることを特徴とする薬液供給装置。 - 【請求項3】 薬液を供給するためのノズルを具えた薬
液供給装置において、 該薬液供給装置の待機状態時に、該ノズルの先端を、実
質的に鉛直上向きに向けた状態にするためのノズル支持
体を具えてなることを特徴とする薬液供給装置。 - 【請求項4】 薬液を供給するためのノズルを具えた薬
液供給装置において、 前記ノズルの先端部分を通過する前記薬液の圧力によっ
て変形して、待機状態時の開口径が前記薬液の供給時の
開口径よりも小さくなるノズルチップを該ノズルの先端
部分に具えてなることを特徴とする薬液供給装置。 - 【請求項5】 薬液を供給するためのノズルを具えた薬
液供給装置において、 該ノズルの先端付近に、該ノズル中の前記薬液の先端面
を検出するための薬液検出装置を具え、 該薬液検出装置による検出情報に基づいて、ノズル中の
前記薬液の引込量を調整するための吸引部を有する吸引
装置を具えてなることを特徴とする薬液供給装置。 - 【請求項6】 請求項5に記載の薬液供給装置おいて、 前記吸引部にフィルタを具えてなることを特徴とする薬
液供給装置。 - 【請求項7】 待機装置と薬液を供給するためのノズル
とを具えた薬液供給装置の待機状態時に、該待機装置に
該ノズルを外部から隔離しかつ密閉して格納し、 当該ノズルが格納された該待機装置の内部に不活性ガス
を供給することにより該内部を加圧することを特徴とす
る薬液供給装置のノズルの待機方法。 - 【請求項8】 請求項7に記載の薬液供給装置のノズル
の待機方法において、 前記待機装置の内部に、前記不活性ガスと共に前記薬液
の溶剤の雰囲気を供給することを特徴とする薬液供給装
置のノズルの待機方法。 - 【請求項9】 薬液を供給するためのノズルを具えた薬
液供給装置の待機状態時に、 該ノズルの先端を実質的に鉛直上向きにすることを特徴
とする薬液供給装置のノズルの待機方法。 - 【請求項10】 薬液を供給するためのノズルを具えた
薬液供給装置の待機状態時に、 該ノズル中の薬液面の検出を行い、この検出の結果に基
づいて薬液の引込量を調節することを特徴とする薬液供
給装置のノズルの待機方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11568595A JP3442533B2 (ja) | 1995-05-15 | 1995-05-15 | 薬液供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11568595A JP3442533B2 (ja) | 1995-05-15 | 1995-05-15 | 薬液供給装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08316118A true JPH08316118A (ja) | 1996-11-29 |
JP3442533B2 JP3442533B2 (ja) | 2003-09-02 |
Family
ID=14668737
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11568595A Expired - Fee Related JP3442533B2 (ja) | 1995-05-15 | 1995-05-15 | 薬液供給装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3442533B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006510226A (ja) * | 2002-12-16 | 2006-03-23 | エイエスエムエル ユーエス インコーポレイテッド | 回転可能な送出アームから流体を送出する装置及び方法 |
JP2007042856A (ja) * | 2005-08-03 | 2007-02-15 | Pre-Tech Co Ltd | 洗浄装置および洗浄液垂れ落ち防止方法 |
JP2008205059A (ja) * | 2007-02-19 | 2008-09-04 | Tokyo Electron Ltd | 処理液供給装置 |
JP2015084371A (ja) * | 2013-10-25 | 2015-04-30 | 東京応化工業株式会社 | 塗布装置および塗布方法 |
-
1995
- 1995-05-15 JP JP11568595A patent/JP3442533B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP2007042856A (ja) * | 2005-08-03 | 2007-02-15 | Pre-Tech Co Ltd | 洗浄装置および洗浄液垂れ落ち防止方法 |
JP2008205059A (ja) * | 2007-02-19 | 2008-09-04 | Tokyo Electron Ltd | 処理液供給装置 |
JP2015084371A (ja) * | 2013-10-25 | 2015-04-30 | 東京応化工業株式会社 | 塗布装置および塗布方法 |
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JP3442533B2 (ja) | 2003-09-02 |
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